TWI643823B - 淨水處理系統 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種淨水處理系統，包括：一第一處理裝置，其是與一水源連接，供處理一水源的水體，以產生一第一經處理水體；一第二處理裝置，其是與該第一處理裝置連接，而供接收該第一經處理水體，而以二氧化氯水溶液處理該第一經處理水體，以產生一第二經處理水體；一儲存裝置，其是與該第二處理裝置連接而供接收該第二經處理水體。

Description

淨水處理系統

本發明是關於一種將高純度、食品級二氧化氯水溶液(以下簡稱二氧化氯水溶液)用於淨水處理之系統，尤指一種使用該二氧化氯水溶液的用於淡水或海水之淨水處理裝置，而使淡水或含鹽水體如海水等完全滅菌而不產生新變種菌源，且將其中重金屬、核輻射、雜質等污染物進行強氧化，而能顯著提升現有一般家用、社區住宅、醫院、旅館、工廠與遠洋漁船與商船之淨水處理效能的淨水處理裝置；且將含鹽水體轉化成中性水體再加以利用；將淡水處理為小分子化、不含微生物與雜質的水體，藉以有效減少現今淡水與海水等水資源的浪費。

退伍軍人菌是為生活在一般環境的常在菌種，是一種革藍氏陰性桿菌，乃是經由吸入含此菌的氣霧或水而感染，感染的症狀是發燒、肌肉疼痛、乾咳為主要病徵，嚴重時會導致肺部堅質化、急性呼吸窘迫症候群、心肺衰竭與死亡。一般而言，大型的社區、醫院或旅館等大型建築物是退伍軍人菌繁殖的溫床。若退伍軍人菌污染了前述所提之大型建築物之飲水系統如水塔等，將使孩童、老人、免疫不全患者(如糖尿病、腎臟病、癌症予接受類固醇等免疫抑制劑治療患者)等免疫力較低的族群暴露於致死的高風險中。此外，經研究證實，給水系統中的污染程度是主要的危險因子，特別是輸送管線與給水系統的末端(如水龍頭、蓮蓬頭)檢測 出退伍軍人菌的比例與感染此菌的比例相關，即，越多處的給水系統末端出現此菌，感染的機率則越高。

習知技術對於前述給水系統、給水系統末端的消毒方法包括：(1)高溫消毒，簡言之就是使前述大型建築物的給水系統一直保持在60至70℃以上。然而，高溫消毒礙於加熱所花的成本，無法使前述大型建築物的給水系統一直保持在60至70℃以上(有效使退伍軍人菌之菌落量最小化的溫度)，且退伍軍人菌之生物膜的形成也是無法用高溫完全殺菌的原因。特別是前述給水系統末端以及之中的管線之轉折連接、開關閥處容易因堆積雜質而形成生物膜；生物膜一形成，高溫殺菌效果並無法達到其內層，請生物膜中的退伍軍人菌會持續繁殖而釋放細菌導致消毒無效；(2)氯化消毒，添加氯、單氯銨或次氯酸等雖然可有效殺菌，但於水體中過高的氯濃度也引發氯毒性對人體危害的質疑；(3)紫外線消毒，雖然經研究證實紫外線具有很好的殺菌效果，但，其殺菌效果僅限於水塔而無法延伸至前述管線與給水系統末端，另一方面，紫外線並無法對以形成之生物膜有效的殺菌能力；(4)銅銀離子，雖然穩定維持銅銀離子在一定的濃度具有一定的殺菌能力，但使用此法會有重金屬含量對人體危害的疑慮，且其效果比前述高溫消毒差；(5)薄膜技術，具有微米孔徑的過濾設備也用於減少退伍軍人細菌的工具之一。然而。其昂貴的價錢與前述具有微米孔徑的過濾設備所產生的逆向污染造成其無法被廣泛使用。此外，國際法規早已規定不能以氯水、臭氧、紫外線燈對水體進行消毒，因為均有前述滅菌不全或殘留有毒物質的疑慮。

此外，對於現今的自來水處理廠而言，其於淨水過程中所添 加的次氯酸鈉(NaOCl)、臭氧、聚合氯化鋁、氯等均對人體有害，無論使用多繁雜的淨水程序，皆仍有殘留前述有毒化學物質的可能與疑慮。

另一方面。對於遠洋漁船與遠洋商船如遊艇等而言，船員的日常供水通常使用經煮沸蒸餾後的海水(含鹽水體)，若成本足夠則會使用逆滲透製水機來提供日常供水。然而，對於遠洋漁船，基本上是無法有足夠的成本來應付逆滲透製水機所需的大量昂貴耗材；另一方面，煮沸蒸餾後的海水所含人體必要的微量元素如：硒、鋅、鎳、銅、鈣、鎂、鐵、錳等較少，對船員的身體健康也不利。再，無論是遠洋漁船或商船，其上所採用蒸餾製程所產生的純水，即使經海水淡化後的水質接近正常，然而，經過長久使用的於漁船或商船的經處理海水之儲存裝置、輸送管線若生銹或受微生物污，也會使前述經蒸餾之具有正常水質的水體受污染。因此，亟需一種能將海水去鹽化的同時，能使經處理的水的儲存設備以及其運輸管線保持清潔的設備。

因此，為進一步改善前述問題，並將二氧化氯有效運用於淨水處理，遂有本發明的產生。

本發明之主要目的在提供一種使用二氧化氯水溶液的淨水處理裝置，且能將一般水體與含鹽水體如海水等進行處理、同時平衡經處理後水體之酸鹼值，使之成為中性溶液供民生使用，而能顯著提升現有淨水處理裝置、海水淡化裝置效能的淨水處理裝置，有效解決習知因民生用水、醫療院所、學校之管線存在衛生死角而導致疾病散佈(如退伍軍人菌)的問題，也使得二氧化氯水溶液本身的效能得以用在欲處理水體本身而更 能進行全效能的強氧化、殺菌、除臭，大幅減少二氧化氯水溶液的使用量就得以用在欲處理水體本身，而提昇習知淨水處理裝置的整體效能。

為達上述之目的，本發明提供一種淨水處理系統，包括：一第一處理裝置，其是與一水源連接，供處理一水源的水體，以產生一第一經處理水體；一第二處理裝置，其是與該第一處理裝置連接，而供接收該第一經處理水體，而以二氧化氯水溶液處理該第一經處理水體，以產生一第二經處理水體；一儲存裝置，其是與該第二處理裝置連接而供接收該第二經處理水體。

在一實施例中，其中更包括一中和單元，該中和單元是分別與該第二處理裝置與該儲存裝置連接，供接收來自該第二處理裝置的該第二經處理水體，進行中和處理以產生一經中和液體，並將該經中和液體輸送至該儲存裝置；且該水源為一含鹽水體。

在一實施例中，其中該第二處理裝置更包括：一混合單元，其用以將二氧化氯水溶液與來自該第一處理裝置之該第一經處理水體進行混合，而產生該第二經處理水體；一第一供應單元，其是與該混合單元連接，而用以供給該二氧化氯水溶液至該混合單元；一流量控制單元，其是用以控制該第一供應單元將該二氧化氯水溶液供給至該混合單元的流速與流量。

在一實施例中，其中該第一處理裝置是由一氧化鋁陶瓷、二氧化鈦陶瓷、氧化鋯陶瓷、奈米碳管與稀土元素中至少一者所製成。

在一實施例中，該淨水系統更包括一加壓裝置，該加壓裝置是供將該第二經處理水體自該儲存裝置加壓供應至至少一管線。

在一實施例中，該淨水系統其更包括一前處理裝置，該前處理裝置是分別與該水源與該第一處理裝置連接，而供將來自該水源之水體進行前處理，並將經前處理的水體輸送至該第一處理裝置。實施時，其中該前處理裝置包括：一沈澱單元，其供將來自該水源的水體進行沈澱處理而除去其中的大顆粒泥沙；以及一消毒單元，其供除去來自該水源的水體中的微生物。實施時，其中該前處理裝置更包括一第二供應單元，其是用以將二氧化氯水溶液供應至該沈澱單元與該消毒單元中至少一者。

1‧‧‧水源

2‧‧‧第一處理裝置

3‧‧‧第二處理裝置

31‧‧‧混合單元

32‧‧‧第一供應單元

33‧‧‧流量控制單元

4‧‧‧儲存裝置

5‧‧‧加壓裝置

6‧‧‧中和單元

7‧‧‧前處理裝置

71‧‧‧調節單元

72‧‧‧第一沈澱單元

73‧‧‧快混單元

74‧‧‧膠凝單元

75‧‧‧第二沈澱單元

76‧‧‧過濾單元

77‧‧‧消毒單元

78‧‧‧儲存單元

79‧‧‧第二供應單元

711‧‧‧沈澱單元

712‧‧‧消毒單元

第1圖是為本發明之淨水系統之實施例之架構方塊示意圖。

第2圖是為本發明之淨水系統之另一實施例之架構方塊示意圖。

第3A圖是為本發明之淨水系統之另一實施例之架構方塊示意圖。

第3B圖是為本發明之淨水系統之另一實施例之架構方塊示意圖。

第4圖是為本發明之淨水系統之另一實施例之架構方塊示意圖。

第5圖是為本發明之淨水系統之另一實施例之架構方塊示意圖。

為對於本發明之特點與作用能有更深入之瞭解，茲藉實施例配合圖式詳述於後，各圖中相同之符號是表示相同或等同的元件。

請參考第1圖，本發明之淨水處理系統包括：一水源1、一第一處理裝置2、一第二處理裝置3、一儲存裝置4，其中該第一處理裝置2是與該水源1連接，而供處理該水源1中的水體，以產生一第一經處理水體；第二處理裝置，其是與該第一處理裝置2連接，而供接收該第一經處理水體，而以二氧化氯水溶液處理該第一經處理水體，以產生一第二經處理水體。該第二經處理水體的二氧化氯濃度是將二氧化氯純度96%以上之3000ppm之二氧化氯水溶液(二氧化氯純度96%以上)經稀釋而介於2ppm至10ppm之間。在另一實施例中，該第二經處理水體的二氧化氯濃度亦可介於50ppm至100ppm、10ppm至50ppm之間，根據使用者所需、水體的污染程度以及含鹽量而定；該儲存裝置4是與該第二處理裝置3連接，而供接收該第二經處理水體後進行儲存。

該第一處理裝置2是包括能發射遠紅外線且無輻射之一材質以及微量核輻射(微量輻射是在安全範圍)的礦石。前述能發射遠紅外線的材質是為一將石墨經3000℃鍛燒而製成的奈米碳管，該奈米碳管可產生10¹²-10¹⁴HZ/秒的遠紅外線。或，該能發射遠紅外線的材質是以稀土元素經1800℃提煉而成；而該礦石則包括一氧化鋁陶瓷、二氧化鈦陶瓷、氧化鋯陶瓷與稀土元素中至少一者，稀土元素包括鑭(La)、鈰(Ce)、鐠(Pr)、釹(Nd)、鉕(Pm)、釤(Sm)、銪(Eu)、釓(Gd)、鋱(Tb)、鏑(Dy)、鈥(Ho)、鉺(Er)、銩(Tm)、鐿(Yb)、鎦(Lu)以及與鑭系元素相關者如鈧(Sc)和釔(Y)。請參考以下表1、表2與表3，以加馬能譜分析法(純鍺偵檢器)偵測的結果，本發明之該等礦石所產生的輻射皆在安全的範圍內，而該奈米碳管則不含有輻射。在另一實施例中，該第一處理裝置2亦可僅包 括能發射遠紅外線之該材質。或，在另一實施例中，該第一處理裝置2亦可僅包括微量核輻射的該礦石。藉此，使來自該水源1的水體吸收遠紅外線能量與微量核輻射中之至少一者，將以該水源1中的雜質、微生物及氯去除而產生該第一經處理水體，藉以一併使該第一經處理水體之分子簇斷簇或分子鏈斷鍵。此外，該第一處理裝置2是包括至少一螺旋狀管道，該至少一螺旋狀管道依據使用之地理位置(北半球或南半球)而設定為左旋或右旋者。在一實施例中，若該螺旋狀管道為單一個，則為一體成型；在另一實施例中，若該螺旋狀管道為複數個，則為散佈於該第一處理裝置2中。而該能發射遠紅外線之該材質以及能發射微量核輻射的該礦石則是包含於該至少一螺旋狀管道之外週緣或該至少一螺旋狀管道中。在另一實施例中，該礦石與該材質是可以顆粒狀的方式包含於該至少一螺旋狀管道之外週緣或該至少一螺旋狀管道中。在另一實施例中，也可將多個該第一處理裝置2進行串聯或並聯，串聯可以使該第一處理裝置2的處理效果增強而能處理污染較嚴重的水體，而並聯則可以使該第一處理裝置2能在固定(相同)的處理效果下同時處理大量的該水源1，藉以在同一時間內增加所能處理水體的量，而此等處理效果也可依使用者的需求自行調整。

表2

請參考第3A圖與3B圖，該第二處理裝置3更包括：一混合單元31，其用以將該二氧化氯水溶液與來自該第一處理裝置2之該第一經處理水體進行混合，而產生該第二經處理水體；一第一供應單元32，其是與該混合單元31連接，而用以供給二氧化氯水溶液至該混合單元31；一流量控制單元33，其是用以控制該第一供應單元32將二氧化氯水溶液供給至該混合單元31的流速與流量。該第一供應單元32是用以供應高純度、食品級二氧化氯水溶液(亦可為一般二氧化氯水溶液，但，效果不如本發明度高純度、食品級的二氧化氯水溶液且一般二氧化氯水溶液需經過去氯化處理方能採用以避免傷害人體)。該第一供應單元32是設於溫度11℃以下的溫控室或無日光照射之暗房(因為二氧化氯的沸點為11℃)，該二氧化氯水溶液是將二氧化氯氣體以一般自來水水或經處理的純水混合而成(以經處裡的純水效果較佳)。該第一供應單元32是能供應由使用者預設濃度的二氧化氯水溶液，本發明之該二氧化氯水溶液是採用高純度、食品級之3000ppm的二氧化氯濃度，其氯含量在2%至4%、二氧化氯含量96%-98%(純度)且不含氯酸根、亞氯酸根、雙氧水等致癌物或污染物，以避免前述致癌物本身反成為水體本身的污染來源之一。在其他實施例中，也可使用一般的二氧化氯氣體做為原液(溶質)，但如前所述，其需經去氯化處理方能使用。二氧 化氯水溶液的使用濃度可依照所需淨化水體的污染狀況或含鹽量，藉由該流量控制單元33的流速與流量按比例作調整。此外，本發明之二氧化氯水溶液所使用的水(溶劑)是經由經淨化處理的水與二氧化氯氣體所產生，而使該水(自來水或地下水等)中的雜質如重金屬、微生物、其他離子等含量經過預先處理而降到最低。藉此而使二氧化氯氣體(溶質)本身的除污效果達到最佳狀態。

再，藉由該流量控制單元33，依照使用者依照該水源之污染程度所設定的流速與流量，將第一供應單元32所供給的二氧化氯水溶液傳輸至該混合單元31進行混合，其中該流量控制單元33是可為常見的抽取與排放裝置如定量泵等，而以所設定的流速與流量的方式抽取該二氧化氯水溶液。而此時，該混合單元31也接收了來自該第一處理裝置2的該經第一經處理水體。在該混合單元31中，該二氧化氯水溶液以文氏管連接，藉由泵浦(未圖示)所產生的壓力而使該經第一經處理水體被物理性的方式處理如攪拌、混合等，藉以讓該二氧化氯水溶液先對該第一經處理水體進行淨化而形成一第二經處理水體。之後，再將該第二經處理水體傳輸至該儲存裝置4。需說明的是，讓該第一經處理水體被二氧化氯水溶液淨化之原因是，如此的處理方式除了能更有效減少該第一經處理水體中污染物的濃度，而能讓該經該第一經處理水體能再次被使用，也有效減少過程中水資源的浪費。又因為污染物已被該第一處理裝置12先共振而振斷該水體中大部分之分子鏈，使該水體之結構遭到破壞(水體之分子簇斷鏈、斷鍵)，藉此，該二氧化氯水溶液能更輕易將結構已被破壞的水體進行強氧化作用，而使其中的微生物之代謝循環能力因被強氧化而喪失功能藉以百分之百滅 菌。

在一實施例中，該儲存裝置4是可為一般住家、旅館、大型醫院之水塔，由於該儲存裝置4儲存有包括前述高純度、食品級的二氧化氯水溶液，使得來自該水體1的微生物、雜質被去除，使得退伍軍人菌沒有生長的機會，大幅減少如習知般退伍軍人菌蔓延的可能性。另一方面，由於本發明前述用以與該第一經處理水體所使用的二氧化氯水溶液的強氧化能力已經達到最佳化，加上該第一經處理水體本身已經由該第一處理裝置2之該能發射遠紅外線且無輻射之材質、該能發射微量核輻射的礦石進行處理。因此，該第二經處理水體能充分深入前述各樣設施的管線、管線末端與管線之轉折連接、開關閥處等進行強氧化與對微生物進行電子奪取，使得各種微生物(如退伍軍人症)及其生物膜無法生長，藉以保持在一般住宅、大型社區、旅館、學校、醫院的用水的清潔。此外，由於本發明之該第二經處理水體仍具有高純度、食品級二氧化氯水溶液的強氧化(奪取電子)之能力；且為小分子化、不帶有前述致癌物、重金屬、微生物的水體，一般民眾也可用此等水體洗菜、亨煮食物、洗澡(氯含量已降到最低或接近零)，有益人體健康。

請參考第2圖，本發明之另一實施例之淨水處理系統與第1圖的區別在於，其中該水源為一含鹽水體，鹽度至多為40psu(40‰)，且該淨水處理系統更包括一中和單元6，其是分別與該第二處理裝置3與該儲存裝置4連接，而供接收來自該第二處理裝置3的該第二經處理水體(其pH值依實際混合之情況而定)，而進行中和處理以產生一經中和液體後，而將來自該中和單元6之該經中和液體輸送至該儲存裝置4。於此實施例中，本發 明之淨水處理裝置是用於商船、漁船的海水淡化與淨水處理，換言之，該水源1是為含鹽水體如海水等。有別於習知的海水蒸餾法與海水淡化步驟，首先，先將來自該水源的海水等含鹽水體以第一處理裝置2進行處理，而使來自該水源1的海水吸收遠紅外線能量與微量核輻射中之至少一者，將該海水中的雜質、微生物及氯去除而產生該第一經處理水體，藉以使該第一經處理水體之分子簇斷簇或分子鏈斷鍵。接著，於該第二處理裝置3中，以該二氧化氯水溶液(pH值約為2)將餘氯及其他雜質與微生物去除，而成為鹼性(或為酸性，依實際處理情況而定)的該第二經處理水體。之後，該中和單元6將鹼性(或為酸性，實際處理情況而定)的該第二經處理水體進行中和處理而產生該經中和液體，而將該經中和液體輸送至該儲存裝置4。換言之，若該第二經處理水體呈鹼性，則以特定的酸性化學環境進行處理；若該第二經處理水體呈酸性的情況，則是以特定的鹼性化學環境進行處理而產生一pH值呈中性的該經中和液體。而該儲存裝置4則是商船、漁船之儲水設備或水塔等。藉此，本發明之淨水處理裝置能有效改善現有海水蒸餾設備、過濾設備花成本過高的缺點，特別使漁船上的漁民能以較低的成本能飲用以二氧化氯將海水淡化與淨化後的純水。需注意的是，其他如習知各種海水淡化系統常見裝置如活性炭吸附裝置、淡化反應沉澱裝置、陰陽離子交換裝置、超濾膜、RO膜(或RO逆滲透裝置)亦可包含在本發明的淨水系統中，在此不詳述。此外，在另一實施例中，於該水源1與該第一處理裝置2間更包括一加熱裝置(未圖示)，該加熱裝置是分別與該水源1與該第一處理裝置2連接，而供將含鹽水體加熱後再以該第一處理裝置2將加熱後的含鹽水體進行處理，藉以將氯進行氣化而除去氯。

此外，請參考第1圖與第2圖，本發明之淨水系統更包括一加壓裝置5，其是供將該第二經處理水體自該儲存裝置加壓供應至至少一管線。該加壓裝置5是為一加壓馬達，其具有流控開關與壓力調控開關，而供以因應不同的管線配置而將該第二經處理水體輸送到各個管線與管線末端。在另一實施例中，該加壓裝置5亦可與該儲存裝置4連接而直接於該儲存裝置4進行加壓。在另一實施例中，該加壓裝置5亦可與前述管線的進水連接而直接於該至少一管線之進水口進行加壓。

請參考第4圖，本發明之淨水系統更包括一前處理裝置7，該前處理裝置7是分別與該水源1與該第一處理裝置2連接，而供將來自該水源1之水體如空中水、地表水、地下水等進行處理，並將經前處理的水體輸送至該第一處理裝置2。該前處理裝置7包括：一沈澱單元711，其供將來自該水源的水體進行沈澱處理而除去其中的大顆粒泥沙；一消毒單元712，其供除去來自該水源的水體中的微生物。該前處理裝置7更包括一第二供應單元79，其是用以將二氧化氯水溶液供應至該沈澱單元711與該消毒單元712中至少一者，藉此，以二氧化氯水溶液完全取代習知對雨水、地下水或河川水處理時所用對人體有害風險的次氯酸鈉(NaOCl)、臭氧、聚合氯化鋁、氯等添加物質。請參考第5圖，在另一實施例中，該前處理裝置7包括：一調節單元71，其是供調節水體的水質與水量；一第一沈澱單元72，其是供去除水體中的較大顆粒的泥沙與雜質；一快混單元73，其供除去水體中的懸浮顆粒且供以聚合氯化鋁而形成微細膠羽；一膠凝單元74，其供形成大膠羽；一第二沈澱單元75，其供讓其餘的細小顆粒與雜質進行沈澱；一過濾單元76，供過濾細小顆粒與膠羽；一消毒單元77，供將水體進行消毒； 一儲存單元78，供儲存經前述單元處理後的水體。再，該第二供應單元79是用以將二氧化氯水溶液供應至該第一沈澱單元72、該第二沈澱單元75與該消毒單元77中至少一者，藉此，以二氧化氯水溶液完全取代習知對處理空中水、地表水、地下水等時所用對人體有害風險的次氯酸鈉(NaOCl)、臭氧、氯等添加物質。需說明的是，有鑑於聚合氯化鋁由於其具有對水中膠體物質的強烈電中和作用、對水解產物對水中懸浮物的優良架橋吸附作用以及對溶解性物質的選擇性吸附作用的特性，因而仍被普遍使用於自來水淨水處理，因此，於此實施例中仍使用聚合氯化鋁，而可能仍有因有毒物質殘留於第二經處理水體的疑慮。然而，請注意於本實施例中於該快混單元73、該膠凝單元74之後的該第二沈澱單元75與該消毒單元77皆與該第二供應單元79連接，而得以以本發明之高純度、食品級二氧化氯水溶液對可能殘留的聚合氯化鋁進行強氧化，使得該第二經處理水體的所殘留的有毒物質含量(聚合氯化鋁)降到最低。需注意的是，於處理含鹽水體如海水的情況下，其他如習知各種海水淡化系統常見裝置如活性炭吸附裝置、淡化反應沉澱裝置、陰陽離子交換裝置、超濾膜、RO膜(或RO逆滲透裝置)中至少一者亦可包含在本發明的該前處理裝置7中；或於該第二處理裝置3與該中和單元6之間更設有一後處理裝置，該後處理裝置是包括常見裝置如活性炭吸附裝置、淡化反應沉澱裝置、陰陽離子交換裝置、超濾膜、RO膜(或RO逆滲透裝置)中至少一者，藉以將本發明處理含鹽水體的效能最大化，在此不詳述。

因此，本發明具有以下之優點：

1.藉由於本發明之第一處理裝置中設置不同之材質(前述能發射遠紅 外線之一材質以及能發射微量核輻射的一礦石)的組合，而將該水源之水體進行處理，並配合將多個第一處理裝置並聯與串聯的設置，而使該第一經處理水體中的微生物、重金屬、化學物質不但減少；也讓後續於該第二處理裝置中所共映之二氧化氯本身的強氧化效果得以維持且最佳化。藉此，而將淡水水源如自來水、地下水、雨水等水體處理成一般民生用水。

2.本發明於該第一處理裝置中所設有之該礦石經輻射檢測證實對該第一經處理的水體不會有輻射殘留的問題，亦不會對操作人員產生工安的傷害，使得後續之本發明之該第二經處理水體能有效用於淡水與含鹽水體的處理。

3.本發明藉由該第一處理裝置、該第二處理裝置與該中和單元所產生之技術效果，以有別於習知的海水蒸餾、海水淡化或RO逆滲透的方式，將含鹽水體如海水處理成可飲用的淡水，成本低於習知的海水蒸餾、海水淡化或RO逆滲透。

4.本發明將該前處理裝置中的沈澱裝置與消毒裝置所使用之化學藥劑以高純度、食品級的二氧化氯水溶液取代，即使，於前述實施例中仍有添加聚合氯化鋁，仍能藉由本發明之高純度、食品級二氧化氯水溶液對可能殘留的聚合氯化鋁進行強氧化，配合該第一處理裝置之共振或過濾處理，使得該第二經處理水體的所殘留的有毒物質降到最低，大幅增加現有淡水、含鹽水體淨水處理設備的衛生安全。

5.經本發明的淨水處理裝置所處理的淡水或含鹽水體，其中的微生物、雜質、重金屬與致癌物的含量已降到最低，得以用在一般民生 之用水如洗蔬果(即，降解農藥的殘留)、洗澡、食品製造與處理(如製麵、餐廳亨調等)以及醫院、旅館等公共場所的用水，藉由本發明高純度、食品級二氧化氯水溶液的強氧化力且其強氧化力達最佳化，使得現今民生用水的品質大幅提昇。

以上所述乃是本發明之具體實施例及所運用之技術手段，根據本文的揭露或教導可衍生推導出許多的變更與修正，若依本發明之構想所作之等效改變，其所產生之作用仍未超出說明書及圖式所涵蓋之實質精神時，均應視為在本發明之技術範疇之內，合先陳明。

依上文所揭示之內容，本發明確可達到發明之預期目的，提供一種淨水處理裝置，具有產業利用與實用之價值無疑，爰依法提出發明專利申請。

Claims (8)

1. 一種淨水處理系統，包括：複數個第一處理裝置，其是經並聯或串聯加以設置且與一水源連接，供處理該水源的水體，以產生一第一經處理水體；其中該複數個第一處理裝置是包括至少一螺旋狀管道，該至少一螺旋狀管道是為順時鐘或逆時鐘者，且該至少一螺旋狀管道之外週緣或該至少一螺旋狀管道中是包含能發射遠紅外線之材質以及能發射微量核輻射的礦石；一第二處理裝置，其是與該複數個第一處理裝置連接，供接收該第一經處理水體，並以二氧化氯水溶液處理該第一經處理水體，以產生一第二經處理水體；以及一儲存裝置，其是與該第二處理裝置連接而供接收該第二經處理水體。
2. 如申請專利範圍第1項所述之淨水處理系統，其中更包括一中和單元，該中和單元是分別與該第二處理裝置與該儲存裝置連接，供接收來自該第二處理裝置的該第二經處理水體，進行中和處理以產生一經中和液體，並將該經中和液體輸送至該儲存裝置；且該水源為一含鹽水源。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之淨水處理系統，其中該第二處理裝置更包括：一混合單元，其用以將二氧化氯水溶液與來自該第一處理裝置之該第一經處理水體進行混合，而產生該第二經處理水體；一第一供應單元，其是與該混合單元連接，而用以供給該二氧化氯水溶液至該混合單元；以及一流量控制單元，其是用以控制該第一供應單元將該二氧化氯水溶液供 給至該混合單元的流速與流量。
4. 如申請專利範圍第1或2項所述之淨水處理系統，其中該第一處理裝置是由一氧化鋁陶瓷、二氧化鈦陶瓷、氧化鋯陶瓷、奈米碳管與稀土元素中至少一者所製成。
5. 如申請專利範圍第1或2項所述之淨水處理系統，其更包括：一加壓裝置，其是供將該第二經處理水體自該儲存裝置加壓供應至至少一管線。
6. 如申請專利範圍第1項所述之淨水處理系統，其更包括一前處理裝置，該前處理裝置是分別與該水源與該第一處理裝置連接，而供將來自該水源之水體進行前處理，並將經前處理的水體輸送至該第一處理裝置。
7. 如申請專利範圍第6項所述之淨水處理系統，其中該前處理裝置包括：一沈澱單元，其供將來自該水源的水體進行沈澱處理而除去其中的大顆粒泥沙；以及一消毒單元，其供除去來自該水源的水體中的微生物。
8. 如申請專利範圍第7項所述之淨水處理系統，其中該前處理裝置更包括一第二供應單元，其是用以將二氧化氯水溶液供應至該沈澱單元與該消毒單元中至少一者。