TWI629740B - 線內分配儲存器 - Google Patents

Abstract

揭露一種流體分配設備。系統包含一線內或線性囊件設備，佈設成膨脹以收集注入流體，且收縮以輔助流體輸送與分配。在一分配關閉期間，處理流體可在經推進通過一精細過濾器(微過濾器)後，收集於該囊件中。一給定過濾速率可小於一分配速率，且因此，此中之系統將補償通常伴隨微製造用流體過濾之過濾器滯後(filter-lag)，同時提供可降低缺陷生成機會之一大體上線性架構。

Description

線內分配儲存器

本案係關於半導體製造，且尤有關於薄膜分配/塗佈與顯影製程及系統。

[交叉參考相關申請案]

本申請案主張2014年1月26日申請、題名為「線內分配儲存器」之美國臨時專利申請案第61/931,680號的權利，該案係以參考方式完全併入本案中。本申請案亦主張2014年5月1日申請、題名為「線內分配儲存器」之美國臨時專利申請案第61/987,013號的權利，該案係以參考方式完全併入本案中。

使用塗佈機/顯影器工具之各種製程，針對特定型式處理而具體指定欲分配於一基板或晶圓上之不同化學藥品。例如，各種抗蝕劑或光阻劑塗層可分配於一晶圓表面上。各種顯影劑及溶劑亦可分配於晶圓上。然而，分配各種化學藥品於晶圓上之一挑戰在於，避免所分配之化學藥品中之缺陷。該化學藥品中之任何小雜質或凝聚物皆可在晶圓上生成缺陷。隨著半導體特徵之尺寸持續減小，避免與移除所分配化學藥品之缺陷變得日益重要。

避免分配於一基板上之液體所致缺陷的一選擇係購買預先過濾之化學物質，以用於一塗佈機/顯影器工具中。然而，此種預先過濾之化學物質可能非常昂貴，且雖然有預先過濾，但可能在輸運或使用期間，在該化學物質中發展出缺陷。避免缺陷之另一選擇係在分配於一基板上前，即在一半導體製造工具(例如，塗佈機/顯影器)處過濾化學藥品。在分配前即過濾之一困難係流率降低。例如，為輸送業經充分過濾以符合純度需求之流體，需要相對較精細之過濾器。使用精細過濾器之一挑戰在於，當推進一給定化學物質通過該等相對較精細之過濾器時，此種過濾器將減低該流體化學物質之一流體流率。許多半導體製程需要特定之化學物質，該等特定之化學物質將依遵循特定參數之一流率加以分配。具有高於或低於此給定特殊流率之流率可能在基板上造成缺陷。換言之，難以依一合意之高速推進流體通過愈來愈精細之過濾器。

此中揭露之技術提供一種補償相對較緩慢之流體過濾速率且同時提供特定分配流率之系統。換言之，此中之系統可依較一過濾速率快速之一分配速率，將一經過濾液體分配於一基板上。此種系統可包含一分配儲存器，其位於一過濾器與一分配噴嘴之間。該分配儲存器包含一撓性膜片或表面，其選擇性地屈曲以增加或減少流體流動及/或壓力。更，該分配儲存器界定一近似線性流體導管，其無可引發缺陷之幾何形狀。在一具體實施例中，該系統可包含一囊件或撓性線構件，其可朝外屈曲以增加該過濾器與該分配噴嘴間之一輸送線內之流體量，及/或其可收縮以減少該輸送線中之流體量，以保持一特定壓力及/或流率。此種系統較優之處在於，一給定分配化學流體可在待分配於一晶圓上前即使用一相對較精細過濾器加以過濾，且同時仍保持可較一過濾速率快速之一指定分配速率。

當然，為了清楚說明，已提出此中所述不同步驟之討論順序。通常，可依任何適當順序實施該等步驟。另外，儘管此中每一不同特徵、技術、架構等皆在本說明書不同處討論，然而意欲使每一概念皆可相互獨立地、或相互結合地實施。緣是，本發明可依許多不同方式具體實施與考慮。

請注意，發明內容章節並非具體指定每一具體實施例及/或本說明書或申請專利之發明的增加新穎性構想。反而，本發明內容僅提供不同具體實施例之初步討論及超越習知技術之相對應新穎特點。針對本發明及具體實施例之額外細部設計及/或可能觀點，請讀者將注意力轉向以下將進一步討論之說明書實施方式章節及對應圖式。

105‧‧‧基板

110‧‧‧處理流動流體

111‧‧‧處理流體入口

112‧‧‧處理流體出口

115‧‧‧囊件

117‧‧‧壓力控制流體入口

119‧‧‧凸緣

120‧‧‧加壓流體機殼

121‧‧‧壓力控制容室

123‧‧‧流體入口

124‧‧‧流體出口

127‧‧‧壓力控制流體

133‧‧‧過濾器

136‧‧‧分配閥

137‧‧‧噴嘴

140‧‧‧壓力控制機構

142‧‧‧活塞

144‧‧‧線性驅動裝置

145‧‧‧控制器

147‧‧‧壓力感測器

150‧‧‧壓力控制液體安瓿

155‧‧‧壓力感測器

本發明各具體實施例之更完整理解及其眾多伴隨優點，將可藉參考以下結合隨附圖式一同考量之詳細說明而輕易地顯現。圖式未必依比例繪製，反而其重點在於圖示出特徵、原理、及概念。

圖1係此中所述之一分配儲存器的剖面概略視圖。

圖2係此中所述之一分配儲存器的剖面概略視圖。

圖3係用於此中所述之一分配儲存器的一控制系統簡化概略圖式。

圖4係此中所述之一分配儲存器的一範例具體實施例之剖面示意圖。

此中之技術可具體實施為一線內分配系統，其可補償通常伴隨微製造中流體過濾之過濾器滯後(filter-lag)。此中之分配解決方案又可降低缺陷生成之機會。傳統上，具有懸置於一流體線之一盲管(譬如，用於一壓力量測裝置或貯器)、或其他不連續部分的流體輸送系統，很有機會在該流體中生成缺陷。流體連接器係設計成，可減少流體導管壁(內側壁)上之瑕疵。任何粗糙連接器或彎折皆可能造成使流體再循環、減速、或者以其他方式停止而將導致凝聚之處。是以，設有一活塞、檔板、或側裝式貯器可生成眾多非期望之橫流、及使流體阻塞之處。此種橫流及遲緩點可導致流體內之微粒生成，該等微粒將在分配於臂如矽晶圓之一給定基板上時成為缺陷。

緣是，此中之系統包含一線內(線性)囊件設備。當該線內囊件佈設成不容許流體具有橫流或不容許該流體流動減速之一貫通管(近似均勻之截面)時，將達成較佳之流體分配結果。在一分配關閉期間、亦即當流體未自一相對應噴嘴分配於一基板上時，處理流體將在經推進通過一精細過濾器(微過濾器)後，收集於該囊件(如一膨脹囊件)中。在一具體實施例中，一流體分配儲存器係佈設成，充滿在一分配關閉期間進入該分配儲存器前即業已過濾之流體。在某些範例分配應用中，一給定流體係依一既定流率(譬如每秒0.4至1.4立方公分)分配，及該流體係分配(至基板上)譬如大約一秒之相對較短時間，且接著在一段休止期間將不再次使用該流體分配系統。該休止期間可為自大約15秒至60秒或更多之任意者。

當再次起始由該噴嘴進行分配時，該線內囊件將自一收集處理流體狀態返回至排出處理流體狀態。換言之，該大致線性囊件具有膨脹之能力，以收集注入處理流體且接著選擇性地壓縮，以藉由釋放經收集注入之流體來輔 助保持一特定處理流體流率。是以，此種架構提供一系統，具有一分配儲存器，其包含一囊件或可膨脹構件，佈設成可膨脹以接收注入流體並可收縮來協助排出經注入而累積之流體，該等者皆同時保持一大致線性處理流體流動路徑通過該囊件。

可經由一連結氣壓或液壓系統，控制圍繞該線內囊件之一壓力控制流體，來達成該分配儲存器之膨脹與收縮。可具有各種不同之該線內囊件剖面外型，例如圓形、正方形、及橢圓形。為便於說明此中具體實施例，本說明書主要將聚焦在，具有一近似橢圓形或圓形外型之一囊件。不同之剖面外型提供不同優點。使用具橢圓形剖面外型之囊件的一優點在於，具有二相對較平坦對立表面，其可為用於膨脹與收縮之主要撓曲表面。在大致均勻或對稱之剖面外型中(例如一圓形剖面)，所有側壁表面皆能夠大略均勻地膨脹與收縮。

現在請參考圖1，圖示出譬如為分配儲存器之一流體輸送用設備的一簡化概要圖式，且將在此中作說明。該設備包含一加壓流體機殼120，其界定出一壓力控制容室121。加壓流體機殼係指一機殼或結構體，佈設成接收且容納各種不同壓力下之流體。壓力控制容室121具有一流體入口123及一流體出口124。該加壓流體機殼係佈設成，容納一壓力控制流體127。可使用多種不同材料中之任一個來建構加壓流體機殼120。請注意，可依多種不同外型與架構來具體實施該壓力控制容室121。例如，在某些具體實施例中，加壓流體機殼120可界定出一縱向壓力控制通道。換言之，可界定出一容室，其具有大略相同於囊件115之一外型。在此種具體實施例中，該加壓流體機殼可包含一壓力控制流體入口。在其他具體實施例中，可致動該壓力控制機殼之一整側端或區段來建立壓力差。

一囊件115、或其他可膨脹/收縮導管係定位於壓力控制容室121內。囊件115具有一處理流體入口111，連接至壓力控制容室121之流體入口123。囊件115亦具有一處理流體出口112，連接至壓力控制容室121之流體出口124。囊件115在處理流體入口111與處理流體出口112之間界定一近似線性之流動路徑，該囊件係設置成在該近似線性之流動路徑內不具有構件。是以，處理流動流體110可大體上線性地流動通過囊件115。例如，處理流動流體110可包含光阻組成物、嵌段共聚物、溶劑等，以沉積於一給定基板上。

囊件115係佈設成在該壓力控制容室(或縱向壓力控制通道)內膨脹與收縮，使該囊件所界定之一體積可增加與減少。囊件115具有一長度，其大於一囊件剖面之高度。換言之，此中之囊件115係佈設成具有一大體上線性外型(流動路徑)，以取代形成一箱型或球型之一習知囊件(例如一燃料囊件)。

壓力控制容室121(或縱向壓力控制通道)係佈設成，容納著圍繞囊件115之一壓力控制流體127。壓力控制容室121包含一壓力控制機構140，其選擇性地增加或減少壓力控制流體127之一流體壓力，該流體壓力係施加於囊件115之一外表面上者。一控制器係佈設成啟動壓力控制機構140，且選擇性地增加或減少施加於囊件115外表面上之壓力控制流體127的流體壓力，使該囊件所界定之體積選擇性地增加或減少。請注意，圖1中圖示出囊件115為一膨脹狀態。該膨脹僅為說明性，且由於此種膨脹實際上可能不易看出而因此未按比例繪製。

在一具體實施例中，該壓力控制機構可包含自壓力控制容室121拉出壓力控制流體127，及將壓力控制流體127推入壓力控制容室121中。此種壓力控制機構或系統可包含使用一氣壓或液壓系統，其可選擇性地增加或減少圍繞該囊件之一氣體或液體。此種系統可譬如使用一活塞，以使處理控制流體移 入與移出該壓力控制容室。在某些具體實施例中，此種活塞可位於該壓力控制容室外側。在其他具體實施例中，一活塞表面可界定該壓力控制容室之某一壁或內表面。

在該壓力控制容室內圍繞囊件115者係壓力控制流體127，該壓力控制流體可容納於該加壓流體機殼內，且同時亦與處理流動流體110相分離。可使用該機殼中之一個或更多開口，譬如藉由使用一連結至該加壓流體機殼之液壓或氣壓系統，來增加或減少該機殼內之壓力控制流體總量。該壓力控制流體可為任何液壓相容流體，例如礦物油、油、水等。流體亦可包含各種不同之氣體。另一選擇，一氣壓系統可用於注入與排出處理流動流體。其他選擇為一機械系統，其係朝內或朝外實體地移動該囊件之表面。處理流動流體110可為用於一塗佈/顯影或微影製程之任何數量流體。處理流體可包含光阻劑、顯影劑、蝕刻流體、聚合流體等。選擇用於該加壓流體機殼之材料應相對於該囊件材料大體上較堅硬。該囊件材料可選自多種不同撓性、但流體不滲透材料，例如多種不同膜片、金屬、鐵氟龍、聚合物或彈性物、橡膠、及鐵氟龍塗佈橡膠材料，基本上可提供充分撓曲以收集一體積量之流體且接著將該經收集之該體積量流體推向一出口或分配器(噴嘴)之任何材料及/或材料厚度。

圖3係一簡化控制示意圖，其圖示出一範例流體分配設備之使用。當作動時，一給定處理流體係貯放於一壓力控制液體安瓿150中。該壓力控制液體安瓿可包含一機構，用於將處理流體自該安瓿經由一導管或管路驅向一過濾器133。當使用一高純度過濾器時，將處理流體推進通過過濾器133可為相對較緩慢之製程。範例過濾速率可低於用以沉積處理流體至基板105上之特定分配速率。在經淨化之處理流動流體通過過濾器133後，該處理流動流體開始收集 於該液壓機殼內之囊件115中。一活塞142可用於啟動該加壓流體系統。譬如一線性驅動裝置144可抽回活塞142，藉以減少該壓力控制容室中之壓力控制流體總量。如此將允許囊件115在該液壓機殼內膨脹，藉以收集更多之注入處理流動流體。

此種注入處理流體之收集可在一分配閥136處於一關閉位置時發生。是以，處理流動流體將收集於加壓流體機殼120內側之囊件115內。當該囊件內收集一充分量之處理流動流體時，該分配儲存器系統可開始經由一噴嘴137，以可高於一過濾速率之一具體指定流率分配液體至一給定基板上。可(使用壓力控制液體安瓿150)保持該處理流動流體源處之線內壓力，以防止經由該高純度過濾器之回流。這可藉由以充分壓力保持某些量之處理流動流體，即使在囊件115壓縮時仍移動通過過濾器133而達成。藉防止過濾器回流，線性驅動裝置144將使活塞142運動，造成更多壓力控制流體進入該壓力控制容室。該壓力控制流體之增加將大大地擠壓該囊件，造成經收集之處理流動流體持續通過該系統導管或管路而朝向該噴嘴且最終達譬如一目標晶圓之基板105上。在某些具體實施例中，可使用一隔膜替代該加壓流體機殼來控制該囊件。

請注意，此中之技術可保持連續流動通過過濾器133。即，當該囊件正注入與一噴嘴正分配之同時，處理流體可流通過該高純度過濾器。即使在一分配動作期間橫跨該過濾器具有一壓力降，流體仍可連續運動通過該過濾器。保持連續流動-包含連續過濾-之優點在於，該過濾器之一表面上(由該過濾器所捕獲)的累積聚集體，不具有返回溶液中之機會。其他具體實施例可包含在線內一分配閥前之一位置處、及該過濾器與該分配儲存器之間的一軟管部處使用一液壓鎖，使回流不可能發生。其他優點在於，具體實施例可在該流體輸送 系統中譬如一流體源與一分配噴嘴之間具有零靜滯區。具有零靜滯區將進一步限制缺陷生成之機會。

一控制器145，譬如一PID控制器(比例/積分/微分)，可用於控制氣壓或液壓壓力，以當該處理流動流體離開該噴嘴時，產生一處理流動流體之特定流率。當流體在該噴嘴處完成分配後，該噴嘴可關閉且處理流動流體可再次開始收集於該分配儲存器系統之囊件中，以準備一接續之分配動作或一系列分配動作。請注意，一壓力感測器147可用於提供回授至該PID控制器。另一選擇，一壓力感測器可整合於該壓力控制容室內，藉此無需以一分離T型聯接來讀取該處理流動流體在一分配動作期間之壓力。

圖4係一流體輸送設備之一範例具體實施例的剖面示意圖。圖4係顯示加壓流體機殼120、壓力控制容室121、及囊件115。請注意，囊件115可在流體入口與流體出口處包含複數個凸緣119。一壓力控制流體入口117可連附至一壓力控制系統。由於該囊件將膨脹與收縮，因此將該囊件之末端緊固至該機殼有利於保持適當作動。凸緣119可環繞一唇部壓縮以建立一密封，俾防止流體洩漏且使處理流動流體不致因流體在此類連接點處減速而形成缺陷。囊件115在某些具體實施例中可具有近似橢圓形之一剖面外型。藉使用一橢圓形囊件、或具圓角之矩形囊件，可將該囊件之撓曲設計為，主要發生在該囊件之對立平坦表面處。

可選擇多種不同材料來構成該囊件。範例之撓性材料可包含橡膠、合成橡膠、彈性物、薄壁金屬、不鏽鋼、氟聚合物彈性物等。在某些具體實施例中，可塗佈該囊件之內表面以作為保護、減少缺陷等。內部塗層可由化學抗性材料組成，選擇該等材料以耐受光阻劑、及譬如乳酸乙酯與環己酮等溶 劑、以及其他者。範例化學抗性材料包含聚四氟乙烯(PTFE)、及全氟烷氧基烷烴(PFA)。可藉多種不同之沉積技術，包含化學氣相沉積(CVD)及絲輔助CVD，以達成沉積。針對化學氣相沉積技術，可使用一相對較低壓力沉積環境，以確保均勻覆蓋整個該囊件之長度。另一替代性具體實施例係在一相對較薄壁之模具或嵌件上包覆模製合成橡膠或彈性物，該模具或嵌件係由譬如聚四氟乙烯(PTFE)、全氟烷氧基烷烴(PFA)、含氟彈性體等化學抗性材料製作。儘管使用PTFE/PFA流體連接器與一金屬囊件可較有利，然在某些具體實施例中亦可使用薄壁金屬。其他具體實施例包含雙射模製，其首先將一化學抗性材料形成為一襯裡，接著形成一彈性物以填充一給定模具之其餘部分。其他具體實施例可使用PFA、PTFE、及無橡膠或彈性物之相似材料的射出成型、吹氣模製、或機械加工。請注意，熟於本項技藝者亦將理解到，可針對待流動通過該囊件之給定處理流體，特定地選擇不同型式之材料及/或塗層。

此中之設備可結合至譬如一塗佈機/顯影器、微影工具、及清洗系統之一半導體製造工具中。可針對具各種不同黏度之流體，將此中之系統最佳化。請理解到，可結合多種不同之控制電路及機構，以使該分配設備之動作最佳化。例如，壓力換能器、減壓器、微粒量測系統、數位與類比輸入/輸出、微處理器、電源供應器等。

其他替代性具體實施例可使用該設備作為一分配儲存器、作為一壓力感測器、或該二者。使用該囊件設備作為一壓力感測機構可較有利之處在於，無需任何「T」型流動路徑。保持流動路徑儘可能平順且連續，可降低凝聚之機會。

一具體實施例包含一壓力感測器設備。該設備包含一加壓流體機殼，其定義出一壓力量測容室或縱向壓力量測通道。一囊件係定位於該壓力量測容室或縱向壓力量測通道內。本具體實施例包含一如上所述囊件，其具有相對應之流體入口及出口。一壓力感測器係定位於該縱向壓力量測通道內，使得當該縱向壓力量測通道充滿壓力量測流體時，該壓力感測器係與該壓力量測流體相接觸。該壓力感測器係佈設成，回應於該壓力量測流體因該囊件膨脹或收縮所造成之壓力變化而傳送一壓力量測訊號。在某些具體實施例中，可使用一不可壓縮流體。請注意，此一具體實施例可與上述分配設備相分離、或與該分配設備相結合。

使用本架構之一利益在於，該處理流體(譬如一光阻劑)並未直接接觸該壓力感測器，且因此一相對較惰性流體可用作為一壓力量測流體。該壓力感測器可佈設成，回應於該壓力量測流體因該囊件膨脹或收縮所造成之壓力變化而傳送一壓力量測訊號。圖2係圖示出使用該囊件及加壓流體機殼作為一壓力感測器設備之一範例具體實施例。圖2之壓力感測器155可替代性地加至圖1，以達成一相結合之分配儲存器與壓力感測器。

在先前說明中，已提出特定細部說明，臂如一處理系統之一特殊幾何、及此中使用之多種不同構件與製程的說明。然而應了解到，可在偏離該等特定細部設計之其他具體實施例中實施此中之技術，及此種細部設計係以解說而非以限制為目的。已參考隨附圖式對此中揭露之具體實施例作說明。相似地，已為解說之目的而提出特定之數量、材料、及架構，以提供透徹之了解。然，可實施具體實施例而無此類細部設計。具有大致相同功能性結構之構件係以相同符號標示，且因此可省略任何多餘之說明。

已將多種不同技術描述為多個各別動作，以輔助了解各個具體實施例。不應將說明之順序認定為暗指該等動作必須與順序相依。當然，無需依描述之順序實施該等動作。可依不同於上述說明具體實施例者之順序，實施上述說明之動作。可實施各種額外動作，及/或可在額外具體實施例中省略上述說明之動作。

此中使用之「基板」或「目標基板」大體上指待依據本發明處理之一物件。該基板可包含一裝置(尤其是一半導體或其他電子裝置)之任何材料部或結構體，且可譬如為一基礎基板結構，例如一半導體晶圓、光罩，或譬如一薄膜等在一基礎基板結構上或覆蓋其之一層。是以，基板並非以任何特殊基礎結構、下臥層或上覆層、圖案化或未圖案化者為限，反而可考慮為包含任何此種層或基礎結構、以及任何層及/或基礎結構之組合。本說明可參考特殊型式之基板，但這僅以說明為目的。

熟於本項技藝者亦將了解到，可對以上解說之技術的動作實施眾多變形，而仍將達成相同之發明目的。此類變形意欲由本說明書之範疇所涵蓋。如此，前述之本發明具體實施例說明並非意欲作限制。反而，任何對本發明具體實施例之限制將在以下申請專利範圍中提出。

Claims (16)

1. 一種用於流體輸送之設備，該設備包括：一加壓流體機殼，界定出一縱向壓力控制通道，該通道具有一流體入口與一流體出口，該加壓流體機殼包含一壓力控制流體入口；一囊件，定位於該縱向壓力控制通道內，該囊件具有一處理流體入口及一處理流體出口，該處理流體入口係與該加壓流體機殼之流體入口作流體式連接，及該處理流體出口係與該加壓流體機殼之流體出口作流體式連接，該囊件在該處理流體入口與該處理流體出口之間界定一近似線性之流動路徑，該囊件佈設成在該縱向壓力控制通道內膨脹與收縮，使該囊件所界定之一體積可增加與減少，該囊件具有一囊件長度，其大於一囊件剖面高度；該縱向壓力控制通道係設置以容納圍繞該囊件之一壓力控制流體，該壓力控制流體入口係設置以使該壓力控制流體可進入或離開該縱向壓力控制通道；一過濾器，經由一流體入口導管連接至該流體入口；一控制器，設置以啟動一壓力控制系統，該壓力控制系統選擇性地自該縱向壓力控制通道移除壓力控制流體以增加該囊件之體積，及選擇性地增加該縱向壓力控制通道中之壓力控制流體以減少該囊件之體積；及一分配噴嘴，經由一流體出口導管連結至該流體出口。
2. 如申請專利範圍第1項所述之用於流體輸送之設備，其尚包括一壓力感測器，偵測該縱向壓力控制通道中之該壓力控制流體的一壓力。
3. 如申請專利範圍第1項所述之用於流體輸送之設備，其中該囊件具有一剖面外型，其選自由圓形、橢圓形、及矩形所組成之群組。
4. 如申請專利範圍第1項所述之用於流體輸送之設備，其中該壓力控制系統包含一氣壓系統，選擇性地增加或減少圍繞該囊件之一氣體。
5. 如申請專利範圍第1項所述之用於流體輸送之設備，其中該壓力控制系統包含一液壓系統，選擇性地增加或減少圍繞該囊件之一液體。
6. 如申請專利範圍第1項所述之用於流體輸送之設備，其中該囊件在該處理流體入口及該處理流體出口處具有複數個凸緣，該等凸緣與該加壓流體機殼相連接，以形成一流體密封連接。
7. 如申請專利範圍第4項所述之用於流體輸送之設備，其中該氣壓系統係使用一活塞，以使壓力控制流體移動進出該縱向壓力控制通道。
8. 一種用於流體輸送之設備，該設備包括：一加壓流體機殼，界定出一壓力控制容室，該壓力控制容室具有一流體入口與一流體出口，及該加壓流體機殼佈設成容納一壓力控制流體；一囊件，定位於該壓力控制容室內，該囊件具有一處理流體入口及一處理流體出口，該處理流體入口連接至該壓力控制容室之流體入口，及該處理流體出口連接至該壓力控制容室之流體出口，該囊件在該處理流體入口與該處理流體出口之間界定一近似線性之流動路徑，該囊件係設置成在該近似線性之流動路徑內不具有構件，該囊件佈設成在該壓力控制容室內膨脹與收縮，使該囊件所界定之一體積可增加與減少，該囊件具有一囊件長度，其大於一囊件剖面高度；該壓力控制容室係設置以容納圍繞該囊件之該壓力控制流體，該壓力控制容室包含一壓力控制機構，其選擇性地增加或減少該壓力控制流體之一流體壓力，該流體壓力係施加於該囊件之一外表面上；及一控制器，佈設成啟動該壓力控制機構，且選擇性增加或減少施加於該囊件外表面上之該壓力控制流體的流體壓力，使該囊件所界定之體積選擇性地增加或減少。
9. 如申請專利範圍第8項所述之用於流體輸送之設備，其中該壓力控制機構包含一氣壓系統，選擇性地增加或減少圍繞該囊件之一氣體。
10. 如申請專利範圍第8項所述之用於流體輸送之設備，其中該壓力控制機構包含一液壓系統，選擇性地增加或減少圍繞該囊件之一液體。
11. 如申請專利範圍第8項所述之用於流體輸送之設備，其中該用於流體輸送之設備係為佈設成將流體沉積於半導體晶圓上之一塗佈機-顯影器系統的一構件。
12. 如申請專利範圍第8項所述之用於流體輸送之設備，其尚包括一壓力感測器，佈設成回應該壓力控制流體因該囊件膨脹或收縮所造成之壓力變化而傳送一壓力量測訊號。
13. 如申請專利範圍第1項所述之用於流體輸送之設備，其中該囊件係由一撓性材料構成，該撓性材料係選自由橡膠、合成橡膠、彈性物、薄壁金屬、不鏽鋼、及氟聚合物彈性物所組成之群組。
14. 一種用於壓力偵測之設備，該設備包括：一加壓流體機殼，界定出一縱向壓力量測通道；一囊件，定位於該縱向壓力量測通道內，該囊件具有一處理流體入口及一處理流體出口，該囊件在該處理流體入口與該處理流體出口之間界定一近似線性之流動路徑，該囊件佈設成在該縱向壓力量測通道內膨脹與收縮，使該囊件所界定之一體積可增加與減少，該囊件具有一囊件長度，其大於一囊件剖面高度，其中該囊件係由一撓性材料構成，該撓性材料係選自由橡膠、合成橡膠、彈性物、薄壁金屬、不鏽鋼、及氟聚合物彈性物所組成之群組，以及其中該囊件具有以一化學抗性材料塗佈之一內表面，該化學抗性材料係耐受包含光阻劑及溶劑之化學藥品，該等溶劑包含乳酸乙酯及環己酮；該縱向壓力量測通道佈設成容納圍繞該囊件之一壓力量測流體；及一壓力感測器，定位於該縱向壓力量測通道內，使得當該縱向壓力量測通道充滿壓力量測流體時，該壓力感測器係與該壓力量測流體相接觸，該壓力感測器佈設成回應該壓力量測流體因該囊件膨脹或收縮所造成之壓力變化而傳送一壓力量測訊號。
15. 如申請專利範圍第14項所述之用於壓力偵測之設備，其中該化學抗性材料係選自由聚四氟乙烯(PTFE)、及全氟烷氧基烷烴(PFA)所組成之群組。
16. 如申請專利範圍第15項所述之用於壓力偵測之設備，其中該化學抗性材料係經由絲輔助化學氣相沉積或誘發化學氣相沉積而沉積。