TWI581260B - 光干涉模組以及全像儲存裝置 - Google Patents

Description

光干涉模組以及全像儲存裝置

本發明是有關於一種光干涉模組與應用此光干涉模組的全像儲存裝置。

隨著科技的發展，電子檔案所需的儲存用量也跟著上升。常見的儲存方式為記錄儲存介質表面上磁或光的變化，以作為所儲存資料的依據，例如磁碟片或光碟片。然而，隨著電子檔案的所需儲存用量增加，全像儲存的技術發展開始受到注目。

全像儲存技術為透過訊號光以及參考光產生干涉後，將影像資料寫入儲存介質內。當讀取資料時，透過重新照射參考光至儲存介質(感光材料)上，即可產生影像資料。接著，所產生的影像資料再被檢測器讀取。也就是說，全像儲存技術的儲存容量與訊號光以及參考光具有相關性，而如何提升全像儲存技術的儲存容量亦成為當前相關領域研究的目標。

本發明之一實施方式提供一種全像儲存裝置，其可利用角度多工或位置多工的方式將干涉圖案記錄在光儲存媒介中，藉以提升光儲存媒介之單位頁面所能儲存的資料量。此外，本發明之全像儲存裝置的馬達只需驅動光儲存媒介上的儲存區塊移動較大的距離，接著光干涉模組可利用位置多工的方式將多個干涉圖案形成於不同的位置上，藉以降低馬達的損耗。

本發明之一實施方式提供一種光干涉模組，包含物鏡、第一導光元件以及第二導光元件。物鏡用以投射訊號光至光儲存媒介。第一導光元件用以投射第一參考光至光儲存媒介，其中第一參考光與訊號光於光儲存媒介上產生第一干涉圖案。第二導光元件用以投射第二參考光至光儲存媒介，其中第二參考光與訊號光於光儲存媒介上產生第二干涉圖案，並且第一干涉圖案與第二干涉圖案並不相同。

於部分實施方式中，第一導光元件與第二導光元件圍繞物鏡設置。

於部分實施方式中，光干涉模組更包含第一透鏡以及第二透鏡。第一透鏡配置於第一導光元件之出光口，且第一導光元件透過第一透鏡將第一參考光投射至光儲存媒介上。第二透鏡配置於第二導光元件之出光口，且第二導光元件透過第二透鏡將第二參考光投射至光儲存媒介上。

於部分實施方式中，第一導光於件朝第一方向投射第一參考光，第二導光元件朝第二方向投射第二參考光，第 一方向與第二方向不同，且第一干涉圖案與第二干射圖案於光儲存媒介上至少部分重疊。

於部分實施方式中，光儲存媒介具有複數儲存層，第一干涉圖案與第二干涉圖案位於不同的儲存層。

於部分實施方式中，第一導光元件與第二導光元件為光導管。

本發明之一實施方式提供一種全像儲存裝置，其包含全像光發射模組、空間光調製器以及上述之光干涉模組。全像光發射模組提供訊號光與參考光。空間光調製器調製全像光發射模組所提供之訊號光以及參考光。光干涉模組接收空間光調製器調製之訊號光以及參考光。

於部分實施方式中，全像儲存裝置更包含馬達，用以改變物鏡與光儲存媒介之間的相對位置。

於部分實施方式中，馬達連接該光儲存媒介。

於部分實施方式中，全像光發射模組包含雷射光源，用以提供訊號光與參考光。並且，全像儲存裝置更包含偏振分光鏡，用以接收訊號光與參考光，並將具有同一偏振態的訊號光與參考光導向空間光調製器。

於部分實施方式中，全像儲存裝置更包含透鏡組合。透鏡組合從空間光調製器接收訊號光以及參考光，並將訊號光以及參考光傳遞至物鏡、第一導光元件以及第二導光元件。

於部分實施方式中，全像儲存裝置更包含光學定位機構，用以提供定位光束至光儲存媒介上。

於部分實施方式中，全像儲存裝置更包含光學讀取機構，用以讀取光儲存媒介上儲存的資料。

於部分實施方式中，全像儲存裝置更包含四分之一波長相位延遲片，其配置於光學讀取機構與光儲存媒介之間的光傳遞路徑上。

本發明之一實施方式提供一種光干涉模組，其包含物鏡、複數個導光元件以及複數個透鏡。物鏡用以投射訊號光至光儲存媒介。複數個導光元件圍繞物鏡設置。複數個透鏡分別設置於複數個導光元件的出光口，其中複數個導光元件沿著不同的方向，並透過透鏡朝向光儲存媒介投射複數個參考光，且上述參考光分別與訊號光產生不同的干涉圖案於光儲存媒介上。

99‧‧‧馬達

100‧‧‧全像儲存裝置

110‧‧‧全像光發射模組

120‧‧‧空間光調製器

130、130a、130b、130c、130d‧‧‧光干涉模組

140‧‧‧物鏡

150、151、152‧‧‧導光元件

150a、152a‧‧‧第一導光元件

150b、152b‧‧‧第二導光元件

152c‧‧‧第三導光元件

152d‧‧‧第四導光元件

152e‧‧‧第五導光元件

152f‧‧‧第六導光元件

152g‧‧‧第七導光元件

152h‧‧‧第八導光元件

160‧‧‧光儲存媒介

161、162、163、164‧‧‧儲存層

171‧‧‧第一透鏡

172‧‧‧第二透鏡

173‧‧‧第三透鏡

174‧‧‧第四透鏡

175‧‧‧第五透鏡

176‧‧‧第六透鏡

177‧‧‧第七透鏡

178‧‧‧第八透鏡

180‧‧‧極化分光鏡

190‧‧‧透鏡組合

200‧‧‧反射單元

210‧‧‧光學定位機構

211‧‧‧發光源

212‧‧‧光感測器

213‧‧‧第一分光鏡

214‧‧‧反射單元

215‧‧‧第二分光鏡

216‧‧‧透鏡

220‧‧‧光學讀取機構

221‧‧‧感光元件

222‧‧‧透鏡

223‧‧‧光圈

224‧‧‧偏振分光鏡

225‧‧‧四分之一波長相位延遲片

S‧‧‧訊號光

R‧‧‧參考光

R1‧‧‧第一參考光

R2‧‧‧第二參考光

B1‧‧‧亮區域

B2‧‧‧暗區域

M‧‧‧定位光束

第1圖繪示依照本發明一實施方式之全像儲存裝置的配置示意圖。

第2圖繪示依照本發明一實施方式之光干涉模組之俯視圖。

第3圖繪示依照本發明一實施方式之光干涉模組以角度多工的方式投射參考光的示意圖。

第4圖繪示依照本發明一實施方式之光干涉模組以位置多工的方式投射參考光的示意圖。

第5圖繪示依照本發明一實施方式之光干涉模組以位置多工的方式投射參考光的示意圖。

第6圖繪示依照本發明一實施方式中，經空間光調製器調製後的參考光示意圖。

第7圖繪示依照本發明一實施方式中，全像儲存裝置執行讀取程序的示意圖。

以下將以圖式及詳細說明清楚說明本發明之精神，任何所屬技術領域中具有通常知識者在了解本發明之較佳實施例後，當可由本發明所教示之技術，加以改變及修飾，其並不脫離本發明之精神與範圍。

關於本文中所使用之『第一』、『第二』、...等，並非特別指稱次序或順位的意思，亦非用以限定本發明，其僅僅是為了區別以相同技術用語描述的元件或操作而已。

第1圖為本發明一實施方式之全像儲存裝置的配置示意圖。如第1圖所示，全像儲存裝置100包含全像光發射模組110、空間光調製器120以及光干涉模組130。光干涉模組130包含物鏡140以及複數個導光元件150。為了方便說明，第1圖係繪示有兩個導光元件，分別為第一導光元件150a與第二導光元件150b。

請繼續參考第1圖，全像光發射模組110用以提供訊號光S與參考光R。空間光調製器120用以調製全像光發射模組110堤供之訊號光S與參考光R。光干涉模組130之物鏡140用以接收訊號光S並投射至一光儲存媒介160。光干涉模組130 之第一導光元件150a與第二導光元件150b用以接收參考光R並投射參考光R至光儲存媒介160。

請繼續參考第1圖，經由空間光調製器120發射出來的訊號光S帶有特定資訊，例如經由空間光調製器120發射出來的訊號光S可具有明暗分佈，用以代表1與0的訊號。第一導光元件150a投射之參考光R會與帶有某一特定資訊的訊號光S在光儲存媒介160上干涉而產生第一干涉圖案。第二導光元件150b投射之參考光R會與帶有另一特定資訊的訊號光S在光儲存媒介160上干涉而產生第二干涉圖案。如第1圖所示，由於第一導光元件150a投射之參考光R與第二導光元件150b投射之參考光R射向光儲存媒介160之方向不同，因此光儲存媒介160上的第一干涉圖案與第二干涉圖案並不相同，藉以達到角度多工的儲存效果，而提升全像儲存技術的儲存容量。

請參考第2圖，其為本發明一實施方式之光干涉模組130a之俯視圖。如圖所示，光干涉模組130a包含複數個導光元件151，且複數個導光元件151圍繞物鏡140設置。在本實施方式中，複數個導光元件151緊貼於物鏡140之周圍，但本發明不以此為限。在其他實施方式中，複數個導光元件151可與物鏡140分開一段距離。

請參考第3圖，其為本發明一實施方式之光干涉模組130b以角度多工的方式投射參考光的示意圖。如圖所示，複數個導光元件152可例如包含第一導光元件152a、第二導光元件152b、第三導光元件152c、第四導光元件152d、第五導光元件152e、第六導光元件152f、第七導光元件152g以 及第八導光元件152h。第一至第八導光元件152a~152h由於所在的位置不同，因此可將參考光R分別從八個不同的方向投射至光儲存媒介160上。

舉例而言，在第3圖的實施方式中，第一導光元件152a可朝一第一方向D1投射第一參考光R1至光儲存媒介160；第二導光元件152b可朝一第二方向D2投射第二參考光R2至光儲存媒介160，其他第三至第八導光元件152c~152h則以此類推，在此便不贅述。請一併參考第1圖與第3圖，當第一參考光R1與帶有某特定資訊的訊號光S產生第一干涉圖案於光儲存媒介160後，第二參考光R2可與帶有另一特定資訊的訊號光S產生第二干涉圖案，其中在第3圖的實施方式中，第一干涉圖案與第二干涉圖案可大致上重疊於光儲存媒介160的同一個位置上。由於第一參考光R1與第二參考光R2分別由不同的方向(即第一方向D1與第二方向D2)投射至光儲存媒介160，因此可以達到角度多工的儲存效果。亦即，在光儲存媒介160大致相同的一個位置中，可儲存多個不同的干涉圖案，藉以提升全像儲存技術的儲存容量。

應了解的是，在其他實施方式中，多個不同的干涉圖案可至少部分重疊於光儲存媒介160中，而非完全地重疊於光儲存媒介160中的同一個位置，只要藉由在第3圖所示例的光干涉模組130b，並以角度多工的方式記錄多個干涉圖案，皆應落入本發明之範疇。

請參考第4圖，其為本發明一實施方式之光干涉模組130c以位置多工的方式投射參考光的示意圖。為方便說 明，第4圖只繪示了四道參考光(即第一參考光R1、第二參考光R2、第三參考光R3與第四參考光R4)分別由第一至第四導光元件152a~152d投射至光儲存媒介160之不同位置的態樣。如第4圖所示，光儲存媒介160具有複數個儲存層161、162、163與164，而第一至第四參考光R1~R4可分別被投射至同一個儲存層164中的不同位置。請一併參考第1圖與第4圖，第一至第四參考光R1~R4可分別與帶有不同資訊的訊號光S干涉，而產生不同的干涉圖案於儲存層164中的不同位置，藉以達到位置多工的儲存功效。

除了投射至同一儲存層164中的不同位置外，在其他部分實施方式中，光干涉模組亦可將不同的參考光R投射至光儲存媒介160中不同的深度。舉例而言，請參考第5圖，其為本發明一實施方式之光干涉模組130d以位置多工的方式投射參考光的示意圖。如圖所示，第一至第四參考光R1~R4可分別被投射至光儲存媒介160中不同的深度，例如分別被投射至儲存層161、162、163或164，使得不同的干涉圖案可記錄在不同的儲存層161、162、163或164中，以達到位置多工的儲存功效。

在部分實施方式中，第4圖與第5圖之位置多工的儲存方式可更進一步變化成，部分的參考光R被投射至同一儲存層中的不同位置，而另一部分的參考光R被投射至不同的儲存層中，此亦可達到位置多工的儲存功效。舉例而言，請參考第4圖，雖然第4圖未繪示第五至第八導光元件152e~152h所投射之參考光R，但可理解的是，若第五至第八導光元件 152e~152h將參考光R投射至其他的儲存層161、162或163中，亦可達到位置多工的儲存功效。以及，請參考第5圖，類似地，只要第5圖中第五至第八導光元件152e~152h將參考光R投射至與第一至第四參考光R1~R4不同的位置，亦可達到位置多工的儲存功效。

請參考第3圖至第5圖，在部分實施方式中，光干涉模組130b、130c或130d更包含複數個透鏡，例如包含第一透鏡171、第二透鏡172、第三透鏡173、第四透鏡174、第五透鏡175、第六透鏡176、第七透鏡177以及第八透鏡178。第一至第八透鏡171~178可例如為聚光透鏡，其中第一透鏡171設置於第一導光元件152a之出光口，第二透鏡172設置於第二導光元件152b之出光口，第三透鏡173設置於第三導光元件152c之出光口，其餘的以此類推，在此便不贅述。如圖所示，第一至第八導光元件152a~152h分別沿著不同的方向，並透過第一至第八透鏡171~178朝光儲存媒介160投射複數個參考光R，且複數個參考光R可分別與訊號光S產生不同的干涉圖案於光儲存媒介160上，以達到位置多工或角度多工的儲存功效。

更詳細而言，以第5圖為例說明，第一透鏡171可具有一預定焦距，用以將第一導光元件152a中的第一參考光R1投射至光儲存媒介160中的預定深度(即儲存層164)，第二透鏡172可具有另一預定焦距，用以將第二導光元件152b中的第二參考光R2投射至光儲存媒介160中的另一預定深度(即儲存層163)。如此一來，藉由透鏡之設置可將參考光R投射至光 儲存媒介160中相同或不同的深度，以達到角度多工或位置多工的儲存功效。

在上述實施方式中，第一至第八導光元件152a~152h可為光導管，例如可為光纖或任何可將光導向特定位置的元件。藉由第一至第八導光元件152a~152h將參考光R導向特定位置，再輔以透鏡設定參考光R投射在光儲存媒介160中的特定深度，並與訊號光S產生不同的干涉圖案於光儲存媒介160中，可達到角度多工或位置多工的儲存功效。

請回到第1圖，在第1圖中，全像光發射模組110提供的參考光R可環繞於訊號光S之周圍。如此一來，當第1圖中的全像儲存裝置100應用例如第2圖至第5圖之任一個光干涉模組130a、130b、130c、130d時，參考光R的位置可與圍繞物鏡140的複數個導光元件150之位置相互對應。

更詳細而言，請參考第6圖，其為經空間光調製器120調製後的參考光R示意圖。請一併參考第1圖與第6圖，參考光R經空間光調製器120調製後，可具有例如亮暗的分佈。在一實施方式中，參考光R中的亮區域B1可對應例如第一導光元件150a的位置，暗區域B2則對應其他導光元件的位置，使得參考光R中的亮區域B1可經由第一導光元件150a投射至光儲存媒介160上，而與帶有特定資訊的訊號光S產生干涉。接著，空間光調製器120可改變參考光R的亮暗分佈，並同時提供帶有另一特定資訊的訊號光S。舉例而言，空間光調製器120可將參考光R改變為亮區域B1對應第二導光元件150b的位置，暗區域B2則對應其他導光元件的位置，使得參 考光R中的亮區域B1可經由第二導光元件150b投射至光儲存媒介160上，而與帶有另一特定資訊的訊號光S產生干涉，藉以達到角度多工或位置多工的儲存功效。

請回到第1圖，全像儲存裝置100可更包含馬達99。馬達99連接光儲存媒介160，馬達99可用以改變物鏡140與光儲存媒介160之間的相對位置。更詳細而言，在一實施方式中，光儲存媒介160可為包含感光材料的一碟片，其形狀可例如為圓盤狀。馬達99可驅動光儲存媒介160旋轉，使得光干涉模組130在光儲存媒介160之不同的儲存區塊形成干涉圖案。

在本發明之多個實施方式中，由於光干涉模組130具有位置多工的儲存功效(例如第4圖與第5圖之光干涉模組130c、130d)，因此光干涉模組130可減輕馬達99的負擔。馬達99只需驅動光儲存媒介160轉動較大的角度，接著光干涉模組130可利用位置多工的方式將參考光R與訊號光S之多個干涉圖案形成於不同的位置上，藉以降低馬達99的損耗。

換句話說，第1圖的全像儲存裝置100可先利用馬達99大略地確立光干涉模組130欲投射參考光R與訊號光S之位置，接著再利用光干涉模組130之位置多工的方式將不同的干涉圖案形成在光儲存媒介160之不同的位置上。此方式除了可減低馬達99的負擔與損耗外，更可以提升干涉圖案形成的位置的準確度。

在本發明之部分實施方式中，光儲存媒介160之形狀並不限定為圓盤狀，光儲存媒介160也可為長方體或任何 形狀。此外，在本發明之實施方式中，馬達99可為步進馬達，例如可為旋轉馬達、位移馬達、壓電效應所產生之位移馬達或可產生位置變化的任何馬達等。

請再回到第1圖，全像光發射模組110可為雷射光源，且其發出的參考光R與訊號光S可為同調光源。此外，在一實施方式中，全像儲存裝置100更包含偏振分光鏡180。偏振分光鏡180可接收訊號光S與參考光R，並且偏振分光鏡180可將具有同一偏振態的訊號光S與參考光R導向空間光調製器120。具體而言，偏振分光鏡180可將具有右旋圓偏光(S偏光)的訊號光S與參考光R導向空間光調製器120，經空間光調製器120調製並反射訊號光S與參考光R後，訊號光S與參考光R可成為左旋圓偏光(P偏光)，而通過偏振分光鏡180。

請參考第1圖，全像儲存裝置100可更包含透鏡組合190。透鏡組合190中包含複數個透鏡，用以從空間光調製器120接收訊號光S與參考光R，並將訊號光S傳遞至物鏡140，以及將參考光R傳遞至複數個導光元件150。請繼續參考第1圖，全像儲存裝置100可更包含多個反射單元200，設置於訊號光S與參考光R的傳遞路徑上，用以反射訊號光S與參考光R。應了解的是，第1圖中透鏡組合190與反射單元200的設置位置只是舉例，並非用以限制本發明。通常知識者可適度調整透鏡組合190與反射單元200的位置與數目，以透過最有效率的方法將訊號光S與參考光R傳遞至光干涉模組130。

請繼續參考第1圖，全像儲存裝置100可更包含光學定位機構210。光學定位機構210用以提供定位光束M至光 儲存媒介160上。如圖所示，光學定位機構210可還包含發光源211以及光感測器212。發光源211用以提供定位光束M至光儲存媒介160，光感測器212用以感測自光儲存媒介160反射回來的定位光束M，以檢測光儲存媒介160是否有例如不正常地傾斜現象，避免全像儲存裝置100無法將資料寫入至光儲存媒介160中。

請繼續參考第1圖，光學定位機構210可更包含第一分光鏡213、透鏡216、反射單元214與第二分光鏡215。如第1圖所示，發光源211發出的定位光束M通過第一分光鏡213與透鏡216，並且被反射單元214以及第二分光鏡215反射後，可進入光干涉模組130之物鏡140，並由物鏡140將定位光束M投射至光儲存媒介160上。光儲存媒介160可反射定位光束M，並沿著原本路徑依序被第二分光鏡215與反射單元214反射後，通過透鏡216並由第一分光鏡213導入光感測器212中，以確定光儲存媒介160是否有不正常地傾斜，而影響資料的寫入或讀取。在具體應用時，使用者可選擇適當的第一分光鏡213、透鏡216、反射單元214與第二分光鏡215之種類或排列位置，以實現上述之光學定位機構210。例如，在一實施方式中，透鏡216可為聚光透鏡，第二分光鏡可為二色分光鏡(Dichroic Beam Separator,DBS)，但本發明不以此為限。

接著，請參考第7圖，其為本發明之全像儲存裝置執行讀取程序的示意圖。如圖所示，全像儲存裝置100更包含光學讀取機構220以及四分之一波長相位延遲片225。光學讀取機構220可用以讀取光儲存媒介160儲存的資料。四分之 一波長相位延遲片225配置於光學讀取機構220與光儲存媒介160之間的光傳遞路徑上。

更具體而言，光學讀取機構220可更包含感光元件221、透鏡222、光圈223以及偏振分光鏡224。當全像儲存裝置100執行讀取程序時，全像儲存裝置100之空間光調製器120會先以與寫入程序相同的光路發射參考光R，並通過偏振分光鏡224以及四分之一波長相位延遲片225。接著，參考光R於光儲存媒介160發生繞射後，因碟片底部有反射鏡之設計，因此參考光R會反射回物鏡140中，並再次通過四分之一波長相位延遲片225。此時，通過兩次四分之一波長相位延遲片225的參考光R與全像光發射模組110發出的參考光R的偏振態相差180度。因此，當參考光R再度進入偏振分光鏡224時，參考光R會於偏振分光鏡224反射並通過光圈223以及透鏡222，而到達感光元件221進行資料讀取。在一實施方式中，感光元件221可例如為互補式金屬氧化物半導體(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor,CMOS)或電荷耦合元件(Charge-Coupled Device,CCD)，但本發明不以此為限。

綜上所述，本發明之全像儲存裝置包含光干涉模組，其中光干涉模組包含圍繞著物鏡的複數個導光元件。如此一來，導光元件可沿著不同的方向將參考光投射至光儲存媒介之同個位置或不同位置上，以分別與訊號光產生不同的干涉圖案。因此，藉由本發明所揭露之光干涉模組，全像儲存裝置可在光儲存媒介之同一個位置上記錄多個不同的干涉圖案，又或者可在光儲存媒介不同的位置上記錄多個不同的干涉圖案，以 達到角度多工或位置多工的儲存功效。此外，本發明之全像儲存裝置的馬達只需驅動光儲存媒介上的儲存區塊移動較大的距離，接著光干涉模組可利用位置多工的方式將多個干涉圖案形成於不同的位置上，藉以降低馬達的損耗。

雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

99‧‧‧馬達

100‧‧‧全像儲存裝置

110‧‧‧全像光發射模組

120‧‧‧空間光調製器

130‧‧‧光干涉模組

140‧‧‧物鏡

150‧‧‧導光元件

150a‧‧‧第一導光元件

150b‧‧‧第二導光元件

160‧‧‧光儲存媒介

180‧‧‧極化分光鏡

190‧‧‧透鏡組合

200‧‧‧反射單元

210‧‧‧光學定位機構

211‧‧‧發光源

212‧‧‧光感測器

213‧‧‧第一分光鏡

214‧‧‧反射單元

215‧‧‧第二分光鏡

216‧‧‧透鏡

220‧‧‧光學讀取機構

221‧‧‧感光元件

222‧‧‧透鏡

223‧‧‧光圈

224‧‧‧偏振分光鏡

225‧‧‧四分之一波長相位延遲片

S‧‧‧訊號光

R‧‧‧參考光

M‧‧‧定位光束

Claims (19)

1. 一種光干涉模組，包含：一物鏡，用以投射一訊號光至一光儲存媒介；一第一導光元件，用以投射一第一參考光至該光儲存媒介，其中該第一參考光與該訊號光於該光儲存媒介上產生一第一干涉圖案；以及一第二導光元件，用以投射一第二參考光至該光儲存媒介，其中該第二參考光與該訊號光於該光儲存媒介上產生一第二干涉圖案，其中該第一導光元件與該第二導光元件圍繞該物鏡設置；其中該第一干涉圖案與該第二干涉圖案並不相同。
2. 如請求項1所述之光干涉模組，更包含：一第一透鏡，配置於該第一導光元件之出光口，該第一導光元件透過該第一透鏡將該第一參考光投射至該光儲存媒介上；以及一第二透鏡，配置於該第二導光元件之出光口，該第二導光元件透過該第二透鏡將該第二參考光投射至該光儲存媒介上。
3. 如請求項1所述之光干涉模組，其中該第一導光於件朝一第一方向投射該第一參考光，該第二導光元件朝一第二方向投射該第二參考光，該第一方向與該第二方向不同，且該第一干涉圖案與該第二干射圖案於該光儲存媒介上至少部分重疊。
4. 如請求項1所述之光干涉模組，其中該光儲存媒介具有複數個儲存層，該第一干涉圖案與該第二干涉圖案位於不同的該些儲存層。
5. 如請求項1所述之光干涉模組，其中該第一導光元件與該第二導光元件為光導管。
6. 一種全像儲存裝置，包含：一全像光發射模組，提供一訊號光與一參考光；一空間光調製器，調製該全像光發射模組所提供之該訊號光以及該參考光；以及一光干涉模組，包含：一物鏡，接收該訊號光並投射至一光儲存媒介；一第一導光元件，接收該參考光並投射至該光儲存媒介，其中該第一導光元件投射之該參考光與該訊號光在該光儲存媒介上產生一第一干涉圖案；以及一第二導光元件，接收該參考光並投射至該光儲存媒介，其中該第二導光元件投射之該參考光與該訊號光在該光儲存媒介上產生一第二干涉圖案；其中該第一干涉圖案與該第二干涉圖案並不相同。
7. 如請求項6所述之全像儲存裝置，其中該參考光環繞於該訊號光之周圍，且該第一導光元件與該第二導光元件圍繞該物鏡設置。
8. 如請求項6所述之全像儲存裝置，更包含：一第一透鏡，設置於該第一導光元件之出光口，該第一導光元件透過該第一透鏡將該第一參考光投射至該光儲存媒介上；以及一第二透鏡，設置於該第二導光元件之出光口，該第二導光元件透過該第二透鏡將該第二參考光投射至該光儲存媒介上。
9. 如請求項6所述之全像儲存裝置，其中該第一導光於件沿著一第一方向投射該第一參考光，該第二導光元件沿著一第二方向投射該第二參考光，該第一方向與該第二方向不同，且該第一干涉圖案與該第二干射圖案於該光儲存媒介上至少部分重疊。
10. 如請求項6所述之全像儲存裝置，其中該光儲存媒介具有複數個儲存層，該第一干涉圖案與該第二干涉圖案位於不同的該些儲存層。
11. 如請求項6所述之全像儲存裝置，其中該第一導光元件與該第二導光元件為光導管。
12. 如請求項6所述之全像儲存裝置，更包含：一馬達，用以改變該物鏡與該光儲存媒介之間的相對位置。
13. 如請求項12所述之全像儲存裝置，其中該馬達連接該光儲存媒介。
14. 如請求項6所述之全像儲存裝置，其中該全像光發射模組包含：一雷射光源，提供該訊號光與該參考光；其中該全像儲存裝置更包含：一偏振分光鏡，接收該訊號光與該參考光，並將具有同一偏振態的該訊號光與該參考光導向該空間光調製器。
15. 如請求項6所述之全像儲存裝置，更包含：一透鏡組合，該透鏡組合從該空間光調製器接收該訊號光以及該參考光，並將該訊號光以及該參考光傳遞至該物鏡、該第一導光元件以及該第二導光元件。
16. 如請求項6所述之全像儲存裝置，更包含一光學定位機構，提供一定位光束至該光儲存媒介上。
17. 如請求項6所述之全像儲存裝置，更包含一光學讀取機構，用以讀取該光儲存媒介上儲存的資料。
18. 如請求項17所述之全像儲存裝置，更包含：一四分之一波長相位延遲片，配置於該光學讀取機構與該光儲存媒介之間的光傳遞路徑上。
19. 一種光干涉模組，包含：一物鏡，用以投射一訊號光至一光儲存媒介；複數個導光元件，圍繞該物鏡設置；以及複數個透鏡，分別設置於該些導光元件的出光口；其中該些導光元件沿著不同的方向，並透過該些透鏡朝向該光儲存媒介投射複數個參考光，且該些參考光分別與該訊號光產生不同的干涉圖案於該光儲存媒介上。