TWI553145B - 化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置 - Google Patents

Description

化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置

本發明是有關於一種鍍膜裝置，特別是指一種化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置。

參閱圖1，中華民國第M503419號「高均勻化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置」新型專利所公開的連續鍍製裝置1包括一用以輸送一待鍍物100的輸送單元11、一沉積單元12、一連通該沉積單元12的冷凝單元13，及一用以容置該輸送單元11的容置單元14。

利用上述捲對捲的輸送單元11的設計，雖然能連續鍍製待鍍物100。但是，如果該輸送單元11與該待鍍物100並不是捲對捲的設計，而該待鍍物100是置放於該輸送單元11上的物件時，該沉積單元12會同時在該待鍍物100與該輸送單元11沉積化學氣相沉積鍍膜，逐漸使得該輸送單元11的外觀尺寸產生變化而發生故障，進而無法再帶動該待鍍物100。

雖然，可以透過定期的清洗或更換該輸送單元11，以避免該輸送單元11發生故障，但是該輸送單元11的清洗或更換不僅費時費工也會增加設備成本，而且經常 性的清洗或更換該輸送單元11也會影響整體的產能。

因此，如何減少該輸送單元11的清洗或更換，以節省設備成本並提升產能，成為相關業者亟欲改善的目標。

因此，本發明之目的，即在提供一種可以節省設備成本並提升產能的化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置。

本發明化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置包含一用以輸送一待鍍物沿一預定路徑移動的輸送單元、一位於該預定路徑上的沉積單元，及一防鍍單元。

該沉積單元包括一位於該預定路徑上以對該待鍍物進行化學氣相沉積的沉積艙。該防鍍單元包括一與該輸送單元對應設置且維持在一防鍍溫度的防鍍加熱機構。

本發明的有益效果在於：利用與該輸送單元對應設置且維持在一防鍍溫度的防鍍加熱機構，使得該沉積艙在對該待鍍物進行化學氣相沉積時，不會同時沉積於該輸送單元上，以減少清洗或更換該輸送單元的的次數，進而以節省設備成本並提升產能。

2‧‧‧輸送單元

38‧‧‧出料連接閘門

21‧‧‧輸送機構

39‧‧‧出料閘門

22‧‧‧連接機構

4‧‧‧防鍍單元

3‧‧‧沉積單元

41‧‧‧防鍍加熱機構

31‧‧‧沉積艙

42‧‧‧進料加熱機構

32‧‧‧進料連接艙

43‧‧‧進料冷凝機構

33‧‧‧進料艙

44‧‧‧出料加熱機構

34‧‧‧出料連接艙

45‧‧‧出料冷凝機構

35‧‧‧出料艙

46‧‧‧防鍍吸附機構

36‧‧‧進料連接閘門

200‧‧‧待鍍物

37‧‧‧進料閘門

X‧‧‧預定路徑

本發明之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一示意圖，說明中華民國第M503419號「高均勻化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置」新型專利； 圖2是一示意圖，說明本發明化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置的第一實施例；圖3是一示意圖，說明該第一實施例的輸送單元與該輸送單元的態樣；圖4是一示意圖，說明本發明化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置的第二實施例；圖5是一示意圖，說明本發明化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置的第三實施例；及圖6是一示意圖，說明該第三實施例的輸送單元與該輸送單元的態樣；圖7是一示意圖，說明該第三實施例另一種輸送單元與該輸送單元的種態樣；圖8是一示意圖，說明本發明化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置的第四實施例；及圖9是一示意圖，說明該第四實施例另一種輸送單元與該輸送單元的態樣。

參閱圖2、3，本發明化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置的第一實施例包含一用以輸送一待鍍物200沿一預定路徑X移動的輸送單元2、一位於該預定路徑X上的沉積單元3，及一防鍍單元4。該輸送單元2包括一沿該預定路徑X移動的輸送機構21，及一可分離地連接該輸送機構21與該待鍍物200的連接機構22。於本實施例中，該輸送機構21是懸吊式輸送設備，該連接機構22是可拆卸地吊 掛該待鍍物200的釣鉤。

該沉積單元3包括一位於該預定路徑X上以對該待鍍物200進行化學氣相沉積的沉積艙31、一位於該預定路徑X上且連通該沉積艙31的進料連接艙32、一位於該預定路徑X上且連通該進料連接艙32的進料艙33、一位於該預定路徑X上且連通該沉積艙31的出料連接艙34、一位於該預定路徑X上且連通該出料連接艙34的出料艙35、一位於該進料連接艙32與該進料艙33之間的進料連接閘門36、一形成於該進料艙33的進料閘門37、一位於該出料連接艙34與該出料艙35之間的出料連接閘門38，及一形成於該出料艙35的出料閘門39。於本實施例中，該沉積艙31是用以沉積聚對二甲苯，該進料連接閘門36、該進料閘門37、該出料連接閘門38以及該出料閘門39是閘閥。

該防鍍單元4包括一與該輸送單元2對應設置且維持在一防鍍溫度的防鍍加熱機構41、一設置於該進料連接艙32的進料加熱機構42、一與該進料加熱機構42間隔設置於該進料連接艙32的進料冷凝機構43、一設置於該出料連接艙34的出料加熱機構44，及一與該出料加熱機構44間隔設置於該出料連接艙34的出料冷凝機構45。其中，該進料加熱機構42是位於該進料冷凝機構43與該沉積艙31之間，而該出料加熱機構44是位於該出料冷凝機構45與該沉積艙31之間，該防鍍加熱機構41是位於該沉積艙31中並鄰近該輸送單元2的輸送機構21，而可遮擋住該 輸送機構21。在本較佳實施例中，該防鍍加熱機構41為斷面概呈U字型的加熱板，然而依據機台設計之需求，該防鍍加熱機構41亦可僅遮擋於該輸送機構21之下方，或包覆於該輸送機構之全週。此外，依據聚對二甲苯之化學特性，在高於60℃時幾乎不會有鍍膜沉積，而在低於-60℃時則會快速的形成鍍膜，因此該防鍍溫度、該進料加熱機構42與該出料加熱機構44的溫度是介於60℃至120℃之間，而該進料冷凝機構43與該出料冷凝機構45的溫度是介於-60℃至-120℃之間，而在本較佳實施例中，該出料加熱機構44的溫度為100℃，而該出料冷凝機構45的溫度是-100℃。

實際應用時，是關閉該進料連接閘門36、該進料閘門37、該出料連接閘門38以及該出料閘門39，再將該沉積艙31、該進料艙33與該出料艙35抽真空至3mTorr。

再將該防鍍加熱機構41加熱至該防鍍溫度，並將該進料加熱機構42與該出料加熱機構44加熱至100℃，而將該進料冷凝機構43與該出料冷凝機構45降溫至-100℃。

接著，開啟該進料閘門37，利用該輸送機構21將該待鍍物200送入該進料艙33，然後關閉該進料閘門37，再對該進料艙33抽真空至3mTorr。接著開啟該進料連接閘門36，利用該輸送機構21將該待鍍物200送入該沉積艙31，再關閉該進料連接閘門36。

將對二甲苯單體導入該沉積艙31，控制該沉積艙31的壓力維持在40mTorr，以在該待鍍物200上形成聚對二甲苯鍍膜，待到達預定的時間後則停止對二甲苯單體輸入該沉積艙31。藉由持續維持在100℃的該防鍍加熱機構41的輻射熱，可以使該輸送機構21周邊的溫度升高，避免使對二甲苯單體沉積於該輸送機構21上形成鍍膜。

之後，開啟該出料連接閘門38，將該待鍍物200送入該出料艙35。再關閉該出料連接閘門38並開啟該出料閘門39，而將該待鍍物200自該出料艙35取出。

只要重覆且依序地啟閉該進料閘門37、該進料連接閘門36、該出料連接閘門38以及該出料閘門39，即可不破除該沉積艙31的真空而連續鍍製待鍍物200。

利用高達100℃的該進料加熱機構42與該出料加熱機構44的輻射熱，可以防止由該沉積艙31外溢的對二甲苯單體污染、沉積於該進料連接艙32與該出料連接艙34。而-100℃的該進料冷凝機構43與該出料冷凝機構45，則能抓取通過該進料加熱機構42與該出料加熱機構44的微量對二甲苯單體，不僅能避免外溢的對二甲苯單體污染、沉積於該進料艙33或該出料艙35，更能進一步避免對二甲苯單體由該進料閘門37或該出料閘門39流出，達成雙重保護的效果。而該可分離地連接該輸送機構21與該待鍍物200的連接機構22，則能便於該連接機構22的拆卸清洗或更換。

參閱圖4，本發明化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝 置的第二實施例，大致是與該第一實施例相似，不相同的地方在於：該防鍍單元4還包括一對應該輸送單元2設置於該沉積艙31中且維持在一吸附溫度的防鍍吸附機構46。於本實施例中，該防鍍吸附機構46是一介於該防鍍加熱機構41與該輸送機構21間的冷凝板，而該吸附溫度是-100℃。

由於本實施例大致是與該第一實施例相似，因此，除了可以達成與該第一實施例相同的功效外，如果有微量對二甲苯單體通過該防鍍加熱機構41的輻射熱所在的高溫輻射區域，則可以藉由位於輸送機構21鄰側，且溫度維持在低於該輸送機構46的冷凝溫鍍的防鍍吸附機構46，使通過高溫輻射區域的微量對二甲苯單體選擇性的快速鍍覆於該防鍍吸附機構46上，進一步避免對二甲苯單體沉積於該輸送機構21上形成鍍膜。

參閱圖5、6，本發明化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置的第三實施例，大致是與該第一實施例相似，不相同的地方在於：該輸送機構21是輸送帶，該連接機構22是可拆卸地設置於該輸送機構21上以撐抵待鍍物200的支撐柱。

而該防鍍加熱機構41是斷面概呈倒U字型的加熱板。實際應用時，該防鍍加熱機構41也可以是如圖7所示，斷面呈一字型的加熱板。藉此提供另一種實施態樣供選擇，當然，依據機台設計之需求，該防鍍加熱機構41亦可僅遮擋於該輸送機構21之下方，或包覆於該輸送機構21 之全週，只要不干擾該輸送機構21之運作即可。

參閱圖8，本發明化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置的第四實施例，大致是與該第三實施例相似，不相同的地方在於：該防鍍單元4還包括一對應該輸送單元2設置於該沉積艙31中且維持在一吸附溫度的防鍍吸附機構46。於本實施例中，該防鍍吸附機構46是一介於該防鍍加熱機構41與該輸送機構21間的冷凝板，而該吸附溫度是-100℃。實際應用時，該防鍍加熱機構41也可以是如圖9所示，斷面呈一字型的加熱板。當然，依據機台設計之需求，該防鍍加熱機構41亦可僅遮擋於該輸送機構21之下方，或包覆於該輸送機構21之全週，只要不干擾該輸送機構21之運作即可。

綜上所述，本發明化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置利用該防鍍加熱機構41將該輸送單元2加熱至一防鍍溫度，使得該沉積艙31在對該待鍍物200進行化學氣相沉積時，不會同時沉積於該輸送單元2上，有效避免該輸送單元2的外觀尺寸產生變化而發生故障，以減少清洗或更換該輸送單元2的次數，進而以節省設備成本並提升產能，故確實能達成本發明之目的。

惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。

2‧‧‧輸送單元

38‧‧‧出料連接閘門

21‧‧‧輸送機構

39‧‧‧出料閘門

22‧‧‧連接機構

4‧‧‧防鍍單元

3‧‧‧沉積單元

41‧‧‧防鍍加熱機構

31‧‧‧沉積艙

42‧‧‧進料加熱機構

32‧‧‧進料連接艙

43‧‧‧進料冷凝機構

33‧‧‧進料艙

44‧‧‧出料加熱機構

34‧‧‧出料連接艙

45‧‧‧出料冷凝機構

35‧‧‧出料艙

200‧‧‧待鍍物

36‧‧‧進料連接閘門

X‧‧‧預定路徑

37‧‧‧進料閘門

Claims (10)

1. 一種化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置，包含：一輸送單元，用以輸送一待鍍物沿一預定路徑移動；一沉積單元，包括一位於該預定路徑上以對該待鍍物進行化學氣相沉積的沉積艙；及一防鍍單元，包括一與該輸送單元對應設置且維持在一防鍍溫度的防鍍加熱機構。
2. 如請求項1所述化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置，其中，該防鍍單元還包括一對應該輸送單元設置的防鍍吸附機構，該防鍍吸附機構維持在一吸附溫度。
3. 如請求項2所述化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置，其中，該沉積單元還包括一位於該預定路徑上且連通該沉積艙的進料連接艙，及一位於該預定路徑上且連通該進料連接艙的進料艙，該防鍍單元還包括一設置於該進料連接艙的進料加熱機構，及一與該進料加熱機構間隔設置於該進料連接艙的進料冷凝機構，其中，該進料加熱機構是位於該進料冷凝機構與該沉積艙之間，該待鍍物是由該進料艙朝該沉積艙移動。
4. 如請求項3所述化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置，其中，該沉積單元還包括一位於該預定路徑上且連通該沉積艙的出料連接艙，及一位於該預定路徑上且連通該出料連接艙的出料艙，該防鍍單元還包括一設置於該出料連接艙的出料加熱機構，及一與該出料加熱機 構間隔設置於該出料連接艙的出料冷凝機構，其中，該出料加熱機構是位於該出料冷凝機構與該沉積艙之間，該待鍍物是由該進料艙經該沉積艙朝該出料艙移動。
5. 如請求項4所述化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置，其中，該沉積單元還包括一位於該進料連接艙與該進料艙之間的進料連接閘門，及一形成於該進料艙的進料閘門，該待鍍物是由該進料閘門朝該進料連接閘門移動。
6. 如請求項5所述化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置，其中，該沉積單元還包括一位於該出料連接艙與該出料艙之間的出料連接閘門，及一形成於該出料艙的出料閘門，該待鍍物是由該出料連接閘門朝該出料閘門移動。
7. 如請求項2或6所述化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置，其中，該防鍍加熱機構與該防鍍吸附機構是對應該輸送單元而位於該沉積艙中。
8. 如請求項7所述化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置，其中，該防鍍溫度介於60℃至120℃之間，而該吸附溫度介於-60℃至-120℃之間。
9. 如請求項8所述化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置，其中，該輸送單元包括一沿該預定路徑移動的輸送機構，及一可分離地連接該輸送機構與該待鍍物的連接機構，該防鍍加熱機構是鄰近該輸送機構，該防鍍吸 附機構是介於該防鍍加熱機構與該輸送機構間。
10. 如請求項6所述化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置，其中，該進料加熱機構與該出料加熱機構的溫度介於60℃至120℃之間，而該進料冷凝機構與該出料冷凝機構的溫度介於-60℃至-120℃之間。