TWI545475B - 觸摸屏及顯示裝置 - Google Patents

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TWI545475B TW101121022A TW101121022A TWI545475B TW I545475 B TWI545475 B TW I545475B TW 101121022 A TW101121022 A TW 101121022A TW 101121022 A TW101121022 A TW 101121022A TW I545475 B TWI545475 B TW I545475B
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陳杰良
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鴻海精密工業股份有限公司
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Description

觸摸屏及顯示裝置
本發明涉及一種觸摸屏，特別涉及一種使用藍寶石的觸摸屏及具有該觸摸屏的顯示裝置。
傳統的觸摸屏一般包括一玻璃片及一設置在玻璃片上用於偵測觸摸動作的透明導電層。為了提高該觸摸屏的硬度和屈服強度，需要對玻璃片進行物理或化學強化處理，過程複雜但效果並不明顯。
有鑒於此，有必要提供一種可提高硬度及屈服強度的觸摸屏及一種具有該觸摸屏的顯示裝置。
一種觸摸屏，其包括一基片及一形成在該基片上用於偵測觸摸動作的透明導電層。該基片採用藍寶石製成，該透明導電層採用氧化銦透明導電膜。
一種顯示裝置，其包括一顯示面板及一設置在該顯示面板上的觸摸屏。該觸摸屏包括一基片及一形成在該基片上、與該顯示面板相背且用於偵測觸摸動作的透明導電層。該基片採用藍寶石製成，該透明導電層採用氧化銦透明導電膜。
本發明提供的觸摸屏及顯示裝置通過採用藍寶石作為該基片，由 於藍寶石具有較大的硬度和屈服強度，從而有效提高了該觸摸屏的硬度和屈服強度。
100‧‧‧顯示裝置
10‧‧‧顯示面板
20‧‧‧觸摸屏
22‧‧‧基片
24‧‧‧透明導電層
26‧‧‧抗反射膜
261‧‧‧高折射率層
262‧‧‧低折射率層
圖1是本發明較佳實施方式提供的顯示裝置的結構示意圖。
請參閱圖1，本發明較佳實施方式的顯示裝置100包括一顯示面板10及一設置在該顯示面板10上的觸摸屏20。該觸摸屏20包括一基片22及一形成在該基片22上、與該顯示面板10相背且用於偵測觸摸動作的透明導電層24。該基片22採用藍寶石製成，該透明導電層24採用氧化銦透明導電膜。
該觸摸屏20及該顯示裝置100通過採用藍寶石作為該基片22，由於藍寶石具有較大的硬度和屈服強度，從而有效提高了該觸摸屏20的硬度和屈服強度。具體的，該觸摸屏20的硬度達到1500-200Kg/mm2、屈服強度達到300-400MPa、抗壓強度達到2GPa、溫差範圍為-40-2000℃，並具有抗高電壓和抗高頻等性質。由於該觸摸屏20具有較高的硬度和強度，可有效保護該顯示面板10。另外，由於該觸摸屏20具有抗高電壓和抗高頻的性質，使得該顯示裝置100可用於工業環境中。
藍寶石屬於剛玉族礦物，三方晶系，具有六方結構。該藍寶石的主要化學成分為三氧化二鋁(Al2O3)，折射率在1.760-1.757的範圍內。
本實施方式的藍寶石採用純淨的Al2O3模造成型(thin film molding,TFM)，結晶方向為a軸(11 0)，c軸(0001)，m軸(10 0)。
該基片22通過採用鐳射對該藍寶石切割而成。該基片22的尺寸大小根據觸摸屏20尺寸大小而定。具體的，該基片22的長度在1-60英寸的範圍內，寬度在0.5-60英寸的範圍內，而厚度在0.2-1毫米的範圍內。
考慮到藍寶石對波長為420-700nm的可見光線的透射率較低(小於86%)，因此，本實施方式的觸摸屏20還包括一形成於該基片22與該透明導電層24相背的抗反射膜(antireflection coating)26。
該抗反射膜26包括多個依次交替重複堆疊於該基片上高折射率層261及低折射率層262，該抗反射膜膜系結構為(xHyL)n，4≦n≦8，1<x<2，1<y<2，n為正整數，其中，xH表示該高折射率層261，其光學厚度為x/4倍中心波長，yL表示該低折射率層，其光學厚度為y/4倍中心波長，中心波長為工作波長的中間值，n為該高折射率層和該低折射率層重複堆疊的次數。
與該基片22直接接觸的為該高折射率層261，因此，n=5,7時，該高折射率層261置頂，而n=6,8時，該低折射率層262置頂。
該高折射率層261可以採用二氧化鈦(TiO2)(折射率為2.705)，而該低折射率層262可以採用二氧化矽(SiO2)(折射率為1.499)。可以理解，該高折射率層261及該低折射率層262也可以採用其他折射率相當之材料。
採用該抗反射膜26後，該基片22的光透射率為90%-99.5%，從而提高了該顯示面板10的光透射率，提高該顯示裝置100的清晰度和解析度。
綜上所述，本創作符合發明專利要件，爰依法提出專利申請。惟 ，以上所述者僅為本創作之較佳實施例，本創作之範圍並不以上述實施例為限，舉凡熟習本案技藝之人士爰依本創作之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
100‧‧‧顯示裝置
10‧‧‧顯示面板
20‧‧‧觸摸屏
22‧‧‧基片
24‧‧‧透明導電層
26‧‧‧抗反射膜
261‧‧‧高折射率層
262‧‧‧低折射率層

Claims (6)

  1. 一種觸摸屏，其包括一基片及一形成在該基片上用於偵測觸摸動作的透明導電層；該基片採用藍寶石製成，該透明導電層採用氧化銦透明導電膜；該觸摸屏還包括一形成於該基片與該透明導電膜相背的抗反射膜；該抗反射膜包括多個依次交替重複堆疊於該基片上高折射率層及低折射率層，該抗反射膜膜系結構為(xHyL)n，4≦n≦8，1<x<2，1<y<2，n為正整數，其中，xH表示該高折射率層，其光學厚度為x/4倍中心波長，yL表示該低折射率層，其光學厚度為y/4倍中心波長，中心波長為工作波長的中間值，n為該高折射率層和該低折射率層重複堆疊的次數。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏，其中，該基片的長度在1-60英寸的範圍內，寬度在0.5-60英寸的範圍內，而厚度在0.2-1毫米的範圍內。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏，其中，與該基片直接接觸的為該高折射率層，n=5,7時，該高折射率層置頂，而n=6,8時，該低折射率層置頂。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏，其中，該高折射率層採用二氧化鈦，而該低折射率層採用二氧化矽。
  5. 一種顯示裝置，其包括一顯示面板及一設置在該顯示面板上的觸摸屏；該觸摸屏包括一基片及一形成在該基片上、與該顯示面板相背且用於偵測觸摸動作的透明導電層；該基片採用藍寶石製成，該透明導電層採用氧化銦透明導電膜；該觸摸屏還包括一形成於該基片與該透明導電膜相背的抗反射膜；該抗反射膜包括多個依次交替重複堆疊於該基片上高折射率層及低折射率層，該抗反射膜膜系結構為(xHyL)n，4≦n≦8，1<x<2，1<y<2，n為正整數，其中，xH表示該高折射率層，其光學厚度為 x/4倍中心波長，yL表示該低折射率層，其光學厚度為y/4倍中心波長，中心波長為工作波長的中間值，n為該高折射率層和該低折射率層重複堆疊的次數。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的顯示裝置，其中，該基片的長度在1-60英寸的範圍內，寬度在0.5-60英寸的範圍內，而厚度在0.2-1毫米的範圍內。
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