TWI544621B - 畫素陣列及其遮罩結構 - Google Patents

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TWI544621B
TWI544621B TW104126971A TW104126971A TWI544621B TW I544621 B TWI544621 B TW I544621B TW 104126971 A TW104126971 A TW 104126971A TW 104126971 A TW104126971 A TW 104126971A TW I544621 B TWI544621 B TW I544621B
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/35Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
    • H10K59/353Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels characterised by the geometrical arrangement of the RGB subpixels
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Description

畫素陣列及其遮罩結構
本發明是有關於一種畫素陣列及其遮罩結構, 且特別是有關於一種畫素陣列的畫素排列方式及其遮罩結構。
傳統上, 有機發光二極體的面板製作是利用精細金屬遮罩(fine metal mask;FMM)隔開不同子畫素, 並透過蒸鍍達成紅光、綠光及藍光的排列方式。目前主要的兩種畫素排列方式, 一種是以紅色畫素、綠色畫素及藍色畫素不斷重覆排列的條狀(stripe)排列,其每英吋畫素(pixel per inch;ppi)以現有的金屬遮罩模式發展最高可達到257ppi。基於現有的畫素排列方式下, 由於精細金屬遮罩(FMM)的尺寸具有一定限制, 因此, 要達到增加面板的畫素密度及解析度的難度也隨之增加。基於上述, 如何提高面板的畫素密度及解析度為目前積極研究的重要課題之一。
本發明提供一種畫素陣列及其遮罩結構, 可用以提高有機發光二極體面板的畫素密度及解析度。
本發明的畫素陣列包括基板、至少兩個第一顏色子畫素、至少兩個第二顏色子畫素以及至少兩個第三顏色子畫素。所述基板包括第一區域、第二區域以及第三區域。第一區域之長邊與第三區域之長邊之間的夾角為60度至120度,且第二區域之長邊與所述第三區域之長邊之間的夾角為60度至120度。至少兩個第一顏色子畫素沿著第一區域之長邊方向而設置於第一區域中。至少兩個第二顏色子畫素沿著第二區域之長邊方向而設置於第二區域中。至少兩個第三顏色子畫素沿著第三區域之長邊方向而設置於第三區域中,其中,第一區域內之其中一個第一顏色子畫素、第二區域內之其中一個第二顏色子畫素以及第三區域內之其中一個第三顏色子畫素構成一畫素單元。
本發明另提供一種畫素陣列,包括基板、多個第一顏色子畫素、多個第二顏色子畫素以及多個第三顏色子畫素。所述基板具有多個第一區域、多個第二區域以及多個第三區域,以排列成多行以及多列。每一第一區域設置有至少兩個第一顏色子畫素;每一第二區域設置有至少兩個第二顏色子畫素;以及每一第三區域設置有至少兩個第三顏色子畫素,其中,第一列之排列依序為第一區域、第二區域以及第三區域,第二列之排列依序為第三區域、第一區域以及第二區域,第三列之排列依序為第一區域、第二區域以及第三區域。任相鄰兩列之中的任三個鄰接的第一區域、第二區域以及第三區域中之其中一個第一顏色子畫素、其中一個第二顏色子畫素以及其中一個第三顏色子畫素構成一畫素單元。
本發明另提供一種遮罩結構,包括板材、第一遮蔽圖案以及第二遮蔽圖案。所述板材具有多個第一區域、多個第二區域以及多個第三區域。第一區域之長邊與第三區域之長邊之間的夾角為60度至120度,且第二區域之長邊與第三區域之長邊之間的夾角為60度至120度。第一遮蔽圖案對應第一區域設置。第二遮蔽圖案對應第二區域設置,其中所述板材的多個第三區域為一開口圖案。
基於上述,本發明的畫素陣列是於基板上的第一區域、第二區域以及第三區域中分別設置了至少兩個第一顏色子畫素、至少兩個第二顏色子畫素以及至少兩個第三顏色子畫素,且各區域之間的排列方式及夾角做了特殊的設計。因此,本發明可以在符合現有精細金屬遮罩的限制下製作出更高畫素密度(ppi)及解析度的畫素陣列。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1A、圖1B 為本發明一實施例中畫素陣列的示意圖。請同時參照圖1A 及圖1B, 本實施例的畫素陣列包括設置於基板100 上之至少兩個第一顏色子畫素C1、至少兩個第二顏色子畫素C2 以及至少兩個第三顏色子畫素C3。所述基板100 包括多個第一區域R1、多個第二區域R2 以及多個第三區域R3。在本實施例中,第一區域R1 的長邊L1 與短邊W1 之間的比例為2: 1,第二區域R2 的長邊L2 與短邊W2 之間的比例為2:1,且第三區域R3 的長邊L3 與短邊W3 之間的比例為2:1。於圖1A、圖1B 的實施例中,第一區域R1 的短邊W1 與第三區域R3 的長邊L3 切齊,連接成一直線, 但本發明不限於此。另外, 基於現有精細金屬遮罩(FMM)的尺寸限制,第一區域R1、第二區域R2 以及第三區域R3 的寬度為40 微米。然,本發明不限定第一區域R1、第二區域R2 以及第三區域R3 的比例以及尺寸。舉例來說,為了因應不同的畫素單元排列, 使用者可對上述第一區域R1、第二區域R2 以及第三區域R3 的比例及尺寸進行調整以達到下文所提出的技術效果。
於本實施例中,第一區域R1的長邊L1與第三區域R3的長邊L3之間的夾角ang1為60度至120度,較佳為90度至120度。第二區域R2的長邊L2與第三區域R3的長邊L3之間的夾角ang2為60度至120度,較佳為90度至120度。如圖1A、圖1B的實施例所示,第一區域R1的長邊L1與第三區域R3的長邊L3之間的夾角ang1較佳為90度,而第二區域R2的長邊L2與第三區域R3的長邊L3之間的夾角ang2較佳為90度,但是本發明不限於此。另外,第一區域R1的長邊L1與X方向之間的夾角為θ,第二區域R2的長邊L2與X方向之間的夾角為θ,且第三區域R3的長邊L3與X方向之間的夾角為90-θ,其中θ大於0且小於90度。於圖1A、圖1B的實施例中,所述夾角θ為45度,但本發明不限於此。
另外,在第一區域R1中,至少兩個第一顏色子畫素C1是沿著第一區域R1的長邊L1方向設置。於第二區域R2中,至少兩個第二顏色子畫素C2是沿著第二區域R2的長邊L2方向設置。於第三區域R3中,至少兩個第三顏色子畫素C3是沿著第三區域R3的長邊L3方向設置。雖然於圖1A及圖1B中,僅針對其中一個第一區域R1、其中一個第二區域R2以及其中一個第三區域R3各自標示了兩個子畫素(C1、C2、C3),但值得注意的是,圖1A及圖1B的各個相同圖案標示之區域亦會有相同之結構。也就是說,每一個第一區域R1、每一個第二區域R2以及每一個第三區域R3中都至少會有兩個相對應的子畫素(R1對應兩個C1,R2對應兩個C2,且R3對應兩個C3)。在本實施例中,第一顏色子畫素C1可為紅色畫素、第二顏色子畫素C2可為藍色畫素而第三顏色子畫素C3可為綠色畫素。但是本發明不限於此,所屬領域一般知識者可依據需求而選擇合適的子畫素顏色來設置於第一區域R1、第二區域R2或是第三區域R3中。
接著,請參考圖1B,第一區域R1內的其中一個第一顏色子畫素C1、第二區域R2內的其中一個第二顏色子畫素C2以及第三區域R3內的其中一個第三顏色子畫素C3是用以構成一個畫素單元PU。承上所述,第一區域R1、第二區域R2以及第三區域R3之間具有一個接觸點CP。第一區域R1內靠近接觸點CP之第一顏色子畫素C1、第二區域R2內靠近接觸點CP之第二顏色子畫素C2以及第三區域R3內靠近接觸點CP之第三顏色子畫素C3構成上述的畫素單元PU。
如圖1A及圖1B所示,上述第一區域R1、第二區域R2以及第三區域R3可分別包括兩個第一顏色子畫素C1、兩個第二顏色子畫素C2以及兩個第三顏色子畫素C3。根據本實施例,每一個第一顏色子畫素C1、每一個第二顏色子畫素C2以及每一個第三顏色子畫素C3之等效電路圖如圖2所示,其包括了薄膜電晶體T1、薄膜電晶體T2、電容器C、資料線DL、掃描線SL、電源線PL以及訊號線SgL。在本實施例中,薄膜電晶體T1具有一閘極、一源極以及一汲極(未標示),其中源極與資料線DL電性連接,閘極與掃描線SL電性連接,且汲極與薄膜電晶體T2電性連接。薄膜電晶體T2具有一閘極、一源極以及一汲極(未標示),其中閘極是與薄膜電晶體T1的汲極電性連接,源極是與電源線PL電性連接,且汲極與有機發光二極體OLED電性連接。電容器C的一電極端是與薄膜電晶體T1的汲極電性連接,電容器C的另一電極端與薄膜電晶體T2的汲極電性連接。有機發光二極體OLED包括第一電極、發光層以及第二電極(未繪示),其中第一電極與薄膜電晶體T2的汲極電性連接,第二電極與訊號線SgL電性連結。在本實施例中,每一畫素結構是以兩個薄膜電晶體搭配一個電容器(2T1C)為例來說明,但並非用以限定本發明,本發明不限每一畫素結構內的薄膜電晶體與電容器的個數。
詳細來說,每一第一顏色子畫素C1、每一第二顏色子畫素C2以及每一第三顏色子畫素C3各自包括驅動元件、第一電極、發光層以及第二電極。接下來,將以第一區域R1中的兩個第一顏色子畫素C1為例進行說明。圖3為本發明一實施例中第一區域的兩個子畫素的剖面示意圖。請參考圖3,兩個第一顏色子畫素C1各自包括驅動元件DE位於基板100上。驅動元件DE例如為圖2所表示的兩個薄膜電晶體搭配一個電容器(2T1C)的驅動元件。覆蓋層PV覆蓋兩個第一顏色子畫素C1的驅動元件DE。兩個第一電極EL1透過覆蓋層PV之開口與驅動元件DE電性連接。發光層LEL位於第一電極EL1上,其中,於第一區域R1中,所述至少兩個第一顏色子畫素C1的發光層LEL為同一膜層。至少兩個第一顏色子畫素C1的發光層LEL是用以填滿第一區域R1。另外,第二電極EL2位於發光層LEL上。
在上述的實施例中,圖3僅繪示第一區域R1中的兩個第一顏色子畫素C1。但應當理解的是,第二區域R2中的兩個第二顏色子畫素C2以及第三區域R3中的兩個第三顏色子畫素C3亦會有相同結構。承上所述,於第二區域R2中,所述至少兩個第二顏色子畫素C2的發光層為同一膜層。於第三區域R3中,所述至少兩個第三顏色子畫素C3的發光層為同一膜層。另外,至少兩個第二顏色子畫素C2的發光層是用以填滿第二區域R2。至少兩個第三顏色子畫素C3的發光層是用以填滿第三區域R3。
圖4A、圖4B為本發明一實施例中畫素陣列的行、列示意圖。圖5 A、圖5B為本發明一實施例畫素陣列之畫素單元之排列方式的示意圖。請同時參照圖4A、4B以及圖5A、5B。圖4A、圖4B以及圖5A、圖5B的畫素陣列與圖1A、1B所示的畫素陣列相同,且僅針對畫素單元的排列方式進行說明。
承上述,請參考圖4A及圖4B,本實施例的畫素陣列具有多行(A n-1、A n、A n+1…)以及多列(B m-1、B m、B m+1…),其中n及m為大於1的整數。舉例來說,每一行是往Y方向延伸並具有鋸齒或是折線形狀的排列,且是以兩條粗線所劃分出來的區域來表示。詳細而言,如圖4A所示,若標號A n代表畫素陣列的其中一行,則A n-1表示A n的前一行,A n+1表示A n的下一行。另外,各列為三種不同顏色子畫素的交替排列。舉例來說,每一列是往X方向延伸並具有鋸齒或是折線形狀的排列,且是以兩條粗線所劃分出來的區域來表示。詳細而言,如圖4B所示,若標號B m代表畫素陣列的其中一列,則B m-1表示B m的前一列,B m+1表示B m的下一列。
請同時參照圖4A、圖4B以及圖5A,本實施例的畫素單元之排列方式依子畫素渲染(sub-pixel rendering; SPR) 方法可選擇以下兩種,但不限於此。第一種方法是依照圖5A的方式選擇第一畫素單元PU1、第二畫素單元PU2、第三畫素單元PU3以及第四畫素單元PU4。更詳細來說,第一畫素單元PU1是選擇位於B m-1列中第一區域R1的一個子畫素(C1)、第二區域R2的一個子畫素(C2)以及位於B m列中第三區域R3的一個子畫素(C3)來構成一個畫素單元,以此類推。
請同時參照圖4A、圖4B以及圖5B,第二種方法是依照圖5B的方式選擇第一畫素單元PU1、第二畫素單元PU2、第三畫素單元PU3以及第四畫素單元PU4。舉例來說,圖5B的第一畫素單元PU1是選擇位於B m-1中第一區域R1的一個子畫素(C1),以及位於B m列中第二區域R2的一個子畫素(C2)、第三區域R3的一個子畫素(C3)來構成一個畫素單元,以此類推。因此,圖5B與圖5A的差異僅在於各畫素單元的選擇方式不同。
圖6為本發明另一實施例中畫素陣列的示意圖。圖6實施例的畫素陣列與圖1A、圖1B的畫素陣列相同,差異僅在於子畫素之間的夾角角度不同,因此相同元件將省略表示,且不予贅述。圖6與圖1A、圖1B實施例的差異在於,在圖6的實施例中,第一區域R1的長邊L1與第三區域R3的長邊L3之間的夾角ang1大於90度且第二區域R2的長邊L2與第三區域R3的長邊L3之間的夾角ang2大於90度。因此,第一區域R1、第二區域R2與第三區域R3之間存在間隙區域S。根據一實施例,可進一步於間隙區域S之中填入黑色矩陣材料。雖然圖6實施例顯示了夾角ang1、ang2大於90度時的狀況,但在另一實施例中,當夾角ang1、ang2小於90度時,則所述第一區域R1、第二區域R2與第三區域R3之間亦有可能存在間隙區域S,並可於間隙區域S之中填入黑色矩陣。另外,於圖6的實施例中,所述第一區域R1的長邊L1與所述第二區域R2的長邊L2,實質上彼此平行;也就是說,所述第一區域R1的長邊L1與所述第二區域R2的長邊L2的夾角小於5度,但本發明不限於此。
圖7為本發明一實施例中遮罩結構的示意圖。參考圖7,遮罩結構包括了板材600、第一遮蔽圖案M1以及第二遮蔽圖案M2。所述板材具有多個第一區域Rb1、多個第二區域Rb2以及多個第三區域Rb3。所述第一區域Rb1的長邊Lb1與第三區域Rb3的長邊Lb3之間的夾角為60度至120度,且第二區域Rb2的長邊Lb2與第三區域Rb3的長邊Lb3之間的夾角為60度至120度。第一遮蔽圖案M1對應多個第一區域Rb1設置,且第二遮蔽圖案M2對應多個第二區域Rb2設置。另外,板材600之多個第三區域Rb3為一開口圖案Op。值得注意的是,於本實施例中,所述第一遮蔽圖案M1以及第二遮蔽圖案M2為相同的金屬遮罩材料。
圖7實施例的遮罩結構是適用於形成圖1A、1B、圖4A 、4B以及圖5A、5B所示的畫素陣列之有機發光二極體的發光層。因此,圖7的遮罩結構是與上述的畫素陣列的結構相對應。舉例來說,在本實施例中遮罩結構的每一第一區域Rb1的長邊Lb1與X方向之間的夾角為θ,每一第二區域Rb2之長邊Lb2與X方向之間的夾角為θ,每一第三區域Rb3的長邊Lb3與X方向之間的夾角為90-θ,其中θ大於0且小於90度,且圖6遮罩結構的θ是與上述畫素陣列的θ相同。另外,每一第一區域Rb1的長邊Lb1與短邊Wb1之間的比例為2:1,每一第二區域Rb2的長邊Lb2與短邊Wb2之間的比例為2:1,且每一第三區域Rb3的長邊Lb3與短邊Wb3之間的比例為2:1,但不以此為限。舉例來說,所述遮罩結構的尺寸比例是可以根據畫素陣列的尺寸比例進行調整,以使兩者的結構相對應(例如可調整為與圖6實施例的畫素陣列相對應)。換言之,遮罩結構的第一區域Rb1是例如可以對應上述畫素陣列的第一區域R1的結構設置,第二區域Rb2是例如可以對應上述畫素陣列的第二區域R2的結構設置,且第三區域Rb3是例如可以對應上述畫素陣列的第三區域R3的結構設置。
在本實施例中,遮罩結構是用來搭配蒸鍍程序以形成畫素陣列中不同顏色之有機層。具體來說,當要形成紅色子畫素時,透過遮罩結構之第三區域Rb3的開口圖案Op的位置並以蒸鍍的方式於對應的區域中形成紅色有機層;同時,遮罩結構之第一區域Rb1中的第一遮蔽圖案M1以及第二區域Rb2中的第二遮蔽圖案M2可遮蔽其它區域。相同地,若要形成其它顏色的子畫素,則如上述,將開口圖案Op對準於所欲形成該顏色子畫素的相對區域上,並以蒸鍍的方式來形成該顏色子畫素。因此,利用本實施例的遮罩結構並透過重複的蒸鍍步驟,則可形成如上述圖1A、1B、圖4A、4B以及圖5A、5B的畫素陣列之有機層。
綜上所述,本發明的畫素陣列中於基板上的第一區域、第二區域以及第三區域中分別設置了至少兩個第一顏色子畫素、至少兩個第二顏色子畫素以及至少兩個第三顏色子畫素,且第一區域的長邊與X方向之間的夾角、第二區域的長邊與X方向之間的夾角、以及第三區域的長邊與X方向之間的夾角是控制在一定範圍內。另外,第一區域、第二區域以及第三區域之間具有接觸點,且第一區域內靠近此接觸點的第一顏色子畫素、第二區域內靠近此接觸點之第二顏色子畫素以及第三區域內靠近此接觸點之第三顏色子畫素是構成一畫素單元。因此,本發明所述的畫素陣列在精細金屬遮罩的尺寸限制下製作。另外,跟傳統的畫素排列方式相比,本發明的畫素陣列可進一步提高面板的畫素密度(ppi)及解析度
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明的精神和範圍內,當可作些許的更動與潤飾,故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧基板
600‧‧‧板材
R1、Rb1第一區域
R2、Rb2‧‧‧第二區域
R3、Rb3‧‧‧第三區域
C1‧‧‧第一顏色子畫素
C2‧‧‧第二顏色子畫素
C3‧‧‧第三顏色子畫素
L1、L2、L3、Lb1、Lb2、Lb3‧‧‧長邊
W1、W2、W3、Wb1、Wb2、Wb3‧‧‧短邊
ang1、ang2‧‧‧夾角
CP‧‧‧接觸點
PU‧‧‧畫素單元
PU1‧‧‧第一畫素單元
PU2‧‧‧第二畫素單元
PU3‧‧‧第三畫素單元
PU4‧‧‧第四畫素單元
T1、T2‧‧‧薄膜電晶體
C‧‧‧電容器
DL‧‧‧資料線
SL‧‧‧掃描線
PL‧‧‧電源線
SgL‧‧‧訊號線
OLED‧‧‧有機發光二極體
DE‧‧‧驅動元件
PV‧‧‧覆蓋層
EL1‧‧‧第一電極
EL2‧‧‧第二電極
LEL‧‧‧發光層
S‧‧‧間隙區域
M1‧‧‧第一遮蔽圖案
M2‧‧‧第二遮蔽圖案
Op‧‧‧開口圖案
圖1A 以及圖1B 為本發明一實施例中畫素陣列的示意圖。 圖2 為本發明一實施例中各子畫素的等效電路圖。 圖3 為本發明一實施例中第一區域的兩個子畫素的剖面示意 圖。 圖4A 以及圖4B 為本發明一實施例中畫素陣列的行、列示意 圖。 圖5A 以及圖5B 為本發明一實施例中畫素陣列的畫素單元之 排列方式的示意圖。 圖6 為本發明另一實施例中畫素陣列的示意圖。 圖7 為本發明一實施例中遮罩結構的示意圖。
R1‧‧‧第一區域
R2‧‧‧第二區域
R3‧‧‧第三區域
C1‧‧‧第一顏色子畫素
C2‧‧‧第二顏色子畫素
C3‧‧‧第三顏色子畫素
L1、L2、L3‧‧‧長邊
W1、W2、W3‧‧‧短邊
ang1、ang2‧‧‧夾角
100‧‧‧基板

Claims (21)

  1. 一種畫素陣列,包括: 一基板,包括一第一區域、一第二區域以及一第三區域,該第一區域之一長邊與該第三區域之一長邊之間的夾角為60度至120度,且該第二區域之一長邊與該第三區域之一長邊之間的夾角為60度至120度; 至少兩個第一顏色子畫素,沿著該第一區域之一長邊方向而設置於該第一區域中; 至少兩個第二顏色子畫素,沿著該第二區域之一長邊方向而設置於該第二區域中;以及 至少兩個第三顏色子畫素,沿著該第三區域之一長邊方向而設置於該第三區域中,其中 該第一區域內之其中一第一顏色子畫素、該第二區域內之其中一第二顏色子畫素以及該第三區域內之其中一第三顏色子畫素構成一畫素單元。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列,其中該第一區域之該長邊與該第二區域之該長邊實質上彼此平行,且該第一區域之該長邊與該第三區域之該長邊之間的夾角為90度至120度。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列,其中該第一區域之該長邊與X方向之間的夾角為θ,該第二區域之該長邊與X方向之間的夾角為θ,該第三區域之該長邊與X方向之間的夾角為90–θ,其中θ大於0且小於90度。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的畫素陣列,其中該夾角θ為45度。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列,其中該第一區域之該長邊與一短邊之間的比例為2:1,該第二區域之該長邊與一短邊之間的比例為2:1,且該第三區域之該長邊與一短邊之間的比例為2:1。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列,其中該第一區域、該第二區域以及該第三區域具有一接觸點,且該第一區域內靠近該接觸點之該第一顏色子畫素、該第二區域內靠近該接觸點之該第二顏色子畫素以及該第三區域內靠近該接觸點之第三顏色子畫素構成該畫素單元。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列,其中每一第一顏色子畫素、每一第二顏色子畫素以及每一第三顏色子畫素各自包括: 一驅動元件; 一第一電極,與該驅動元件電性連接; 一發光層,位於該第一電極上:以及 一第二電極,位於該發光層上。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的畫素陣列,其中: 在該第一區域中,所述至少兩個第一顏色子畫素之該發光層為同一膜層; 在該第二區域中,所述至少兩個第二顏色子畫素之該發光層為同一膜層;以及 在該第三區域中,所述至少兩個第三顏色子畫素之該發光層為同一膜層。
  9. 如申請專利範圍第7項所述的畫素陣列,其中: 所述至少兩個第一顏色子畫素之該發光層填滿該第一區域; 所述至少兩個第二顏色子畫素之該發光層填滿該第二區域;以及 所述至少兩個第三顏色子畫素之該發光層填滿該第三區域。
  10. 申請專利範圍第1項所述的畫素陣列,其中該第一區域、該第二區域以及該第三區域之間形成一間隙區域,且該間隙區域具有一黑色矩陣材料。
  11. 一種畫素陣列,包括: 一基板,具有多個第一區域、多個第二區域以及多個第三區域,以排列成多行以及多列; 多個第一顏色子畫素,每一第一區域設置有至少兩個第一顏色子畫素; 多個第二顏色子畫素,每一第二區域設置有至少兩個第二顏色子畫素;以及 多個第三顏色子畫素,每一第三區域設置有至少兩個第三顏色子畫素,其中 第一列之排列依序為第一區域、第二區域以及第三區域, 第二列之排列依序為第三區域、第一區域以及第二區域, 第三列之排列依序為第一區域、第二區域以及第三區域,且 任相鄰兩列之中之任三個鄰接的該第一區域、該第二區域以及該第三區域中之其中一第一顏色子畫素、其中一第二顏色子畫素以及其中一第三顏色子畫素構成一畫素單元。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的畫素陣列,其中每一第一區域之一長邊與X方向之間的夾角為θ,每一第二區域之一長邊與X方向之間的夾角為θ,每一第三區域之一長邊與X方向之間的夾角為90-θ,其中θ大於0且小於90度。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的畫素陣列,其中任三個鄰接的該第一區域、該第二區域以及該第三區域具有一接觸點,且該第一區域內靠近該接觸點之該第一顏色子畫素、該第二區域內靠近該接觸點之該第二顏色子畫素以及該第三區域內靠近該接觸點之第三顏色子畫素構成該畫素單元。
  14. 如申請專利範圍第12項所述的畫素陣列,其中每一第一區域之一長邊與一短邊之間的比例為2:1,每一第二區域之一長邊與一短邊之間的比例為2:1,且每一第三區域之一長邊與一短邊之間的比例為2:1。
  15. 如申請專利範圍第12項所述的畫素陣列,其中每一第一顏色子畫素、每一第二顏色子畫素以及每一第三顏色子畫素各自包括: 一驅動元件; 一第一電極,與該驅動元件電性連接; 一發光層,位於該第一電極上:以及 一第二電極,位於該發光層上。
  16. 如申請專利範圍第15項所述的畫素陣列,其中: 在每一第一區域中,所述至少兩個第一顏色子畫素之該發光層為同一膜層; 在每一第二區域中,所述至少兩個第二顏色子畫素之該發光層為同一膜層;以及 在每一第三區域中,所述至少兩個第三顏色子畫素之該發光層為同一膜層。
  17. 如申請專利範圍第15項所述的畫素陣列,其中: 所述至少兩個第一顏色子畫素之該發光層填滿該第一區域; 所述至少兩個第二顏色子畫素之該發光層填滿該第二區域;以及 所述至少兩個第三顏色子畫素之該發光層填滿該第三區域。
  18. 申請專利範圍第11項所述的畫素陣列,其中該第一區域、該第二區域以及該第三區域的寬度為40微米。
  19. 一種遮罩結構,包括: 一板材,具有多個第一區域、多個第二區域以及多個第三區域,該第一區域之一長邊與該第三區域之一長邊之間的夾角為60度至120度,且該第二區域之一長邊與該第三區域之一長邊之間的夾角為60度至120度; 一第一遮蔽圖案,對應該些第一區域設置; 一第二遮蔽圖案,對應該些第二區域設置,其中 該板材之該些第三區域為一開口圖案。
  20. 如申請專利範圍第19項所述的遮罩結構,其中每一第一區域之該長邊與X方向之間的夾角為θ,每一第二區域之該長邊與X方向之間的夾角為θ,每一第三區域之該長邊與X方向之間的夾角為90-θ,其中θ大於0且小於90度。
  21. 如申請專利範圍第19項所述的遮罩結構,其中每一第一區域之該長邊與一短邊之間的比例為2:1,每一第二區域之該長邊與一短邊之間的比例為2:1,且每一第三區域之該長邊與一短邊之間的比例為2:1。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105655504B (zh) * 2016-04-11 2017-06-16 京东方科技集团股份有限公司 一种有机电致发光器件及其制备方法和显示面板
CN108300963B (zh) 2018-03-30 2019-08-27 昆山国显光电有限公司 一种掩模板
CN109713027B (zh) * 2019-02-28 2020-12-11 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种有机发光显示面板的像素排布及有机发光显示面板

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3620490B2 (ja) * 2000-11-22 2005-02-16 ソニー株式会社 アクティブマトリクス型表示装置
CN2899006Y (zh) * 2006-05-10 2007-05-09 吕川 可共享像素的显示模块
CN101393366A (zh) * 2007-09-21 2009-03-25 北京京东方光电科技有限公司 像素、像素模块及液晶显示板
TWI405018B (zh) * 2009-10-29 2013-08-11 Au Optronics Corp 電泳顯示面板
CN104037201B (zh) * 2014-06-11 2017-02-01 上海和辉光电有限公司 像素阵列、显示器以及将图像呈现于显示器上的方法
CN104658433B (zh) * 2015-03-18 2017-09-22 京东方科技集团股份有限公司 一种像素排列结构、显示装置及显示方法

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