TWI531544B - Method for producing negative oxidation and reduction potential liquid and equipment thereof - Google Patents

Description

製造負氧化還原電位液體的方法及其設備

本發明「製造負氧化還原電位液體的方法及其設備」，涉及一種利用少量氫氣，即能在短時間內備製出對於人體健康有益的負氧化還原電位液體的創新技術。

水是構成人體的重要成分，水份約占成人體重的60~70%左右，通常，人體一天的排尿量約有1500CC，再加上汗水、皮膚上直接蒸發的水份及排泄用，合計起來每日流失的水份大約有2000CC以上，因此水份的補充量最好是不低於上述數值。充足的飲水，不但能夠排除身體中的毒素，也能夠降低尿酸、預防痛風發生，且能降低尿中的鈣濃度，避免尿路結石。現代人除了需要補充足夠的水份外，對於水的品質或特性也越加重視，因為差劣的水質勢必徒增人體的負擔。

近年來，許多研究報告證實了人體會因為過氧化的生活環境而影響細胞脂質、蛋白質與DNA等大分子結構和功能，導致健康惡化或間接造成疾病。研究也發現，人體若飲用負氧化還原電位水，能幫助抗氧化並減低蛋白質、DNA與脂質過氧化，甚至能避免心血管硬化相關疾病。所謂負氧化還原電位水，定義為水溶液氧化還原能力，以量化的測量指標來說，其單位是mv，又稱為ORP(Oxidation Reduction Potential)，即量度氧化還原產生的電壓。水中ORP負數的數值越大，代表抗氧化能力越高，越能使人體保持健康，預防疾病，甚至遲緩 衰老。

習知備製負氧化還原電位水的方法有許多種，其中一種為電解方式，該種方式會改變液體中礦物質的組成，且可能會有例如次氯酸的物質出現，此為電解法最大的缺點。另外，也有以氣泡方法備製者，其係以定流量的氫氣自水中冒泡的方式讓氫氣自然溶解於水中，其可以使用增加壓力或增加氫氣流量的方式加快氫氣溶解於水中，以取得負氧化還原電位水。前述方法，若使用0.5L/min氫氣通於0.5L的水中，連續冒泡2~3分鐘後，可以將氧化還原電位降至-200~-250mV，(一般的純水氧化原電位為+150~200mV)若持續進行1小時後，可以進一步降到-400mV，再持續進行幾個小時可以降到極限值約-600~-700mV。另一個例子，以20公升儲水桶注水65%，其餘空間注滿氫氣0.1Mpa在室溫下靜置24小時，則氧化還原電位會降到-200mV，如果希望降到-300~-350mV則還需要通氣0.5L/min，經過40~50分鐘後才能達到。因此換算下來要達到飽合值-600~-700mV，每公升的水需要使用高達3~3.5公升的氫氣才能做到，氫氣用量大，為其主要缺點。此外，氣泡法若以提高壓力的方式操作時，因氫氣易燃，有相當高的危險性在設備及安全上，且成本都會增加；再者，以大流量冒泡法，因耗用氫氣多，必須增設廢氫氣回收裝置，才能避免安全疑慮，顯見，該種方法也不甚理想。

發明人有鑑於習知諸技術仍存有缺失乃至危險，遂特以研創成本案，期能藉本案之提出，俾改進現有負氧化還原電位水的製造缺點，期使負氧化還原電位液體的 備製能臻致完善、理想、安全、快速且能兼顧成本。

為改善習知負氧化還原電位液體備製上的各項缺失，本發明主要目的在於：提供一種理想的負氧化還原電位液體的備製新技術，其能在不改變原本液體中礦物質化學成分的前提下，以相當快速的時間、氫氣使用量少且設備簡單的有利條件下，製造出負氧化還原電位液體；藉此，能在成本合理的優勢下即時供應對於人體有益的飲用水供人體飲用，以獲致飲用後保持健康、預防疾病、遲緩衰老等保健目的。

也由於本案備製時所需使用之氫氣量少，因此能獲致安全之目的。

為達上述目的，本發明具體之內容為：該設備，包括有一氫氣源、一儲液桶與一混合桶。

所述該氫氣源，最簡單的方式為以氫氣桶的方式，內部封閉且容置有氫氣，該氫氣桶外接有一第一管路，該第一管路上設有一第一閥體，該第一管路另一端連接至一叉接部其中一端。

所述該儲液桶，頂部設有一呈開放狀之開放口，該儲液桶內部容置有液體，該液體為水、茶、果汁或其它飲料一般用作為飲用、清潔或美容保養用。該儲液桶外接有一第二管路，該第二管路上設有一第二閥體，該第二管路另一端連接至叉接部其中一端。

所述該叉接部，為三通結構，其中兩端分別連接至第一管路與第二管路；叉接部另一端連接有一第四管路 ，且該第四管路另一端連接至混合桶，特別是連接到混合桶頂部處。

所述該混合桶，為一封閉式結構，頂部除連接有第四管路外，更再連接有一第三管路，該第三管路上設有一第三閥體，該第三管路另一端連接至儲液桶。

所述該第三管路，連接探入混合桶內，特別是需自頂部向下所伸入的末端位置，至少應有2%以上(大於理論溶解度)。

藉由上述設備，本案進行備製操作時，包括下述步驟：步驟一：開啟第二閥體與第三閥體，關閉第一閥體，令儲液桶內的液體流入並注滿混合桶；直到利用水位原理，使第三管路、第四管路和混合桶全部充滿液體，且第一管路和第二管路的下半部也充滿液體；步驟二：關閉第三閥體，開啟第一閥體和第二閥體，該氫氣桶內的氫氣將先進入第一管路，經轉進第二管路後，部份氫氣由儲液桶頂部之開放口排出；此時，第一管路與第二管路中都充滿氫氣；步驟三：關閉第二閥體，開啟第一閥體和第三閥體，氫氣桶內的氫氣持續進入第一管路，經轉進第四管路後，氫氣進入混合桶中，並與混合桶內的液體進行溶解，該進入混合桶中的氫氣會迫使部份原本位於混合桶內的液體藉第三管路轉流 到儲液桶；步驟四：關閉第一閥體、第二閥體和第三閥體，經搖晃混合桶，ORP值約在10~15秒內可快速下降至-350mV；如此，即能快速取得該負氧化還原電位液體。

前述搖晃過程中，亦可視需要再開啟第一閥體以便持續補充氫氣，以加速下降混合桶內液體之ORP值。

所述該第四管路，亦可改變樣式為在連接混合桶部具備可限制方向的h字型雙頭管路，即於第四管路上旁路設置有一第五管路於叉接部與混合桶間，且該第五管路底端伸入混合桶內部，又該第四管路上設置有一單向閥。

所述該單向閥得為一手動閥。

所述該混合桶之側部或底部可設置有小型攪拌設備。

茲謹就本發明「製造負氧化還原電位液體的方法及其設備」之結構組成，及其所產生之功效，配合圖式，舉一本案之較佳實施例詳細說明如下。

首請參閱第一圖所示，本案製造負氧化還原電位液體的方法及其設備，該設備，包括有一氫氣源1、一儲液桶2與一混合桶3，其中：該氫氣源1，內部封閉且容置有氫氣，該氫氣源1外接有一第一管路11，該第一管路11上設有一第一閥體111，該第一管路11另一端連接至一叉接部141其中 一端；該儲水桶2，頂部設有一呈開放狀之開放口21，該儲水桶2內部容置有液體，該液體為水，該儲水桶2外接有一第二管路12，該第二管路12上設有一第二閥體121，該第二管路12另一端連接至叉接部141其中一端；該叉接部141，為三通結構，其中兩端分別連接至第一管路11與第二管路12；叉接部141另一端連接有一第四管路14，且該第四管路14另一端連接至混合桶3，特別是連接到混合桶3頂部處；所述該混合桶3，為一封閉式結構，頂部除連接有第四管路14外，另更再連接有一第三管路13，該第三管路13上設有一第三閥體131，該第三管路13另一端連接至儲水桶2；該第三管路13，連接探入混合桶3內，特別是需自頂部向下所伸入的一末端132位置，至少應有2%以上(大於理論溶解度)。

藉由上述設備，本案進行備製操作時，包括下述步驟：步驟一：開啟第二閥體121與第三閥體131(如第二圖)，關閉第一閥體111，令儲液桶2內的液體流入並注滿混合桶3；直到利用水位原理，使第三管路13、第四管路14和混合桶3全部都充滿液體，且第一管路11和第二管路12的下半部也充滿液體(如第三圖)；步驟二：關閉第三閥體131，開啟第一閥體111和第二閥體121(如第四圖)，該氫氣源1內的氫氣將先 進入第一管路11，經轉進第二管路12後，部份氫氣由儲液桶2頂部之開放口21排出；此時，第一管路11與第二管路12中都充滿氫氣；步驟三：關閉第二閥體121，開啟第一閥體111和第三閥體131(如第五圖)，氫氣桶1內的氫氣持續進入第一管路11，經轉進第四管路14後，氫氣進入混合桶3中，並與混合桶3內的液體進行溶解，該進入混合桶3中的氫氣會迫使部份原本位於混合桶3內的液體，藉第三管路13轉流到儲液桶2，形成該混合桶3自第三管路13下末端132口處下緣以下為液體，但末端132口處上緣空間內充滿氫氣(如第六圖)；步驟四：關閉第一閥體111、第二閥體121和第三閥體131，經搖晃混合桶3，ORP值約在10~15秒內可快速下降至-350mV；如此，即能快速取得該負氧化還原電位液體。

前述混合桶3於搖晃過程中，亦可視需要再開啟第一閥體111以便持續補充氫氣，以加速下降混合桶3內液體之ORP值。

再請參閱第七圖，本案之第四管路14，功能為連接叉接部141與混合桶3，該第四管路14亦可改變樣式為在連接混合桶3部具備可限制方向的h字型雙頭管路，即於第四管路14上旁路設置有一第五管路142於叉接部141與混合桶3間，且該第五管路142底端伸入混合桶3內部，又該第四管路14上設置有一單向閥143。該實施例於步驟一與步驟二之動作與原動與前述相同，但當步 驟三將氫氣注入混合桶3時，因為連接混合桶3頂部的第四管路14由於單向閥143限制流動方向，因此氫氣將改走第五管路142(如第八圖)，氫氣通入混合桶3的液體中，可輔助加速氫氣溶解。該單向閥143可以是手動閥，於步驟一時需開啟，而於步驟三要注入氫氣時再關上，以限制氫氣導入混合桶3之液體中。

本案另外亦可配合小型攪拌設備4裝置於混合桶3之側部(如第九圖)或底部(如第十圖)，藉由外部驅動攪拌的方式輔助氫氣與液體充份混合。

有上可知，本案之設備相當簡易且成本低廉，確實具有商品化之價值與競爭力，能以合宜的售價讓消費者飲用負氧化還原電位液體，以求保持健康、預防疾病、遲緩衰老等保健目的。

綜上所述，本發明「製造負氧化還原電位液體的方法及其設備」，依現行專利法各規定，未有違反專利要件之情事。本案在產業上確實得以利用，於申請前未曾見於刊物或公開使用，且非為公眾所知悉之技術。再者，本案有效解決先前技術中長期存在的問題並達成相關使用者與消費者長期的需求，得佐證本發明並非能輕易完成。本案完全符合專利法規定之「產業利用性」、「新穎性」與「進步性」等要件，爰依法提請專利，懇請 鈞局詳查，並儘早為准予專利之審定，以保護申請人之智慧財產權，俾勵創新。

本發明雖藉由前述實施例來描述，但仍可變化其形態與細節，於不脫離本發明之精神而達成，並由熟悉此項技藝之人士可了解。前述本案之較佳實施例，僅係藉 本案原理可以具體實施的方式之一，但並不以此為限制，應依後附之申請專利範圍所界定為準。

1‧‧‧氫氣源

11‧‧‧第一管路

111‧‧‧第一閥體

12‧‧‧第二管路

121‧‧‧第二閥體

13‧‧‧第三管路

131‧‧‧第三閥體

132‧‧‧末端

14‧‧‧第四管路

141‧‧‧叉接部

142‧‧‧第五管路

143‧‧‧單向閥

2‧‧‧儲液桶

21‧‧‧開放口

3‧‧‧混合桶

31‧‧‧混合桶攪拌器

4‧‧‧小型攪拌設備

第一圖：係為本發明之設備示意圖。

第二圖：係為本發明備製負氧化還原電位液體的示意圖。

第三圖：係為本發明備製負氧化還原電位液體的另一示意圖。

第四圖：係為本發明備製負氧化還原電位液體的又一示意圖。

第五圖：係為本發明備製負氧化還原電位液體的再一示意圖。

第六圖：係為本發明備製負氧化還原電位液體的又再一示意圖。

第七圖：係為本發明於第四管路旁增設第五管路之另一實施例。

第八圖：係為第七圖之動作示意圖。

第九圖：係為本發明增設一小型攪拌設備於混合桶側部之示意圖。

第十圖：係為本發明增設一小型攪拌設備於混合桶底部之示意圖。

1‧‧‧氫氣源

11‧‧‧第一管路

111‧‧‧第一閥體

12‧‧‧第二管路

121‧‧‧第二閥體

13‧‧‧第三管路

131‧‧‧第三閥體

132‧‧‧末端

14‧‧‧第四管路

141‧‧‧叉接部

2‧‧‧儲液桶

21‧‧‧開放口

3‧‧‧混合桶

Claims (8)

1. 一種製造負氧化還原電位液體的方法，係利用一設備，該設備包括：一氫氣源，該氫氣源外接有一第一管路，該第一管路設有一第一閥體，該第一管路另一端連接至一叉接部其中一端；一儲液桶，頂部設有一呈開放狀之開放口，該儲液桶外接有一第二管路，該第二管路設有一第二閥體，該第二管路另一端連接至叉接部其中一端；該叉接部，為三通結構，其中兩端分別連接至第一管路與第二管路；叉接部另一端連接有一第四管路，且該第四管路另一端連接至混合桶；一混合桶，為一封閉式結構，頂部除連接有第四管路，另更再連接有一第三管路，該第三管路設有一第三閥體，該第三管路另一端連接至儲液桶；該第三管路，連接探入混合桶內；藉該設備進行下述步驟：步驟一：開啟第二閥體與第三閥體，關閉第一閥體，令儲液桶內的液體流入並注滿混合桶；直到利用水位原理，使第三管路、第四管路和混合桶全部充滿液體，且第一管路和第二管路的下半部也充滿液體；步驟二：關閉第三閥體，開啟第一閥體和第二閥體，該氫氣源內的氫氣將先進入第一管路，經轉進第二管路後，部份氫氣由儲液桶頂部之開放口排出；此時，第一管路與第二管路中都充滿氫氣 ；步驟三：關閉第二閥體，開啟第一閥體和第三閥體，氫氣源內的氫氣持續進入第一管路，經轉進第四管路後，氫氣進入混合桶中，並與混合桶內的液體進行溶解，該進入混合桶中的氫氣會迫使部份原本位於混合桶內的液體藉第三管路轉流到儲液桶；步驟四：關閉第一閥體、第二閥體和第三閥體，經搖晃混合桶，再開啟第一閥體以便持續補充氫氣至混合桶內，取得該負氧化還原電位液體。
2. 如請求項1所述製造負氧化還原電位液體的方法，其中進行該步驟三通氫氣過程至步驟四之搖晃動作，係利用小型攪拌設備以攪拌之方式輔助氫氣混合加速溶解。
3. 如請求項1所述製造負氧化還原電位液體的方法，其中該氫氣源，包括以氫氣桶固定容量儲存或是以氫氣機現場製氫其中任一者，該氫氣源內部封閉且提供高純度氫氣。
4. 如請求項1所述製造負氧化還原電位液體的方法，其中該儲液桶內部容置有液體，該液體為水、茶、果汁或其它飲料，作用為飲用、清潔用或美容保養用。
5. 如請求項1所述製造負氧化還原電位液體的方法，其中該第四管路其中一端連接至該混合桶，特別是連接到該合桶的頂部處。
6. 如請求項1所述製造負氧化還原電位液體的方法，其中該第三管路，連接探入該混合桶內，特別是自 混合桶頂部向下所伸入的一末端位置，至少有2%以上。
7. 如請求項1所述製造負氧化還原電位液體的方法，其中該第四管路上，旁路設置有一第五管路於叉接部與混合桶間，且該第五管路底端伸入混合桶內部，又該第四管路上設置有一單向閥。
8. 如請求項1所述製造負氧化還原電位液體的方法，其中該混合桶之底部或側部其中任一處設置有一小型攪拌設備。