TWI525506B - 光學觸控校正方法及光學觸控面板 - Google Patents
光學觸控校正方法及光學觸控面板 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI525506B TWI525506B TW102131346A TW102131346A TWI525506B TW I525506 B TWI525506 B TW I525506B TW 102131346 A TW102131346 A TW 102131346A TW 102131346 A TW102131346 A TW 102131346A TW I525506 B TWI525506 B TW I525506B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- difference
- intensity curve
- linear
- optical touch
- intensity
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/0416—Control or interface arrangements specially adapted for digitisers
- G06F3/0418—Control or interface arrangements specially adapted for digitisers for error correction or compensation, e.g. based on parallax, calibration or alignment
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/042—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by opto-electronic means
- G06F3/0421—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by opto-electronic means by interrupting or reflecting a light beam, e.g. optical touch-screen
Description
本揭示文件係關於觸控面板,尤指一種光學觸控面板及其控制方法。
在光學觸控系統下,光學感測器固定於觸控區的左右上角位置,因為外力會改變觸控的平面,造成觸控面板的形變,可能影響光學感測器(optical sensor)固定在左右上角平面的位置,使光學感測器的收光角度因此改變,導致接收之光訊號強度不足,進而產生雜訊或觸控失準(如觸控感測時發生觸控訊號跳點等現象)。
目前市面上所有之光學觸控模組大多採用使用平面型光學感測器(area optical sensor)來克服上述面板形變問題。由於,平面型光學感測器的可視角度為多角度,當觸控平面發生形變時,平面型光學感測器可重新選擇其他最佳的可視角度。然而,平面型光學感測器在製程上較為複雜、成本較高、佔用體積也較大且消耗功率較高。再者,
由於平面型光學感測器需要選擇最佳可視角度(例如挑選對應不同角度的訊號線)之額外步驟,在運算上也需要較多時間取像。
有鑒於此,本揭示文件提供一種光學觸控校正方法及光學觸控面板,其光學觸控面板中設置線性光感測器(line optical sensor),藉由線性光感測器得到相對於線性座標之反射強度曲線,當光學觸控面板上發生形變時,計算反射強度曲線與基準強度曲線之強度差異,調整光源的強度來校正光學觸控面板的形變誤差,以解決上述問題。
依據本揭示文件之一實施態樣,其揭示一種光學觸控校正方法,用於光學觸控面板其包含投射光源以及線性光感測器,光學觸控校正方法包含:以投射光源產生投射光線,投射光線經反射至線性光感測器;利用線性光感測器量測反射後之投射光線,以得到相對於線性座標之反射強度曲線;計算量測到之反射強度曲線與基準強度曲線之強度差異;以及,若強度差異高於第一門檻值,調整投射光源之發射功率以進行校正。
依據本揭示文件之另一實施態樣,其揭示一種光學觸控面板,包含邊框、投射光源、反射單元、線性光感測器以及控制單元。投射光源設置於邊框上,並用以產生投射光線。反射單元設置於邊框上,並用以反射投射光線。線性光感測器設置於邊框之第一側邊上,用以接收經反射
之投射光線,並量測反射後之投射光線,以得到相對於線性座標之反射強度曲線。控制單元與投射光源以及線性光感測器耦接,用以計算量測到之反射強度曲線與基準強度曲線之強度差異,若強度差異高於第一門檻值,調整投射光源之發射功率以進行校正。
為讓本揭示內容能更明顯易懂,所附符號之說明如下:
100‧‧‧光學觸控校正方法
S100~S112‧‧‧步驟
200‧‧‧光學觸控面板
201‧‧‧面板區域
210‧‧‧邊框
211、212、213‧‧‧側邊
220‧‧‧投射光源
230‧‧‧反射單元
240‧‧‧線性光感測器
250‧‧‧控制單元
260‧‧‧觸控單元
DIF‧‧‧強度差異
RF1‧‧‧第一門檻值
RF2‧‧‧第二門檻值
為讓本案能更明顯易懂,所附圖式之說明如下:第1圖繪示根據本揭示文件中一種光學觸控校正方法的方法流程圖;第2A圖繪示根據本揭示文件中一種光學觸控面板之上視示意圖;第2B圖繪示第2A圖中光學觸控面板之功能方塊圖;第3A圖繪示當光學觸控面板的面板區域未發生板彎形變時的側視示意圖;第3B圖繪示當光學觸控面板的面板區域發生板彎形變時的側視示意圖;第4A圖至第4D圖繪示各種不同情況下線性光感測器感測之反射強度曲線的示意圖;以及第4E圖繪示第4C圖中的反射強度曲線經校正後之反射強度曲線的示意圖。
以下將以圖式及詳細敘述清楚說明本揭示內容之
精神,任何所屬技術領域中具有通常知識者在瞭解本揭示內容之較佳實施例後,當可由本揭示內容所教示之技術,加以改變及修飾,其並不脫離本揭示內容之精神與範圍。
請參閱第1圖,其繪示根據本揭示文件中一種光學觸控校正方法100的方法流程圖。於本實施例中,光學觸控校正方法100適用於光學觸控面板上,其至少包含投射光源以及線性光感測器。請一併參閱第2A圖與第2B圖,第2A圖繪示根據本揭示文件中一種光學觸控面板200之上視示意圖,第2B圖繪示第2A圖中光學觸控面板200之功能方塊圖。於此實施例中,光學觸控校正方法100可配合光學觸控面板200使用。
如第2A圖所示,光學觸控面板200包含邊框210、投射光源220、反射單元230以及線性光感測器(line optical sensor)240。投射光源220設置於邊框210上。與第2A圖之實施例來說,投射光源220可設置在邊框210的左上角,用以產生投射光線EL投射向光學觸控面板200的面板區域201,但本揭示文件之投射光源220並不限於設置於左上角,亦可設置於邊框210的其他位置上。
如第1圖所示,光學觸控校正方法100,首先執行步驟S100,以投射光源220產生投射光線EL,投射光線EL經反射至線性光感測器240。
反射單元230設置於邊框210上,用以將投射光線EL反射至線性光感測器240。線性光感測器240其本身感測光線的感應部位為長條形直線區塊,於此實施例中,線
性光感測器240設置於邊框210其中一側的側邊上,於第2A圖之實施例中,線性光感測器240設置於邊框210的左側側邊211上,用以接收經反射之投射光線EL。
此外,如第2B圖所示,光學觸控面板200更包含控制單元250以及觸控單元260。控制單元250耦接至投射光源220、線性光感測器240及觸控單元260。觸控單元260耦接至控制單元250及線性光感測器240。
光學觸控校正方法100接著執行步驟S102,利用線性光感測器240量測反射後之投射光線EL,以得到相對於線性座標之反射強度曲線。於此實施例中,線性座標對應左側側邊211的縱向座標,也就是說,線性光感測器240可得到相對左側側邊211之縱向座標的反射強度曲線。
為將投射光線EL反射至線性光感測器240,反射單元230至少設置於位置相對線性光感測器240的右側側邊212上。於實際應用中,為了達到較完整的反射效果,反射單元230設置於邊框210之右側側邊212以及底部側邊213上,且位置相對線性光感測器240與投射光源220。
請一併參閱第3A圖、第3B圖、第4A圖至第4D圖。第3A圖繪示當光學觸控面板200的面板區域201未發生板彎形變時的側視示意圖。第3B圖繪示當光學觸控面板200的面板區域201發生板彎形變時的側視示意圖。第4A圖至第4D圖繪示各種不同情況(是否發生形變與是否有觸控事件)下線性光感測器240感測之反射強度曲線的示意圖。
如第3A圖及第3B圖所示,投射光源220產生之投射光線EL具有一定的投射範圍(自投射光線ELL1起往下至投射光線ELL2)及特定的投射中軸,在投射中軸上的投射光線ELH通常具有最高的投射強度,相對地,投射中軸兩側的投射光線ELL1與ELL2具有較低的投射強度。
如第3A圖所示,當光學觸控面板200的面板區域201未發生板彎形變時,通常投射光源220設定為將投射中軸上的投射光線ELH正對反射單元230。如此一來,線性光感測器240可量測訊號較佳(如反射強度較高、訊號較完整)的反射強度曲線,如第4A圖所示之反射強度曲線RCref即是當面板區域201未發生板彎形變且無觸控事件時量測到的反射強度曲線RC1,控制單元250可將此時的反射強度曲線RC1儲存並作為基準強度曲線RCref。
另一方面,如第3B圖所示,當光學觸控面板200的面板區域201發生一定程度內的板彎形變時,導致投射光源220產生之投射光線EL的投射中軸偏離原軸向,因此,投射中軸上的投射光線ELH並未正對反射單元230,而是較低投射強度的投射光線ELL1正對反射單元230,並反射至線性光感測器240。如此一來,將影響到線性光感測器240所量測之的反射強度曲線。
如第4C圖所示之反射強度曲線RC3即是當面板區域201發生板彎形變且無觸控事件時量測到的反射強度曲線RC3,控制單元250可將此時的反射強度曲線RC3與基準強度曲線RCref,判斷目前的板彎形變情況的嚴重程度,
作法細節詳述於下列段落。
如第1圖所示,光學觸控校正方法100接著執行步驟S104,計算量測到之反射強度曲線(例如第4A圖至第4D中的反射強度曲線RC1~RC4)與基準強度曲線RCref之強度差異DIF。
以第4A圖所例,當未發生板彎形變且無觸控事件時,反射強度曲線RC1與基準強度曲線RCref並無強度差異。也就是說,此時反射強度曲線RC1之強度差異趨近於0。
以第4B圖所例,當未發生板彎形變且有觸控事件時,反射強度曲線RC2與基準強度曲線RCref的差異僅發生在觸控事件區間PTE,除此之外,反射強度曲線RC2與基準強度曲線RCref並無強度差異。當存在觸控點時,有物體阻隔在反射光線與線性光感測器240之間,將導致在線性座標上之座標範圍(即觸控事件區間PTE)內,反射強度曲線RC2上呈現劇烈梯度變化。於此情況下,控制單元250則可將座標範圍內的反射強度曲線RC2排除在計算範圍之外,藉此排除真實的觸控事件影響用以抗形變的計算結果。也就是說,若排除觸控事件區間PTE,此時反射強度曲線RC2之強度差異DIF趨近於0。
以第4C圖所例,當發生板彎形變且無觸控事件時,反射強度曲線RC3與基準強度曲線RCref隨著線性座標有不同程度的差異。
其中一種實施例中,計算反射強度曲線RC3與基準強度曲線RCref之間強度差異DIF的作法為,控制單元
250取出兩者的平均差距相對比例,首先,基於反射強度曲線RC3與基準強度曲線RCref之間的差距在線性座標上均勻地取樣得到複數個差異值,接著,由將上述多個差異值平均以得到強度差異,舉例來說,第4C圖平均得出的強度差異DIF為反射強度曲線RC3相對基準強度曲線RCref下降了16.25%。
計算的方式並不以平均為限,另一種實施例中,控制單元250首先將將線性座標區分為複數個區間(如第4C圖所示之四個區間P1~P4);由四個區間中選擇至少一指定區間,例如可選擇影響較大的區間P2與P3、排除兩側的區間P1與P4;接著,計算指定區間(區間P2與P3)內反射強度曲線RC3與基準強度曲線RCref在線性座標上的複數個差異值;並由差異值平均得到強度差異DIF。舉例來說,此種計算方法得到的強度差異DIF為反射強度曲線RC3相對基準強度曲線RCref下降了27%。
再一種實施例中,控制單元250將線性座標區分為複數個區間(如第4C圖所示之四個區間P1~P4);針對每一個區間,計算每一個區間內反射強度曲線RC3與基準強度曲線RCref在線性座標上的複數個差異值,以得到每一個區間之區間差異;將區間差異加權平均得到強度差異DIF。每個區間可具有不同的權重。
以第4D圖所例,當發生板彎形變且有觸控事件時,反射強度曲線RC4與基準強度曲線RCref隨著線性座標有不同程度的差異。控制單元250可由反射強度曲線RC4
與基準強度曲線RCref計算其間的強度差異DIF(可參考上述第4C圖實施例所介紹的各種方法)。同理,當在線性座標上之座標範圍(即觸控事件區間PTE)內,反射強度曲線RC4上呈現劇烈梯度變化。於此情況下,控制單元250則可將座標範圍內的反射強度曲線RC4排除在計算範圍之外,藉此排除真實的觸控事件影響用以抗形變的計算結果(可參考上述第4B圖實施例)。
如第1圖所示,光學觸控校正方法100執行步驟S106,判斷上述強度差異DIF的大小。
若強度差異DIF小於第一門檻值RF1(例如5%或其他可容許的差異值),則表示目前面板區域201未發生板彎形變(可參考第3A圖)或是形變情況並不嚴重,此時,光學觸控校正方法100執行步驟S108,控制單元250將線性光感測器240感測到之反射強度曲線(可參考第4B圖中的反射強度曲線RC2)傳送至觸控單元260,觸控單元260可執行觸控點判斷功能,藉此完成光學觸控的功能。
若強度差異DIF大於第一門檻值RF1(例如5%或其他可容許的差異值)且小於第二門檻值RF2(例如70%或其他難以校正之過大差異值),則表示目前面板區域201已發生板彎形變(可參考第3B圖),此時,光學觸控校正方法100執行步驟S110,控制單元250調整投射光源220之發射功率以進行校正。
舉例來說,假設發生板彎形變,且線性光感測器量測到如第4C圖所示的反射強度曲線RC3,此狀況下,強
度差異DIF為反射強度曲線RC3相對基準強度曲線RCref下降了16.25%,於步驟S110中,控制單元250調整投射光源220之發射功率提高相對應的比例,儘可能使得校正後的反射強度曲線貼近基準強度曲線RCref。請一併參閱第4E圖,其繪示第4C圖中的反射強度曲線RC3經校正後之反射強度曲線RC3c的示意圖。如第4E圖所示,控制單元250調整投射光源220與原先感測到之強度差異DIF成比例,使校正後之反射強度曲線RC3c其強度上升一定程度並貼近基準強度曲線RCref。校正後之強度曲線RC3c其強度差異DIF將大幅降低至第一門檻值RF1之下,便可恢復進行一般的光學觸控感測。
若強度差異DIF大於第二門檻值RF2(例如70%或其他難以校正之過大差異值),則表示目前面板區域201已發生板彎形變(可參考第3B圖)且板彎形變已過於嚴重,使得反射單元230已脫離投射光源220產生之投射光線EL的投射範圍。如此一來,投射光線EL已難以經由反射單元230反射至線性光感測器240,即使調整投射光源220之發射功率亦難以進行校正。此時,光學觸控校正方法100執行步驟S112,停止觸控點判斷功能並維持先前的觸控狀態,並且控制單元250產生錯誤訊息通知使用者。
綜上所述,本揭示文件提供一種光學觸控校正方法及光學觸控面板,其光學觸控面板中設置線性光感測器(line optical sensor),藉由線性光感測器得到相對於線性座標之反射強度曲線,當光學觸控面板上發生形變時,計算
反射強度曲線與基準強度曲線之強度差異,調整光源的強度來校正光學觸控面板的形變誤差。
此外,本揭示文件使用線性光感測器並提供一個抗變形的方法。線性光感測器的成本較低、體積較小、運算速度較快。若是有外力改變了光源的發射角度或光感測器的收光角度,本揭示文件之光學觸控校正方法及光學觸控面板可判斷此種情況為觸控平面的變形,並對變形情況進行處理,避免錯誤的雜訊、跳點產生,使觸控功能可正常操作。
雖然本案已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本案,任何熟習此技藝者,在不脫離本案之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本案之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧光學觸控校正方法
S100~S112‧‧‧步驟
DIF‧‧‧強度差異
RF1‧‧‧第一門檻值
RF2‧‧‧第二門檻值
Claims (18)
- 一種光學觸控校正方法,用於一光學觸控面板包含一投射光源以及一線性光感測器,該光學觸控校正方法包含:以該投射光源產生一投射光線,該投射光線經反射至該線性光感測器;利用該線性光感測器量測反射後之該投射光線,以得到相對於線性座標之一反射強度曲線;計算量測到之該反射強度曲線與一基準強度曲線之一強度差異;以及若該強度差異高於一第一門檻值,調整該投射光源之發射功率以進行校正;其中該反射強度曲線與該基準強度曲線之該強度差異,對應該光學觸控面板上的一形變彎曲程度。
- 如請求項1所示之光學觸控校正方法,更包含:若該強度差異低於該第一門檻值,利用該線性光感測器感測到之該反射強度曲線,執行觸控點判斷功能。
- 如請求項2所示之光學觸控校正方法,更包含:若該強度差異高於一第二門檻值,停止觸控點判斷功能並維持先前的觸控狀態,其中該第二門檻值大於該第一門檻值。
- 如請求項1所示之光學觸控校正方法,其中計算該 強度差異之步驟包含:由該反射強度曲線與該基準強度曲線之間的差距,在線性座標上取樣得到複數個差異值;以及由該些差異值平均得到該強度差異。
- 如請求項1所示之光學觸控校正方法,其中計算該強度差異之步驟包含:將線性座標區分為複數個區間;由該些區間中選擇至少一指定區間;計算在該至少一指定區間內該反射強度曲線與該基準強度曲線在線性座標上的複數個差異值;以及由該些差異值平均得到該強度差異。
- 如請求項1所示之光學觸控校正方法,其中計算該強度差異之步驟包含:將線性座標區分為複數個區間;針對每一個區間,計算每一個區間內該反射強度曲線與該基準強度曲線在線性座標上的複數個差異值,以得到每一個區間之一區間差異;以及將該些區間差異加權平均得到該強度差異。
- 如請求項1所示之光學觸控校正方法,其中計算該強度差異之步驟包含:若在線性座標上之一座標範圍內,該反射強度曲線之於該基準強度曲線係呈現一劇烈梯度變化,則將該座標範圍內 的該反射強度曲線排除計算。
- 如請求項1所示之光學觸控校正方法,其中當該光學觸控面板無形變時,利用該線性光感測器量測反射後之該投射光線以得到相對於線性座標之一強度曲線作為該基準強度曲線。
- 一種光學觸控面板,包含:一邊框;一投射光源,設置於該邊框上,用以產生一投射光線;一反射單元,設置於該邊框上,用以反射該投射光線;一線性光感測器,設置於該邊框之一第一側邊上,用以接收經反射之該投射光線,並量測反射後之該投射光線,以得到相對於線性座標之一反射強度曲線;一控制單元,與該投射光源以及該線性光感測器耦接,用以計算量測到之該反射強度曲線與一基準強度曲線之一強度差異,若該強度差異高於一第一門檻值,調整該投射光源之發射功率以進行校正;其中該控制單元計算得到之該強度差異,對應該光學觸控面板上的一形變彎曲程度。
- 如請求項9所示之光學觸控面板,其中該反射單元至少設置於該邊框之一第二側邊上,且位置相對該線性光感測器。
- 如請求項10所示之光學觸控面板,其中該反射單元設置於該邊框之該第二側邊以及一第三側邊上,且位置相對該線性光感測器與該投射光源。
- 如請求項9所示之光學觸控面板,更包含:一觸控單元,與該線性光感測器以及該控制單元耦接,若該強度差異低於該第一門檻值,該觸控單元利用該線性光感測器感測到之該反射強度曲線,執行觸控點判斷功能。
- 如請求項12所示之光學觸控面板,其中若該強度差異高於一第二門檻值,該觸控單元停止觸控點判斷功能並維持先前的觸控狀態,該第二門檻值大於該第一門檻值。
- 如請求項9所示之光學觸控面板,其中該控制單元藉由該反射強度曲線與該基準強度曲線之間的差距,在線性座標上取樣得到複數個差異值,並由該些差異值平均得到該強度差異。
- 如請求項9所示之光學觸控面板,其中該控制單元將線性座標區分為複數個區間,由該些區間中選擇至少一指定區間,計算在該至少一指定區間內該反射強度曲線與該基準強度曲線在線性座標上的複數個差異值,該控制單元由該些差異值平均得到該強度差異。
- 如請求項9所示之光學觸控面板,其中該控制單元 將線性座標區分為複數個區間,針對每一個區間,計算每一個區間內該反射強度曲線與該基準強度曲線在線性座標上的複數個差異值,以得到每一個區間之一區間差異,該控制單元將該些區間差異加權平均得到該強度差異。
- 如請求項9所示之光學觸控面板,其中若在線性座標上之一座標範圍內,該反射強度曲線之於該基準強度曲線係呈現一劇烈梯度變化,該控制單元將該座標範圍內的該反射強度曲線排除計算。
- 如請求項9所示之光學觸控面板,其中當該光學觸控面板無形變時,該控制單元利用該線性光感測器量測反射後之該投射光線以得到相對於線性座標之一強度曲線作為該基準強度曲線。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW102131346A TWI525506B (zh) | 2013-08-30 | 2013-08-30 | 光學觸控校正方法及光學觸控面板 |
CN201310424336.6A CN104423725B (zh) | 2013-08-30 | 2013-09-17 | 光学触控校正方法及光学触控面板 |
US14/180,367 US9442604B2 (en) | 2013-08-30 | 2014-02-14 | Optical-touch calibration method and optical-touch panel for calibrating the deformation bias on the optical-touch panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW102131346A TWI525506B (zh) | 2013-08-30 | 2013-08-30 | 光學觸控校正方法及光學觸控面板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201508593A TW201508593A (zh) | 2015-03-01 |
TWI525506B true TWI525506B (zh) | 2016-03-11 |
Family
ID=52582532
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW102131346A TWI525506B (zh) | 2013-08-30 | 2013-08-30 | 光學觸控校正方法及光學觸控面板 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9442604B2 (zh) |
CN (1) | CN104423725B (zh) |
TW (1) | TWI525506B (zh) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106814921B (zh) * | 2016-12-29 | 2022-03-11 | 北京汇冠触摸技术有限公司 | 一种红外触摸屏光路信号自适应调节方法及装置 |
CN116679845A (zh) | 2017-02-06 | 2023-09-01 | 平蛙实验室股份公司 | 触摸感测装置 |
US11943563B2 (en) | 2019-01-25 | 2024-03-26 | FlatFrog Laboratories, AB | Videoconferencing terminal and method of operating the same |
EP4066089A1 (en) * | 2019-11-25 | 2022-10-05 | FlatFrog Laboratories AB | A touch-sensing apparatus |
EP4104042A1 (en) | 2020-02-10 | 2022-12-21 | FlatFrog Laboratories AB | Improved touch-sensing apparatus |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100458670C (zh) | 2003-05-19 | 2009-02-04 | 株式会社伊特 | 使用了区域图像传感器的位置检测装置 |
US8553014B2 (en) * | 2008-06-19 | 2013-10-08 | Neonode Inc. | Optical touch screen systems using total internal reflection |
TW201027407A (en) | 2009-01-13 | 2010-07-16 | Quanta Comp Inc | Light compensation method |
TWI399682B (zh) | 2009-06-23 | 2013-06-21 | Raydium Semiconductor Corportation | 光學式觸控裝置及其運作方法 |
JP2012053684A (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-15 | Toshiba Tec Corp | 表示入力装置および表示入力方法 |
KR101351421B1 (ko) * | 2010-12-16 | 2014-01-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 광학식 터치 입력 장치 및 이의 구동 방법 |
US9244545B2 (en) * | 2010-12-17 | 2016-01-26 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Touch and stylus discrimination and rejection for contact sensitive computing devices |
-
2013
- 2013-08-30 TW TW102131346A patent/TWI525506B/zh active
- 2013-09-17 CN CN201310424336.6A patent/CN104423725B/zh active Active
-
2014
- 2014-02-14 US US14/180,367 patent/US9442604B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104423725A (zh) | 2015-03-18 |
CN104423725B (zh) | 2017-09-01 |
US20150062085A1 (en) | 2015-03-05 |
US9442604B2 (en) | 2016-09-13 |
TW201508593A (zh) | 2015-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI525506B (zh) | 光學觸控校正方法及光學觸控面板 | |
US10277887B2 (en) | Calibration method and measurement tool | |
US8648794B2 (en) | Screen light computation device or method | |
CN110832271B (zh) | 用于测量对象的光学表面测量的方法和设备 | |
TWI575505B (zh) | 具有顯示屏的電子裝置及調節顯示單元亮度的方法 | |
US20130241883A1 (en) | Optical touch system and optical touch-position detection method | |
US20120038591A1 (en) | Optical touch panel and coordinate information correction method and detecting device therefor | |
WO2017004871A1 (zh) | 投影终端梯形校正方法、装置、投影终端和存储介质 | |
US20110141079A1 (en) | Image display apparatus, control method thereof, and computer-readable storage medium | |
TWI567473B (zh) | 投影對準技術 | |
US11416103B2 (en) | Proximity detection device | |
TWI470514B (zh) | 判斷鏡頭裝置是否偏移之方法及其光學觸控系統 | |
US9029746B2 (en) | Optical sensor | |
US20140184541A1 (en) | Processing Apparatus of Optical Touch System and Operating Method Thereof | |
US20160047754A1 (en) | Light deflection detection module and measurement and calibration method using the same | |
TWI543751B (zh) | 高度量測裝置及其方法 | |
TWI525507B (zh) | 光學觸控系統、觸控偵測方法及電腦程式產品 | |
TW202022403A (zh) | 用以偵測光斑位置之方法及裝置 | |
TWI436254B (zh) | 光學觸控螢幕系統 | |
TWI413924B (zh) | 位置偵測方法 | |
JP5634473B2 (ja) | パネル評価システム及びパネル評価方法 | |
CN110687540A (zh) | 一种检测待测光学模组的测距精准度的方法 | |
WO2016018418A1 (en) | Misalignment detection | |
JP2013002992A (ja) | 断面積測定装置、プログラム | |
TWI498794B (zh) | 光學觸控的感測方法 |