TWI521130B - A magnetic shade and a sliding curtain formed therefrom - Google Patents

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TWI521130B TW104105586A TW104105586A TWI521130B TW I521130 B TWI521130 B TW I521130B TW 104105586 A TW104105586 A TW 104105586A TW 104105586 A TW104105586 A TW 104105586A TW I521130 B TWI521130 B TW I521130B
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Description

磁吸式遮簾及由其形成之滑動片簾
本發明係有關一種磁吸式遮簾及由其形成之滑動片簾,尤指一種由上往下包含一上端段、多個中間段、一下端段、及多個磁吸件,且各中間段之高度之間由下往上係形成遞減、遞增或交錯增減等非等間距排列型態,且各相鄰二中間段之高度之間存在一等差或不等差之高度差,以使在向上收合時後一對折後中間段之底端所形成之彎折部能離開前一對折後中間段之底端所形成之彎折部一距離以避免相鄰二彎折部對應疊置而外凸張開。
羅馬簾(Roman shade)為常見之遮簾,其具有一垂放之簾布,簾布上設有在高度方向等間距排列之數條橫桿,使用時藉側邊拉繩及傳動機構以帶動該數條橫桿由下往上逐段對折以向上捲收簾布或向下展開;然,羅馬簾在使用上存有傳動機構複雜且拉繩較費力拉動之缺點及拉繩有纏繞住兒童頸部之危險。為解決上述問題,乃有無拉繩但仍具有類似羅馬簾向上捲收簾布或向下展開使用功能之遮簾產生,如US7,150,304、DE 20 2011 004 612U1、AU2011101135A4等先前技術,其係以數條磁性元件取代羅馬簾之簾布上所設之等間距排列之數條橫桿,而操作時將簾體最下端之磁性元件逐次往上對折以與上方之磁性元件相互疊置吸附以向上收合並 定位至所欲收合之高度位置(參考US7,150,304);惟,該等先前技術之磁吸元件係如同羅馬簾般以等間距排列方式設在簾布上,因此在向上收合時,逐段對折捲收之簾布會形成多個對折段,且各對折段之彎折部因磁吸元件等間距排列關係而向下垂置於同一高度,以致各彎折部相互疊置而向外凸出張開,大大影響該等遮簾在收合後之美觀,相對降低該遮簾之使用效率及消費者購買慾,因此有進一步改進的必要。
此外,滑動片簾(sliding panel)亦為常見之遮簾,其一般結構為包含一軌道(rail)、數支滑軌(carrier track)設在軌道下方、及數片簾片(panel)分別黏附並垂置在一滑軌下方,各滑軌上端設有連接片(connector)及滑動件(runner)如滑輪,而藉連接片向上穿入軌道以使滑動件在軌道內之溝槽(channel)中滑動,以使各滑軌及其簾片(panel)可橫向平行滑動而逐片展開以使窗戶形成遮蔽狀態或反向逐片收合並重疊在一側邊以使窗戶形成透視狀態;其中,習知滑動片簾之各簾片(panel)一般是由同一預定高度之簾布構成,雖然簾布之材料可作多種變化,但各簾片本身並無法如羅馬簾般可向上收合並定位至所欲之高度位置,因此在目前競爭激烈之遮簾市場中,雖然各種遮簾皆在力求創新,但令人遺憾的是習知滑動片簾卻了無創新,也就是,長久以來習知滑動片簾只具有可橫向逐片展開或反向逐片收合並重疊在一側邊之使用功能,而各簾片完全不具有可垂直向(高度向)向上收合以定位至所欲之高度位置或向下展開之使用功能。,本案乃是針對無拉繩但具有類似羅馬簾使用功能之遮簾如US7,150,304、DE 20 2011 004 612U1、AU2011101135A4等先前技術之缺點, 而提出一種磁吸式遮簾之技術方案,並進一步將該磁吸式遮簾技術方案應用於習知滑動片簾上用以取代無法向上收合以定位至所欲之高度位置之習知簾片,且同時利用該磁吸式遮簾之技術特徵以有效解決在取代習知滑動片簾之簾片的應用上所衍生之其他問題,並更增進滑動片簾之使用功效,因此在技術發展空間有限之遮簾領域中,本案在技術上縱然只是微小的改進,仍得視為具有顯然的進步。
本發明主要目的乃在於提供一種磁吸式遮簾及由其形成之滑動片簾,該磁吸式遮簾包含一上端段、一下端段、多個中間段設在該上、下端段之間、及多個磁吸件分別設在簾體中各段相鄰接之分界處,其中各中間段之高度間由下往上係形成遞減、遞增或交錯增減之非等間距排列型態,使相鄰二中間段之高度之間存在一等差或不等差之高度差;在向上收合時係將設在最下位之磁吸件逐次向上對折一中間段以與設在上一位之磁吸件相互磁性吸附;其中當相鄰上、下兩中間段被依序對折時,下一中間段係先被對折成前一對折後中間段,而上一中間段再對折成一對折後中間段且位於該前一對折後中間段的後方,且後一對折中間段之底端所形成之彎折部能離開前一對折中間段之底端所形成之彎折部一適當距離,以避免相鄰二彎折部對應疊置而凸出張開,藉以解決習知磁吸式遮簾之缺點並增進使用效率。
本發明再一目的乃在於提供一種磁吸式遮簾及由其形成之滑動片簾,其係利用多片磁吸式遮簾以作為一滑動片簾之簾片,其中相鄰二磁吸式遮簾上所設之各磁吸件的位置係形成錯位狀態,使前一磁吸式遮 簾上所設各磁吸件之位置與後一磁吸式遮簾上所設各磁吸件之位置之間形成一高度差之錯位距離,當各磁吸式遮簾在該軌道下方橫向平行滑動而逐片展開或逐片收合而重疊時,能藉由該錯位距離以避免相鄰二磁吸式遮簾上所設各磁吸件產生磁吸作用而相互吸附在一起,藉以更提昇滑動片簾之應用範圍及使用效率。
10、10a、10b、10c、10d‧‧‧磁吸式遮簾
11‧‧‧上端段
12‧‧‧下端段
13、13a、13b、13c‧‧‧中間段
14、14a、14b、14c、14d、14f‧‧‧磁吸件
141‧‧‧長條片
142‧‧‧磁鐵
15‧‧‧穿槽
20‧‧‧滑動片簾
21‧‧‧軌道組
22‧‧‧滑軌
23‧‧‧連接片
24‧‧‧操作桿
第1-2圖係本發明之磁吸式遮簾一實施例(具二中間段13a、13b且其高度形成遞減型態)之正視及側視圖。
第3圖係第1圖所示實施例之分解立體圖。
第4-5圖係第1圖所示實施例在第一次向上對折收合之正視及側視圖。
第6-7圖分別係第1圖所示實施例在第二次向上對折收合之正視及側視圖。
第8-9圖係第1圖所示實施例在第三次向上對折收合之正視及側視圖。
第10圖係本發明之磁吸式遮簾又一實施例(具三中間段13a、13b、13c且其高度間形成一交錯增減型態)之正視圖。
第11圖係第10圖所示實施例在向上收合後之側視圖。
第12圖係本發明之磁吸式遮簾另一實施例(具三中間段13a、13b、13c且其高度間形成另一交錯增減型態)在向上收合後之側視圖。
第13-14圖係本發明之由磁吸式遮簾形成之滑動片簾一實施例之正視及側視圖。
第15圖係第13圖所示實施例中各磁吸式遮簾被向上收合於同一高度之正視圖。
第16圖係本發明之由磁吸式遮簾形成之滑動片簾另一實施例之正視圖。
第17圖係第16圖所示實施例中各磁吸式遮簾被向上收合於同一高度之正視圖。
為使本發明更加明確詳實,茲列舉較佳實施例並配合下列圖示,將本發明之結構及其技術特徵詳述如後,其中各圖示只用以說明本發明之結構關係及相關功能,因此各元件之尺寸並非依實際比例而設置且非用以限制本發明。
參考第1-9圖,本發明之磁吸式遮簾10包含一上端段11、一下端段12、多個中間段13(13a、13b)設在該上端段11及該下端段12之間、及多個磁吸件14(14a、14b、14c);其中該上端段11之上端111可配合其他構件用以固設於一窗戶(圖未示)上使用,以使磁吸式遮簾10在室內A及室外B間形成遮蔽作用如第1圖所示;該下端段12之下端121可配合其他構件如荷重物用以使磁吸式遮簾10能保持美觀。
本發明之主要特徵在於:該中間段13之數目不限制,其可依該磁吸式遮簾10之高度來設定,其中各中間段13之高度間由下往上係形成遞減、遞增或交錯增減之非等間距排列型態,使相鄰二中間段13之高度之間存在一等差或不等差之高度差;藉此在向上收合時,設在最下位之磁吸件14逐次向上對折一中間段13以與設在上一位之磁吸件14相互磁性吸附,而當相鄰上、下兩中間段13被依序對折時,下一中間段13係先被對折成前一對折後中間段(13),而上一中間段13再對折成一對折後中間段(13)且位於該前一對折後中間段(13)的後方,且後一對折中間段(13)之底 端所形成之彎折部能離開前一對折中間段(13)之底端所形成之彎折部一適當距離,以避免相鄰二彎折部對應疊置而凸出張開。
以第1-9圖所示實施例為例說明,該中間段13包含一在下位之中間段13a及一在上位之中間段13b,但非用以限制本發明。各中間段13(13a、13b)之高度間由下往上係形成本發明所包含遞減、遞增或交錯增減等非等間距排列型態中之遞減型態,即相鄰二中間段13a、13b之高度之間存在一等差之高度差,即在下位之中間段13a之高度大於在上位之中間段13b之高度,該高度差可為8cm~14cm,但非用以限制本發明。
此外,該下端段12之高度以不小於其中具最大高度之中間段13如第1-3圖中13a高度的一半為佳,即該下端段12之高度以不小於中間段13a(中間段13a、13b中13a之高度最大)如第1-3圖中13a之對折後高度,藉此,當磁吸式遮簾10在完全收合狀態時如第8-9圖所示,由正面(室內A)視之,該下端段12是位於前方且能遮蔽對折後之全部中間段13(13a、13b)及/或對折後之上端段11,但非用以限制本發明。
該多個磁吸件14係分別結合設在該上端段11、該多個中間段13(13a、13b)及該下端段12中相鄰二段之間的交界處,以第1-3圖所示實施例為例說明,由下往上依序包含:一磁吸件14a設在下端段12與中間段13a之交界處、一磁吸件14b設在中間段13a與中間段13b之交界處、及一磁吸件14c設在中間段13b與上端段11之交界處;此外,在上端段11之上端111處進一步可設置一磁吸件14d,以使在向上收合時能將設在最下位之磁吸件14a逐次向上對折各中間段13(13a、13b)之後,更對折該上端段11以與該磁吸件14d相互磁性吸附如第8-9圖所示,以使磁吸式遮簾10得定位在較高之 高度位置,但非用以限制本發明。
參考第3圖,該磁吸件14(14a-14d)包含一橫跨結合在磁吸式遮簾10上之長條片141及至少一結合在該長條片141之磁鐵142,以第3圖為例說明但非用以限制本發明,該長條片141上設有二嵌孔供分別嵌置一磁鐵142,該長條片141再穿設並固定於磁吸式遮簾10上相鄰二段之間交界處所設之穿槽15內。
當欲向上收合磁吸式遮簾10時,以第1-9圖所示之實施例為例說明,將設在最下位之磁吸件14a,向上先對折一中間段13a,以使磁吸件14a與設在上一位之磁吸件14b相互磁性吸附如第4-5圖所示,以使中間段13a被對折成一對折後中間段(13a)並在其底端形成一凸出並張開之彎折部如第5圖所示;接著,再將磁吸件14b連同磁吸件14a向上對折次一中間段13b,使磁吸件14b(及14a)再與在上一位之磁吸件14c相互磁性吸附如第6-7圖所示,以使該中間段13b也被對折成一對折後中間段(13b)並在其底端也形成一凸出並張開之彎折部如第7圖所示;接著,或再將磁吸件14c連同磁吸件14a、14b向上對折該上端段11,以使磁吸件14c(及14a、14b)再與磁吸件14d相互磁性吸附如第8-9圖所示,以使該上端段11也被對折成一對折後上端段(11)並在其底端也形成一凸出並張開之彎折部如第9圖所示;如此逐次操作,即能使各中間段13a、13b及/或上端段11被依序對折成一對折後中間段(13a、13b)及/或對折後上端段(11),並同時在各對折段之底端各形成一凸出並張開之彎折部,藉此,磁吸式遮簾10得被向上收合並定位於所欲之高度位置如第8圖所示,使磁吸式遮簾10之下方形成透視狀態;當欲向下展開磁吸式遮簾10時,反向操作上述過程,即能使磁吸式遮簾10回復向 下展開後之遮蔽狀態。
當相鄰之上下兩中間段13a與13b(或中間段13b與上端段11)被依序對折時,下一中間段13a係先形成一對折中間段(13a),而上一中間段13b再形成一對折中間段(13b),且由上一中間段13b所形成之對折中間段(13b)係隱藏位於由下一中間段13a所形成之對折中間段(13a)的後方如第7圖所示,同理參考第9圖所示。
以第1-9圖所示實施例而言,本發明之主要特徵在於:藉由各中間段13(13a、13b)之高度由下往上逐一遞減一高度差的關係但非用以限制本發明,高度差可為8cm~14cm但不限制,使在相鄰二對折中間段13a、13b中,位於後方之後一對折後中間段(13b)之對折後高度會小於位於前方之前一對折後中間段(13a)之對折後高度,因此能使後一對折後中間段(13b)之底端所形成之彎折部能離開前一對折後中間段(13a)之底端所形成之彎折部一距離如第7圖(或第9圖)所示,藉此可避免後一與前一對折中間段(13b、13a)之底端所形成之彎折部在收合後形成對應疊置狀態,得以解決先前技術如US7,150,304、DE 20 2011 004 612U1、AU2011101135A4等因因磁吸元件等間距排列而導致各彎折部相互疊置而嚴重地向外凸出並張開而影響遮簾在收合後美觀的問題。此外,在此須強調,第5、7、9圖主要係只用以說明本發明之技術特徵及相關功能,因此各元件之尺寸如各對折後中間段(13b、13a)及/或對折後上端段(11)之底端所形成之彎折部或高度差(可為8cm~14cm但不限制),並非依實際比例畫出。
此外,本發明之磁吸式遮簾10,其所包含之上端段11、多 個中間段13及下端段12的高度可依據磁吸式遮簾10之高度而設定,以下舉例說明在一遮簾常用之高度如160cm時,本發明之磁吸式遮簾10之各段之高度安排如下但非用以限制本發明:當磁吸式遮簾10之高度為160cm時,其由上而下依序包含一30cm高度之上端段11、一42cm高度之中間段13b、一54cm高度之中間段13a及一34cm高度之下端段12,其中所示之各高度得包含容許公差。
再以第10-11圖所示實施例為例說明,該中間段13包含一在下位之中間段13a、一在中位之中間段13b及一在上位之中間段13c,但非用以限制本發明,也就是,第10-11圖所示實施例之中間段13比第1-9圖所示實施例之中間段13增加一中間段13c且各段之高度亦作出變化調整。各中間段13(13a、13b、13c)之高度間由下往上係形成本發明所包含遞減、遞增或交錯增減等非等間距排列型態中之交錯增減型態,以第10-11圖所示實施例而言,中間段13a之高度大於中間段13b之高度,而中間段13b之高度卻小於中間段13c之高度,中間段13c之高度又大於上端段11之高度,呈現交錯增減之非等間距排列型態,因此相鄰二中間段13a、13b或13b、13c之高度間也存在一高度差,而該高度差可設在8cm~14cm範圍內且可為等差或不等差之高度差但不限制,例如:中間段13a之高度可比中間段13b之高度大10cm而中間段13b之高度也比中間段13c之高度小10cm,則中間段13a、13b、13c之高度間是形成交錯增減且具有等差之非等間距排列型態;而若中間段13a之高度可比中間段13b之高度大12cm而中間段13b之高度也比中間段13c之高度小8cm,則中間段13a、13b、13c之高度間是形成交錯增減且具有非等差之非等間距排列型態。
以第10-11圖所示實施例而言,本發明之主要特徵在於:藉由各中間段13(13a、13b、13c)之高度由下往上形成本發明所包含遞減、遞增或交錯增減等非等間距排列型態中之一種交錯增減型態,使在相鄰二中間段13a、13b或13b、13c之高度間存在一等差或非等差之高度差,且該高度差可為8cm~14cm但不限制,因此在向上收合後如,相鄰二對折後中間段(13a、13b)或(13b、13c)之間後一對折後中間段之底端所形成之彎折部能離開前一對折後中間段之底端所形成之彎折部一距離如第11圖所示,藉此可避免相鄰二中間段(13a、13b)或(13b、13c)在對折後之底端所形成之彎折部在收合後形成對應疊置狀態。
此外,再參考第12圖所示,當第10圖中各中間段13a、13b、、13c之高度之間再做其他變化時,例如在第10圖中使中間段13a之高度小於中間段13b之高度,而中間段13b之高度卻大於中間段13c之高度,而中間段13c之高度又大於上端段11之高度,藉以呈現交錯增減之非等間距排列型態(圖未示)但非用以限制本發明,也就是,第12圖所示實施例之中間段13比第1-9圖所示實施例之中間段13增加一中間段13c且各段之高度亦作出變化調整而不同於第10-11圖所示實施例,則各中間段13(13a、13b、13c)之高度間由下往上仍然可視為形成本發明所包含遞減、遞增或交錯增減等非等間距排列型態中之一種交錯增減型態,因此相鄰二中間段13a、13b或13b、13c之高度間也存在會一高度差,而該高度差可設在8cm~14cm範圍內且可為等差或不等差之高度差但不限制。
在第12圖所示實施例中,該下端段12之高度以不小於其中具最大高度之中間段13如第12圖中13b高度的一半為佳,即該下端段12之高 度以不小於中間段13b(在中間段13a、13b、13c中13b之高度最大)如第12圖中13b之對折後高度,藉此,當磁吸式遮簾10在完全收合狀態時如第12圖所示,該下端段12是位於前方且能遮蔽全部之對折後中間段(13a、13b、13c)及/或對折後之上端段11,但非用以限制本發明。藉此,第12圖所示之磁吸式遮簾10實施例即能具有並達成如第10-11圖所示實施例之技術特徵及其作用功效。
參考第13-14圖,本發明之由磁吸式遮簾形成之滑動片簾20包含:一軌道組21,其具有多個相互平行且開口向下之溝槽(圖未示);多支滑軌22,各滑軌22上端設有一連接片23且各連接片23上方銜接一滑動件(圖未示),而藉各滑動件在軌道組21之各溝槽中滑動以使各滑軌22得在該軌道下方平行滑動;以及多片本發明之磁吸式遮簾10,其中各磁吸式遮簾10係分別黏附並垂置在各滑軌22下方用以當作習知滑動片簾之簾片使用,藉此各磁吸式遮簾10及其所對應黏附之各滑軌22能藉操作桿24拉動而在該軌道21下方橫向平行滑動而逐片展開(如第13圖中箭頭C所示)以使軌道21下方形成室內A相對室外B之遮蔽狀態(如第14圖所示),或逐片收合(如第13圖中箭頭D所示)並且併排重疊在一側邊(圖未示)以使軌道21下方形成室內A相對室外B之透視狀態。由於上述構件包含軌道組21、滑軌22、連接片23、滑動件、操作桿24以及逐片展開或逐片收合之連動機構等,皆可利用滑動片簾領域之習知技術達成,且上述構件及其連動機構並非本發明之特徵所在,也非用以限制本發明,故在此不贅述上述構件及其連動機構之詳細結構及各構件之間的連結關係。
參考第13-14圖所示,本發明係利用多片磁吸式遮簾10 (10a、10b、10c、10d)作為整個滑動片簾20之簾片使用,並配合習知一滑動片簾除簾片以外之其他構件以形成本發明之由磁吸式遮簾形成之滑動片簾20,以第13圖為例說明,該滑動片簾20係利用四片磁吸式遮簾10a、10b、10c、10d,但非用以限制本發明。請同時參考第1-12圖及其說明,各磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10d)分別具有一上端段11、一下端段12、多個中間段13(13a、13b、13c)設在該上、下端段11、12之間、及多個磁吸件14(14a、14b、14c、14f)分別設在上端段11、多個中間段13(13a、13b、13c)及下端段12中相鄰二段之間的交界處。
以第13圖所示滑動片簾20為例說明,該滑動片簾20所採用各磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10d)之高度是比第1-12圖所示磁吸式遮簾10高但非用以限制本發明,因此滑動片簾20之中間段13(13a、13b、13c)也多出一中間段13c,也就是,該滑動片簾20中各磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10d)仍保有如第1-12圖所示磁吸式遮簾10之技術特徵,只是增加一中間段13c而相對增加各磁吸式遮簾10之高度。
再參考第13圖所示,其中在相鄰二磁吸式遮簾10上如10a與10b或10b與10c或10c與10d,或在相鄰三磁吸式遮簾10上如10a與10b、10c或10b與10c、10d,其上所設之各磁吸件14(14a、14b、14c、14f)的位置係形成錯位狀態,如第13圖所示,其中磁吸式遮簾10a上所設各磁吸件14(14a、14b、14c、14f)之位置與磁吸式遮簾10b或10c上所設各磁吸件14(14a、14b、14c、14f)之位置之間即形成一高度差之錯位距離,而磁吸式遮簾10b上所設各磁吸件14(14a、14b、14c、14f)之位置與磁吸式遮簾10c或10d上所設各磁吸件14(14a、14b、14c、14f)之位置之間也形成一高度 差之錯位距離,以此類推,磁吸式遮簾10c與磁吸式遮簾10d之間也是如此。當各磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10d)在該軌道21下方橫向平行滑動而逐片展開(如箭頭C所示)或逐片收合(如箭頭D所示)並重疊於一側邊時(如重疊於磁吸式遮簾10d之位置),能藉由該錯位距離以避免相鄰二磁吸式遮簾(如10a與10b或10b與10c或10c與10d)或相鄰三磁吸式遮簾(如10a與10b、10c或10b與10c、10d)上所設各磁吸件產生磁吸作用而相互吸附在一起以致影響逐片展開(如箭頭C所示)或逐片收合(如箭頭D所示)之操作。
此外,在第13圖所示之滑動片簾20中,各磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10d)之上端段11、下端段12及多個中間段13(13a、13b、13c)之高度位置均不相同(因為要形成一高度差之錯位距離),也就是,各磁吸式遮簾10a、10b、10c、10d之間,雖然總高度相同,但上端段11、下端段12及多個中間段13(13a、13b、13c)之安排位置不同,其中,各磁吸式遮簾10a、10b、10c、10d之中間段13(13a、13b、13c)可對應維持相同高度尺寸,即磁吸式遮簾10a之中間段13a、13b、13c之高度對應相等於磁吸式遮簾10b、10c、10d之中間段13a、13b、13c的高度尺寸,但各磁吸式遮簾10a、10b、10c、10d之上端段11及下端段12則分別形成不同高度尺寸,即磁吸式遮簾10a之上端段11及下端段12之高度尺寸對應不等於磁吸式遮簾10b、10c、10d之上端段11及下端段12的高度尺寸如第13圖所示。
再參考第13圖,各磁吸式遮簾10a、10b、10c、10d所具有之上端段11之高度與下端段12之高度的和進一步可設定為一相等量,即磁吸式遮簾10a所具有之上端段11之高度與下端段12之高度的和是相等於磁 吸式遮簾10b、10c、10d所具有之上端段11之高度與下端段12之高度的和,如此,當其中磁吸式遮簾如10a之上端段11之高度與另一磁吸式遮簾如10b或10c或10d之上端段11之高度之間形成一高度差時,則該磁吸式遮簾如10a之下端段12之高度與另一磁吸式遮簾如10b或10c或10d之下端段12之高度之間則相對形成該相同量的高度差以作為補償,藉此,當各磁吸式遮簾10a、10b、10c、10d在向上對折收合之後,即設在各磁吸式遮簾10a、10b、10c、10d最下位之磁吸件14a逐次向上對折各中間段13(13a、13b、13c)而與設在各上端段11之下端之磁吸件14f磁性吸附,以使各磁吸式遮簾10a、10b、10c、10d形成收合狀態時,因各磁吸式遮簾10a、10b、10c、10d所具有之上端段11之高度與下端段12之高度的和被設定為相等,因此各磁吸式遮簾10a、10b、10c、10d得向上收合並定位於相同之高度位置如第15圖所示。
再參考第16-17圖所示,該滑動片簾20亦利用四片磁吸式遮簾10,而第16-17圖所示實施例與第13-15圖所示實施例之間的主要差別在於:第13-15圖所示實施例係由左向右(如第13、15圖所示)依序利用四片不同安排(即上端段11、中間段13及下端段12之位置)之磁吸式遮簾10a、10b、10c、10d如第13-14圖所示,而第16-17圖所示實施例則係由左向右依序利用三片不同安排之磁吸式遮簾10a、10b、10c及一片與設在最左側之磁吸式遮簾10a相同之磁吸式遮簾10a,即第16-17圖所示實施例之四片磁吸式遮簾10由左向右依序為10a、10b、10c、10a;如此,第16-17圖所示之滑動片簾20實施例(包含10a、10b、10c、10a)仍能具有第13-15圖所示之滑動片簾20實施例(包含10a、10b、10c、10d)之技術特徵及相同之使用功效。
此外,本發明之滑動片簾20中各磁吸式遮簾10(10a、10b、 10c、10d)所包含之上端段11、多個中間段13及下端段12的高度可依據滑動片簾20之高度而設定,以下舉例說明在一滑動片簾常用之總高度如210cm時,各磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10d)中各段高度之安排:當該滑動片簾20設具四片磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10d)且各磁吸式遮簾10之高度為210cm時如第13-15圖所示,該四片磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10d)之高度安排由上至下分別為:第一磁吸式遮簾10a由上而下依序包含:一10cm高度之上端段11、一40cm高度之中間段13c、一50cm高度之中間段13b、一60cm高度之中間段13a及一50cm高度之下端段12;第二磁吸式遮簾10b由上而下依序包含:一15cm高度之上端段11、一40cm高度之中間段13c、一50cm高度之中間段13b、一60cm高度之中間段13a及一45cm高度之下端段11;第三磁吸式遮簾10c由上而下依序包含:一20cm高度之上端段11、一40cm高度之中間段13c、一50cm高度之中間段13b、一60cm高度之中間段13c及一40cm高度之下端段12;第四磁吸式遮簾10d由上而下依序包含:一25cm高度之上端段11、一40cm高度之中間段13c、一50cm高度之中間段13b、一60cm高度之中間段13a及一35cm高度之下端段12;其中各磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10d)之上端段11與下端段12之高度和為60cm;其中各高度得具有容許公差。
當該滑動片簾20設具四片磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10a)且各磁吸式遮簾10之高度為210cm時如第16-17圖所示,該四片磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10a)之高度安排由上至下分別為:第一磁吸式遮簾10a由上而下依序包含:一10cm高度之上端段11、一40cm高度之中間段13c、一50cm高度之中間段13b、一60cm高度之中間段13a及一50cm高度之 下端段12;第二磁吸式遮簾10b由上而下依序包含:一15cm高度之上端段11、一40cm高度之中間段13c、一50cm高度之中間段13b、一60cm高度之中間段13c及一45cm高度之下端段12;第三磁吸式遮簾10c由上而下依序包含:一20cm高度之上端段11、一40cm高度之中間段13c、一50cm高度之中間段13b、一60cm高度之中間段13c及一40cm高度之下端段12;及第四磁吸式遮簾10a由上而下依序包含:一10cm高度之上端段、一40cm高度之中間段、一50cm高度之中間段、一60cm高度之中間段及一50cm高度之下端段;其中該第四磁吸式遮簾10a係相同於該第一磁吸式遮簾10a;其中各磁吸式遮簾10(10a、10b、10c、10a)之上端段11與下端段12之高度和為60cm。
以上所述僅為本發明的優選實施例,對本發明而言僅是說明性的,而非限制性的;本領域普通技術人員理解,在本發明權利要求所限定的精神和範圍內可對其進行許多改變,修改,甚至等效變更,但都將落入本發明的保護範圍內。
10‧‧‧磁吸式遮簾
11‧‧‧上端段
12‧‧‧下端段
13a、13b、13c‧‧‧中間段
14、14a、14b、14c、14f‧‧‧磁吸件
20‧‧‧滑動片簾
21‧‧‧軌道組
22‧‧‧滑軌
23‧‧‧連接片
24‧‧‧操作桿

Claims (14)

  1. 一種磁吸式遮簾,其包含:一上端段;一下端段;多個中間段,其係設在該上端段及該下端段之間,該多個中間段由下往上係形成不等間距排列,使相鄰二中間段之高度之間存在一高度差;及多個磁吸件,其係分別設在該上端段、該多個中間段及該下端段中相鄰二段之間的交界處;其中在收合時,將設在最下位之磁吸件逐次向上對折一中間段以與設在上一位之磁吸件相互磁性吸附,以使各中間段被依序對折成一對折後中間段並在各對折後中間段之底端形成一凸出張開之彎折部,使磁吸式遮簾得向上收合並定位於所欲之高度位置,或藉反向操作以使磁吸式遮簾向下展開;其中當相鄰上下二中間段被依序對折時,下一中間段先對折成一對折後中間段,而上一中間段再對折成一對折後中間段,且由上一中間段所對折成之對折後中間段係位於由下一中間段所對折成之對折後中間段的後方;其中藉由各中間段之高度由下往上形成不等間距排列的關係,使相鄰二對折後中間段中位於後方之後一對折後中間段之對折後高度不同於位於前方之前一對折後中間段之對折後高度,使後一對折後中間段之底端所形成之彎折部能離開前一對折後中間段之底端所形成之彎折部一距離,藉以避免相鄰二對折後中間段底端所形成之彎折部形成對應疊置狀態。
  2. 如請求項1所述之磁吸式遮簾,其中該多個中間段由下往上所形成之不等間距排列係包含遞減型態、遞增型態或交錯增減型態。
  3. 如請求項1所述之磁吸式遮簾,其中該相鄰二中間段之高度之間所存在之高度差係包含等差或不等差。
  4. 如請求項1所述之磁吸式遮簾,其中該高度差為8cm~14cm。
  5. 如請求項1所述之磁吸式遮簾,其中該下端段之高度不小於各中間段在被對折之後的對折後高度。
  6. 如請求項1所述之磁吸式遮簾,其中在該上端段之上端進一步設置一磁吸件,以使在收合時能將設在最下位之磁吸件逐次向上對折各中間段以與該上端段之上端所設之磁吸件相互磁性吸附並定位。
  7. 如請求項1所述之磁吸式遮簾,其中該磁吸件係包含一橫跨結合在磁吸式遮簾上之長條片,及至少一結合在該長條片之磁鐵。
  8. 如請求項1所述之磁吸式遮簾,其中該上端段、多個中間段及下端段的高度係依據該磁吸式遮簾之高度而設定。
  9. 如請求項8所述之磁吸式遮簾,其中當該磁吸式遮簾之高度為160cm時,該磁吸式遮簾由上而下依序包含一30cm高度之上端段、一42cm高度之中間段、一54cm高度之中間段及一34cm高度之下端段,其中各高度得包含容許公差。
  10. 一種由磁吸式遮簾形成之滑動片簾,其包含:一軌道組,其具有多個相互平行之溝槽;多支滑軌,各滑軌上端設有一連接片且各連接片上方銜接一滑動件,而藉各滑動件在各軌道之溝槽中滑動以使各滑軌在該軌道下方平行滑動; 多片磁吸式遮簾,各磁吸式遮簾係如請求項1至請求項9任一項所述之磁吸式遮簾,其中各磁吸式遮簾係分別黏附並垂置在各滑軌下方,以使各磁吸式遮簾及其所黏附之各滑軌能在該軌道下方橫向平行滑動而逐片展開以在該軌道下方形成遮蔽狀態或逐片收合並重疊以在該軌道下方形成透視狀態;其中各磁吸式遮簾分別具有一上端段、一下端段、多個中間段設在該上端段與該下端段之間、及多個磁吸件分別設在該上端段、該多個中間段及該下端段中相鄰二段之間的交界處;其中相鄰二磁吸式遮簾上所設之各磁吸件的位置係形成錯位狀態,以使前一磁吸式遮簾上所設各磁吸件之位置與後一磁吸式遮簾上所設各磁吸件之位置之間形成一高度差之錯位距離,當各磁吸式遮簾在該軌道下方橫向平行滑動而逐片展開或逐片收合時,能藉由該錯位距離以避免相鄰二磁吸式遮簾上所設各磁吸件產生磁吸作用而相互吸附在一起。
  11. 如請求項10所述之由磁吸式遮簾形成之滑動片簾,其中在該多片磁吸式遮簾中,進一步使相鄰三磁吸式遮簾上所設之各磁吸件的位置之間形成錯位狀態,以使前一磁吸式遮簾上所設各磁吸件之位置與後二磁吸式遮簾上所設各磁吸件之位置之間皆形成一高度差之錯位距離,當各磁吸式遮簾在該軌道下方橫向平行滑動而逐片展開或逐片收合時,能藉由該錯位距離以避免相鄰三磁吸式遮簾上所設各磁吸件產生磁吸作用而相互吸附在一起。
  12. 如請求項10所述之由磁吸式遮簾形成之滑動片簾,其中各磁吸式遮簾之上端段之高度與下端段之高度的和進一步設定為一相等量,其中當相鄰 二磁吸式遮簾中前一磁吸式遮簾之上端段高度與後一磁吸式遮簾之上端段高度之間形成一高度差時,則該前一磁吸式遮簾之下端段高度與後一磁吸式遮簾之下端段高度之間也相對形成該相等的高度差以作為補償,藉此當設在最下位之磁吸件逐次向上對折各中間段以與設在各上端段之下端之磁吸件磁性吸附時,各磁吸式遮簾得向上收合並定位於相同之高度位置。
  13. 如請求項10所述之由磁吸式遮簾形成之滑動片簾,其中當該滑動片簾設具四片磁吸式遮簾且各磁吸式遮簾之高度為210cm時,該四片磁吸式遮簾之高度安排由上至下分別為:第一磁吸式遮簾由上而下依序包含:一10cm高度之上端段、一40cm高度之中間段、一50cm高度之中間段、一60cm高度之中間段及一50cm高度之下端段;第二磁吸式遮簾由上而下依序包含:一15cm高度之上端段、一40cm高度之中間段、一50cm高度之中間段、一60cm高度之中間段及一45cm高度之下端段;第三磁吸式遮簾由上而下依序包含:一20cm高度之上端段、一40cm高度之中間段、一50cm高度之中間段、一60cm高度之中間段及一40cm高度之下端段;第四磁吸式遮簾由上而下依序包含:一25cm高度之上端段、一40cm高度之中間段、一50cm高度之中間段、一60cm高度之中間段及一35cm高度之下端段;其中各磁吸式遮簾之上端段與下端段之高度和為60cm; 其中各高度得具有容許公差。
  14. 如請求項10所述之由磁吸式遮簾形成之滑動片簾,其中當該滑動片簾設具四片磁吸式遮簾且各磁吸式遮簾之高度為210cm時,該四片磁吸式遮簾之高度安排由上至下分別為:第一磁吸式遮簾由上而下依序包含:一10cm高度之上端段、一40cm高度之中間段、一50cm高度之中間段、一60cm高度之中間段及一50cm高度之下端段;第二磁吸式遮簾由上而下依序包含:一15cm高度之上端段、一40cm高度之中間段、一50cm高度之中間段、一60cm高度之中間段及一45cm高度之下端段;第三磁吸式遮簾由上而下依序包含:一20cm高度之上端段、一40cm高度之中間段、一50cm高度之中間段、一60cm高度之中間段及一40cm高度之下端段;第四磁吸式遮簾由上而下依序包含:一10cm高度之上端段、一40cm高度之中間段、一50cm高度之中間段、一60cm高度之中間段及一50cm高度之下端段;其中該第四磁吸式遮簾係相同於該第一磁吸式遮簾;其中各磁吸式遮簾之上端段與下端段之高度和為60cm;其中各高度得具有容許公差。
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