TWI517897B - 流體處理總成 - Google Patents

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Description

流體處理總成
本發明係關於流體處理總成，其可用於在單用途或多用途應用中以眾多方式中之任一種方式處理廣泛種類之流體。
實施本發明之流體處理總成可包含擠壓於相對端件之間的一或多個流體處理單元。每一流體處理單元可包含具有饋送側及相對滲透側之可滲透流體處理媒體。待處理之流體可稱為處理流體或饋送流體，且流體處理總成可包含饋送入口及自饋送入口延伸至可滲透媒體之饋送側的饋送通道。自饋送側穿過可滲透流體處理媒體到達滲透側之流體可稱為過濾液或滲透液，且流體處理總成可進一步包含滲透出口及自可滲透媒體之滲透側延伸至滲透出口的滲透通道。
實施本發明之流體處理總成可佈置成以直通流或死端流工作模式或以切向流或橫向流工作模式處理流體。在經佈置以用於直通流工作模式之流體處理總成中，饋送通道可終止於可滲透媒體之饋送側。饋送流體可在受壓狀態下供應至饋送入口，其中流體壓力迫使饋送流體穿過饋送通道到達可滲透媒體之饋送側。流體壓力接著迫使如滲透液之所有饋送流體穿過可滲透媒體到達滲透側，接著穿過滲透通道到達滲透出口。
經佈置以用於切向流工作模式之流體處理總成可進一步包含滯留物出口及自可滲透媒體之饋送側延伸至滯留物 出口的滯留物通道。同樣，饋送流體可在受壓狀態下供應至饋送入口，從而迫使饋送流體在切線方向上沿著可滲透媒體之饋送側穿過饋送通道。流體壓力僅迫使如滲透液之饋送流體之一部分穿過可滲透媒體到達滲透側，接著穿過滲透通道到達滲透出口。饋送流體之剩餘物(並未穿過可滲透媒體並可稱為濃縮物或滯留物)經迫使自可滲透媒體之饋送側穿過滯留物通道到達滯留物出口。
無論經佈置以用於直通流或切向流工作模式，實施本發明之流體處理總成均可額外包含一或多個歧管及保持架。每一歧管可包含饋送入口、滲透出口及滯留物出口中之一或多者，且歧管可定位於端件之間，其中歧管中之流體通道與流體處理單元中之適當流體通道流體連通。保持架可於第一端件與第二端件之間延伸，以擠壓端件、流體處理單元及歧管以使得彼等互相抵靠，且反抗與流體處理總成內之流體壓力相關聯之所有力而將流體處理總成固持在一起。
本發明之先前技術包含了美國專利申請公告第US 2007/0056894 A1號與第US 2008/0135499 A1號。該’894公告揭示了一個由固定於一壓力保持模製殼之間的過濾盒所形成的自給式橫向流之過濾總成。該’499公告揭示了一含有第一與第二端件的過濾總成，至少一過濾單元被定位於該等端件之間，且一或多個壓縮桿佈置於該等端件之間延伸。
根據本發明之一個觀點，流體處理總成可包括至少一個流體處理單元、饋送入口及饋送通道、滲透出口及滲透通道、第一端件及第二端件以及保持架。流體處理單元可定位於第一端件與第二端件之間，且可包含具有饋送側及滲透側之可滲透流體處理媒體。饋送通道可自饋送入口延伸穿過流體處理單元到達可滲透媒體之饋送側。滲透通道可自可滲透媒體之滲透側延伸穿過流體處理單元到達滲透出口。至少一個端件可由非金屬材料形成且可具有至少約8×105psi之撓曲模數。保持架可於第一端件與第二端件之間延伸，且可經佈置以擠壓流體處理單元以及第一端件及第二端件，以使得彼等互相抵靠。
根據本發明之另一觀點，流體處理總成可包括第一端件及第二端件、一或多個歧管以及一或多個流體處理單元。每一端件可由非金屬材料形成且可具有至少約8×105psi之撓曲模數。一或多個歧管可定位於端件之間。每一歧管可具有饋送入口、滲透出口及滯留物出口中之至少一者。一或多個流體處理單元亦可定位於端件之間，且每一流體處理單元可具有包含饋送側及相對滲透側之可滲透流體處理媒體。流體處理總成亦可包括饋送通道、滲透通道、滯留物通道以及保持架。饋送通道可自饋送入口延伸穿過至少一個歧管及至少一個流體處理單元到達可滲透媒體之饋送側。滲透通道可自可滲透媒體之滲透側延伸穿過至少一個流體處理單元及至少一個歧管到達滲透出口。滯留物 通道可自可滲透媒體之饋送側延伸穿過至少一個流體處理單元及至少一個歧管到達滯留物出口。保持架可於第一端件與第二端件之間延伸，且可經佈置以擠壓一或多個歧管、一或多個流體處理單元以及端件，以使得彼等互相抵靠。
本發明之實施例具有許多優勢。舉例而言，藉由提供由非金屬材料形成且具有至少約8×105psi之撓曲模數之一或多個端件，實施本發明之流體處理總成可在無任何額外外部支撐之情形下輕鬆地承受總成內之增壓流體產生之所有力。在無任何外部固持器(諸如，機械式壓機或液壓機)之情形下，由保持架彼此耦接之非金屬端件緊密地擠壓及密封流體處理單元、歧管及端件之間的任何其他。因此，實施本發明之流體處理總成可為自給式的；可由製造商預先組裝、密封及消毒，接著僅藉由將流體處理總成之饋送入口、滲透出口及任何滯留物出口連接至顧客之流體系統的對應接口而快速及輕鬆地併入流體系統。
實施本發明之一或多個觀點之流體處理總成可以廣泛種類之方式設置。圖1展示實施本發明之流體處理總成10之許多不同實例之一。通常，流體處理總成10可包括多層結構，該多層結構包含相對端件11、12及定位於端件11、12之間的一或多個流體處理單元13及一或多個歧管14。每一流體處理單元13可包含具有饋送側16及相對滲透側17之可滲透流體處理媒體15。流體處理總成10亦可包含 至少一個饋送入口20及饋送通道21，該饋送通道21用於將饋送流體自饋送入口20引導至至少一個流體處理單元13(例如，所有流體處理單元)之可滲透媒體15的饋送側16，且亦包含至少一個滲透出口22及滲透通道23，該滲透通道23用於將滲透液自至少一個流體處理單元13(例如，所有流體處理單元13)之可滲透媒體15的滲透側17引導至滲透出口22。圖1所展示之流體處理總成10可經佈置以用於橫向流工作模式，且可進一步包含滯留物出口24及滯留物通道25，該滯留物通道25用於將滯留物自可滲透媒體15之饋送側16引導至至少一個流體處理單元13(例如，所有流體處理單元13)的滯留物出口24。此外，流體處理總成10可包含保持架26，該保持架26在端件11、12之間延伸，以擠壓端件11、12、流體處理單元13及歧管14以使得彼等互相抵靠，並將流體處理總成10固持在一起。
每一流體處理單元13可以眾多方式中之任一種方式設置，且每一流體處理單元13之形狀及尺寸可隨流體處理總成而變化。舉例而言，每一流體處理單元可包括密封於殼體內以界定可滲透媒體之饋送側及滲透側之一或多層可滲透流體處理媒體。一或多個饋送渠道、滲透渠道及/或滯留物渠道可於殼體內延伸，以將饋送流體供應至可滲透媒體之饋送側、自可滲透媒體之滲透側接收滲透液及自可滲透媒體之饋送側接收滯留物。饋送渠道可形成饋送通道21之一部分，滲透渠道可形成滲透通道23之一部分，以及滯留物渠道可形成滯留物通道25之一部分。
或者，流體處理單元可包括至少一個饋送層、至少一個滲透層，以及至少一個可滲透流體處理媒體層。饋送層與滲透層可各自包括多孔板，例如編織型或非編織型纖維狀板或金屬網孔板或聚合物網孔板，且可滲透媒體層可定位於饋送層與滲透層之間。饋送層、媒體層及滲透層之佈置可經包裝，例如由熱塑物或熱固物聚合物封裝，並具備饋送、滲透及滯留物開口，例如通孔。饋送開口可與多孔饋送層流體連通從而形成饋送通道21之一部分；滯留物開口亦可與多孔饋送層流體連通從而形成滯留物通道25之一部分；以及滲透開口可與多孔滲透層流體連通從而形成饋送通道21之一部分。舉例而言，2011年4月19日申請且發明名稱為流體處理佈置及進行流體處理佈置之方法(Fluid Treatment Arrangements and Methods of Making Fluid Treatment Arrangements)的美國臨時專利申請案第61/476,874號中揭示了流體處理單元之實例。
流體處理媒體可為可滲透的，亦即，多孔的、滲透的、半滲透的或選擇性滲透的，且可由包含(例如)天然或合成聚合物之眾多材料中之任一種形成。流體處理媒體可形成為包含(例如)纖維狀或絲狀結構(諸如編織型或非編織型板)或薄膜(諸如支撐或無支撐薄膜)的廣泛種類的結構中之任一種。此外，流體處理媒體可具有或可經修改以具有無數流體處理特徵中之任一者。舉例而言，流體處理媒體可具有正、負或中性電荷；可為疏液體性或親液體性的，包含疏水性的或親水性的，或者疏油性的或親油性 的；及/或可具有可與流體中之物質以化學方式結合之附屬功能群，諸如配位基或任何其他反應部分。流體處理媒體可由用於以眾多方式中之任一種方式進一步處理流體之多種材料形成、浸滲有上述多種材料或以其他方式含有上述多種材料。此等功能材料可包含(例如)可以化學方式及/或以物理方式結合、反應、催化、遞送或以其他方式影響流體中之物質或流體自身之所有類型的吸附劑、離子交換樹脂、層析媒體、酶、反應物或觸媒。此外，流體處理媒體可具有廣泛範圍之分子量截留或移除率中之任一者，例如，自超孔或奈米孔或更小孔至多微孔或更大孔。流體處理媒體從而可充當任何類型之處理媒體，包含捕獲媒體或分離媒體，諸如過濾媒體。
歧管亦可以各種方式設置。舉例而言，歧管可包含至少一個流體通道及用於接收來自流體系統(未圖示)之流體的流體入口，或用於將流體排出至與流體通道耦接之流體系統的流體出口。饋送入口、滲透出口及滯留物出口可各自定位於獨立歧管，或者單個歧管可包含饋送入口、滲透出口及滯留物出口中之任何兩者或兩者以上。在圖1所展示之實施例中，單個歧管14可包含饋送入口20、滲透出口22及滯留物出口24此等所有三者。歧管14可包含主體30，該主體30具有面向歧管14之一側或兩個相對側上之流體處理單元13的安裝表面31。歧管14之主體30中之饋送、滲透及/或滯留物開口32、33、34(例如，在安裝表面31上)允許饋送、滲透及/或滯留物通道21、23、25中之 一或多者自流體處理單元13延伸穿過歧管14到達歧管14之主體30上之饋送入口20、滲透出口22及/或滯留物出口24。每一入口及/或出口可設置為用於將入口及/或出口連接至流體系統之接頭，且可包含用於打開及關閉入口/出口之機構。流體系統可將饋送流體供應至流體處理總成10及/或接收來自流體處理總成10之滲透液或滯留物。饋送通道21可自饋送入口20延伸穿過歧管14之主體30到達流體處理單元13，及/或滲透通道23可自流體處理單元13延伸穿過歧管14之主體30到達滲透出口22。滯留物通道25可自流體處理單元13延伸穿過歧管14之主體30到達滯留物出口24。在所說明之實施例中，饋送入口、滲透出口及滯留物出口皆可在一個歧管上。在其他實施例中，饋送入口、滲透出口或滯留物出口可與流體處理總成之另一歧管相關聯。舉例而言，在發明名稱為過濾總成、過濾歧管、過濾單元及用於引導滲透液之方法(Filtration Assemblies,Filtration Manifolds,Filtration Units,and Methods for Channeling Permeate)之美國專利申請公告第US 2008/0132200 A1號中，及在2010年11月24日申請之發明名稱為歧管板及包含歧管板之流體處理佈置(Manifold Plates and Fluid Treatment Arrangements Including Manifold Plates)之美國專利申請案第12/954,118號中揭示了歧管之實例。
流體處理單元13及歧管14可以眾多方式中之任一種方式安裝於端件11、12之間。舉例而言，歧管14可定位 於端件11、12之間，其中第一組一或多個流體處理單元13位於一個端件11與歧管14之一側之間，且第二組一或多個流體處理單元13位於另一端件12與歧管14之相對側之間。或者，歧管可定位於鄰近端件中之一者的端件之間，其中一組一或多個流體處理單元位於歧管與另一端件之間。作為另一替代，歧管可定位為鄰近每一端件，且一組一或多個流體處理單元可佈置於歧管之間。每一組流體處理單元13可以多種方式(例如，串行、並行或組合之串行/並行方式)佈置成經由饋送、滲透及滯留物通道21、23、25彼此流體連通及與歧管14流體連通。舉例而言，如美國臨時申請案第61/476,874號中所揭示的，流體處理單元13可彼此結合、與歧管14及/或端件11、12結合。或者或以其他方式，流體處理單元13可由端件11、12及保持架26擠壓，以使得彼此及歧管14互相抵靠。
每一端件11、12可以多種方式設置。舉例而言，端件可包括大致多邊形，例如六邊形板或矩形板。對於許多實施例而言，每一端件11、12可設置為具有第一與第二相對表面35、36之平坦、剛性大致矩形板。面向流體處理單元13或歧管14之表面36可包含可具有類似於流體處理單元13或歧管14之形狀及尺寸的安裝區域37。對於許多實施例而言，相鄰流體處理單元或歧管可直接接觸安裝區域，或墊圈可定位於安裝區域與流體處理單元或歧管之間。此外，端件可為不具有流體通道且可關閉相鄰流體處理單元或歧管中之流體通道的封閉(blind)端件。
一或兩個(對於大多數實施例而言為兩個)端件11、12可由高撓曲模數、低潛變非金屬材料形成。非金屬材料亦可在曝露於正常儲存及工作溫度及壓力以及曝露於水或濕氣時顯示尺寸穩定性。此外，非金屬材料可具有大於約8×105psi之撓曲模數。舉例而言，撓曲模數可大於約1×106psi，或者大於約1.5×106psi，或者大於約2×106psi。非金屬材料可包括兩種或兩種以上非金屬材料之複合物，可包含諸如嵌入式纖維(例如，碳或玻璃纖維)或嵌入式纖維狀網(例如，諸如玻璃網之編織型或非編織型網)之加強物，且可具有層狀結構。非金屬材料可為包含熱塑物或熱固物並具有所要撓曲模數之聚合材料。示範性熱固物材料可包含矽樹脂、三聚氰胺、環氧樹脂及/或酚醛樹脂。對於許多實施例而言，非金屬材料可包括酚醛樹脂層壓板，其包含G系列玻璃加強酚醛樹脂(諸如G-10酚醛樹脂材料)。
每一端件11、12之尺寸可依(例如)流體處理單元及/或歧管之尺寸以及流體處理總成內之流體之標稱工作壓力及溫度而變化。每一端件可具有在所要工作壓力及溫度下足以抵抗不當撓曲的厚度。對於許多實施例而言，厚度可高達約0.25吋(6mm)或更大，或者高達約0.50吋(12mm)或更大，或者高達約1.0吋(25mm)或更大。每一端件11、12之長度及寬度可大於相鄰流體處理單元13或歧管14之長度及寬度，且可在每一端件11、12中，例如接近或於每一端件11、12之邊緣處提供通孔38或切口，以容納保持架26。
保持架26可以眾多方式中之任一種方式設置以擠壓流體處理單元13、歧管14及端件11、12，以使得彼等互相抵靠並將流體處理總成10固持在一起。對於一些實施例而言，保持架26可包括複數個壓縮桿總成40，該等壓縮桿總成40在端件11、12之間沿著或穿過流體處理單元13及歧管14延伸。每一壓縮桿總成40可包括狹長壓縮桿41及緊固件42，該緊固件42可安裝於壓縮桿41上以便張緊端件11、12之間的壓縮桿41。舉例而言，壓縮桿41可在一端具有放大頭部且在另一端具有螺紋區域，且緊固件42可包括可螺接至壓縮桿41之螺紋端之螺帽。或者，如在(例如)發明名稱為過濾總成及保持過濾總成中的過濾單元之壓緊之方法(Filtration Assemblies and Methods of Maintaining Compression of Filtration Units in Filtration Assemblies)的美國專利申請公告第US 2008/0135499 A1號中所揭示的，可使用無螺紋壓縮桿及緊固件。保持架(例如包含壓縮桿及緊固件之壓縮桿總成)可由諸如不銹鋼之金屬材料形成。對於其他實施例而言，保持架可由高抗張強度、低潛變之非金屬材料形成。舉例而言，包含壓縮桿及緊固件之壓縮桿總成可由具有足以將端件、流體處理單元及歧管固持在一起之抗張強度之聚合材料(諸如熱塑物、熱固物或聚合複合物)形成。對於許多實施例而言，非金屬壓縮桿總成可經佈置以可承受之抗張載荷高達約800磅或更多，或者約2,500磅或更多，或者約5,000磅或更多，或者約15,000磅或更多，且非金屬壓縮桿總成可由包含諸如針對 端件之非金屬材料所揭示之熱塑物或熱固物之聚合材料加工或模製。
流體處理總成可包含一或多個額外構件。舉例而言，包含(例如)墊圈之密封件可佈置於相鄰流體處理單元、歧管及/或端件之間以使此等構件彼此密封。流體處理總成可進一步包含一或多個對準桿，該等對準桿用於保持流體處理單元、歧管及/或端件與彼此適當連通之流體通道及開口正確對準。在(例如)發明名稱為過濾總成及在過濾總成中安裝過濾單元之方法(Filtration Assemblies and Methods of Installing Filtration Units in Filtration Assemblies)之美國專利申請公告第US 2008/0135468 A1號中揭示了對準桿之實例。
為了組裝流體處理總成10，可將流體處理單元13及歧管14以及任何墊圈或其他密封件堆疊於端件11、12之安裝區域37之間，其中流體處理單元13及歧管14中之適當流體通道對準且彼此流體連通。流體處理單元13、歧管14及端件11、12可能或可能並不彼此直接或間接結合。接著可將保持架26安裝至端件11、12。舉例而言，可將壓縮桿42軸向插入穿過端件11、12中之一者中的通孔38；沿著每一流體處理單元13及歧管14中之通孔或切口之周邊或穿過該等通孔或切口軸向移動；以及接著軸向插入穿過相對端件11、12中之對應通孔38。接著可將緊固件42安裝至壓縮桿41，張緊壓縮桿41並擠壓及密封流體處理單元、歧管及端件，以使得彼等互相抵靠。舉例而言，壓縮桿41 之頭部可擠壓以抵靠一個端件11、12之外表面35，亦即與端件11、12之安裝區域37相對之表面，且可將螺帽緊固至壓縮桿41之螺紋部分，以抵靠另一端件11、12之外表面35，壓緊端件11、12、流體處理單元13及歧管14以及任何墊圈之堆疊。可將緊固件42充分緊密地安裝至壓縮桿42，以加強任何墊圈或其他密封件，且將流體處理總成10牢固地固持在一起而不會不當地撓曲或彎曲非金屬端件11、12及削弱任一非金屬端件11、12與相鄰流體處理單元13或歧管14之間的密封。為了減小作用於每一非金屬端件11、12之邊緣或邊緣附近之彎曲力，可以將壓縮桿41定位於相鄰流體處理單元13或歧管14之外周邊內或附近之方式定位端件11、12中之通孔38或切口。舉例而言，相鄰流體處理單元13或歧管14之外周邊與控制桿41之外周邊之間的距離可為約1吋(25mm)或更小，或者約0.5吋(12mm)或更小，或者約0.25吋(6mm)或更小，或者約0.125吋(3mm)或更小。
一旦組裝完成，可僅藉由進行允許流體系統將饋送流體供應至饋送入口20、接收來自滲透出口22之滲透液及接收來自流體處理總成10之任何滯留物出口24之滯留物的適當流體連接來將流體處理總成10耦接至流體系統。饋送流體可在受壓狀態下進入歧管14上之饋送入口20，並穿過饋送通道21到達流體處理單元13中之一或多者(例如，所有流體處理單元13)之可滲透流體處理媒體15的饋送側16。饋送壓力可依流體系統及流體處理總成而變化。對於 一些實施例而言，饋送壓力可介於自約20psi或更小至約80psi或更大之範圍內，例如，介於約40psi與約70psi之間。饋送流體可自饋送入口20沿著饋送通道21穿過歧管14，穿過歧管14上之每一安裝表面31中的饋送開口32並進入流體處理單元13。饋送流體可繼續沿著每一可滲透媒體15之饋送側16之切線方向穿過流體處理單元13中的饋送通道21。在經佈置以用於直通流或死端流工作模式之實施例中，饋送通道可終止於可滲透媒體之饋送側，且所有饋送流體可作為滲透液穿過可滲透媒體到達滲透側。在經佈置以用於切向流或橫向流工作模式之實施例中，可滲透媒體15之饋送側16上之饋送流體的一部分可作為滲透液穿過可滲透媒體15到達滲透側17。滲透液在受壓狀態下自流體處理單元13中之一或多者(例如，所有流體處理單元13)之可滲透媒體15之滲透側17穿過滲透通道23到達滲透出口22。舉例而言，滲透液可穿過每一流體處理單元13中之滲透通道23到達歧管14之每一安裝表面31中的滲透開口33，並穿過歧管14中之滲透通道23到達滲透出口22，其中滲透液由流體系統接收。並未自饋送側16穿過可滲透媒體15之流體剩餘物在受壓狀態下作為滯留物自流體處理單元13中之一或多者(例如，所有流體處理單元13)之可滲透媒體15之饋送側16穿過滯留物通道25到達滯留物出口24。舉例而言，滯留物可穿過每一流體處理單元13中之滯留物通道25到達歧管之安裝表面31中的滯留物開口34，並穿過歧管14中之滯留物通道25到達滯留物出口 24，其中滯留物由流體系統接收。
本發明提供許多優勢且本發明之實施例提供優越之效能。舉例而言，藉由提供由非金屬材料形成之具有不小於約8×105psi之撓曲模數的一或多個端件，實施本發明之流體處理總成可在無任何外部支撐之情形下輕鬆地承受總成內之增壓流體產生之所有力。由保持架耦接之非金屬端件形成緊固式壓力容器，從而在無任何外部固持器(諸如，機械式壓機或液壓機)之情形下使流體處理單元、歧管及任何墊圈或其他密封件彼此緊密地密封及緊密地密封端件。因為非金屬端件具有至少約8×105psi之撓曲模數，所以不存在可能會削弱流體處理總成之之間之密封的端件之不當撓曲或彎曲。因此，實施本發明之流體處理總成可為自給式的，並可由製造商預先組裝、密封、沖洗及/或消毒，接著僅藉由進行適當流體連接及立即處理饋送流體而快速及輕鬆地併入顧客之流體系統。
雖然已根據若干實施例描述及/或說明瞭本發明之各種觀點，但本發明不限於此等實施例。舉例而言，在不脫離本發明之範疇之情形下可消除或修改實施例之一或多個特徵，或者一個實施例之一或多個特徵可與另一實施例之一或多個特徵組合。甚至，具有非常不同之特徵之實施例可在本發明之範疇內。舉例而言，非金屬端件中之一者或兩者可設置為包含饋送入口及饋送通道、滲透出口及滲透通道以及滯留物出口及滯留物通道中之一或多者的歧管。端件歧管可引導饋送流體自饋送入口穿過饋送通道到達流體 處理單元、引導滲透液自流體處理單元到達滲透出口，及/或引導滯留物自流體處理單元到達滯留物出口。另外，非金屬端件歧管可具有至少8×105psi之撓曲模數。端件歧管連同相對非金屬端件及保持架可在無任何外部固持器或其他外部支撐之情形下將流體處理總成牢固地密封及固持在一起。
本發明之另一實施例可包括不具有金屬構件之非金屬流體處理總成。舉例而言，流體處理總成可包含如先前所描述之非金屬端件、非金屬保持架、一或多個非金屬流體處理單元、一或多個非金屬歧管及非金屬墊圈或其他密封件。類似於本發明之其他實施例，非金屬流體處理總成可在無外部支撐(諸如外部固持器)之情形下工作。此外，非金屬流體處理總成係非常環境友好的。舉例而言，非金屬流體處理總成可易於回收。
一般技藝人士在回顧前述描述及所附圖式後可明顯看出其他修改及改變。因此，本發明包含以下申請專利範圍中所列舉之標的物之所有改變、修改及等效物。
本文所引用之包含公告、專利申請案及專利之所有參考資料以引用之方式併入本文，其引用之程度如同每一參考資料經個別及特定指出以以引用之方式併入本文且如同每一參考資料之全文在本文中加以闡述。
除非本文另有說明或與上下文明確相抵觸，否則應將描述本發明之上下文中(尤其在以下申請專利範圍之上下文中)之術語「一」、「該」及類似指涉對象解釋成涵蓋 單數及複數兩者。除非另有說明，否則應將術語「包括」、「具有」、「包含」及「含有」解釋為開放式術語(亦即，意謂「包含但不限於」)。除非本文另有說明，否則本文中數值範圍之列舉僅旨在充當個別地引用屬於該範圍之每一獨立數值之速記方法，且每一獨立數值併入說明書之方式如同其在本文中經個別地列舉。除非本文另有說明或以其他方式與上下文明確相抵觸，否則可以任何適合順序執行本文描述之所有方法。除非另行主張，否則本文中提供之任何及所有實例或示範性語言(例如，「諸如」)之使用僅旨在更好地說明本發明且不對本發明之範疇產生限制。不應將說明書中之語言解釋為指示對於本發明之實踐至關重要之任何非主張元件。
10‧‧‧流體處理總成
11‧‧‧端件
12‧‧‧端件
13‧‧‧流體處理單元
14‧‧‧歧管
15‧‧‧可滲透媒體
16‧‧‧饋送側
17‧‧‧滲透側
20‧‧‧饋送入口
21‧‧‧饋送通道
22‧‧‧滲透出口
23‧‧‧滲透通道
24‧‧‧滯留物出口
25‧‧‧滯留物通道
26‧‧‧保持架
30‧‧‧主體
31‧‧‧安裝表面
32‧‧‧饋送開口
33‧‧‧滲透開口
34‧‧‧滯留物開口
35‧‧‧外表面
36‧‧‧表面
37‧‧‧安裝區域
38‧‧‧通孔
40‧‧‧壓縮桿總成
41‧‧‧狹長壓縮桿
42‧‧‧緊固件
圖1為流體處理總成之代表圖。
圖2為圖1之流體處理總成之端件的平面圖。
10‧‧‧流體處理總成
11‧‧‧端件
12‧‧‧端件
13‧‧‧流體處理單元
14‧‧‧歧管
15‧‧‧可滲透媒體
16‧‧‧饋送側
17‧‧‧滲透側
20‧‧‧饋送入口
21‧‧‧饋送通道
22‧‧‧滲透出口
23‧‧‧滲透通道
24‧‧‧滯留物出口
25‧‧‧滯留物通道
26‧‧‧保持架
30‧‧‧主體
31‧‧‧安裝表面
32‧‧‧饋送開口
33‧‧‧滲透開口
34‧‧‧滯留物開口
35‧‧‧外表面
36‧‧‧表面
37‧‧‧安裝區域
40‧‧‧壓縮桿總成
41‧‧‧狹長壓縮桿
42‧‧‧緊固件

Claims (15)

  1. 一種流體處理總成，其包括：至少一個流體處理單元，其包含一具有一饋送側及一滲透側之可滲透流體處理媒體；一饋送入口及一饋送通道，該饋送通道自該饋送入口延伸穿過該流體處理單元到達該流體處理媒體之該饋送側；一滲透出口及一滲透通道，該滲透通道自該流體處理媒體之該滲透側延伸至該滲透出口；第一端件及第二端件，每一端件關閉相鄰流體處理單元之流體通道，其中每一流體處理單元係定位於該等第一端件與第二端件之間，且其中該等第一端件及第二端件中之至少一者由一非金屬材料形成並具有至少8×105psi之一撓曲模數；以及一保持架，其於該等第一端件及第二端件之間延伸，且經佈置以擠壓該至少一個流體處理單元及該等第一端件及第二端件，以使得彼等互相抵靠，該流體處理單元具有一外周邊，該保持架具有一外周邊，其中該保持架在第一端件及第二端件之間沿著至少一流體處理單元延伸，以及一處於保持架外周邊及流體處理單元外周邊之間的距離小於或等於0.25吋(6mm)。
  2. 如申請專利範圍第1項之流體處理總成，其進一步包括一定位於該等第一端件與第二端件之間的歧管，其中該歧管包含該饋送入口及該饋送通道，或者包含該 滲透出口及該滲透通道。
  3. 如申請專利範圍第1項之流體處理總成，其進一步包括一滯留物出口及一滯留物通道，該滯留物通道自該可滲透流體處理媒體之該饋送側延伸穿過該流體處理單元到達該滯留物出口。
  4. 如申請專利範圍第3項之流體處理總成，其進一步包括一定位於該等第一端件與第二端件之間的歧管，其中該歧管包含該饋送入口及該饋送通道，包含該滲透出口及該滲透通道，或者包含該滯留物出口及該滯留物通道。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項之流體處理總成，其中該保持架包括一壓縮桿總成，該壓縮桿總成包含於該等第一端件與第二端件之間延伸之一壓縮桿及附接至該壓縮桿之一緊固件。
  6. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項之流體處理總成，其中該保持架由一非金屬材料形成。
  7. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項之流體處理總成，其中每一端件包含一熱固物，如一非金屬材料。
  8. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項之流體處理總成，其中至少一個端件包括不具有流體通道之一端板。
  9. 一種流體處理總成，其包括：第一與第二相對端件，每一端件由一非金屬材料形成且具有至少8×105psi之一撓曲模數； 定位於該等端件之間的一或多個歧管，其中每一歧管具有一饋送入口、一滲透出口及一滯留物出口中之至少一者；定位於該等端件之間的一或多個流體處理單元，第一及第二相對端件中每一者關閉相鄰流體處理單元之流體通道，其中每一流體處理單元包含具有一饋送側及一滲透側之一可滲透流體處理媒體；一饋送通道，其自該饋送入口延伸穿過至少一個歧管及至少一個流體處理單元到達一可滲透媒體之該饋送側；一滲透通道，其自每一可滲透媒體之該滲透側延伸穿過至少一個流體處理單元並到達該滲透出口；一滯留物通道，其自該可滲透媒體之該饋送側延伸穿過至少一個流體處理媒體並到達該滯留物出口；以及一保持架，其於該等第一端件與第二端件之間延伸，並經佈置以擠壓該等一或多個歧管、該等一或多個流體處理單元及該等端件，以使得彼等互相抵靠，該流體處理單元具有一外周邊，該保持架具有一外周邊，其中該保持架在第一端件及第二端件之間沿著至少一流體處理單元延伸，以及一處於保持器外周邊及流體處理單元外周邊之間的距離小於或等於0.25吋(6mm)。
  10. 如申請專利範圍第9項之流體處理總成，其中該饋送入口、該滲透出口及該滯留物出口中之兩者或兩者以 上定位於同一歧管之上。
  11. 如申請專利範圍第9項或第10項之流體處理總成，其中該保持架包括一壓縮桿總成，該壓縮桿總成包含於該等第一端件與第二端件之間延伸之一壓縮桿及附接至該壓縮桿之一緊固件。
  12. 如申請專利範圍第9項或第10項之流體處理總成，其中該保持架由一非金屬材料形成。
  13. 如申請專利範圍第9項或第10項之流體處理總成，其中每一端件包含一熱固物，如一非金屬材料。
  14. 如申請專利範圍第9項或第10項之流體處理總成，其中每一端件包括不具有流體通道之一端板。
  15. 如申請專利範圍第1-4和9-10項中任一項之流體處理總成不具有金屬構件。
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