TWI456340B - 波浪狀光罩結構、波浪狀光罩的製作方法及利用波浪狀光罩製作奈米週期結構之曝光方法 - Google Patents

Claims (24)

1. 一種波浪狀光罩的製作方法，包括：備置一軟性透明基板；對該軟性透明基板持續施予一外力，使該軟性透明基板產生形變；形成一可透光薄膜層於該軟性透明基板的上表面；及除去施予該軟性透明基板的該外力，使該軟性透明基板的上表面呈一週期性波浪狀。
2. 如申請專利範圍第1項所述之波浪狀光罩的製作方法，其中該軟性透明基板的材料為聚二甲基矽氧烷或聚亞醯胺。
3. 如申請專利範圍第1項所述之波浪狀光罩的製作方法，其中對該軟性透明基板持續施予該外力的步驟包括：彎曲該軟性透明基板，使該軟性透明基板呈一弧形狀。
4. 如申請專利範圍第3項所述之波浪狀光罩的製作方法，其中彎曲該軟性透明基板的步驟包括：將該軟性透明基板固定於一具有該弧形的載台上。
5. 如申請專利範圍第1項所述之波浪狀光罩的製作方法，其中對該軟性透明基板持續施予該外力的步驟包括：沿一個水平軸線方向拉伸該軟性透明基板。
6. 如申請專利範圍第1項所述之波浪狀光罩的製造方法，其中形成該可透光薄膜層的步驟包括：鍍一層金屬薄膜於該軟性透明基板的上表面。
7. 如申請專利範圍第6項所述之波浪狀光罩的製造方法，其中該金屬薄膜的材料為金或銀。
8. 如申請專利範圍第1項所述之波浪狀光罩的製造方法，其中形成該可透光薄膜層的步驟包括：鍍一層氧化物薄膜於該軟性透明基板上。
9. 如申請專利範圍第8項所述之波浪狀光罩的製造方法，其中該氧化物薄膜為氧化矽或氧化鋁。
10. 如申請專利範圍第1項所述之波浪狀光罩的製造方法，其中形成該可透光薄膜層的步驟包括：在該軟性透明基板的上表 面作表面處理，以氧化該軟性透明基板的上表面。
11. 如申請專利範圍第10項所述之波浪狀光罩的製作方法，其中在該軟性透明基板的上表面作表面處理的步驟為化學溶液處理或氧電漿處理。
12. 一種波浪狀光罩結構，包括：一軟性透明基板，具有一上表面及一下表面；及一可透光薄膜層，附著於該上表面，其中該上表面與該可透光薄膜層呈一週期性波浪狀，該下表面呈一平面。
13. 如申請專利範圍第12項所述之波浪狀光罩，其中該可透光薄膜層的楊氏係數大於該軟性透明基板的楊氏係數。
14. 如申請專利範圍第13項所述之波浪狀光罩，其中該軟性透明基板的材料為聚二甲基矽氧烷或聚亞醯胺。
15. 如申請專利範圍第14項所述之波浪狀光罩，其中該可透光薄膜層為金屬薄膜。
16. 如申請專利範圍第15項所述之波浪狀光罩，其中該金屬薄膜的材料為金或銀。
17. 如申請專利範圍第13項所述之波浪狀光罩，其中該可透光薄膜層為氧化物薄膜。
18. 如申請專利範圍第17項所述之波浪狀光罩，其中該氧化物薄膜的材料為氧化矽或氧化鋁。
19. 一種波浪狀光罩結構，包括：一軟性透明基板，具有一上表面及一下表面，其中該上表面經表面處理形成一可透光薄膜層，且該上表面呈一週期性波浪狀，該下表面呈一平面。
20. 如申請專利範圍第19項所述之波浪狀光罩結構，其中該上表面是經過化學溶液處理或氧電漿處理後，氧化形成該可透光薄膜層。
21. 如申請專利範圍第19項所述之波浪狀光罩，其中該軟性透明基板的材料為聚二甲基矽氧烷或聚亞醯胺。
22. 一種利用如申請專利範圍第1項之波浪狀光罩製作奈米週期結構之曝光方法，包括：備置一樣品基板，該樣品基板的 上表面塗佈有一光阻層；將該波浪狀軟性透明基板的波浪狀表面與該光阻層接觸；及利用一光源朝向該波浪狀軟性透明基板的平坦表面，對該光阻層進行一曝光步驟，使該光阻層圖案化為一奈米週期圖案。
23. 如申請專利範圍第22項所述之製作奈米週期結構之曝光方法，更包括：在該曝光步驟之後，拉伸或壓縮該波浪狀光罩後，對該光阻層進行重複曝光。
24. 如申請專利範圍第22項所述之製作奈米週期結構之曝光方法，更包括：在該曝光之步驟之後，將該波浪狀光罩位移一預設距離或旋轉一預設角度後，對該光阻層進行重複曝光。