TWI384286B - 光學薄片、背光單元及液晶顯示器 - Google Patents

光學薄片、背光單元及液晶顯示器 Download PDF

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TWI384286B TW097145461A TW97145461A TWI384286B TW I384286 B TWI384286 B TW I384286B TW 097145461 A TW097145461 A TW 097145461A TW 97145461 A TW97145461 A TW 97145461A TW I384286 B TWI384286 B TW I384286B
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Description

光學薄片、背光單元及液晶顯示器
本發明之具體實施係關於一種光學薄片、包括該光學薄片之背光單元、及/或包括該背光單元之液晶顯示器。
顯示領域可視覺地顯示不同電氣信號之資訊。在該顯示領域中，已提出各種類型之平板顯示器，具有諸如薄外形、重量輕以及低功率消耗之優良特性。此外，平板顯示器將用來取代陰極射線管(CRT)。
平板顯示器之例子包括液晶顯示器(LCD)、電漿顯示面板(PDP)、場發射顯示器(FED)、以及電激發光顯示器(ELD)。該液晶顯示器由於高對比率及良好的動繪顯示特性，故可被用來作為筆記型電腦之顯示面板、個人電腦之顯示器、及TV顯示器。
液晶顯示器可被考量為光接收顯示器。液晶顯示器可包括顯示影像之液晶顯示面板以及位在該液晶顯示面板下方以提供該液晶顯示面板光源之背光單元。
該背光單元可包括光源及光學薄片。該光學薄片可包括擴散薄片、稜鏡、或防護薄片。在該背光單元中，該光學薄片包括複數薄片而可被用來擴散及聚集該光源所產生的光。然而，其會限制製造產量上的改善及該背光單元之照度上的改良。
本發明之第一態樣係提供一種光學薄片，包含：反射偏光薄膜；基膜，於該反射偏光薄膜之一表面上，該基膜包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面；以及複數突出物，於該基膜上，該等複數突出物係自該基膜延伸出，其中T1代表在該第一表面與該第二表面間之第一厚度，T2代表該第一表面與該第二表面間之第二厚度，以及T1與T2大體上滿足下列方程式：。
本發明之第二態樣係提供一種裝置，包含：光源；以及光學薄片，用以接收來自該光源的光，該光學薄片包括：反射偏光薄膜；基膜，於該反射偏光薄膜之一表面上，該基膜包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面；以及複數突出物，於該基膜上，該等複數突出物係自該基膜延伸，其中T1代表在該第一表面與該第二表面間之第一厚度，T2代表在該第一表面與該第二表面間之第二厚度，以及T1與T2大體上滿足下列方程式：μm。
本發明之第三態樣係提供一種裝置，包含：光源；以及光學薄片，用以接收來自該光源的光，該光學薄片包括：反射偏光薄膜；基膜，於該反射偏光薄膜之一表面上，該基膜包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面；複數突出物，於該基膜上，該等複數突出物係自該基膜延伸，其中T1代表在該第一表面與該第二表面間之第一厚度，T2代表在該第一表面與該第二表面間之第二厚度，以及T1與T2大體上滿足下列方程式：；以及於該光學薄片上之液晶顯示面板。
第1至3圖為顯示依照本發明之例示實施例之光學薄片。其它實施例及架構也仍在本發明之範圍內。
如第1至3圖中所示，光學薄片100可包括反射偏光薄膜110；於該反射偏光薄膜110之一表面上之基膜120；以及於該基膜120上之複數突出物130。該等複數突出物130自該基膜120延伸出。
該反射偏光薄膜110可透射或反射來自光源的光。該反射偏光薄膜110可包括由聚合物所形成之第一層111以及設置相鄰於該第一層111之第二層112。該第二層112可由具有一折射率之聚合物所形成，而該折射率係不同於形成該第一層111之聚合物的折射率。
該反射偏光薄膜110可具有以重複方式交替堆疊該第一層111與該第二層112之結構。該等第一層111可由聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)來形成，以及該第二層112可由聚酯(polyester)來形成。
該反射偏光薄膜110於小尺寸顯示裝置中可具有約100μm到300μm的厚度。該反射偏光薄膜110於大尺寸顯示裝置中可具有約700μm到800μm的厚度。
來自該光源之部分光可藉由該反射偏光薄膜110透射，以及來自該光源之另一部分光可朝向於該反射偏光薄膜110下之光源反射。朝向該光源反射的光可被再次反射並且可入射於該反射偏光薄膜110上。入射於該反射偏光薄膜110上之部分光可藉由該反射偏光薄膜110透射，並且入射於該反射偏光薄膜110上之另一部分光可朝向該反射偏光薄膜110下之該光源反射。
因為該反射偏光薄膜110之結構為，具有不同折射率之各聚合物層交替堆疊，故該反射偏光薄膜110可利用一原則，即該聚合物之分子係定向在一方向，以透射在不同於該等分子之定向方向的偏光，以及反射在相同於該等分子之定向方向的偏光，因而得以來改善來自該光源之光效能。
該基膜120可透射自該光源的光。該基膜120可以諸如聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚丙烯、聚乙烯、聚苯乙烯、及/或聚環氧烷之發光材料來形成。該發光材料可使用其它材料。
該基膜120可包括第一表面121a及與該第一表面121a相對之第二表面121b。該第一表面121a及/或該第二表面121b可具有彎曲或不平坦表面。第1圖顯示具有彎曲或不平坦表面之該第一表面121a。
該基膜120可具有一結構，其中該基膜120之波峰125與波谷126係以重覆方式交替形成。該等波峰125之一可為該第一表面121a之最高位置，以及該等波谷126之一可為該第一表面121a之最低位置。該等波峰125之間距可為相同或該等波峰之間距可為不同。
於該第一表面121a上彼此相互相鄰形成之該等波峰125與該等波谷126之間的高度差可為相同或可為不同。該等波峰125之間距以及該等波峰125與該等波谷126之間的高度差可被選擇取決於該基膜120之厚度與尺寸、期望照度的均勻性、以及光擴散係數等。
該第一表面121a之不平坦表面可使用滾壓製程(calendaring processing)、射出成型製程、鑄模製程等之一者來形成。該不平坦表面也可使用其它技術來形成。
該基膜120之平均厚度可約為50μm到300μm，以實現背光單元之薄外形。該基膜120之平均厚度可為該第一表面121a之該等波峰125之一與該第二表面121b間的距離與該第一表面121a之該等波谷126之一與該第二表面121b間的距離之平均值。
當該基膜120之平均厚度等於或大於50μm時，則該背光單元之薄外形在不降低(或大致上沒有降低)該光學薄片100之機械特性及耐熱性下，可實現最大等級。當該基膜120之平均厚度等於或小於300μm時，則該背光單元之薄外形可被最大地實現，以及該光學薄片100之機械特性及耐熱性可被最大化(及/或增加)。
在該第一表面121a與該第二表面121b之間的厚度可於該基膜120之長度上改變。第一厚度T1為在該第一表面121a與該第二表面121b之間的距離，以及第二厚度T2為在該第一表面121a與該第二表面121b之間的距離。該第一與第二厚度T1與T2彼此互為不同值並可滿足下列方程式：0.1μm|T1-T2|10μm。
下列表1顯示取決於在該第一與第二厚度T1與T2之間關係之該光學薄片100之擴散效應及照度。在下列表1中，X、○、與◎分別代表該等特性之不良、好以及優良狀態。
如上述表1所示，當該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：時，會使來自該光源的光因為該基膜120之一表面上之不平坦表面而擴散。當該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：時，可防止(及/或最小化)因該基膜120之過大的高度差而造成該照度降低。
於該基膜120上之該等複數突出物130可聚集及擴散來自該光源的光。
該等複數突出物130可以透明聚合樹脂形成，以透射來自外部的光。該透明聚合樹脂例如包括丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚丙烯、聚乙烯、以及聚乙烯對苯二甲酸酯。
該等突出物130之剖面可包括複數三角形稜鏡。如第1圖中所示，該等複數突出物130可包括基部135以及複數波峰131與複數波谷132。該等波峰131與該等波谷132之每一者可沿著該等複數突出物130之縱向方向，以直線樣式形成。
在該等突出物130之該等波峰131間的距離P可約為20μm到60μm，以及該等波峰131之一的角度A可約為70°到110°。該等突出物130之高度H2可等於該等波峰131之一之高度H2，以及可約為10μm到40μm。
如第2及3圖中所示，該等波峰131與該等波谷132之每一者可沿著該等突出物130之縱向方向形成連續彎曲或曲折的線。該等彎曲或曲折線可為相同或不同。換言之，該等波峰131可沿著該等複數突出物130之寬度W以一不平坦樣式曲折。該等波峰131之平均水平大小可約為1μm到20μm。此外，該等波谷132可沿著該等複數突出物130之寬度W以一不平坦樣式曲折。該等波谷132之平均水平大小可約為1μm到20μm。
該等突出物130之波峰131的高度H2可從第1圖中所示之虛線被測得。該虛線可表示在最接近該基膜120之波谷的底部之平線。該高度H2可連續改變。該等波峰之一之高度也可沿著該等複數突出物之縱向方向而改變。該等波峰131可形成相同或不同彎曲或曲折線。
該等突出物130之波谷132的高度可從第1圖中所示之虛線被測得。該等波谷132之高度可連續改變。該等波谷132可形成相同或不同彎曲或曲折線。
在該等波峰131之高度H2間的平均差可約為lμm到20μm。
該等複數突出物130包括該基部135、該等複數波峰131以及由該等複數波峰131所形成之該等複數波谷132。該基部135係在該基膜120與該等波峰131及該等波谷132之間。該等複數波峰131、該等複數波谷132、以及該基部135可形成該等複數突出物130之整體。
該基部135之高度H1可約為該等波峰131之一之高度H2的5%至50%。
下列表2顯示取決於該基部135之高度H2相對於該波峰131之高度H2之百分比，該光學薄片100之光透射特性與缺陷檢查。在下列表2中，X、○、與◎分別代表該等光透射特性之不良、好以及優良狀態。此外，在該缺陷檢查中，○代表有缺陷，以及X代表沒有缺陷。
如第2圖中所示，當該基部135之高度H1等於或大於該波峰131之高度H2之5%時，可防止該基膜120在製造複數突出物130之期間的壓力被損壞。當該基部135之高度H1等於或小於該波峰131之高度H2之50%時，可防止(及/或降低)因該厚基部135而造成該光源之光透射比的降低。
因此，該基部135之高度H1可約為0.1μm到20μm。
如上所述，該光學薄片100可藉由於該反射偏光薄膜110上形成包括該不平坦(或彎曲)表面之該基膜120來改善來自該光源之光擴散效率。
第4至8圖為顯示依照本發明之例示實施例之光學薄片。其它具體實施例及架構也仍在本發明之範圍內。
如第4圖中所示，光學薄片200可包括反射偏光薄膜210；於該反射偏光薄膜210之一表面上之基膜220；以及於該基膜220上之複數突出物230。
由於該反射偏光薄膜210之架構相同或類似於第1至3圖中所示之該反射偏光薄膜，故可省略更進一步之說明。該反射偏光薄膜210可具有以重覆方式交替堆疊該第一層111及該第二層之結構。
該基膜220可透射來自該光源的光。該基膜220可以諸如聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚丙烯、聚乙烯、聚苯乙烯、以及或聚環氧烷之發光材料來形成。也可使用其它材料。
該基膜220可包括第一表面221a及與該第一表面221a相對之第二表面221b。該第一表面221a及/或該第二表面221b可具有彎曲或不平坦表面。第4圖顯示具有彎曲或不平坦表面之該第一表面221a。
該基膜220可具有一結構，其中該基膜220之波峰225與波谷226係以重覆方式交替形成。該等波峰225之間距可為相同或該等波峰225之間距可為不同。
於該第一表面221a上彼此相互相鄰形成之該等波峰225與該等波谷226之間的高度差可為相同或可為不同。該等波峰225之間距以及在該等波峰225與該等波谷226之間的高度差可取決於該基膜220之厚度與尺寸、期望照度的均勻性、以及光擴散係數等而作選擇。
該第一表面221a之不平坦表面可使用滾壓製程(calendaring processing)、射出成型製程、鑄模製程等之一者來形成。該不平坦表面也可使用其它技術來形成。
該基膜220之平均厚度可約為50μm到300μm，以實現背光單元之薄外形。該基膜220之平均厚度可為在該第一表面221a之該等波峰225之一與該第二表面221b間的距離與在該第一表面221a之該等波谷226之一與該第二表面221b間的距離之平均值。
當該基膜220之平均厚度等於或大於50μm時，則該背光單元之薄外形在不降低(或大致上沒有降低)該光學薄片200之機械特性及耐熱性下，可實現最大等級。當該基膜220之平均厚度等於或小於300μm時，則該背光單元之薄外形可被最大地實現，以及該光學薄片200之機械特性及耐熱性可被最大化(及/或增加)。
第一厚度T1為在該第一表面221a與該第二表面221b之間的距離，以及第二厚度T2為在該第一表面221a與該第二表面221b之間的距離。該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：。
當該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：0.1時，來自該光源的光可因該基膜220之一表面上之不平坦表面而被擴散。當該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：時，可防止(及/或最小化)因該基膜220之大幅高度差而造成照度降低。
該等複數突出物230可以由透明聚合樹脂形成，以透射來自外部的光。該透明聚合樹脂例如包括丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚丙烯、聚乙烯、以及聚乙烯對苯二甲酸酯。
該等複數突出物230可包括基部235、複數波峰231以及複數波谷232。該基部235之高度可約為該等突出物230之高度H2之5%至50%。當該基235之高度等於或大於該等突出物230之高度H2之5%時，該基膜220可防止該等複數突出物230在製造期間被壓力所損壞。當該基235之高度等於或小於該等突出物230之高度H2之50%時，可防止因該厚基部235而造成該光源之光透射比的降低。
該等複數突出物230可包括複數微型透鏡及/或複數凹凸式透鏡。
如第4到6圖中所示，該等微型透鏡可於該基膜220之一表面上具有半球狀之浮凸樣式。
該等微型透鏡可依該等微型透鏡之間距及密度來改變擴散性、折射率、聚焦程度等。如第5圖中所示，該等微型透鏡之每一者的直徑可為相同。如第6圖中所示，該等微型透鏡之每一者的直徑可為不同。此外，該等微型透鏡之高度可為相同，或者該等微型透鏡之高度可為不同。
該等微型透鏡之一者之直徑可約為20μm到200μm。也可使用其它直徑。該等微型透鏡可占該等複數突出物230之整體面積的50%到90%。亦可使用其他的百分比。
如上所述，當該等微型透鏡具有半球狀之浮凸樣式時，來自外部的一部分光，例如，來自該等微型透鏡之底部可自該半球表面以一方位角方向被均勻折射，以及接著由該等微型透鏡透射。基於此，來自該等微型透鏡之底部的一部分光會被均勻地向上擴散且會被聚焦。
如第7及8圖中所示，該等複數突出物230可包括複數凹凸式透鏡。該等凹凸式透鏡可具有半球狀剖面。該等凹凸式透鏡不像該等微型透鏡之浮凸樣式，其可以縱向方向連續延伸。例如，該等凹凸式透鏡可具有隧道樣式。
如第7圖中所示，該等凹凸式透鏡之間距可為相同。
如第8圖中所示，該等凹凸式透鏡之間距可為不同。此外，該等凹凸式透鏡之高度可為相同或可為不同。
第9及10圖係顯示依照本發明之例示實施例之光學薄片。其它具體實施例及架構也仍在本發明之範圍內。
如第9及10圖中所示，光學薄片300可包括反射偏光薄膜310；於該反射偏光薄膜310之一表面上之基膜320；以及於該基膜320上之複數突出物330。
由於該反射偏光薄膜310之架構相同或類似於第1至3圖中所示之該反射偏光薄膜，故可省略更進一步之說明。該反射偏光薄膜310可具有以重覆方式交替堆疊第一層311及第二層312之結構。
該基膜320可透射來自該光源所發出的光。該基膜320可以諸如聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚丙烯、聚乙烯、聚苯乙烯、以及或聚環氧烷之發光材料來形成。也可使用其它材料。
該基膜320可包括第一表面321a及與該第一表面321a相對之第二表面321b。該第一表面321a及/或該第二表面321b可具有彎曲或不平坦表面。第9圖顯示具有彎曲或不平坦表面之該第一表面321a。
該基膜320之該第一表面321a可具有一波浪形。因此，該基膜320可具有一結構，其中該基膜320之波峰325與波谷326係以重覆方式交替形成。該等波峰325之間距可為相同或不同。
於該第一表面321a上彼此相互相鄰形成之該等波峰325與該等波谷326之間的高度差可為相同或可為不同。該等波峰325之間距以及該等波峰325與該等波谷326之間的高度差可取決於該基膜320之厚度與尺寸、期望照度的均勻性、以及光擴散係數等而作選擇。
該第一表面321a之不平坦表面可使用滾壓製程(calendaring processing)、射出成型製程、鑄模製程等之一者來形成。該不平坦表面也可使用其它技術來形成。
該基膜320之平均厚度可約為50μm到300μm，以實現背光單元之薄外形。該基膜320之平均厚度可為在該第一表面321a與該第二表面321b間之該等波峰325之一的距離以及該第一表面321a與該第二表面321b間之該等波谷326之一的距離之平均值。
當該基膜320之平均厚度等於或大於50μm時，則該背光單元之薄外形在不降低(或大致上沒有降低)該光學薄片300之機械特性及耐熱性下，可實現最大等級。當該基膜320之平均厚度等於或小於300μm時，則該背光單元之薄外形可被最大地實現，以及該光學薄片300之機械特性及耐熱性可被最大化(及/或增加)。
第一厚度T1為在該第一表面321a與該第二表面321b之間的距離，以及第二厚度T2為在該第一表面321a與該第二表面321b之間的距離。該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：。
當該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：0.1時，來自該光源的光可因該基膜320之一表面上之不平坦表面而被擴散。當該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：時，可防止(或降低)因該基膜320之不平坦(或彎曲)表面間之大幅高度差而造成照度降低。
該等複數突出物330可包括基部325、複數波峰321、與複數波谷332、第一樹脂337以及複數珠粒338。
該第一樹脂337可為丙烯酸樹脂，以及該等珠粒338可藉由聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯以及矽之至少一者來形成。
該第一樹脂337可包括抗靜電劑。該抗靜電劑可由聚乙烯芐、聚丙烯(聚甲基丙烯酸酯)、苯乙烯丙烯酸酯(苯乙烯甲基丙烯酸甲酯)共聚物、甲基丙烯酸甲酯共聚物等來形成。
該等複數突出物330可由該第一樹脂337來形成，以及該等珠粒338所設置之數量約為基於該第一樹脂337之100重量份中的約1到10的重量份。
下列表3顯示基於該第一樹脂337之100重量份之該等珠粒338之含量，該光學薄片300之擴散特性與照度特性。在下列表3中，X、○、與◎分別代表該等特性之不良、好以及優良狀態。
如上表3中所示，當該等珠粒338之含量等於或大於該第一樹脂337之100重量份中之1重量份時，自該光源的光擴散特性為良好的。當該等珠粒338之含量等於或小於該第一樹脂337之100重量份中之10重量份時，可防止(及/或降低)照度降低。
分布於該第一樹脂337內之該等珠粒338之直徑可為不同。
該等珠粒338可為圓形、橢圓形、雪人形、及/或不相等的圓形。也可被設置其它形狀。
該等珠粒338可不均勻地分布在該第一樹脂337內。該等珠粒338可完全地分布在該第一樹脂337內，而不會自該等複數突出物330之表面露出該等珠粒338。該等珠粒338可被嵌入形成該等複數突出物330之該第一樹脂337內。
如上所述，該光學薄片300可藉由包括該等複數突出物330內之該等珠粒338，使來自該光源的光擴散，用以提供均勻照度。
第11及12圖為顯示依照本發明之例示實施例之光學薄片。其它具體實施例及架構也在本發明之範圍內。
如第11及12圖中所示，光學薄片400可包括反射偏光薄膜410、於該反射偏光薄膜410之一表面上之基膜420、於該基膜420上之複數突出物430、以及於該反射偏光薄膜410之另一表面上(或下方)之防護層440。
因為該反射偏光薄膜410之架構相同或類似於第1至3圖中所示之該反射偏光薄膜，故可省略其進一步之說明。該反射偏光薄膜410具有一結構，其中第一層411與第二層412係以重覆方式交替堆疊。
該基膜420可透射自該光源的光。為此，該基膜420可以諸如聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚丙烯、聚乙烯、聚苯乙烯、及/或聚環氧烷之發光材料來形成。也可使用其它材料。
該基膜420可包括第一表面421a及與該第一表面421a相對之第二表面421b。該第一表面421a及/或該第二表面421b可具有彎曲或不平坦表面。第11圖顯示具有彎曲或不平坦表面之該第一表面421a。
該基膜420具有一結構，其中該基膜420之波峰425與波谷426係以重覆方式交替形成。該等波峰425之間距可為相同或該等波峰425之間距可為不同。
於該第一表面421a上形成彼此相互相鄰之該等波峰425與該等波谷426之間的高度差可為相同或可為不同。該等波峰425之間距以及在該等波峰425與該等波谷426之間的高度差可取決於該基膜420之厚度與尺寸、期望照度的均勻性、以及光擴散係數等作選擇。
該第一表面421a之不平坦表面可使用滾壓製程(calendaring processing)、射出成型製程、鑄模製程等之一者來形成。該不平坦表面也可使用其它技術來形成。
該基膜420之平均厚度可約為50μm到300μm，以實現背光單元之薄外形。該基膜420之平均厚度可為在該第一表面421a與該第二表面421b間之該等波峰425之一的距離與在該第一表面421a與該第二表面421b間之該等波谷426之一的距離之平均值。
當該基膜420之平均厚度等於或大於50μm時，則該背光單元之薄外形在不降低(或大致上沒有降低)該光學薄片400之機械特性及耐熱性下，可實現最大等級。當該基膜420之平均厚度等於或小於300μm時，則該背光單元之薄外形可被最大地實現，以及該光學薄片400之機械特性及耐熱性可被最大化(及/或增加)。
第一厚度T1為在該第一表面421a與該第二表面421b間之距離，以及第二厚度T2為在該第一表面421a與該第二表面421b間之距離。該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：0.1μm|Tl-T2|10μm。
當該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：0.1 μm|Tl-T2|時，來自該光源的光可因該基膜420之一表面上之不平坦表面而被擴散。當該第一與第二厚度Tl與T2滿足下列方程式：|T1-T2|10μm時，可防止(及/或最小化)因該基膜420之不平坦(或彎曲)表面間的大幅高度差而造成照度降低。
該等複數突出物430可以透明聚合樹脂形成，以透射來自外部的光。該透明聚合樹脂例如包括丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚丙烯、聚乙烯、以及聚乙烯對苯二甲酸酯。
該等複數突出物430可包括複數稜鏡、複數微型透鏡、以及複數凹凸式透鏡。如一例示：該等複數稜鏡形成複數波峰431以及複數波谷432。該等複數突出物430也可包括複數珠粒。
該防護層440可改善該光學薄片400之耐熱性。該防護層440可包括第二樹脂441以及分布在該第二樹脂441內之複數珠粒442。
該第二樹脂441可為具有良好耐熱性及機械特性之透明丙烯酸樹脂。該第二樹脂441可相同於參照第9及10圖中所述之該第一樹脂。該第二樹脂441可包括抗靜電劑。該抗靜電劑可由聚乙烯芐、聚丙烯(聚甲基丙烯酸酯)、苯乙烯丙烯酸酯(苯乙烯甲基丙烯酸甲酯)共聚物、甲基丙烯酸甲酯共聚物等來形成。
該等珠粒442可使用相同於該第二樹脂441之構成材料或使用不同於該第二樹脂441之構成材料來形成。
該防護層440可以該第二樹脂441來形成，以及該等珠粒442所設置之數量約為基於該第二樹脂441之100重量份的約10到50的重量份。
該等珠粒442之尺寸可取決於該反射偏光薄膜410之厚度予以選定，以及可約為2μm至10μm。
該等珠粒442之尺寸可大體上彼此相同，以及該等珠粒442可被均勻地分布在該第二樹脂441內。該等珠粒442之尺寸可彼此不同，以及該等珠粒442可不均勻分布在該第二樹脂441內。該等珠粒442可內嵌入形成該防護層440之該第二樹脂441內。該等珠粒442之一部分可被露出於形成該防護層440之該第二樹脂441外。該等珠粒442可使用相同於該等珠粒338之構成材料或使用不同於該等珠粒338之構成材料來形成。
該防護層440可防止被由該光源的光使該光學薄片400的變形。該具有良好耐熱性之第二樹脂441可防止該光學薄片400被壓皺。即使該光學薄片400在高溫下變形，該光學薄片400在正常溫度下仍恢復到其原始狀態。該防護層440可防止外衝擊力或機械力造成該光學薄片400上裂縫的產生。該防護層440可藉由使用該等珠粒442使來自該光源的光擴散，改善照度之均勻性。
第13及14圖為依照本發明之例示實施例說明包括光學薄片之背光單元的架構之分解立體圖及剖面視圖。其它具體實施例及架構也仍在本發明之範圍內。
第13與14圖顯示邊緣式背光單元。由於第13與14圖中所示之光學薄片之架構大體上相同於上述之該等光學薄片，故進一步之說明可被簡化或可被整個省略掉。
如第13與14圖中所示，該背光單元500可被包含於液晶顯示器中，並可對包含於該液晶顯示器中之液晶顯示面板提供光。
該背光單元500可包括光源520，以及光學薄片530，用以接收來自該光源520的光。該背光單元500可更包括光導540(或光導板)、反射器550(或反射板)、底蓋560、以及模框570。
該光源520可使用自該光源外部所接受之驅動電力來產生光，並可放射該所產生的光。
至少一該光源520可沿著該光導540之長軸方向而被設在該光導540之一側。至少一該光源520可被設在該光導540之兩側。來自該光源520的光可直接入射至該光導540上。或者，來自該光源520的光可自包圍該光源520之一部分之光源外殼522反射，例如，包圍該光源520之約3/4的外部四周表面，以及接著該光可被入射至該光導540上。
該光源520可為冷陰極螢光燈(CCFL)、熱陰極螢光燈(HCFL)、外電極螢光燈(EEFL)、以及發光二極體(LED)之一。也可使用其它光源。
該光學薄片530可被設在該光導540上。該光學薄片530可聚集來自該光源520的光。
該光學薄片530可包含反射偏光薄膜；於該反射偏光薄膜之一表面上之基膜，以及於該基膜上之複數突出物。該基膜可包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面。介於該第一表面與該第二表面間之第一厚度T1可不同於該第一表面與該第二表面間之第二厚度T2。該第一與第二厚度T1與T2可滿足下列方程式：。
若來自該光學薄片530下方之光源520的光入射至該光學薄片530上，則該入射光可被該反射偏光薄膜反射或透射。來自該光源520的光效率可獲得改善。具有彎曲或不平坦表面之該基膜可使被該反射偏光薄膜透射的光擴散，用以提供均勻照度。因此，可改善該背光單元500的顯示品質。
該光導540可面對該光源520。該光導540可引導該光以向上方式放射來自該光源520的光。
該反射器550可被設在該光導540下方。該反射器550可以向上方式反射來自該光源520的光，以及該光可接著經由該光導540而被向下放射。
該底蓋560可包括底部562以及自該底部562延伸出去以形成一收納空間之側部564。該收納空間可接受該光源520、該光學薄片530、該光導540、以及該反射器550。
該模框570可大約為一矩形框。該模框570可自該底蓋560之上側以頂端朝下之方式被固定至該底蓋560。
第15及16圖為依照本發明之例示實施例說明背光單元之架構之分解立體圖及剖面視圖。其它具體實施例及架構也仍在本發明之範圍內。
第15及16圖係顯示直接式背光單元。由於第15與16圖中所示之背光單元可大體上相同於第13與14圖中所示之該背光單元(除了光源之位置及取決於該光源之位置而改變構成元件外)，故進一步說明可被簡化或可整個省略掉。
如第15與16圖中所示，該背光單元600可被包含於液晶顯示器中，並可對包含於該液晶顯示器中之液晶顯示面板提供光。
該背光單元600可包括光源620以及光學薄片630。該背光單元600可更包括反射器650(或反射板)、底蓋660、模框670、以及擴散板680。
至少一光源620可被設在該擴散板680下方。因此，來自該光源620的光可被直接入射至該擴散板680上。
該光學薄片630可被設在該擴散板680上。該光學薄片630可聚集來自該光源620的光。
該光學薄片630可包含反射偏光薄膜；於該反射偏光薄膜之一表面上之基膜，以及於該基膜上之複數突出物。該基膜可包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面。第一厚度T1為在該第一表面與該第二表面間之距離，以及第二厚度T2為在該第一表面與該第二表面間之距離。該第一與第二厚度T1與T2可滿足下列方程式：0.1μm。
若來自該光學薄片530下方之光源620的光入射至該光學薄片630上，則該入射光可被該反射偏光薄膜反射或透射。來自該光源620的光效率可獲得改善。具有彎曲或不平坦表面之該基膜使被該反射偏光薄膜透射的光擴散，用以提供均勻照度。因此，可改善該背光單元600的顯示品質。
該擴散板680可被設在該光源620與該光學薄片630之間，並可使來自該光源620的光以向上方式擴散。由於該擴散板680在該光源620上，故自該背光單元600之頂部可能無法看到該光源620。該擴散板680可進一步使來自該光源620的光擴散。
第17與18圖係說明依照本發明之例示實施例之液晶顯示器的架構之分解立體圖與剖面視圖。其它具體實施例及架構也仍在本發明之範圍內。
第17與18圖中所示之液晶顯示器700包括第13與14圖中所示之該背光單元，但不侷限於此。例如，該液晶顯示器700可包括第15及16圖中所示之背光單元。由於第17與18圖中所示之背光單元710係參照上述第13與14圖說明如上，故進一步之說明可被簡化或可被省略掉。
如第17與18圖中所示，該液晶顯示器700可使用液晶之光電特性來顯示影像。
該液晶顯示器700可包括該背光單元710與液晶顯示面板810。
該背光單元710可被設在該液晶顯示面板810下方，以及可對該液晶顯示面板810提供光。
該背光單元710可包括光源720以及光學薄片730。來自該光源720的光可自光源外殼722反射。該背光單元710可更包括光導740(或光導板)、反射器750(或反射板)、底蓋760、以及模框770。
該液晶顯示面板810可被設在該模框770上。該液晶顯示面板810可被一頂蓋820固定，其中該頂蓋係以頂端朝下之方式固定於該底蓋760。該底蓋可包括底部762以及自該底部延伸出去以形成一收納空間之側部764。
該液晶顯示面板810可使用由該背光單元710之光源720所供應的光來顯示影像。
該液晶顯示面板810可包括互相對之彩色濾光基板812以及薄膜電晶體基板814，其中於該彩色濾光基板812以及該薄膜電晶體基板814之間插入液晶。
該彩色濾光基板812可實現顯示於該液晶顯示面板810上之影像的色彩。
該彩色濾光基板812可包括在由透明材料(諸如玻璃或塑膠)製成之基板上所形成之薄膜彩色濾光器陣列。例如，該彩色濾光基板812可包括紅色、綠色及藍色之彩色濾光器。可於該彩色濾光基板812上設置一上偏光板。
該薄膜電晶體基板814可透過一驅動薄膜716而被電性連接至印刷電路板718，其中於該印刷電路板上裝配有複數電路部分。該薄膜電晶體基板814可響應由該印刷電路板718所提供之驅動信號而施加由該印刷電路板718所供應之驅動電壓給該等液晶。
該薄膜電晶體基板814可包括薄膜電晶體及於由透明材料(諸如，玻璃或塑膠)所製成之另一基板上的像素電極。下偏光板可被設在該薄膜電晶體基板814下方。
如上所述，該光學薄片、包括該光學薄片之該背光單元、以及包括該背光單元之該液晶顯示器，可藉由在該反射偏光薄膜上形成具有彎曲或不平坦表面之基膜來提供均勻照度，藉以提供均勻照度並改善顯示品質。
本發明之例示實施例可提供光學薄片、包括該光學薄片之背光單元、及/或包括該背光單元可實現均勻照度之液晶顯示器。
一光學薄片可包含：反射偏光薄膜；於該反射偏光薄膜之一表面上之基膜，該基膜包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面；以及於該基膜上之複數突出物，該等複數突出物係自該基膜延伸。第一厚度T1為在該第一表面與該第二表面間之距離，以及第二厚度T2為在該第一表面與該第二表面間之另一距離。進而言之，該第一厚度為自該第一表面至該第二表面之距離，而該第二厚度為自該第一表面至該第二表面之另一距離。該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：。
該基膜之平均厚度可約為50μm到300μm。
該突出物可包括第一樹脂以及複數珠粒。該樹脂可為固化樹脂。該等珠粒可設置之數量約為該樹脂之100重量份中的約1到10的重量份。
該第一樹脂可為一抗靜電劑。
該等複數突出物可包括複數波峰，以及該等波峰可形成複數波谷。該等波峰與該等波谷之至少一者可沿著該等複數突出物之寬度以一不均勻樣式曲折。
該等波峰之至少一者的高度沿著該等複數突出物之縱向方向改變。
該等複數突出物可包括一基部及自該基部延伸之複數波峰。該等複數波峰形成複數波谷。
該基部之高度可約為該等複數波峰之一者之高度的5%到50%。
該反射偏光薄膜可包括第一層及第二層，以及該第一層之折射率可不同於該第二層之折射率
該光學薄片於該反射偏光薄膜之另一表面上可更包含一防護層
該防護層包括樹脂及珠粒。該等珠粒可設置之數量約為該樹脂之100重量份中的10到50的重量份。該等珠粒之至少一者可自該防護層突出。
該等複數突出物可包括稜鏡、微型透鏡、以及凹凸式透鏡之至少一者。
該等複數波峰、該等複數波谷、以及該基部可形成該等複數突出物之整體。
背光單元可包括光源以及用以接收該光源的光之光學薄片。該光學薄片可包括反射偏光薄膜、於該反射偏光薄膜之一表面上之基膜，該基膜包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面，以及於該基膜上之複數突出物。在該第一表面之第一部分與該第二表面間之第一厚度T1係不同於在該第一表面之第二部分與該第二表面間之第二厚度T2。該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：0.lμm|T1-T2|10μm。
液晶顯示器可包括光源、用以接收來自該光源之光學薄片、以及於該光學薄片上之液晶顯示面板。該光學薄片可包括反射偏光薄膜、於該反射偏光薄膜之一表面上之基膜、該基膜包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面，以及於該基膜上之複數突出物。在該第一表面之第一部分與該第二表面間之第一厚度T1係不同於在該第一表面之第二部分與該第二表面間之第二厚度T2。該第一與第二厚度T1與T2滿足下列方程式：。
對於所屬技術領域之熟悉該項技術者將為顯而易知的是，在不脫離本發明之精神或範圍下，可對本發明之實施例作各種修改及變化。因此，本發明之實施例試圖涵蓋本發明之修改及變化，其仍落入隨附申請專利範圍及其等同物之範圍內。
於此說明書中任何關於”一個實施例”、”實施例”、”例示實施例”等參照，其意指關於實施例所述之特定特徵、結構、或特性係包含於本發明之至少一個實施例中。說明書中於各個不同位置所呈現之措辭態樣並非必定均參照相同實施例。此外，當於任何實施例中說明特定特徵、結構、或特性時，其意指於其它實施例中對此等特徵、結構、或特性之影響仍在所屬技術領域中之熟悉該項技術者的範圍內。
雖然已參照許多例示實施例來說明實施例，但應了解的是，許多其它修飾或實施例可藉由那些所屬技術領域中之技術者而發明，其將仍落入本揭示原則之精神與範圍內。更特別地，在本揭示、圖式及隨附申請專利範圍之範圍內，對於主體組合配置之構成部分及/或配置所作各種改變與修飾均為可行的。除了可對構成部分及/或配置作改變與修飾外，替代使用對於所屬技術領域中之技術者來說將也是顯而易知的。
參照下列圖式可詳細說明配置與實施例，其中相同元件符號對應相同元件，以及其中：
100、200、300、400．．．光學薄片
110、210、310、410．．．反射偏光薄膜
111、311、411．．．第一層
112、312、412．．．第二層
120、220、320、420．．．基膜
121a、221a、321a、421a．．．第一表面
121b、221b、321b、421b．．．第二表面
125、131、225、325、321、425、431．．．波峰
126、132、226、326、332、426、432．．．波谷
130、230、330、430．．．突出物
135、235、325．．．基部
337．．．第一樹脂
338、442．．．珠粒
T1．．．第一厚度
T2．．．第二厚度
P．．．距離
W．．．寬度
H1、H2．．．高度
440．．．防護層
441．．．第二樹脂
500、600、710．．．背光單元
520、620、720．．．光源
522、722．．．光源外殼
530、630、730．．．光學薄片
540、740．．．光導
550、650、750．．．反射器
560、660、760．．．底蓋
562．．．底部
570、670、770．．．模框
680．．．擴散板
700．．．液晶顯示器
718．．．印刷電路板
762．．．底部
764．．．側部
810．．．液晶顯示面板
812．．．彩色濾光基板
814．．．薄膜電晶體基板
820．．．頂蓋
第1至3圖為顯示依照本發明之例示實施例之光學薄片；
第4至8圖為顯示依照本發明之例示實施例之光學薄片；
第9及10圖為顯示依照本發明之例示實施例之光學薄片；
第11及12圖為顯示依照本發明之例示實施例之光學薄片；
第13及14圖為依照本發明之例示實施例說明包括光學薄片之背光單元的架構之分解立體圖及剖面視圖；
第15及16圖為依照本發明之例示實施例說明背光單元之架構之分解立體圖及剖面視圖；以及
第17及18圖為依照本發明之例示實施例說明液晶顯示器之架構之分解立體圖及剖面視圖。
100．．．光學薄片
110．．．反射偏光薄膜
111．．．第一層
112．．．第二層
120．．．基膜
121a．．．第一表面
121b．．．第二表面
125、131．．．波峰
126、132．．．波谷
130．．．突出物
135．．．基部
T1．．．第一厚度
T2．．．第二厚度
P．．．距離
H1、H2．．．高度

Claims (19)

  1. 一種光學薄片，包含：反射偏光薄膜；基膜，於該反射偏光薄膜之一表面上，該基膜包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面；以及複數突出物，於該基膜上，該等複數突出物係自該基膜延伸出，其中T1代表在該第一表面與該第二表面間之第一厚度，T2代表該第一表面與該第二表面間之第二厚度，以及T1與T2大體上滿足下列方程式：0.1 μ m| T1-T2 |10μ m，其中該第一表面面向該複數突出物，且該第一表面全部附著在該複數突出物。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學薄片，其中該第一厚度T1為在該第一表面與該第二表面間之最大厚度，以及該第二厚度T2為在該第一表面與該第二表面間之最小厚度。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學薄片，其中在該第一表面與該第二表面間之厚度可於該基膜之縱長上改變。
  4. 如申請專利範圍第1項之光學薄片，其中該基膜之平均厚度約為50 μ m到300μ m。
  5. 如申請專利範圍第1項之光學薄片，其中該等複數突出物包括樹脂以及複數珠粒。
  6. 如申請專利範圍第5項之光學薄片，其中該樹脂為經固化之樹脂。
  7. 如申請專利範圍第5項之光學薄片，其中該等珠粒所設置之量約為基於該樹脂100重量份的1到10的重量份。
  8. 如申請專利範圍第1項之光學薄片，其中該等複數突出物包括複數波峰，並且該等波峰形成複數波谷，以及該等波峰與該等波谷之至少一者沿著該等複數突出物之寬度以一不均勻樣式曲折。
  9. 如申請專利範圍第1項之光學薄片，其中該等複數突出物包括複數波峰，以及該等波峰之至少一者的高度沿著該等複數突出物之縱向方向改變。
  10. 如申請專利範圍第1項之光學薄片，其中該等複數突出物包括一基部及自該基部延伸之複數波峰，以及該等複數波峰形成複數波谷。
  11. 如申請專利範圍第10項之光學薄片，其中該基部之高度約為該等波峰之一者之高度的5%到50%。
  12. 如申請專利範圍第10項之光學薄片，其中該等複數波峰、該等複數波谷、以及該基部形成該等複數突出物之主體。
  13. 如申請專利範圍第1項之光學薄片，其中該反射偏光薄膜包括第一層及第二層，以及其中該第一層之折射率不同於該第二層之折射率。
  14. 如申請專利範圍第1項之光學薄片，其中於該反射偏光薄膜之另一表面上更包含一防護層。
  15. 如申請專利範圍第14項之光學薄片，其中該防護層包括樹脂及珠粒，以及其中該等珠粒所設置之量係基於該樹脂100重量份的約10到50的重量份。
  16. 如申請專利範圍第15項之光學薄片，其中該等珠粒之至少一者自該防護層突出。
  17. 如申請專利範圍第1項之光學薄片，其中該等複數突出物包括稜鏡、微型透鏡、以及凹凸式透鏡之至少一者。
  18. 一種背光單元，包含：光源；以及光學薄片，用以接收來自該光源的光，該光學薄片包括：反射偏光薄膜；基膜，於該反射偏光薄膜之一表面上，該基膜包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面；以及複數突出物，於該基膜上，該等複數突出物係自該基膜延伸，其中T1代表在該第一表面與該第二表面間之第一厚度，T2代表在該第一表面與該第二表面間之第二厚度，以及T1與T2大體上滿足下列方程式：0.1 μ m| T1-T2 |10μ m，其中該第一表面面向該複數突出物，且該第一表面全部附著在該複數突出物。
  19. 一種液晶顯示器，包含：光源； 光學薄片，用以接收來自該光源的光，該光學薄片包括：反射偏光薄膜；基膜，於該反射偏光薄膜之一表面上，該基膜包括第一表面及與該第一表面相對的第二表面；複數突出物，於該基膜上，該等複數突出物係自該基膜延伸，其中T1代表在該第一表面與該第二表面間之第一厚度，T2代表在該第一表面與該第二表面間之第二厚度，以及T1與T2大體上滿足下列方程式：0.1 μ m| T1-T2 |10μ m；以及於該光學薄片上之液晶顯示面板，其中該第一表面面向該複數突出物，且該第一表面全部附著在該複數突出物。
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