1302853 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種基板之上的材料溶液之分配方法與系统， 尤關於-種能夠減少所需之分配流體量的基板之上的材&溶液 分配方法與系統。 從< 【先前技術】 一在材料處理方法中，圖案蝕刻包括將薄層的感光材料，例如 光阻，塗佈在基板的上表面，並接著加以圖案化，藉以設置能夠 在姓刻期間將随轉侧基板的遮罩。感紐料的醜化通常牵 涉到在基板的上表面塗佈感光材料之薄膜、利用，例如微光刻系 統使感光材料之細曝露於穿過分雛（及_之光學元件）乂 照射源、緊接著進行顯影處理，而在顯影處理期間，則利用顯影 溶劑引起感光材料之照射區的去除（在正光阻的情況）、或引起/ 照射區的去除（在負光阻的情況）。 在塗佩理躺，使基板位在基板纽之上，且使其高速旋 ^，亦即每分鐘數千或數百轉（rpm)，_時將光阻溶液分配到 土板的上表面之上。例如，當光阻溶液被分配到基板的中心時， 基板旋轉料阻絲所施加_心力而使絲溶液成放射 ^傳制基板的各處。為了降鶴絲溶液分配有關之成本，故 必須使分配之光阻溶液的總量（或注入尺寸）最小，這必須更著 ΪΓίί數，計（亦即旋轉速度、麵速率、光阻溶液的流 體1±貝等等），才能在基板之上達成均勻的塗佈。 【發明内容】 鮮之—目的係提供—種溶液之分配方法與設備，用以將 /谷/之:-己至I基板之上，能夠克服或減少習知塗佈系統之問題。 栋用之另—目的係提供―種溶液之分配方法與設備，能夠 使用較小的注入尺寸將溶液分配到基板之上。 5 1302853 根據本發明之一貫施樣態’說明一種溶液噴嘴組件，用以將 溶液分配到基板之上。此組件係包括一個或更多之喷嘴，用以在 基板旋轉時將溶液分配到基板的上表面之上而使溶液分配到基板 之上’俾形成成放射狀傳播到基板之上表面的各處之波前。控制 器係使一個或更多之喷嘴最初將溶液實質分配到基板的中心^且 使一個或更多之喷嘴前進而在任一時間點將溶液分配到實質等同 於或小於波前之徑向位置的徑向地點。 ' ' 、根據本發明之又一實施樣態，說明一種塗佈系統，用以將溶 液分配到基板之上。此系統係包括塗佈處理室；基板夾具，耦八 於塗佈處理室且用以支樓基板；驅動單元，耦合於基板^具且; 以旋轉基板夾具；及溶液喷嘴組件，耦合於塗佈處理室且用以從 -個或更多之喷嘴將溶液分配龜板之上，俾能形成成放射狀傳 播到基板之上表_各紅波前。㈣器係使噴嘴崎最初將溶 液^質，關基板的中…並且前進而在任—時間點將溶液分配 到貝質等同於或小於波前之徑向位置的徑向地點。 、根據本發明之又-實施樣態，說明—種溶液之分配方法，用 以將溶液分配到基板之上。此方法係包括旋轉基板 分酉，之上，俾能形成成放射狀傳播到基板3 表面的各處之波丽。溶液最初分配到基板的中心，並 2間點分配到實質制於或小於波前之徑向位置的徑向地點。 此方法亦包括終止溶液的分配；及終止基板的旋轉。 ” 口口根據本發明之又-目的，-種電腦可讀取媒體 =執行之程式齡，而當處理!!執行程式指令_使塗系= ，以=步驟：旋轉基板；從溶液噴嘴組件將溶液分配^美板之 上，俾能形航放齡傳制基板之上表&土 質等同於或小於波前之徑向位置的:=分配到實 及終止基板職轉。 ㈢地點’終止溶液的分配； 本發明之其錄態及優點可參如下之詳細說圖示本發 6 1302853 示類 圖而更加清楚。在圖式中，相似的參考符號指 【實施方式】
下說明中，為了幫助徹底瞭解本發败為了說明及益1Ψ 寸妙將提到特定之細節’例如分配系統之特定的幾G 明之圖’俾能詳細說明本發明之實施例。就根據本發 ，、夜‘ ’以下將說明一種可供半導體製造之中的光阻、容 ΐ見之將光阻溶液分配在基板之上的= 多見附圖’圖1為根據溶液分西 塗佈-顯影系統（或軌道系統）之概略又圖^貝=的光，液 液塗佈-顯影系統100係包括卡Ε ，1所不，光阻溶 板（或晶圓W)等未處理之物件的第一卡用:存例如基 處理之基板（或晶圓w)第二卡g a、、用以儲存已 2t傳送钳22 ’ 树===二 而轉合於塗佈處理器30，俾顯影ί卜二其^ 0，經由界面單元40 使來自光源的料鍵2^^=^顯影處_，，俾能 :上且使光阻反 罩構件傳送臂72、基板傳送臂構彳^、遮 界面單元40及60包括傳送站61。基板處理表面71 (或平台）。 直線傳送路徑81A及81B係公 影處理器50的中央區。傳送機構刀=伸於塗佈處理器30及顯 S1A Λ 81Β 〇 久刀別具有基板臂84及85， 1302853 面的又及丫方向與垂直方向（2方向）上移動且 將刷tiii佈t理器30之中的傳送路徑8u的侧邊的-侧上， "]ΐ；ί ；ί ：；α：：ί - f ^ 其且溶液旋轉塗佈基板， 彼此阻塗佈設備35位在傳送路徑8ia的兩側而 f由+於火、烤早兀33及光阻塗佈設備％位在傳送路徑
距離彼此相對，蚊以使來自烘烤單元％的敎量 塗佈設備35。因此，在進行光阻塗佈時，光^ 響。在沿著顯影處理器5〇之中的傳送路徑 使烘烤單元51排列成—直線而彼此相鄰。 ?广側上，使顯料元52排列成-直線而二匕 52 82B 可以將光阻溶液塗佈—顯影系統用以處理248nm光阻、193nm ，阻、157nm光阻、EUV光阻、（上/下）抗反 BARC)、及上塗層。此外，例如，光阻溶液塗佈—顯影、統包$ ，售之東京威力科創股份有限公司（TEL)的清洗執道ACT8、或 ACT12光阻塗佈與顯影系統。 圖2顯示塗佈系統2〇〇，其包括塗佈處理室21〇、基板夾具 220，耦合於塗佈處理室21〇且用以支撐基板225、及溶液喷嘴ς 件230 ’用以分配溶液，例如光阻溶液。此外，塗佈系統係包 括控制器250，耦合於基板夾具22〇及溶液噴嘴組件23〇，且能夠 與基板夾具220及溶液喷嘴組件230交換資料、資訊、及控制信 1302853 號。 使基板夾具220能夠在溶液喷嘴組件23〇將溶液分配到基板 225的上表面之上的期間轉動（或旋轉）基板225。使耦合於基板 夾具220的驅動單元222用以旋轉基板夾具22〇。驅動單元222 為，例如，容許設定基板夾具旋轉之旋轉速度及加速度。 溶液喷嘴組件’係包括單-喷嘴攻，實質位在靠近基板 225的中心處，且位在其上表面之上。使喷嘴232能夠從實質垂直 於基板225之上表面的方向上將溶液，例如248nm光阻溶液、 193nm光阻溶液、i57nm光阻溶液、EUV (遠紫外線）光阻溶液、 •或任一其它塗佈溶液，例如低介電性塗佈溶液或上/下抗反射塗 層（TARC/BARC)溶液，分配到基板225的上表面之上。使喷 嘴232崩合於控制閥234的出口端236。使控制閥234的入口端 238耦合於溶液供應系統24〇。可以將控制閥234形成為調整分配 到基板225之上的溶液。當開啟時，就將溶液分配到基板225之 上。當關閉時，則不將溶液分配到基板225之上。溶液 240包括流體供應閥242、過濾器244、與流量測量/控制裝^46 其中的至少一個。 & 、、此^卜，在分配溶液時，利用運動驅動組件26〇使噴嘴232形 成為沿著徑向方向從基板225的中心移動到基板225的邊緣。y 此外，控制器250係包括微處理器、記憶體、及數 璋（可能包括及/或A/D轉換器），能夠產生 而，不僅足以監測下述職纽之輸出、更足以傳獻驅動到基 板夹具220之驅動單元222、溶液喷嘴組件230 (例如第一栌制閥 23 =)、溶液供應系統240、與運動驅動系統26〇的輪入。利^儲存 於記憶體之巾雜式而使這些系統依據所儲存之處理配方產生互 二的二實例為美國德州奥斯市之戴_公司的戴爾 ，在工作站530 。亦可將控制器25〇實施成如圖7所示之泛用電 使控制器250位在相對於塗佈系統2〇〇的附近、或使其位在 9 1302853 Ξ Ξ於ί3 2 2查ΐ的遠端，而經由網際網路或企業内網路連接。 直接連線、企業内網路 '與網際網路其中的至少-個 詈，與塗佈系統交換資料。在用戶處（即裝 ,ΐ設備製ii)、使其•合於企業内網路。又，另ΙΚίί 的^卜5服益，等）可經由直接連線、企業内網路、與網際網ί 的至V之一而存取控制器422，俾能交換資料。 M f =中的系統允許光阻溶液實f分配到基板的中心且接著 到徑向距離上。本發明人已發現：本技術允許 尺寸塗佈基板。詳言之，僅將光阻溶液分 ϊϋ ί心& ’波前將實質呈圓形地前進'然而，當光阻傳 板之社徑向距離的各處時，波前將喪失其_輪靡且視 =規則形’錢將使波前前緣部在抵達晶_其它區域之前， ^先抵達晶圓的圓周。t波前的前緣部超過基板的邊緣進行洗蘇 =，將，光_浪費。本發明人已發現：首先實f將絲分配到 广板的中心區且接著在波前的邊界之内將光阻分配到徑向區的 ^ ’將可提供對光阻波前之更好的控制，社許較小的注入尺寸。 以下參見圖/3,俾說明利用圖2之系統將溶液分配到基板之上 =方法。使塗佈系統2〇〇形成為從喷嘴232以分配速率333分配 溶液。可以在溶液分配期間使分配速率333保持固定、或在溶液 分配期，使其改變。將溶液分配到基板225之上時，使基板爽具 220p以旋轉速度344進行旋轉。可以使旋轉速度344保持固定、或 在溶液分配期間使其改變。又，在溶液分配及基板旋轉期間，溶 液^在基板225的上表面之上呈成放射狀傳播，其中溶液波前以 速度3幻放射狀地擴散。根據本發明之一實施例，如虛線的 喷嘴^34所示，運動驅動組件26〇使喷嘴232以實質等同於或小 =波财速>^342之移動速率34〇呈放射狀地移動。例如，移動速 率340的範圍從約25%的波前速度342到約1〇〇%的波前速度 342。又’移動速率340的範圍從約50%的波前速度342到約100% 1302853 的波則速度342。又，移動速率34〇的範圍 342^娜的波前速度342。又，移動速率34〇的=== 的波刚速度342到約1〇〇〇/0的波前速度342 質等同於波前速度342。 獅迷羊340貝 根據另-實補，圖4呈現塗佈系統·，包滅 410、基板夾具420，耦合於塗佈處理室41〇且 ’形成為分麟液，例如細容液~此外，塗 ^，400係包括控制器，耗合於基板夾具42〇及溶液喷嘴组 f 430 ’且形成為與基板夾具42〇及溶液喷 資訊、及控制信號。 又佚貝行 至,ί美形成為能夠在溶液喷嘴組件430將溶液分配 !!if 3 上的期間轉動（或旋轉）基板425。聽合 ίίΐ 的ΐ動單元422形成為旋轉基板夾具42〇。驅動單 、容4噴件夹具旋轉之旋轉速度及加速度。 滅牛 包括贺嘴陣列432，其具有放射狀地在分 複數之喷嘴433，例如，從基板中心到基板邊 ^ =嘴432形成為能夠從實質垂直於基板425之上表面二 向上將減’例如248nm絲溶液、193nm光阻雜、15 Γ溶tEUV (遠紫外線）光阻溶液、或任一其它塗佈溶液，ί 乂 丨：性塗佈洛液或上/下抗反射塗層（tarc/barc)溶液， 11 己到t板425的上表面之上。使喷嘴陣列432耦合於控制閥434 ^ 口端436。使控糊434的入口端438搞合於溶液供應系統 44。可:χ將控制閥434形成為調整分配到基板425之上的溶=充 、、=啟¥，就將溶液分配到基板425之上。當關閉時，則不將溶 液ϋ己到基板425之上。溶液供應系統440包括流體供應閥442、 過濾盗^44、與流量測量/控制裝置446其中的至少一個。 再麥見圖4,當基板425之上的溶液之波前通過第二喷嘴 始從噴嘴陣列432之中的中央噴嘴分配溶液且i 、·’貝行$贺僻列432之中的第二喷嘴。之後，各噴嘴在波前通 11 1302853 ，其個別的徑向地點時就開始分配溶液。當下一個喷嘴開始分配 溶液時，前面的喷嘴仍持續地分配溶液。又，當下」個喷^開始 分配溶液時，顺面的喷嘴就停止分配溶液。因此，如同圖 實施例，圖4之架構係提供對波前之改善控制，這將允許光阻溶 液之較小的注入尺寸。 根據另一貫施例，圖5顯示塗佈系統5〇〇，包括塗佈處理室 510、基板夾具520，耦合於塗佈處理室51〇且形成為支撐基板 525、及溶液喷嘴組件so，形成為分配溶液，例如光阻溶液。此 外，塗佈系統500係包括控制器550，耦合於基板夾具52〇及溶液 ^嘴組件530，且形成為與基板夾具52〇及溶液喷嘴組件53〇交 資料、資訊、及控制信號。 、 使基板夾具520形成為能夠在溶液噴嘴組件53〇將溶液分配 到基板525的上表面之上的期間轉動（或旋轉）基板。使耦合 於基板夾具52G的驅動單元522形成為旋轉基板夾具跡驅動單 元522為，例如，容許設定基板夾具旋轉之旋轉速度及加速度。 溶液喷嘴組件530係包括單一喷嘴532，實質位在靠近基板 525的中心處，且位在其上表面之上。使喷嘴幻2形成為能夠從實 貝垂直於基板525之上表面的方向上將溶液，例如248nm光阻溶 液、193nm光阻溶液、i57nm光阻溶液、EUV (遠紫外線）光阻 溶液、、或任一其它塗佈溶液，例如低介電性塗佈溶液或上/下抗 反射塗層（TARC/BARC)溶液，分配到基板525的上表面之上。 又，/谷液喷嘴組件530係包括圖4所示之複數之喷嘴。使喷嘴532 耦合於控制，534的出口端536。使控制閥534的入口端538耦合 於溶液供應系統540。可以將控制閥534形成為調整分配到基^ 525之上的溶液。當開啟時，就將溶液分配到基板5乃之上。當關 閉日守，則不將洛液分配到基板525之上。溶液供應系統540包括 流體供應閥542、過濾器544、與流量測量/控制裝置546其中的 至少一個。 八 此外，在分配溶液時，利用運動驅動組件56〇使喷嘴形 12 1302853 成為^徑向方向從基板525的中心移動到基板525的邊緣。 前的柄5 杨統5GG更包括診斷系統57G，用以確定波 不穩速ΐ,波前的麟（例如穩定的波前或 一 合。如上述，穩糾波前為具有實質 幫Ιλΐ穩疋的波前具有不規則形狀。診斷系統57〇可用於 取容液的波前。診斷系統570包括感光系統與影像擷 (^二、±歹iH： ’感光系統包括CCD (電荷耦合裝置）相機、或CID 前谁何Li衣置）相機’用以偵測基板525之各處的溶液波前之 例如，感光系統包括光線投射裝置，用以對基板525 系絲ίΐϋ，液提供f光照明。又，例如，可以使影像擷取 禮為取喊記錄影像，並將這些影像傳送到控制器550而 萑疋波刖位置、速度、及狀態。 逐百制器55G能夠，例如，基於波前目前的位置而 、框也叶异波丽與已校正之像素陣列的相對位置（例如，可就 ί板之上驗置校正相機機構之像素陣列）。此外，控制器550能 如/’基於從—個頁蝴下—個頁框所經歷的（或所通過的） 士「二:f仗二個頁框到下一個頁框所經歷的時間所得之數目逐頁 计异波_速度。此外，例如，控· 550能夠確定波前的 =形H ό不論波前是否具有成放射狀傳播到基板525之各處 圖6呈現根據本發明之一實施例的基板之上的溶液分配方 法:如圖6所示，本方法係包括流朗_，開始於設定溶液分配 =地理配方的⑽。考雜定麵之溶液的越性質，例如黏性、 表，張力料’俾能設計所需的處理配方。此外，可以就待分配 之溶液的總量而設計處理配方。 一 〜處理配方包括-個或更多之處理參數，包減時間之函數 洛液之分配速率、為時間之函數的基板夾具之轉速度、或 間之函數的雜喷倾件之飾速率、或其任—組合。例如了 以利用波前的位置或速度更新鎌分配躺之這些處理參數的任 13 1302853 、由二☆ 的速度此外，例如，提高分配速率能夠提高 波刖^速度，喊小分配速率難賊小波前的速度。 你，已知之溶液的總量在基板之上皆具有均勻的溶液塗 夢少夕卢_于Γ原理的流體動力模擬軟體決定處理配方的一個或 27ίίίΐίί ’例如市售之細靜丨15317卡農斯堡技術大道 州S、市售之美國新罕布什爾 MB 「特拉卿卡文迪什1G號福祿恩特公司的泛用 3 ^ 體流利（FLUENT)」、或市售之美國阿拉巴馬州 實(tit大道215號咖研究公司的CFD_ACE+、或 a士的f、目丨B知土技術，或利用上述用以反饋之診斷系統進行即 呤的監測且控制、或其任一組合。1 或小^施例，將溶液分配到基板之上實質等同於 速率、^、夜置，向位置。因此，溶液喷嘴的徑向移動 3 向位置的速率係變動著，而實質等同於或 約⑴〇0/刚的於又。^如，移動速率的範圍從約25%的波前速度到 約iooi的:。又，移動速率的範圍從約5〇%的波前速度到 約ioo〇i的:/ίί。又，移動速率的範圍從約75%的波前速度到 約1〇〇〇/°的。Χ，移動速率的範圍從約9〇%的波前速度到 、，，=/〇的波祕度。又’移動速率實㈣同於波前速度。 每^1固處理配方重新開始基板的旋轉。基板旋 -預^速率^二到達Ϊ使基板旋轉速度從靜止增加到旋轉的第 保持不變ί改變Γ 職讀騎度，則可崎旋轉速度 在63〇時，從溶液嘴嘴組件將溶液分配到基板之上達第一期 二可3重3開?溶液嘴嘴組件之分配溶液而與基板的旋轉同時 ^配溶液 麵遲—段綱之後才重糊始溶㈣嘴組件之 在640時’終止來自溶液喷嘴組件之溶液的流量。可以將基 14 1302853 固定，或使其改變。例如，可以使旋轉速度加 速或減速士 (在加速階段或減速階段期間）到旋轉的第三預設速率。 Γδΐί1基板的旋轉。在此_，旋轉的速率在第四期間 之円疯小主静止。 圖7顯不用以實施本發明之各種實施例的電 腦系統可作為控制器450使用而進行上述控制器之任一或戶^ 腦系統12G1係包括匯流排12G2或其它用以傳遞資 3„構、且包括處理器1203，與匯流心202轉合而用以處 ϊ貝r=τΛ=12()1亦包括主記紐腦’例如隨機存取記憶 •體jRAM)或其它動態儲存裝置（例如，動態、狀以（〇狀 ^ 、及同步DRAM (SDRAM))，搞合於匯流排 1202而用以储存貢訊及供處理器12〇3執行的指令。此外，可 暫態變數或處理器1203執行指令期間的其它 Π貝严。電腦糸統12〇1更包括唯讀記憶體πΟΜ;湖或其 它靜態儲存裝置（例如，可程式RqM (PRqM)、可消除pR〇^ '及電性可消除PR〇M (EEPR〇M))，耦合於匯流排 1202而用以儲存靜態資訊及處理器12〇3所需的指令。 電腦祕12G1亦包她合於隨排㈣之磁翻制哭12〇6 更碟機1207，及可移除之媒體驅動機1208 (例如，軟碟機、唯讀 光碟機、頃出/寫入光碟機、光碟記錄庫、磁帶機、及可移除之 磁光碟機）。利用適當的裝置界面將儲存裝置附加到電腦系統ΐ2〇ι (例如，小型電腦系統界面（scsi)、積體裝置電子元件（IDE)、 加強型IDE ( E-IDE )、直接記憶體存取（DMA )、或高速DMA )。 冲括特殊用途之邏輯裝置（例如’特定功能 巧電路（ASICs))或可規劃之邏輯裝置（例如，簡單之可 Ϊΐί ί (丨肌DS)、複雜之可程式邏輯裝置（CPLDS)、及攔位可 耘式閘陣列（FPGAs)。 電腦系統12G1亦包括_合於匯流排·的顯示器控制器 15 1302853 1209而控制顯示器1210，例如陰極射線管（CRT)，用以顯矛 =電腦使用者。電腦系統係包括輸入裝置，例如鍵盤1211、曰 Sol置二置用 僮、庚巧衣置1212為’例如，滑鼠、軌跡球、或指向桿，用以 域齡選項給纽^測朋啸制齡器咖 標移動。此外’印表機係提供由電腦系統迦所儲存及 /或產生的資料之列印的表列。 化ίΐ系統蘭係回域理1112()3，其執行記龍之中，例如 而:隹t ^204 ’所含之—個或更多之序列的—個或更多個指令， 和明之—部份或所有的處理步驟。從另—電腦可讀取婵 己Ϊ體測之中。亦可採用具有多I處理配置的— 錢订主§己憶體12G4之中所含的—序列之指令。在另一 ί二W可使賴線式電路取代軟體指令或與其組合。故，實 施例並非僅限於硬體電路與軟體的任一特定組合。 、 ，體如統12G1係包括至少—電腦可讀取媒體或記 “椹ίί持轉本發明之教示所程式化的指令且用以含有資 的3為片記1ϋ在此1斤述的其它資料。電腦可讀取媒體 (EPRoa/t ϋϋτ> 茱機、軟碟機、磁帶、磁光碟機、PROM (_M、快閃 EpR〇M )、_ 删、S_、 1婵〆、、5:媒光碟片（例如，CD-R0M)、或任-其它光 波ί下或其它具有孔洞之圖案的實體媒體、載 产任一电腦可從其中加以讀取的其它媒體。 儲存在任-個電腦可讀取舰或其組合之 之軟體、用以驅動裝置或用以驅= 之ίΐ (/f: ’ _生產人員）°此種軟體包括，但= 此種電射讀取髓更包括本發明之電腦程式產物，實 16 1302853 施本發明時所進行的所有或一部份的製程 本發明之電腦碼裝置為任一可 衣耘為分散的話）。 ，非僅限於此：可、_程式、動態連機制，包括但 式、及完全可執行程式。又，為了 iH(DLLs)、爪唾級程 成本，可分散本發明之處理的零件。々眭此、可靠度、及/或 在此，「電腦可讀取媒體 詞传 ▲ 器1203加以執行的媒體。電腦可讀取^體可指^給處理 但並非僅限於此··永久性媒體、性型恶，包括 機1207或可移除之媒體驅動機跡依電性二i如硬碟 體，例如主記憶體1204。傳輸媒體係包括_ f匕=恶記憶 光纖，包括構成匯流排1202的配線線電、纜及 在實行一個外=== =二Γ于時將涉及各種型態之電腦可讀取媒Ζ例如= 送ί遠端電腦之磁碟之中。遠端電腦可遠距地將用J 本發明的指令載入到動態記憶體之中且利用 5收電^線上的資料且紅外線發送雜資料轉變成紅ϋ信 fu。搞5於匯流排1202的紅外線偵檢器係接收紅外線信號之 炱料t將資料放置於匯流排1202之上。匯流排1202將資料送至 ，記憶體1204,而處理n 1203職其巾娜並執行齡。在處理 器1203執行之前或之後，可任意地將主記憶體12〇4 令儲存於儲存裝置1207或1208之中。 _收_曰 電腦系統1201亦包括耦合於匯流排12〇2的通信界面1213。 通信界面1213係提供耦合至網路連結1214的雙向資料通信，而 其連接至，例如，區域網路（LAN) 1215、或連接至另一通信網 路1216，例如網際網路。例如，通信界面1213為網路界面卡，俾 附屬於任一封包交換LAN。就另一例子而言，通信界面1213為非 17 l3〇2853 用ίί路（ADSL)卡、整體服務數位網路（ISDN) 亦可杏二供與相對應型之通信線路的f料通信連接。 傳ϊ結。在任—此種實施型態中，通信界面1213係 信號或光學信^载运代表各種資訊之數位資料流的電信號、電磁 料穿===4典型地個或衫之鹏啸供至其它資 t Λ 例如，網路連結1214係經由區域網路⑵5 ^ 或經由服務供應商所操作的設備，其經由通信網 1214命、提供通信服務，而提供至另一電腦的連接。區域網路 _ 1216糊’例如，電錢、電磁信號、絲信號， i、ί繃』?流與相關的實體層（例如，CAT5電繞、同軸電 ώ s 、等等）。經由各種網路的信號與網路連結1214之上且經 112L3的信號，其載送數位資料至/從電腦系統蘭、， 齡號、或載波為主的信號。基頻信號將數位資料當 =调受，電脈衝加以傳送，而其為數位㈣流的位元描述子， 二一位兀ί一詞廣義地解釋成符號，其中各符號係傳送至 匕更多之資訊位元。亦可利用數位資料來調變載波，例如 ，在¥電題之上傳播、或經由傳播雜而當作電磁波傳遞之 振幅、、及/或頻率變換鍵信號。故，數位資料可經由「固線 =」通信管道而當作未輕的基織料加以傳送及由調變 載波而以不同於基頻的預定之頻帶之間加以傳送。電腦系統· ，經由網，1215與1216、網路連結1214、及通信界面1213而傳 送及接收^料，包括程式碼。又，網路連結1214提供從LAN12i5 至可攜式裝置1217的連接，例如個人數位助理（pDA)、筆 電腦或行動電話。
雖然以上已詳細說明本發明之特定例示性實施例，但熟悉本 項技術之人dr應清楚理解：只要在不脫離本發明之教稍優點的 情況下，可以對上述例示性實施例進行許多變化。因此，本發明 之範圍係可包括所有可能之變化樣態。 X 18 1302853 吾人=由上口=7,㈣進行各種變化及改變。故， 以實施2Ϊ此;之申請專利範圍之内，本發明係可據 溶液喷嘴組件继它處理⑽溶齡配聰^用^木構之 【圖式簡單說明】 ~顯影系統的概略圖，其包括 圖1為本發明之光阻溶液塗佈 薄膜形成設備。
上的獅__繼齡配到基板之 圖3顯不圖2之糸統的使用方法。 圖4王現根據本發明之另一實施例的用以將溶液分配到基板 之上的塗佈系統。 圖5呈現根據本發明之另一實施例的用以將溶液分配到基板 之上的塗佈系統。 圖6顯示根據本發明之又一實施例的用以將溶液分配到基板 之上的塗佈方法。 圖7顯示用以實施本發明之各種實施例的電腦系統。 ⑩元件符號說明： 100 光阻溶液塗佈一顯影系統 1201 電腦系統 1202 匯流排 1203 處理器 1204 主記憶體 1205 唯讀記憶體（ROM) 1206 磁碟控制器 1207 儲存裝置 1208 可移除之媒體驅動機 19 1302853 ^ 1209 顯示器控制器 1210 顯示器 1211 鍵盤 1212 指向裝置 1213 通信界面 1214 網路連結 1215 區域網路（LAN) 1216 通信網路 1217 可攜式裝置 20 卡匣站 胃 21a、 21b、73 卡匣 22 基板傳送鉗 23 傳送台 200、400、500 塗佈系統 210、410、510 塗佈處理室 220、420、520 基板夾具 222、422、522 驅動單元 225、425、525 基板 230、430、530 溶液喷嘴組件 • 232、334、433、532 喷嘴 234、434、534 控制閥 236、436、536 出口端 238、438、538 入口端 240、440、540 242、442、542 244、444、544 246、446、546 250、450、550 260 、 560 溶液供應系統 流體供應閥 過濾器 流量測量/控制裝置 控制器 運動驅動系統 20 1302853 30 塗佈處理器 31 刷子清洗單元 32 黏接/冷卻單元 32a 黏接單元 32b 冷卻單元 33、51 烘烤單元 34 喷射水清洗單元 35 光阻塗佈設備 333、335 分配速率 340 移動速率 β 342波前速度 344 旋轉速度 40、60 界面單元 432 喷嘴陣列 50 顯影處理器 52 顯影單元 570 診斷系統 61 傳送站 610、620、630、640、650 步驟 600 流程圖 70 曝光處理器 71 基板處理表面（或平台） 72、74 傳送臂 • 81Α、81Β、82Β 傳送路徑 82、83 傳送機構 • 84、85 基板臂 Μ遮罩構件 W 晶圓 21