TWI251863B - Lithographic projection apparatus and manufacturing method using the same - Google Patents

Description

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本發明係關於微影投影裝置，包括： _:輻射系統用以供應-輻射投影光束； 一支承結構用以支相案形成裝置，此圖案形成裝置根 據所需圖案形成投影光束圖案； -一基板台用以固定基板；及 、 投於系統用以將形成圖案之光束投影於基板之一目標 部分上； 本又中所使用圖案形成裝置，，—詞應廣泛解釋為一 種可使輸人ϋ射光束具有_形成圖案之橫截面之裝置。此 圖，末對應於而產生於基板之—目標部分中之—圖案；“光 闕 a亦可在此語意下使用。一般言之，該圖案對應於 在目标部刀中所產生之裝置中之一特定功能層，此功能層 例如為電路或其他裝置（見下文），此種圖案形成裝置 之舉例包括： 一光罩。光罩之觀念為微影技術中所熟知。其型式包括 例如一進位，叉替相移，及衰減之相移，以及各種不同混 口光罩型式。此種光罩在輻射光束中之配置使撞擊光罩之 輕射依光罩圖案作選擇性傳送（傳送性光罩情況）或反射（反 射性光罩情況）。在光罩情況，支持結構—般為光罩平台， 此平台可確使光罩在有輸人輕射情況可固定於所需位置， 及如有需要可相對於光束移動。 一可程式規劃之鏡陣列。此種裝置之一實例為具有一兼 具黏著性及伸縮性之控制層之—可以矩陣定址之表面及一 反射性表面。此種裝置之基本原理（例如）為反射表面之經定 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X 297公釐) 1251863 五 、發明説明（ A7 B7 將人射光反射為繞射光，而未走址之區域則將入 兩子#2未繞射之光。所需要之矩陣定址可使用適當之 ^ 置實施。有關此種鏡陣列之進一步資訊例如可自盖 々國專利案US 5,296,89 1號及us 5,523，193號中獲得，此 寺又獻以引用方式併入本文中。如果為可程式規劃之鏡陣 列射，該支承結構可由—框架或台而具體實施，其可依需 要為固定或活動型式。-可程式規劃之LCD陣列。此種： 構說明於美國專利案US 5,229,872號中，此專利案以” 万式併万入本文中。如上述支承結構在此種情況下例如可 、框采可以框架或台而具體實施，其可依需要為固定 或活動型式。 為簡明计，於本文之其餘部分中，在某些地方可具體以 貝例說明一光罩及光罩台；但是就此等實例所討論之一般 原理應以上述所闡明之圖案形成裝置之更寬廣之語境而視 之。 微影投影裝置例如可用於製造積體電路（IC)。在此種情 况下圖案形成裝置可產生對應於一個別1C層之一電路圖 案，此圖案可映射於業已塗有一輻射敏感材料（抗蝕材料）層 之基板（矽晶圓）上之一目標部分（例如包含一個或多個小晶 片）之上。一般言之，為一單獨晶圓經由投影系統連續予以 輕照之相鄭目標部分之一整個網路，每次一個目標部分。 於現今之裝置中使用一光罩台上之一光罩形成圖案對於不 同型式之機器係有區別。於一種型式之微影投影裝置中， 每一目標部分係藉使全部光罩圖案於一次閃光期間曝光於 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 3 五、發明説明（ 照，此種裝置―般稱為晶圓步進機。於 代替性裝置t，-般稱作一步進及 於 部分係藉以一設定參考方向（“掃广田裝置H標 掃描光罩安η 〇± 田万向）以投影光束順次 於二’：描基板台之速〇將為Μ倍之掃 ::度。有關本文中所述之微影裝置之進一步資 =文中°。46,792號專利案中取得’此專利案以引用方式 =微影投影裝置之一製造方法中，一圖案(例如位於 :部象於 基板上。在此成像步驟之前，可使基板接 受例如塗底漆’塗抗㈣及軟性烘烤之各種不 ^曝光之後，可使基板接受例如曝光後烘烤（ΡΕΒ)，顯 〜硬性烘烤及成像特徵之測量/檢查之其他處理程序。此 、系列〈私序係用為形成例如1(:之一裝置之個別層之圖案 <基礎此種圖案層然後可使之接受例如蝕刻，離子植入 (摻雜），金屬化，氧化·化學及機械拋光等各種不同之處 所有此種處理均希望以其芫成一個別層。如果需要數 層，則必需就每一新層重複全部程序或此程序之變體。最 後，裝置之一陣列將會存在於基板（晶圓）上。此裝置然後藉 使用例如切割或鋸開之技術而使之分離，隨後可將個別裝 置於承載裝置或連接至接腳等處。有關此等處理之進一步 資訊例如可自I"7年Peter Van Zant所著，書名為“半導 本紙張尺纽财® 規格(21()X297公爱） 1251863 A7 B7 五、發明説明（4 ) 體處理貫用指南，，第三版中取得，此書由McGraw Hill

Publishing Co ’ 發行，其 ISBN 為 0_07_06725〇·4，現以引用方式 併入本文中。 為簡明计，投影系統於後文中可稱作“透鏡”；但是此 名％應從寬解釋為涵括各種不同型式之投影系統，例如， 以^括折射光學裝置，反射光學裝置，及兼具反射及折 射之光學系統。此輻射系統亦可包括根據任何型式之用以 導引，使其成型或控制輻射投影光束而操作之組件，此等 組件亦可於後文中以集體或單獨方式稱作“透鏡，，。此 外，微影裝置可有具有二個或多個基板台（及/或二個或多個 光罩台）之型式。在此種“多級，，裝置中，附加之台可以並 仃使用，準備步騾可於一個或多個台上實施，同樣一個或 多個其他台可供曝光之用。雙極微影裝置例如為美國US 5,969,44 1號專利案及W〇 98/4〇791號中所說明者，此二 專利案以引用方式併入本文中。 投影裝置内部需要支承力以提供反對地心引力之永久力 量例如需要準靜態支承力以支承一隔離之參考框架（以其 支承投影系統及各不同感測器裝置）及使其與外部震動隔 離。動態支承力用以供基板用之短行程模組或供圖案形成 用《長仃程模組。於此等態支承力中係提供一 士 7 r刀那分以 支承短行程模组之重量及一動力部分以驅動短行程模组。 對於及動態二者<支持力而言，重要者是支承需 低之剛性以防止震動力量之傳送。 而 % 先前曾經使用空氣承載之軸承以提供靜態支持力>、 ^支持 -8 - 本紙張尺度適用巾國g家標準(CNS) A4規格(21Q x 297公复)"-— 1251863

發明説明（ 及隔離精密測定框架。此種系統的確可提供具有極低剛性 4支持力，但有其較為複雜之缺點及需要有壓縮空氣之供 應（及因之需要有一壓縮機，此壓縮機所產生之震動必須使 (與投影裝置隔離）並且不適宜用於真空中。 先前對於動態及靜態支承之解決方法包括使用一氣力支 承以對重力予以補償。氣力支承例如為揭示於w〇 /0 5 5 7 3號專利案及歐洲專利案e p 〇，9 7 3，〇 6 7號及可包 括由一氣缸之壓力室中之壓力氣體支承之一活塞，於此壓 力罜中活塞藉一氣體軸承而加有軸頸。此氣力支承可能需 要有一相當大體積之壓力氣體以提供對於震動之良好隔 離，壓力氣體中之任何壓力之變動將會傳送至活塞及受支 承之物體，此可使其應用之效率降低及造成不便。防止震 動在支承方向之傳送係十分成功，但是防止在垂直支承方 向之平面中之震動則需要例如另一氣體軸承之進一步措施 以便在垂直方向可有無摩擦之移動。氣體軸承及氣力軸承 一者均不與真空環境相容。 此外，業經有提議例如揭示於歐洲專利案E p i，〇 〇 i 2 號或美國專利案US 5,780,943號中之使用磁吸引力及/或 排斥力而提供支承力。然而，所提出之解決方法中其所提 供<支承力可視沿支承方向及垂直支承方向二者之位置而 足。此所提出之解決方法亦會受到去磁效應之影響。 本發明之一目的為提供較為簡單及適合用於真空中之支 承，其僅需最少服務（例如壓縮空氣及冷卻）及可於其沿支承 方向及垂直支承方向之二方向之一經界定之體積中提供實 9- 裝· 本紙1及通用中國國家標準(⑹）A4規格(210χ297公I) .訂................:線........................................厂 1251863 A7

質上恆定之支承。 本發明尚有另一目的為 因為於投f彡裝置巾此種龜=有小錢M之磁支承， 限。 支承可應用之空間一般極為有 本發明尚有另外一目的為 易於調整。 為槌供<磁支承其標稱之支承力 併明尚有另—目的為提供之磁支承可與—載流元件合 併使用’以提供沿支承方向之—附加之力。 :寺及其他目的係根據本發明於有如本文中開始一節中 -種微影裝置中完成，此裝置尚包括一支承可以 二置之第：部分與第二部分之間之第-支承方向提供 、力-中占支承係包括第一，第二及第三磁鐵組成件 及： 、邊第一及第二磁鐵組成件係附屬於該第一部分及每一組 成：。括至少一經定向之磁鐵，如此其磁極化係實質上與 孩第一方向成平行或反平行； 該第一及第三磁鐵組成件於彼等之間於實質上垂直於第 一方向之一第二方向界定一空間； 忒第二磁鐵組成件附接於該第二部分及至至包括一磁 鐵，孩第二磁鐵組成件至少部分位於該空間中；及 琢第二磁鐵組成件之該至少一磁鐵係使其磁極化定向， 此了 It 4弟’弟一及弟三磁鐵組成件間之磁相互作用 而在實質上沿該第一方向產生一偏壓力。 磁鐵之此種組態提供一相當大之容積，於此容積中第二 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 1251863 五、發明説明（ 二無任何顯著之支承力變動情況下移動。此 性。 万1垂直支承万向二者方向提供極低之剛 根據本發明之一有利之具體實例，第一， 鐵組成件中至少-組成件係由至少 二磁 二= 為電磁鐵在相較之下經常需要電流以提 =壓力、。此電流再會產生必需使其消散之熱量及因此會 要加添冷卻裝置。 於本發明之一有利配置中，第二磁鐵組件限制或包圍第 一磁鐵組成件及第三磁鐵組成件在垂直第一方向之一平面 中限制或包圍第二磁鐵組成件。實施之較佳者，第一，第 二及t磁鐵組成件中之至少一組成件於垂直於第一方向 《-橫截面中為環狀。此種形狀有其優點，因為磁強度之 變動對於磁支承特性影響較小。 、於本發明之另一有利配置中’第一及第三磁鐵組成件中 之至少一組成件包括可予以調節之二磁鐵以便改變彼等之 相對位置。此為有利之配置，因其可使偏壓力視支承所需 承載之負荷而改變。 於本發明之有利之具體實例中，第三磁鐵組成件之一磁 鐵係使之定向，以使此磁鐵之磁極化實質上平行於第一磁 鐵組成件之磁鐵之磁極化及第二磁鐵組成件之一磁鐵，係 使足向，以使磁鐵之磁極化在實質上平行於第一磁鐵組成 件之磁極化及第二磁鐵組成件之一磁鐵係使之定向以使其 磁極化實質上平行或反平行於第一磁鐵組成件之一磁鐵之 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 裝 訂 1251863 A7 B7 五、發明説明（8 ) 磁極化。此具體實例之優點為結果所得之支承對於所提供 之偏壓力乏一既定之大小而言為纖細。 於一代替性之有利之具體實例中，第三磁鐵組成件之一 磁鐵係使之定向以使此磁鐵之磁極化實質上與第一磁鐵組 成件之一磁鐵之磁極化在實質上為反平行及第二磁鐵組成 件之一磁鐵係使之定向以使其磁極化在實質上與第一磁鐵 組成件之一磁鐵之磁極化實質上為垂直。此具體實例之優 點為對於磁支承之一既定大小言，其可提供在最大靜力之 設定範圍中之較大行程之一支承。 於本發明之另一有利配置中，支承可另包括一導電元件 以其連接至一電源供應，藉由該導電元件所運載之電流與 該第一，第二及第三磁鐵組成件中之至少一磁場間之相互 作用而於微影裝置之第一與第二部分間產生一力。此種配 置之優點為結果所得之力可用以控制微影裝置之第一與第 一部分之分離。 另一特點為本發明所提供之於本文中開始一節所說明之 微影裝置尚包括於裝置之第一部分與第二部分之間之第一 支承方向提供一磁力之一支承，其中此支承包括第一，第 二及第三磁鐵組成件及； 該第一及第三磁鐵組成件係附接於該第一部分及各自包 括至少一經定向之磁鐵以使其磁極化實質上與該第一方向 平行或反平行，該第一及第三磁鐵組成件中之至少一組成 件具有繞沿第一方向之一軸線之實質上為對稱之組態； 該第一及第三磁鐵組成件界定位於彼等之間之一空間； -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1251863 A7 B7 五、發明説明（9 ) 邊第二磁鐵組成件附屬於第二部分及至少包括一磁鐵， 遠第二磁鐵組成件至少部分位於該空中；及 違第二磁鐵組成件該之至少一磁鐵係使其磁極化定向， 以便藉該第一，第二及第三磁鐵組成件之間之磁相互作用 在實質上沿該第一方向產生一偏壓力。 尚有另一特點為本發明所提供之於本文中開始一節所說 明之微影裝置另包括於此裝置之第一部分與第二部分之間 提供沿第一支承方向之力之一支承，其中此支承包括第一 及第二磁鐵組成件及： 忒第二磁鐵組成件係附接於第二部分及包括至少一磁 鐵，此磁鐵使其磁極化定向以便藉該第一及第二磁鐵組成 件間之磁交互作用產生實質上沿該第一方向之一偏壓力； 及 该第一磁鐵組成件係附接於該第一部分及包括至少二永 久磁鐵，該等永久磁鐵之相對位置可以調整以便調整該偏 壓力。 尚有另一特點為本發明所提供之於本文中開始一節所說 明之微影裝置尚包括於此裝置之第一部分與第二部分之間 提供沿第-支承方向之一磁力之一支承，其中此支承包括 第一及第二磁鐵組成件及： 該第一磁鐵組成件附接於第一部分及具有實質上平行及 反平行於該第一方向之磁極化； 該第二磁鐵組成件附接於第二部分及具有至少一磁鐵， 此磁鐵使其磁極化沿垂直方向之一第二方向定向以便藉該 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 1251863 A7 B7 五、發明説明（10 ) 第一與第二磁鐵組成件間之磁相互作用而產生在實質上沿 該第一方向之一偏壓力；及 一可連接至電源供應之導電元件，該導電元件附屬於該 第一部分以便藉該導電元件所載之電流與該第二磁鐵組成 件之一磁場之相互作用而產生平行於該第一與第二部分之 間之該第一方向之一力。 根據本發明之另一特點為提供一種製造裝置方法，包括 以下步騾： 提供一至少係部分為一層輻射敏感材料所遮蓋之基板； 使用一輻射系統提供一輻射投影光束； 使用圖案形成裝置以使投影光束於其橫截面具有一圖 案； 將形成圖案之輻射光束投影於輻射敏感材料層之一目標 部分上； 提供一支承，此支承於微影裝影裝置之第一部分與第二 部分之間提供沿第一支承方向之一磁力，微影裝置包括第 一，第二及第三磁鐵組成件，及其中： 該第一及第三磁鐵組成件附接於該第一部分及每一^组成 件包括至少一經定向之磁鐵，以使其磁極化在實質上與該 第一方向平行或反平行； 該第一及第三磁鐵組成件係予以配置以於彼等之間在實 質上垂直於第一方向之一第二方向界定一空間； 該第二磁鐵組成件附接於第二部分及包括至少一磁鐵， 該第二磁鐵組成件至少部分位於該空間中；及 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 1251863

4第一磁鐵組成件之該至少一磁鐵係使其磁極化定向以 便在實質上沿孩支承方向藉該第―，第二及第三磁鐵組成 件間之磁相互作用產生一偏壓力。 裝

雖然於本文中特別以積體電路（1C)之製造討論使用根據 本發明《裝Ϊ，但是可明確瞭解者此種裝置可適合很多其 他可能《應用。例如，其可用於製造積體之光學系統，用 :磁域1己憶器之導引及檢測圖案，液晶顯示板，薄膜磁頭 寺。熟練之技術人員將可瞭解。在此種代替性應用之語意 上，於本又中之任何“標線，，，“晶圓，，或“小晶片，，之 名詞之使用均應認為可由更廣義之名詞“光罩”，“基 板及“目標部分，，分別所取代。 於本文件中’ H射及“光束，，三詞係用以涵蓋所有 形式之電磁n射，此包括紫外線輕射（例如具有波長為 訂

線 3 65 248 193 ’157 或 126 納米（nm)者）及EUV(超紫外 線41射’例如具有波長在5_2〇 nm者），以及例如為離子束 或電子束之粒子束。 本發明之具體實例現僅藉舉例及參考所附之簡圖而予 說明，於附圖中： 圖1描繪根據本發明之-具體實例之—微影投影裝置； 圖2a顯示根據本發明之用組態之磁鐵之示意配 圖； 圖 圖2 b顯示就圖2 a之組態所計算 圖3a顯示用於根據本發明之另 之磁場之磁力線； —組態之磁鐵之示意配置 -15-

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圖3b顯示就圖3a之組態所計算之磁場之磁力綠· 圖4a顯亲用於根據本發明之另一 7 ’ 、'’且怨又磁鐵之示意配置 圖， 圖4b顯示就圖4a之組態所計算之磁場之磁力線； 圖5a顯示根據本發明之一軸向對稱支承之二半之于音 置圖； < ~ 圖5b顯示就圖6&所示之支承所計算之磁場之磁力線； 圖6a顯示以牛頓（N)表示就垂直（㈣，土i叫及水平& 軸，±1.5 mm)移動之支承力之等量線描圖； 圖6b顯示以牛頓（N)表示就垂直⑽，士丨叫及水平（X 軸，±1.5 mm)移動之徑向力之等量線描圖； 圖7a及7b顯示根據圖5&之配置之—支承之第二模擬之結 果；及特別係 圖7a顯示以牛頓（N)表示就垂直⑽，土i咖）及水平& 軸，±1·5 mm)移動之支承力之等量線描圖； 圖7b顯示以牛頓（N)表示就垂直（痛，土丄_)及水平& 軸，±1·5 mm)移動之徑向力之等量線描圖； 圖8顯示圖5a之支承之一變體之示意配置圖； 圖9a顯示根據本發明之另一軸向對稱支承之一半之示意 配置圖； 圖9b顯示就圖7a所示之支承所計算之磁場磁力線； 圖10，11及12顯示根據本發明之一磁支承之具體實例之 另一示意配置。 於圖式中，對應之參考符號指示對應之組件。 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(2i^i97公釐） 1251863 五、發明説明（13 ) 圖1以簡圖描繪根據本發明之一特別具體實例之一微影投 影裝置。此裝置包括： 一輻射系統Ex，IL以其供應輻射之投影（例如紫外線輻射 (UV)或超紫外線輕射（EUV))光束pB。於此特別情況，輻 射系統包括一輻射源LA ; 一第一物件台（光罩台）Μτ備有一光罩固定器用以固定一 光罩MA(例如-標線），及連接至第—定位裝置用以將光罩 相對於項目PL準確定位； 第一物件台（基板台）…丁備有一基板固定器用以固定一 基板W(例如經塗有抗蝕劑之矽晶圓及連接至第二定位裝置 用以將基板相對於項目p L準確定位； 、一投影系統（“透鏡” PL(例如一繞射或兼反射及折射系 統，一鏡組或一場偏向器陣列）用以將光罩ma之一輻照部 分成像於基板W之-目標部分c之上（例如包括—個或多個 小晶片）。 如本文所說明，本發明之裝置為一種傳送型式（亦即具有 -傳送性光罩卜然而，在—般情形下，例如其可為一反射 型式（具有-反射性光罩）。_種代替性方式為此裝置可使用 另種圖木形成裝置，例如為上文中所提及之一種可程式 規劃之鏡陣列型式。 抑源LA(例如為一準分子雷射，t置於一儲存環或同步加速 二中之弘子束路徑四周之一波動或搖擺裝置，一雷射產 生<電漿源，一放電源或一電子或離子束源）產生一輻射光 束此光束例如直接或在橫過例如一光束擴展器Ex之調理 本紙張尺度杉丨中__CNS) A_21GX 297公爱） 17- 1251863 A7 ___ B7 五、發明説明（I4 ) 裝置之後而饋入一照明系統（照明器）丨L。照明器〗l可包括 调整裝置Am用以設定光束亮度分布之外部及/或内部徑向 伸區（通常一般分別稱作（J -外部及σ _内部）。此外此照明器 一般包括例如一積分器IN及一聚光器C0之各種不同之其他 組成。在此種情況下，撞擊於光罩上之光束PB在其橫截面 中具有所需之均一性及亮度分布。 對於圖1而言，需注意者，源LA可置於微影投影裝置之 外殼中（例如當源LA為一水銀燈時，即經常係為此種情 況），但亦可設置於遠離微影投影裝置之處，其所產生之輕 射光束即被導引至投影裝置中（例如藉適當之導引鏡協助）； 後述之方案經常為當源LA為一準分子雷射之情況。本發明 及申请專利範圍涵蓋此二種方案。 光束PB然後攔截固定於一光罩台mt上之光罩MA。光束 PB在橫過光罩MA之後即通過將光束pB聚焦於基板w之一 目標部分C之上之透鏡Pl。藉第二定位裝置（及干涉測量裝 置IF)之助，基板台WT可使之精確移動，以便例如將不同 之目標部分C定位於光束PB之路徑中。同樣，例如在以機 械方式自一光罩程式庫取回之後或於一掃描期間，第一定 位裝置可用於將光罩MA相對於光束PB予以定位。一般言 之，物件台MT&WT將可藉助長行程模組（粗定位）及短行 程模組（細定位）而完成，此種定位未於圖1中明白示出。然 而如使用晶圓步進器（相對於一步進及掃描裝置），則僅需將 光罩台Μ T連接至一短行程致動器或予以固定即可。 以上所述之裝置可以二不同模式使用： -18-

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i.於步進模式中，光罩台价保持實質上域定型式 全邵光罩影像在-次閃光（亦即一單獨“閃 ，部分C之上。基板w及/或y方向位移：使 目標部分C可由光束PB輻照； 2·於掃描模式中，實質上可適用同樣之方案，例外者 是、，-特定之目標C並不曝光於_單獨之閃光中。代替之方 式為光罩台MT係在-特定之方向（即所謂“掃描，，方向， 例如為y方向）以一速度¥移動，如此可致使投影光束pB於一 光罩影像上方掃描；與此同時，基板台资係同時以一速度 V’v係沿同一或相反方向移動，於式切為透鏡pL之放 大倍數（一般情況下，¥=1/4或1/5)。在此種方式下，一較 大之目標部分C可予以曝光，且不會有損於解析度。 本發明在概念上之配置現將參考圖式予以說明。 圖2 a及2b顯示根據本發明之磁鐵之組態及此組態所產生 <相對應 < 磁場磁力線。根據此組態第一及第三永久磁鐵 係配置於裝置之待支承之一基座部分上（未示出）。此基座可 附接於士裝裝置之地板上，在此種情況下待支承之元件可 與參考框架RF隔離，或者此底座例如可為物件台中之一台 <支承一短行程模組之一長行程模組之一動態組件。磁鐵 係經安排以使彼等之磁極化為垂直但彼此相反。第二磁鐵3 附接於待支承之元件上（亦未示出）。其係經配置以使其磁極 化為平行及位於附接於基板之第一與第三磁鐵1，2之間。 然而，其組態亦可能包括電磁鐵以取代永久磁鐵。於一種 變體之配置中，磁鐵3係附接於基板及磁鐵1，2則附接於待 -19- 本紙張尺度適用冢標準(CNS)A:·規格(2iGX297公爱)— 1251863 A7 B7 五、發明説明（16 ) 支承之元件。 磁之相互作用於第二磁鐵3上相對於第一及第三磁鐵1，2 上係產生一垂直之力及因此提供一垂直之力以支持由基板 所支承之元件。此力之所以產生係因為第二磁鐵3之左手邊 極3a(如圖示）受到第一磁極1之底極u之排斥及頂極lb之吸 引。同時第二磁極3之右手邊磁極31)係受到第三磁極2之底 極2a之排斥及頂極2b之吸引。 於垂直範圍内，第二磁鐵3之垂直力僅有少許變化，此形 成低剛性，因為磁場密度變化很小之故。第二磁鐵於第一 及第二磁1，2之上部磁極lb，2b處感受到負剛性及於底部 一磁極1 a，2 a處感受到正剛性，此二剛性實質上抵消以致 造成極低之整體剛性。再者，加之於第二磁鐵之水平移動 (在圖式之平面中之移動）之垂直力之變動極小。 此為一種有利組態，因為其產生一高垂直力及在垂直與 水平方向具有低剛性。再者，磁鐵變為去磁化之危險最 小，由於組態之對稱性，繞垂直於圖式之軸線之移動最 小。對於第一與第三磁鐵i，2之間之垂直力之任何不平衡 之補償可藉施加第-及第三磁鐵中之—或另—磁鐵之水平 偏置力而得補償。 圖3 a及3b顯示根據本發明之磁鐵之不同組態及此組態所 產生之對應之磁場之磁力線。此種組態與圖以及几所示者 相似’但此組態中第一及第三磁鐵u，以配置為彼等之 磁極化為相同方向（向上或向下方向）及第二磁鐵13之配置 為其磁極化與第一以及第三磁鐵之磁極化成垂直及相反極 -20-

1251863 A7 B7 五、發明説明（17 ) 向（反平行）或平行。當磁極化定向為反平彳亍時，其將自具有 如圖3a及4a所示之一向上定向之磁極化之磁鐵u，12之間 向下伸出一部分。在當第二磁鐵具有一平行磁極化定向 時，其將有如圖4a中就磁鐵14所示向上伸出。如前述，第 一及第二磁鐵係附接於基座及第二磁鐵附接於受到支承之 元件（或反之亦然）。 此組怨產生之剛性及力量與上述第一組態相似，但有寬 度較小之優點。 如前述，磁鐵可為電磁鐵，但是以永久磁鐵為佳。永久 磁鐵無需電流因此不會產生電力消耗，相對應之熱負荷及 各種不同元件之溫度變動，對於各種不同元件之冷卻，特 別係在真空環境可能不便利實施。 圖4a及4b顯示根據本發明之磁鐵之另一組態（其為圖。及 3b中所示之一種變體）及組態所產生相對應之磁場磁力線。 圖3a及3b中所示之組態與圖心及外中所示之組態之間之差 別為連接至第二磁鐵13之第四磁鐵14之存在。第四磁鐵之 配置為其磁極化與第二磁鐵者相反。此組態較之圖“及讪 中所示者為其可提供垂直支承力。 所有上述概念上之配置均可用於具有旋轉對稱之相對應 之配置/即環形及/或圓柱形配置，其中橫截面之一半可與上 述者相同）。旋轉對稱配置有其優點，因為磁強度之變動對 於支承特性之影響較小。 圖2a，3a及4a所示（亦如圖9&中所示）之概念性具體實例 對於具有至少部分位於另一磁鐵組成件之磁鐵間界定之一 -21 - 本紙張尺度適用中a 0家標準(CNS) μ規格(_ x挪公爱)------ 1251863 A7

=之二鐵組成件之一個或多個磁鐵之該等組態所提 '工作工間中低整體剛性言，可證明為有利。然而， 將後者組成件之磁鐵丨，2 …、 丄 2 , 11 12，2〇1，202 中之一磁 磁性支承亦可有令人滿意功能。此可於同樣工作 :間中產生較大剛性，但可有一較為簡單及較小磁性支承 早70《優點。特別是於圖3a&4a之組態中省掉磁鐵 將：f生具有極小寬度之磁支承力。對於具有旋轉對稱之 組®了，此將意指省掉内部或外部磁鐵中之一磁鐵。 為能產生有效率之支承裝置，現今有意使用例如敛鐵棚 (NdFeB)或彰鈷之高能量密度之磁性材料。然而亦可使用 其他永久磁鐵。 圖5a以簡圖方式顯示一種配置以其用作為一基板台之短 行程模組之動態支承或一圖案形成裝置之支承。圖讣顯示 用於圖6a之配置之結果所得之磁場磁力線。 圖5a中以間圖所不之配置為圖2a中所示之一變體。第一 及第三磁鐵分別分開為二部分101，1〇2及1〇3，1〇4。第 二磁鐵亦分開為二部分1〇5，1〇6及加添一線圈於第二磁鐵 之二部分之間。此外，此配置繞軸線100而成旋轉（軸向）對 稱，如此每一磁鐵及線圈在垂直於軸丨00之一橫戴面上為一 環形。第一及第三磁鐵101，102，103，104及線圈1〇7係 安裝於基座上（以簡圖示出），此基座於此配置中為長行程模 組，第二磁鐵105，106安裝於被支承之短行程模組上。 調整第一磁鐵101，102二構件間之距離dl及調整第三磁 鐵103，104二構件間距離d2，即可調整短行程與長行程間 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 1251863 A7 __ __B7 五、發明説明（19~") " ---- 之模組間靜力分量。此可使靜力分量就短行程模组之重量 而調整。線圈1G7提供動力分量。經由線圈之—經控制之電 流（垂結圖平面）與第二磁鐵之磁場相互作用以產生洛仁子 (L㈣ntZ)力，此力增加或減少短行程與長行程模組間之靜 力’因而相對於長行程模組可於短行程模組上產生一靜 力。 圖6a，6b分別顯不由模擬g5a所示之一配置之模擬所獲 得之以牛頓（N)計之垂直及水平靜力，以供第二磁鐵1〇5， 106以水平（徑向）及垂直（軸）向移動至第一及第三磁鐵 102 ’102’ 1〇3，1〇4及{線圈1〇7。力量及轉矩係獲自沿磁 場磁力線之Maxwe_變張力之積分。後文中之表i顯示模 擬中元件之尺寸，c|)inner及分別表示一元件之以毫米 (mm)計之内部及外部直徑。永久磁鐵之材料為，其 頑磁Br=1.38 Tesla (τ)及導磁係數#尸丨〇5。線圈為銅線 (填充因數0.8)。如圖示，垂直力保持大致為常數及水平力 遠小於垂直力。第一及第三磁鐵1〇1，1〇2，ι〇3，1〇4之 二構件間之距離dl，d2為〇·2 mm。距離dl，“亦可獨立 改變。後文中之表2，3及4就第一及第三磁鐵1〇l，l〇2， 103，104乏二構件間三不同距_dl，d2概要顯示模擬之結 果。剛性以每米紐頓（N/m)及轉矩以毫牛頓米㈣^^㈣表 示。κ-因數代表流經線圈107之單位電流之乙…⑶匕值。所 提出之數值係用於x= ± ! 5 mm，y= 土 i 5 mm&z= ±工 mm之一立方工作空間。 圖7a及7b分別顯示用於第二模擬之對應於圖。及“所示 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公I) 裝

訂

線 1251863 A7 ^—--B7 五、發明説明（20 ) 之結果，於此模擬中元件之尺寸經示於後文之表5中。（需 注意圖h，6b之水平軸上之數值，於圖。及几中需乘2 1.5)。模擬之其他方面均相同。於後文中之表6，7及8概要 顯示就第-及第三磁鐵1()1，1Q2，1Q3，iG4之二構件間 之三不同距離dl，d2於第二模擬之結果。 、^1及2之組態間之一差別在—方面為第二磁鐵ι〇5，ι〇6 之高度及在另-方面為線圈之高度。二者中之一係經以有 利万式選擇至少在支援方向之工作範圍大於-者中之另一 個有一數值以便在k_因數上有一小變動。 對於圖5a之組態之一項進一步之評論為，磁鐵組成件 101，1G2之表面區域上之積分磁通量實質上等於磁鐵組成 件103，104之表面區域上之積分磁通量，以便有表2，3， 4，6，7及8中所示之參數之一小變動值或一小值數。此组 態未經優化及連同模擬結果一併列出僅為例示目的。 於圖6a及7a示出作為第二磁鐵組成件1〇5，1〇6相對於第 三磁鐵組成件101，102及103，1〇4之位置之一函數之一 支承力表可予以儲存於_記憶器裝置中及用以藉控制線圈 107中之電流而控制附加之支承力。在此種方式下，支承力 可使之於工作空間上方更為恆定，以產生此種裝置之有效 垂直剛性之一甚至更低值。一類似之方法可予以選用以於 -冗憶器裝置中儲存圖6&或71)中之數值，以控制作用於垂 直於支承方向（即徑向方向）之一平面中之另一制動器，以進 一步減少有效水平剛性。 圖8顯示圖5a之配置之一變體。於此配置中磁鐵組成件 -24-

五、發明説明（21 ) 1 〇 1 ’ 1 0 2 ’ 1 〇 3 ’ 1 0 4 及 1 1 1，1 1 2，1 1 3，i i 4 係經配置 為所謂Halbach組態。此係藉於第一及第三磁鐵1〇1， 102，103，104之上方及下方加添永久磁鐵ln，112， 113，114，此等永久磁鐵之磁極化與第一及第三磁鐵之鄰 近之一磁鐵成90之角度。Halbach組態可用以減少包圍 支承件之雜散磁場及亦可減少為一既定靜力所用之質量。 亦如上文所述，圖&及8之具體實例之第一及第三磁鐵組 成件中之一組成件可能在犧牲若干附加之剛性情況下予以 省掉。然而，此種附加之剛性可藉儲存工作空間上方之支 承力之一表及藉控制線圈1〇7中之電流而控制一附加之力而 被平衡。 圖9a以簡圖方式顯示之配置為圖2a中所示者之另一變體 及圖9b顯示結果所得之磁場磁力線。在此種情況下，支承 係用為一靜態支承。此支承繞軸線2〇〇而旋轉（軸向）對稱及 因此第一，第二及第三磁鐵2〇1，2〇3，2〇2為環狀型式。 第一及第三磁鐵安裝於基座上（以簡圖示出），此基座在此種 配置情況下為安裝微影裝置之地板，第二磁鐵安裝於由磁 支承所支持之參考框架RF(以簡圖示出）。於使用時，重要 之事（對於先前配置亦屬重要之事）為支承需具有極低剛性， 以便將參考框架（以及微影裝置之重要組件）與外部震動隔 離。根據簡化之支承模式，可以想作由一弱彈簧懸吊之一 質量。此系統之自然頻率為： 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公

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於式中k為支承之剛性及111為被支承之質量。待支承之質量 (對每支承而言）一般在m= 100 0 kg，最大自然頻率設定 為0 · 5赫（Η z )。自此數值可知，最大可容許之剛性可約為 9900 Ν/m。如果達成此種數值，則任何高於〇 5赫之干擾 〜、率將了使之衷減’其衣減因數隨頻率而增加。 於後文之圖9中顯示用於實現圖9之組態模擬中配置之尺 寸此等尺寸並非提供為支承優化配置之用，而係純為例 不目的。磁鐵由NdFeB及具有//尸ΐ·〇5及Br=1.38 T之磁 鐵形成。模擬顯示用於自〇至1 mm之垂直方向之移動之垂 直力為8 3 1 1 N ± 0 · 〇 1 %及絕對垂直剛性之最大值為2 7 5 〇 N/m。 參考框架RF亦可於圖5a之配置中設置以備有一線圈用以 於框架上產生支承方向之定位力量及/或進一步減少剛性。 訂

線 於上述之諸配置中，第一及第二磁鐵及線圈在適當情況 下係安裝於基座上及第三磁鐵則安裝於被支承之元件上。 然而根據本發明之其他配置，此種安置可以反向實施。此 外’根據本發明及如上述之靜態及動態支承可用以支承非 上述特別說明之微影裝置之元件。 圖10顯示另一磁支承之具體實例，此支承包括具有朝向 下方磁極化之一上部磁鐵3〇1及具有朝向下方磁極化之一下 部磁鐵3 02。二磁鐵均為永久磁鐵及具繞共同垂直軸之一環 形組態。永久磁鐵位於磁鐵3 〇丨與3 〇 2間之一空間及亦以旋 轉方式繞共同垂直軸成對稱。磁鐵301及302附接於一底座 部分及磁鐵303附接於一支承部分，或反之亦然。 -26- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公董) 1251863 A7

圖11顯示磁支承之另一具體實例，其亦為上述實例之一 變體。圖η之具體實例具有繞一垂直軸之旋轉對稱及包括 具有沿對帅平行（或反平行）支承方向之磁極化之第一磁鐵 組成件之内部永久磁鐵101及102。具有一環形組態之第二 磁鐵組合件之另一永久磁鐵105係圍繞第一磁鐵組成配置。 磁鐵105具有垂直於支承方向之一方向之徑向磁化。大型軸 向磁化之内部磁鐵105基本上提供磁支承力。細軸向磁化磁 鐵102認為係一調整磁鐵。使用調整裝置11〇修改磁鐵ι〇ι 與1 0 2間之間隙可因此調節標稱之支承力。 圖11進一步顯示圍繞磁鐵1〇5設置及附接於底座部分之一 線圈107。由線圈電繞組所載之電流係與磁鐵1〇5之徑向磁 場分量相互作用以便可提供垂直方向之附加力量。此力視 電流方向而指向上方或下方。 圖1 2顯示一磁支承之另一變體，此變體包括一載流元件 以其用於一附加垂直力及具有數磁鐵，此等磁鐵之間之相 對位置可以碉整以調整一標稱之支承力。此圖顯示具有環 形永久磁鐵401及402之第一磁鐵組成件，其磁極化方向如 圖中所示，另外亦顯示具有環形磁鐵403及4〇4之第二磁鐵 組成件，其磁化如圖示。此組態可產生藉使用調整裝置4 1〇 調整磁鐵401及402間之垂直間隙而得調整之磁支承力。一 線圈4 0 5提供一附加垂直力，此垂直力可視線圈繞組所載之 電流而指向上方或下方。 本發明之特定之具體實例業已於上文中予以說明，但可 暸解本發明可以除去上文所說明之其他方式實施。本發明 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 裴 訂

1251863 A7 B7 五、發明説明（24 ) 無意限制本發明。明確言之，不應自圖式或以上例示性舉 例之說明中之元件之相對尺寸或型狀而獲取結論。 表1 :第一; 莫擬中之元令 二之尺寸 元件 Φ inner (Him) φ outer (mm) 高度〇nm) 101 11 20 12.4 102 11 20 12.4 103 88 91 12.4 104 88 91 12.4 105 32 44 10 106 64 75 10 107 50 60 14 表2 :當第一模擬中磁間隙dl二d2二0.2 mm時之特性 特性 數值 單位 標稱垂直力 88.40 N 最大垂直剛性 -170 N/m 最大水平剛性 -128 N/m 最大垂直力變動 0.1 % 最大水平力絕對值 0.18 N 最大轉矩絕對值 13.5 mNm 標稱k-因數 0.0310 N/A 最大k-因數變動 0.97 % 表3 :當第一模擬中磁間隙dl = d2 = 0.4 mm時之特性 特性 數值 單位 標稱垂直力 85.10 N 最大垂直剛性 -270 N/m 最大水平剛性 -129 N/m 最大垂直力變動 0.2 % 最大水平力絕對值 0.18 N 最大轉矩絕對值 9.1 mNm 標稱k-因數 0.0310 N/A 最大k-因數變動 0.97 % -28- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐） 1251863 A7 B7 五、發明説明（25 ) 表4 :當第二模擬中之磁間 隙dl = d2 = 0.6 mm時之特性 特性 數值 單位 標稱垂直力 81.82 N 最大垂直剛性 -430 N/m 最大水平剛性 -126 N/m 最大垂直力變動 0.3 % 最大水平力絕對值 0.19 N 最大轉矩絕對值 4.7 mNm 標稱k-因數 0.0310 N/A 最大k-因數變動 0.97 % 表5 :第二; 隱擬中元件之尺寸 元件 Φ inner (饥〇 φ outer (mm) 高度 101 10 20 12.65 102 10 20 12.65 103 72 74 12.65 104 72 74 12.65 105 31 37 16 106 55 61 16 107 43 51 12 表6 :當第二模擬中之磁間 隙（11=(12 = 0.2 mm時之特性 特性 數值 單位 標稱垂直力 93.11 N 最大垂直剛性 200 N/m 最大水平剛性 212 N/m 最大垂直力變動 0.2 % 最大水平力絕對值 0.40 N 最大轉矩絕對值 8.8 mNm 標稱k-因數 0.0241 N/A 最大k-因數變動 1.50 % -29- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1251863 A7 B7 五、發明説明（26 ) 表7 :當第二模擬中之磁間 隙dl二d2 = 0.4 mm時之特性 特性 數值 單位 標稱垂直力 90.60 N 最大垂直剛性 310 N/m 最大水平剛性 178 N/m 最大垂直力變動 0.15 % 最大水平力絕對值 0.35 N 最大轉矩絕對值 9.9 mNm 標稱k-因數 0.0241 N/A 最大k-因數變動 1.50 % 表8 :當第二模擬中之磁間 隙dl = d2 = 0.6 mm時之特性 特性 數值 單位 標稱垂直力 88.08 N 最大垂直剛性 240 N/m 最大水平剛性 149 N/m 最大垂直力變動 0.12 % 最大水平力絕對值 0.30 N 最大轉矩絕對值 11.0 mNm 標稱k-因數 0.0241 N/A 最大k-因數變動 1.50 % 表9 :第一; 溪擬中之元# h之尺寸 元件 Φ inner (πίΠΐ) φ outer (mm) 高度(mm) 201 10 120 140 202 380 420 140 203 192 312 84 裝 訂 線 -30-本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1251863 A7 B7 五、發明説明（ 27 ) 主要零件之參考數字表 MA .光罩 M! (待確定） m2 (待確定） Pi (待確定） P2 (待確定） C 目標部分 LA 輻射源 Ex 光束擴展器 IL 照明系統（或照明器） AM 調整裝置 IN 積分器 CO 聚光器 PB 光束 MT 光罩台 PL 透鏡 RF (待確定） W 基板 WT 基板台 IF 干涉測量裝置 1 第一永久磁鐵 la 磁極 lb 上部磁極 2 第三永久磁鐵 -31 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 x 297公釐) 1251863 A7 B7 五、發明説明（28 ) 2 a 磁極 2b 3 3 a 3b 11 1 la lib 12 12a 12b 13 13 a 13b 14 100 上部磁極 弟一磁鐵 左手邊磁極 右手邊磁極 第一磁鐵 (待確定） (待確定） 第三磁鐵 (待確定） (待確定） 第二磁鐵 (待確定） (待確定） 第四磁鐵 轴線 10 1，102 103， 104 105， 106 105 107 第一磁鐵之二部分（或第一磁鐵組成件） 弟二磁鐵之一部为（或弟三磁鐵組成件） 第二磁鐵之二部分（或第二磁鐵組成件） 永久磁鐵（或徑向磁化磁鐵） 線圈 111-114 105 200 永久磁鐵 永久磁鐵 軸線 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇 X 297公釐） -32- 1251863 A7 B7 五、發明説明（29 ) 20 1 第一磁鐵 202 第三磁鐵 203 第二磁鐵 30 1 上部磁鐵 302 下部磁鐵 303 永久磁鐵 401，402 環形永久磁鐵 403, 404 環形永久磁鐵 405 線圈 410 調節裝置 -33- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 1251863 申請曰期 案 號 ^091111572 類 別 A4C4 94 12 0 9 中文說明書替換頁(94年12月）

專利説明書

中 文 微影投影裝置及使用該裝置之製造方法 發明a 啊型名稱 英 文

LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD USING THE SAME 姓 名 國 错

1·史芬安東恩喬翰荷爾SVEN ANTOIN JOHAN HOL 2·艾德恩喬翰布伊斯EDWIN JOHAN BUIS 1.2.均荷蘭 THE NETHERLANDS 住、 居所

1·荷蘭艾德哈維市蒙格美力蘭路771號 MONTGOMERYLAAN 771? NL-5623 AW EINDHOVEN, THE NETHERLANDS 2·荷蘭貝爾菲德市萊格拉夫路186號 LEYGRAAF 186, NL-5951 GZ BELFELD，THE NETHERLANDS 裝 訂 姓 名 (名稱) 國 積 三、申請人 2表 名

荷蘭商ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V. 何蘭 荷蘭拉維德哈維市魯恩路mo號 DE URN 1110? NL-5503 LA VELDHOVEN, THE NETHERLANDS

A.J.M.范赫夫 A.J.M. VAN HOEF 線

Claims (1)

125 1 8科91111572號專利申請案 A8 中文申請專利範圍替換本(94年12月）思 -——------ --94. 12. 0 9 D8 六、申請專-- ϊ· 一種微影投影裝置，包括 一輻射系統，用以提供一輻射投影光束； 一支承結構，用以支承圖案形成裝置，該圖案形成裝 置供作將投影光束根據所需圖案形成圖案； 一基板台，用以固定一基板； 一投影系統，甩以將形成圖案之光束投影於基板之一 目標部分上；及 一支承以其沿微影投影裝置之第一部分與第二部分之 ，之一第一支承方向提供一磁力，其特點為此支承包括 第一、第二及第三磁鐵組成件及其中： 孩第一及第三磁鐵組成件附接於該第一部分及各自包 括至V 經足向之磁鐵’以使磁極化實質上平行或反平 行於該第一方向； 孩第一及第三磁鐵組成件於其之間以實質上垂直於第 一方向之第二方向界定一空間； 該第二磁鐵組成件附接於第二部分及至少包括一磁 鐵，泫第二磁鐵組成件至少部分位該空間中；及 孩第二磁鐵組成件使其磁極化定向以便藉該第一、第 一及第二磁鐵組成件間之磁交互作用而在實質上沿該第 一方向產生一偏壓力。 2·如申請專利範圍第1項之微影投影裝置，其中該第一、 第一及第二磁鐵組成件中之一組成件包括至少一永久磁 鐵。 3 ·如申清專利範圍第1或2項之微影投影裝置，其中該第 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公澄]' ~ -*

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、必处汴於垂直於該第一 上限定該第-磁鐵組成件向《-平面中至少實質 定該第二磁鐵組成件。…磁鐵組成件實質上限 如申請專·㈣3項之微影投 组成件係㈣質上平行於♦磁鐵 在實質上成旋轉對稱。 万向共同軸線至少 5_如申請專利範圍第1或2項 -^ Mm ^ A矽投影裝置，其中該第 一）¥1以咱敖： 個、、且成件包括二磁鐵及 力。 置又裳置以便調整該偏壓 6·如申請專利範園第5項之微影投影 〃 腐你、、凡眷肪， 〜t置，其中茲第二磁 ρο ^ ^ π、土 刁Π艾万向相間隔以於二者 間界疋一可碉整之間隙。 7·如=f:範圍第1或2項之微影投影裝置，其中該第 ; = 中之一磁鐵係予以定向，以使其磁極化實 乂 ^^丄、 磁鐵又磁極化；及第二 磁鐵組成件之第一磁鐵係予 …一々 ㈣了以疋向，以使其磁極化實質 仃或反平行第-闕組成件之磁極化以便提供偏壓 力。 :申：專利範圍第7項之微影投影裝置，其中該第二磁 :::件另：包括經定向之第二磁鐵，以使其磁極化實 溢上平行於第二磁鐵組成件之一 ^ 币磁鐵之磁極化以便提 供沿第一方向之進一步偏壓力。 9.如申請專利範圍第項之微影投影裝置，其中該第

-2 - 1251863 ^ A8 申请專利範 B8 C8 D8 圍 三磁鐵組成件之一磁鐵係予以定向以使其磁極化實質上 反平仃於第一磁鐵組成件之一磁鐵之磁極化；第二磁鐵 、、’成件之第磁鐵係予以定向以使其磁極化實質上垂直 万、第一磁鐵組成件之磁極化以便提供偏壓力。 1〇·—種微影投影裝置，包括·· 一輻射系統，甩以提供一輻射投影光束； 一支承結構，用以支承圖案形成裝置，此圖案形成裝 置用作將投影光束根據所需圖案形成圖案； 一基板台，用以固定基板； 一投影系統，用以將形成圖案之光束投影於基板之目 標部分上；及 一支承以其沿微影投影裝置之第一部分與第二部分之 間 < 第一支承方向提供一磁力，其特點為此支承包括第 一、第二及第三磁鐵組成件及其中： 该第一及第三磁鐵組成件附接於該第一部分及各自包 括至少一經定向之磁鐵，以使其磁極化實質上平行或反 平行於該第一方向，該第一及第三磁鐵組成件中之至少 一組成件具有繞沿第一方向之一軸線之一實質上成旋轉 對稱之組態； 該第一及第三磁鐵組成件於彼等之間界定一空間； 該第二磁鐵組成件附接於第二部分及包括至少一磁 鐵，該第二磁鐵組成件至少部分位於該空間中；及 该弟一磁鐵組成件之該至少一磁鐵使其磁極化定向以 便藉該第一、第二及第三磁鐵組成件之間之磁相互作用 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規袼(210 X 297公釐） 1251863 六、申請專利範圍 A8 B8 C8 D8

而產生沿該第一方向之偏壓力。 1 1 _如申清專利範圍第1 〇項之微影投影裝置，其中該第 一、第二及第三磁鐵組成件包括至少一永久磁鐵。 1 2 ·如申請專利範圍第丨〇或i丨項之微影投影裝置，其中該 第一及第二磁鐵組成件於彼等之間界定沿實質上垂直於 第一方向之第二方向之該空間。 13. t申請ί利範圍第1〇或U項之微影投影裝置，其中該 第一及第三磁鐵組成件於彼等之間沿該第一方向界定一 工間及Θ帛及第二磁鐵組成件之磁極^匕方向實質上彼 此相反。 14. 如申請專利範圍第13項之微影投影裝置，丨中該第一 及第三磁鐵組成件二者均繞沿第—方向之該轴線而具有 實質上為旋轉對稱結組態。 15. 如，申請專利範圍第14項之微影投影裝置，纟中該第一 及第二磁鐵组合件均有實質上為環形组態。 1 6 · —種微影投影裝置，包括： -輻射系統’用以提供—輻射投影光束； -支承結構’用以支承圖案形成裝置，此圖案形成裝 置用作將投影光束根據所需圖案形成圖案； 一基板台，用以固定一基板； U’用以將經形成圖案之光束投影於基板之 一目標部分上；及 、一支承’用以提供於微影投影裝置之第-部分與第二 邵分之間以第一皮7¾女Α, 万向犍供一磁力，其特點為該支承 -4 -

1251863 ι括第· 一及弟一磁鐵組成件及其中· 該第二磁鐵組成件附接於第二部分及包括至少一磁 鐵，此磁鐵具有經定向之磁極化以便藉該第一及第二磁 組成件間之磁交互作用而產生實質上沿該第-方向之偏 壓力；及 I 帛第—磁鐵組成件附接於該第-部分及包括至少二永 '.栽名等永久磁鐵之一相對位置可予以調整以便調 整该偏壓力。 17 ·如申4專利範圍第i 6項之微影投影裝置，其中磁支承 包括附接於該第-部分之第三磁鐵組成件及包括至少一 =足向之磁鐵，以使其磁極化實質上平行或反平行於該 第一万向，及該第一及第三磁鐵組成件於彼等之間界定 工間’咸第二磁鐵組成件至少部分位於此空間中。 18·如申請專利範圍第17項之微影投影裝置，其中第三磁 鐵組成件包括至少二永久磁鐵，該第三磁鐵組成件之該 等永久磁鐵之相對位置可以調整以便調整該偏壓力。 1 9 ·如申請專利範圍第1 6、1 7或1 8項中之微影投影裝置， 其中第一、第二及第三磁鐵組成件具有繞沿第一方向之 軸線之實質上成旋轉對稱之組態。 2 0 ·如申請專利範圍第1、2、1 〇、n、1 6、i 7及！ 8项中任 一項之微影投影裝置，其中該支承包括可連接至一電源 供應之一導電元件，該導電元件經配置以便藉該導電元 件所載之電流與該第一、第二及第三磁鐵組成件之交互 作用而於該第一與第二部分之間產生一力。 -5- 本Γ紙張尺度適财_家辟規格(21GX 297公楚） ' A B c D 1251863 六、申請專利範圍 2 1 .如申請專利範圍第1、2、1 0、1 1或1 6項之微影投影裝 置，其中該第二磁鐵組成件使其磁極化實質上經定向平 行或反平行於第二方向，及其中該支承進一步包括可連 接至一電源供應之導電元件，該導電元件附接於該第一 部分以便藉該導電元件所載電流與該第二磁鐵組成件之 交互作用而產生平行該第一及第二部分間之該第一方向 之一力。 22. —種微影投影裝置，包括： 一輻射系統，用以提供一輻射投影光束； 一支承結構，用以支承圖案形成裝置，此圖案形成裝 置用作將投影光束根據所需圖案形成圖案； 一基板台，用以固定一基板； 一投影系統，用以將形成圖案投影於基板之一目標部 分；及 一支承，用以提供於微影投裝置之第一部分與第二部 分之間以一第一支承方向提供一磁力，其特點為此支承 包括第一及第二磁鐵組成件及其中： 該第一磁鐵組成件附接於第一部分及具有經定向之磁 極化以其實質上平行或反平行於該第一方向； 該第二磁鐵組成件附接於第二邵分及包括至少一磁鐵 使其磁極化沿垂直於第一方向之第二方向定向以便藉該 第一及第二磁鐵組成件之間之磁相互作用產生實質上沿 該第一方向之一偏壓力；及 一可連接至一電源供應之導電元件，該導電元件附接 -6 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格（210X297公釐） 1251863 六、申請專利範圍 A BCD

毛該第一部分以便藉嗜導希 、、文稽a译免凡所载電源與該第二磁鐵組 成件之一磁場之交互你&含 人互作用而屋生平行於該第一與第二部 分間之該第一方向之一力。 2 3 ·如申凊專利範圍第2 2項夕彡媒旦/ 、 闲矛22負之锨影投影裝置，其中第二磁 鐵組成件及導電元件i有姑 匕旰八韦、兀沿昂_方向之一軸線之實質 上旋轉對稱組態。 2 4 .如申請專利範圍第1 Ί 1 阁币1 2 1〇、i i、16、22或23項之微 影投影裝置，/中第-磁鐵組成件包括-至少經定向之 磁鐵’、^使第-磁鐵組成件之磁極化實質上平行或反平 仃a忑第-方向’其中磁支承包括附接於該第一部分之 了第三磁鐵組成件及包括至少_經定向之磁鐵，以使其 磁極化實質上反平行於第_磁鐵之磁極化，及其中該第 一及第三磁鐵組合料彼等之間界定-空間，第二磁鐵 組成件至少邵分位於此空間中。 25.如中請專利範圍第卜2、1〇、u、μ、·”項中任 -項之微影投影裝置，其中第—及第三磁鐵組成件中之 至少一組成件具有繞沿第一方向之一軸線之實質上旋轉 對稱之組態。 2 6 ·如申#專利範圍弟^、2、；[ 〇、^ ^、1 6、2 2及2 3項中任 一項（微影投影裝置，其中該第二磁鐵於該第二方向相 間隔以於彼此之間界定一進一步空間及予以定向，以便 彼等之磁極化實質上成平行，及其中該導電元件至少部 分位於該進一步之空間中。 27·如申請專利範圍第丨、2、1〇、n、16、22及23項中之 -7- 本紙張巧斤中國國家標準(CNS) Μ規格_ χ挪公爱) 1251863 六、申請專利範圍

仕一,κ政影投影奘w ^ ^ ^ 、一“馱置’其中在導電元件之該第-方向 == 大於或顯著小於第二磁鐵組成件之一磁鐡 28. 如申請專利範圍第卜…。、"、“、”、…。 及23項中之任—項之微影投影裝置，其中該第一及第 了 ^刀+ <彳分係藉該支承而由該第-及第二部分中 之另一邵分支承，及並中 八T该被支承足邵分為該支承結 構，孩基板台，及—隔離之參考框架中之一。 29. 如中請專利範圍第卜2、10、U、16、17、18、22 及2 3員中之任貞之微影投影裝置，其中微影投景》裝 置之第一部分藉該支承而支承微影投影裝置之第二部 分；及導電元件附接於第一部分，及其中該被支承之第 二部分為該支承結構，該基板台，及一隔離之參考框架 中之一。 3 0 · —種使用微影投影之製造方法，包括以下步驟： 提供一至少部分為一輻射敏感層遮蓋之基板； 使用一輻射系統提供一輻射投影光束； 使用圖案形成裝置以使投影光束於其橫截面中有一圖 案； 將形成圖案之II射光束投影於福射敏感材料層之一目 標部分上， 其特點為： 提供一支承以其沿微影投影裝置之第一部分與第二部 分之間之第一支承方向提供一磁力，此微影投影裝置包 - 8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐） 8 8 8 ABCD 1251863 穴、申請專利祀圍 括第一、第二及第三磁鐵組成件，及其中： 該弟一及弟二磁鐵組成件附接於該第一部分及各自包 括至少一經定向之一磁鐵以使其磁極化實質上平行或反 平行於該第一方向； 該第一及第三磁鐵組成件係予以配置以於彼等之間沿 線實質上垂直於第一方向之第二方向界定一空間； 該第二磁鐵組成件附接於第二部分及包括至少一磁 鐵，該第二磁鐵組成件至少部分位於該空間中；及 該第二磁鐵組成件之該至少一磁鐵係使其磁極化定向 以便藉該第一、第二及第三磁鐵組成件間之磁相互作用 而產生實質上沿該支承方向之一偏壓力。 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐）