TWI223725B - Polarizer manufacturing method - Google Patents

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TWI223725B TW092115756A TW92115756A TWI223725B TW I223725 B TWI223725 B TW I223725B TW 092115756 A TW092115756 A TW 092115756A TW 92115756 A TW92115756 A TW 92115756A TW I223725 B TWI223725 B TW I223725B
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Wen-Jiunn Hsieh
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    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
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Description

!223725 五、發明說明(1) 【發明所屬之技術領域] 本發明是有關於一種製造方法,且特別是有關於一種偏光 片之製造方法。 【先前技術】 偏光片(Ρ ο 1 a r i z e r )為液晶顯示器之基礎零件之一,是一 種只允許某方向之光線才能透過之光板,於製作液晶面板 之過程中,必須上下各用一片,且呈交錯方向置入,主要 用,係在有電場與無電場時使光源產生相位差而呈現明暗 狀態,用以顯示字幕或圖案。 ^閱第-A圖所示以一TN型液晶顯示器為例,當未加電壓 日:’液曰曰分子1 0 4會隨著上、下兩玻璃基板i 〇 2和i 〇 6的配向 :向扭曲配向’當光線110由導光板(未顯示於圖中)投射 ^ ’經過偏光片1 00時’會沿著液晶分子i 〇4扭曲,通過下 =偏光板m ’呈現亮的狀態。t將電場u Π二上時,液/分子1〇4之扭曲配向會成為如第-b圖中 所不之情況’ $會使光線成扭轉效果,使 '中 偏光板10 8的遮蔽成為暗的狀態。 又 邛 參閱第二圖所示為一偏光板之概略圖。目前 ,”高分子二色性型’所以偏光基體2 用光偏 好的兩分子薄膜(一般常用PVA),吸附 =性良 糸、染料系等),使鐵離子或染料擴散 J材枓(峨
第4頁 1223725 五、發明說明(2) 略微加熱後再利用單軸延伸法(uniaxial stretching
拉伸PVA膜,達到吸收二色性的功能。原本PVA = = = ΐ規則性Γ布,,力拉伸後分子就逐漸偏 古古 ° 而附著在pVA上的碘離子或染料也隨 ί有®此它可以吸收平行於其排列方向的光束分 里垂直* 分量通過。*形成偏光子之後進行 外二附i上層三酷酸纖維素(TAC)薄膜20 2,薄膜 =ΐ=ΐ:::Γ4,最後一層黏住層206作為與 2〇8作為保護用。 ,於黏住層206上使用一分離臈 不甚完美,故M 二 材料形成規則列的效果並 光度二= e=t式製成的偏光片’其透過率、偏 此外偏光基體在延伸德ratio)等光學特性較差。 額外的保護層,提升偏=:其機械強纟’故必須使用 可1揚光片的機械強度。 【發明内容】
本發明的主要目的就曰 日 過剪應力誘導二色性^種偏光片之製造方法,i| 的光學特性。 /、、產生規則性排列,來提升偏光片 本發明的另一目的在袒 需經過延伸處理偏光基,T 3,以、之製造方法,俾使巧 ^ 口此可省略延伸設備的購置,
第5頁 1223725 五、發明說明(3) 具有製程簡單且低製造成本之優勢。
根據以上所述之目沾太媒R 法,首务刹用^目的,本發明提供了 一種偏光片之製造方 本發明轉印模子之母模·接荽4 一衣私以开y成 宏制a姑e 1 母棋’接者採板麵方式複製母模上的圖 'L才:莫子、:當轉印模子完成後,⑨其上塗佈二色 H ^1^丨材料溶液,再將轉印模子圖案面與偏光基 進行轉印程序’亦即將二色性材料溶液轉移 :偏=表面,並使用紫外光或加熱將二色性材料成 光片=^仃表面保護層塗佈及硬化,即完成本發明之偏 【實施方式】 在不限制本發明之精神及應用範圍之下,以下即以一實施 例,介紹本發明之實施;熟悉此領域技藝者,在瞭解本發 明之精神後,當可應用本發明偏光片之製造方法於各種^ 同之液晶顯示器中。應用本發明之製造方法,係透過剪應 力來形成二色性材料之規則性排列,故可增加偏極片的光 學特性;且根據本發明之製造方法,偏光基體不需經過延 伸處理,因此可省略延伸設備的購置降低製造成本。本發 明之應用當不僅限於以下所述之較佳實施例。 本兔明之偏光片製造方法係採用微接觸轉印法加以形成, 將形成偏光片之二色性材料(例如碘系、染料系等二色性 材料)經由轉印方式’轉印至偏光基體表面上,並透過轉
第6頁 1223725 五、發明說明(4) 印過程中產生的剪應力(shear force)可使上述物質產生 規則的排列。 ' 因此在利用轉印法形成偏光片時,首先要製作一轉印模子 (stamP/),請參閱第三A圖至第三C圖,其繪示根據本發明 之方法形成轉印模子之流程圖。首先請參閱第三A圖,一玻 璃基板作為形成本發明轉印模子之母模3〇〇 (master),其 j使用電子束刻晝於玻璃基板上,以相隔距離小於1 〇〇nm之 密度j晝出偏極板之圖案,其中電子束在玻璃基板所刻畫 出之深度約為〇.l/zm至100/ζπι。 一 請閱第三β圖’當母模300完成後,,J用模鑄方式複製母 核“上的圖案來製作轉印模子3〇2,其係利用高分子材料 :二侧)塗佈於母模3。〇上,接著將此高分子材料才進: ;重::爾並將其與母模300分離,而形成如第三C圖所示
進行偏朵Η之轉印模子3〇2。當轉印模子302完成後,即可 進仃偏先片之製作。 1 J ΐ II ϊ Ϊ轉印時,首先要將欲進行轉印之二色性材料或雔 ==成根據本㈣ 3〇2之圖案面读入、轉/w子〇2以倒插之方式,讓轉印模子 而瓖-多祕^又—色性材料或雙折射材料400之油墨中, 射材料400沾附在轉印模子3。2上, 當此轉印模;之有實施, 第五圖所示,將轉p:=轉印至偏光片基板500上,如 轉印板子302圖案面與偏光基體500表面接
第7頁 W3725 五、發明說明(5) 觸’進行轉印程序,亦即將二色性材料 50 0表面,其中偏光基體500可為玻璃材料。者夕至一偏光基體 料400轉印至偏光基體500 #,可使用紫外光;::,性材 或後進行脫模,而形成如第六圖所示=子二2可,膜前 所示,其中此偏光基體500之表面上形:有先片弟^圖 4〇〇,由於本發明在轉印過程中,亦即在料 =材:400轉印至偏光基體5〇。上時會產生同'一方向= ;,故::力此:^性材料係透過剪應力來形成規則性排 ΐϊί!: 其偏光基底並不需經過延伸處理,因此 了名略延伸設備的購置降低製造成本。 俘:’ ίί所不’接著進行表面保護層5 0 2之塗佈,此表面 5:,S接著要二用是在保護二色性材料4。〇與偏光基體 上之描述’本發明偏光片之製造方法在將二色性材 ^至偏光基體上時會產生一剪應力,而本發明即是利 用此剪應力來誘導二色性材料產生規則性排列,因此效果 々可優於傳統使用延伸的方式誘導二色性材料形成規則 歹,且不會降低偏光基體機械強度。根據本發明之方法偏 光基f不經過延伸處理,因此可省略延伸設備的購置, 具有製程簡單且低製造成本之優勢。 雖然本赉明已以一較佳實施例揭露如上,然其並非用以限
1223725 五、發明說明(6) 定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和 範圍内,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保護範 圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 1223725 圖式簡單說明 為讓本發明之上述和其他目的、特徵、和 懂,下文特舉一較佳實施例,並配合所附;此更明顯易 明如下: 回工’作詳細說 第一A圖所示為一未加電壓之〇型液晶顯示哭 第一 B圖中所示為施加一外加電壓時1π细曰既略圖; 略圖; 、 日日顯示器之概 第一圖所示為一偏光板之概略圖; 示根據本發明之方法 形成轉印模 將二色性材料形成在轉印模子上 料轉印至偏光片基板上之概略 第六圖所不所不為偏光片基板上 圖。 战有一色性材料之概略 第七圖所示為本發明偏光片之概略 第三A圖至第三C圖,其繪示 子之流程圖; 弟四圖所示為根據本發明 之概略圖; 第五圖所示為將二色性材 圖;以及 明 【元件代表符號簡單說 1 0 0上偏光片 1 0 2上玻璃基板 1 0 4液晶分子 1 0 6下玻璃基板
第10頁 1223725 圖式簡單說明 1 0 8 下偏光 11 0 光線 11 2 電場 2 0 0和5 0 0 偏光基體 20 2 三醋酸纖維素(TAC)薄膜 2 0 4 表面保護膜 2 0 6 黏住層 2 0 8 分離膜 # 3 0 0 母模 3 0 2轉印模子 4 0 0 二色性材料或雙折射材料 5 0 2 0 1表面保護層
第11頁

Claims (1)

1223725 六、申請專利範圍 1. 一種偏光片製造方法,係利用一轉印模子加以形成,該 方法至少包含: 形成一偏光性材料於該轉印模子圖案面上; 將該轉印模子圖案面與一偏光基體表面接觸,以將該 偏光性材料轉移至該偏光基體表面上;以及 硬化該偏光性材料。 2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光片製造方法,其中硬化 該偏光性材料係使用紫外光成膜方式。 3. 如申請專利範圍第1項所述之偏光片製造方法,其中硬化 該偏光性材料係使用加熱成膜方式。 4. 如申請專利範圍第1項所述之偏光片製造方法,其中該偏 光性材料為一具二色性偏光性材料。 5. 如申請專利範圍第1項所述之偏光片製造方法,其中該偏 光性材料為一具雙折射特性之材料。 6. 如申請專利範圍第1項所述之偏光片製造方法,其中該轉 印模子可於硬化該偏光性材料前進行脫膜。 7. 如申請專利範圍第1項所述之偏光片製造方法,其中該轉
第12頁 /25
印Μ子可於硬化該偏光性材料後進行脫膜 8. 重偏光片製造方法,該方法至少包含 形成一母模; 複製該母模上的圖案於一轉印模子; 形成一偏光性材料於該轉印模子圖案面上. 將,轉印模子圖案面與一偏光基㈣ 偏先性材料轉移至該偏光基體表面上;以及 乂將该 性材料執行—硬化程序,以硬化該偏光基體表面上之該偏光 9:二申請專利範圍第8項所述之偏光片製造方法,其中形成 =莫之方式係使用電子束在一玻璃基板上書出所需之圖 案。 一 1 〇二如申睛專利範圍第8項所述之偏光片製造方法,其中硬 化4偏光性材料係使用紫外光成膜方式。
11二如申睛專利範圍第8項所述之偏光片製造方法’其中 化該偏光性材料係使用加熱成膜方式。 1 2·如申請專利範圍第8項所述之偏光片製造方法,其中名 偏光性材料為一具二色性偏光性材料。
第13頁 1 六、申請專利範^ ' ----- 專、利範圍第8項所述之偏光片製造方法,其中該 材料為一具雙折射特性之材料。 ^4印如/^青專利範圍第8項所述之偏光片製造方法,其中該 吴可於硬化該偏光性材料前進行脫膜。 專利範圍帛8項所述之偏光片製造方法,其中該 P杈子可於硬化該偏光性材料後進行脫膜。 I6.—種偏光片製造方法,該方法至少包含: 形成一母模; 複製该母模上的圖案於一轉印模子; 形成一偏光性材料於該轉印模子圖案面上; 偏光性將二^鐘印:子圖案面與一偏光基體表面接觸,以將該 改材料轉移至該偏光基體表面上; 硬化該偏光基體表面上之該偏光性材料; 形成一表面保護層於該偏光基體表面上;以及 執行一硬化程序。 ^7^\申請專利範圍第1 6項所述之偏光片製造方法,其中形 圖案拉之方式係使用電子束在一破螭基板上刻晝出所需之 8.如申請專利範圍第16項所述之偏光片製造方法,其中硬
第14頁 1223725 六、申請專利範圍 化/偏光性材料係使用紫外光成膜方式。 1 9 · 士申巧專利範圍第1 6項所述之偏光片製造方法,其中硬 化該偏光性材料係使用加熱成膜方式。 2 〇 · ^如申請專利範圍第1 6項所述之偏光片製造方法,其中該 偏光性材料為一具二色性偏光性材料。 2 1 ·如申睛專利範圍第1 6項所述之偏光片製造方法,其中該· 偏光性材料為一具雙折射特性之材料。 2 2 ·如申請專利範圍第1 6項所述之偏光片製造方法,其中該 轉印模子可於硬化該偏光性材料前進行脫膜。 2 3 ·如申請專利範圍第1 6項所述之偏光片製造方法,其中該 轉印模子可於硬化該偏光性材料後進行脫膜。
第15頁
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