TWI223108B - Transmission of orthogonal circular polarizations on a fiber - Google Patents

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TWI223108B
TWI223108B TW091124233A TW91124233A TWI223108B TW I223108 B TWI223108 B TW I223108B TW 091124233 A TW091124233 A TW 091124233A TW 91124233 A TW91124233 A TW 91124233A TW I223108 B TWI223108 B TW I223108B
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Description

玖、發明說明 (發明說明應敘明··發明所属之技術領域、先前技術、内容、實施方式及困式簡單說明) Γ韻^明戶斤屬貝域^
C先^ ittr技:摘ή J 外差干涉儀典型使用具有略為不同頻率(例如頻率差 5異數百萬赫茲(ΜΗζ))之二光束。二光束通常係導向不同路 徑,一具有固定長度之參考路徑、以及一包括來自欲測量 物件之反射之測量路徑。二光束橫過其各別路徑後,將光 束組合,由組合中提取出頻率或相位資訊,俾允許準確測 量物件的移動。 〇 外差干涉儀光源為奇曼分光雷射(Zeeman-split laser) 。奇曼分光雷射使用單一雷射腔穴來產生兩個波長差數 MHz之頻率分量。雷射腔穴之二分量具有波長為高度穩定 、相位鎖定、且使用相反相位延遲圓偏振,讓二分量之偏 振為正交。 15 用於可見光,頻率差異數MHz例如得自奇曼分光雷射 之光束頻率差異太微小,而無法讓光束色散元件(例如稜 鏡或繞射光柵)於合理的工作距離以内(例如對3至12毫米之 光束直徑於500毫米以内)分離頻率分量。如此習知分離技 術將得自奇曼分光雷射光束之分量之圓偏振轉變成正交線 2〇偏振,偏振分光器根據其線偏振而分離頻率分量。通常雷 射輸出光學裝置包括四分之一波板,其將正交圓偏振轉變 成正父線偏振,以及包括一半波板,其將線偏振沿分離分 量之干涉儀分光器的「S」及「P」偏振方向重新定向。 貫際上’雷射腔穴内部之頻率分量之偏振與完美的圓 5 1223108 玖、發明說明 形略有偏差,波板後方頻率分量之偏振可能並非呈完美線 或完美正交。特別期望有「P」偏振之頻率分量將帶有小 量「S」偏振分量,而期望有「s」偏振之頻率分量則有小 量「P」偏振分量。 5 干涉儀分光器無法區別兩種頻率,取而代之(使用理 想插作)’根據偏振而分離輸入光束分量。、纟吉果,分離後 之光束分別帶有小量來自「s」及「p」偏振分量之頻率汙 染’其含有分離刖之混合頻率。此外,實際操作時,干涉 儀分光器無法完美分離偏振分量,結果導致頻率錯誤之光 10 進一步洩漏至各個被分離的光束。 外差干涉儀典型係由物件反射之測量光束的都卜勒位 移測量物件速度。當測量光束與參考光束為頻率略為不同 的理想單色光束時,差頻係使用都卜勒位移後之測量光束 頻率與參考光束頻率間之差異,該差頻可與光束間之原先 15頻率差異做比較。差頻的變化指示物件速度。但頻率洩漏 將其它振堡重疊於差頻之上,因而可能導入測量的週期性 錯誤。如此精準測量要求頻率分量為極為線或極為正交, 讓單色測量束與參考束間有儘可能最乾淨倒落的分離。 外差干涉儀之另一項考量為由分離後光束的熱環境中 20去除熱源(例如雷射)。通常干涉儀之光學裝置必需經過熱 保護不接觸來自雷射之熱,俾減少光束路徑及測量受到熱 干擾。熱保護通常係表示將雷射與干涉儀光學裝置分離, 通常要求-種機構來搖控傳輸來自雷射之光束至干涉儀光 學裝置。 6 1223108 玖、發明說明 一種傳輸來自雷射之光束之技術將光束通過光學窗輸 入含干涉儀光學裝置之經過熱保護之區段。鏡可導引光束 進入熱保護區段。此項技術之困難在於精準穩定地控制光 束通常需要將雷射及干涉儀光學裝置安裝於同一個極為穩 5固的框架上,但仍需維持干涉儀光學裝置與雷射環境隔開。 另一項傳輸光束之技術係將包括線偏振分量之光束送 入單一偏振維持(PM)光纖。但目前可利用的偏振維持(pM) 光纖只能提供高達約20 dB之消光比(換言之保留偏振對正
父偏振之比),而精密干涉儀典型要求消光比大於約35 dB 1〇 ,且長更接近50 dB。通常目前偏振維持(PM)纖維之線偏 振分量間的串擾過多,無法提供良好測量要求的頻率乾淨 分離。 又另項技術將線偏振分量分離,將分離後的線偏振 光束送至分開偏振維持(PM)纖維用以於干涉儀之保護區段 内口 Μ复口。來自雷射之頻率分量最初之良好偏振,允許獲 付乾淨頻率分丨,用以輸入二偏振維持纖維,光束組 合器或輔助偏振器可清除由偏振維持(ρΜ)纖維送出的光束 的各別偏振,且對目前偏振維持(ρΜ)纖維低於期望之消光 “仪補“但若干面精度干涉儀要求極為精密的頻率分量 光束平订(例如微弧度精度)。被動光·機械底座難以達成且 、隹持要求的平行程度而不受溫度、干涉儀運送及組裝期間 遭逢的振動及撞擊帶來的變化。 /有鑑於前文說明目前系統之限制,外差干涉儀需要額 卜系、洗及方法進行雷射或其它光束源與干涉儀光學裝置分 7 玖、發明說明 開,同時仍然產生高度平行且分離乾料單色光束。 C 明内容】 發明概要 外差干涉儀之另—項考量為由分離後光束的熱環境中 5去除熱源(例如雷射)。通常干涉儀之光學裝置必需經過熱 保護不接觸來自雷射之熱,俾減少光束路捏及測量受到熱 干擾。熱保護通常係表示將雷射與干涉儀光學裝置分離, 通常要求一種機構來搖控傳輸來自雷射之光束至干涉儀光 學裝置。 10 —種傳輸來自雷射之光束之技術將光束通過光學窗輸 入含干涉儀光學裝置之經過熱保護之區段。鏡可導引光束 進入熱保護區段。此項技術之困難在於精準穩定地控制光 束通常需要將雷射及干涉儀光學裝置安裝於同一個極為穩 固的框架上,但仍需維持干涉儀光學裝置與雷射環境隔開。 15 另一項傳輸光束之技術係將包括線偏振分量之光束送 入單一偏振維持(PM)光纖。但目前可利用的偏振維持(PM) 光纖只能提供高達約20 dB之消光比(換言之保留偏振對正 交偏振之比),而精密干涉儀典型要求消光比大於約35 ,且長更接近50 dB。通常目前偏振維持(PM)纖維之線偏 20振分量間的串擾過多,無法提供良好測量要求的頻率乾淨 分離。 又另一項技術將線偏振分量分離,將分離後的線偏振 光束送至分開偏振維持(PM)纖維用以於干涉儀之保護區段 内。卩復合。來自雷射之頻率分量最初之良好偏振,允許獲 8 1223108 玖、發明說明 知乾淨頻率分光,用以輸入二偏振維持(pM)纖維,光束組 合器或辅助偏振器可清除由偏振維持(PM)纖維送出的光束 的各別偏振,且對目前偏振維持(PM)纖維低於期望之消光 比做補饧。但若干高精度干涉儀要求極為精密的頻率分量 5光束平仃(例如微弧度精度)。被動光-機械底座難以達成且 根據本發明之一方面,一種光束含有頻率略有差異之 左旋及右旋圓偏振分量,該光束由雷射或其它光束源送入 光,截。光纖可為均向性光纖,其為用於光束波長之單模態 光纖或用灰略比光束波長更長波長之單模態光纖。四分 1〇之一波板可改變來自光纖之平行輸出光之左旋及右旋圓偏 振分1成為線偏振分量,以及半波板可調整為旋轉線偏振 於干涉儀分光器平面產生預定的「S」及「p」偏振。 特定具體貫施例為一種包括光源、光纖、及偏振轉化 系統之系統。光源包括奇曼分光雷射,產生光束其含有具 15有左旋偏振及第一頻率之第一分量、以及具有右旋圓偏振 及第一頻率之第二分量。光纖接收且傳導包括左旋及右旋 分量之光束至預定位置,例如外差干涉儀之熱保護區段。 偏振轉化糸統係位在光纖的輸出,偏振轉化系統將第一分 量之左旋偏振轉成第一線偏振,且將第二分量的右旋偏振 20轉成第二線偏振,該第二線偏振係正交於第一線偏振。光 纖可為均向性光纖,其對於具有第一頻率之光以及具有第 二頻率之光為單模態光纖或少數模態光纖。 由光纖送出之光束之偏振通常係依據光纖之彎曲及溫 度決定,偏振穩定性係依據處於機械與熱平衡之光纖決定 9 1223108 玖、發明說明 。光纖包括塗層,該塗層可縮短光纖到達機械平衡之時間 ,及/或包括硬質護套,該硬質護套可對抗動態彎折。於 偏振轉化系統中,四分之一波板可安裝調整式傾斜角及調 整式翻滾角來允許四分之一波板根據光纖送出之左旋及右 5 旋偏振性質定向。 本發明之另一具體實施例為一種提供外差光束之方法 。該方法包括··產生一光束,其含有具有左旋偏振及第一 頻率之第一分量、以及具有右旋偏振及第二頻率之第二分 量;將光束耦合入光纖;以及將光纖送出之光束的左旋偏 10振及右旋偏振轉變成為各別線偏振,其典型為彼此正交。 四为之一波板可轉變偏振。四分之一波板之傾斜角及翻滾 角可調整而補償光纖彎折對於由光纖送出之左旋及右旋偏 振性質的影響。 圖式簡單說明 15 第1圖顯示根據本發明之一具體實施例,外差干涉儀 之部分方塊圖。 【實施方式3 較佳實施例之詳細說明 外差干涉儀之光束源送出光束,該光束包含帶有第一 20頻率且主要為左旋圓偏振或橢圓偏振之第一分量,以及帶 有第二頻率且主要為右旋圓偏振或橢圓偏振之第二分量, 該光束通過光纖至外差干涉儀之光學裝置。光纖可為均向 性,於分量頻率之單-模態光纖、4「少數模態」光纖( 換言之於略為較低頻率之單一模態光纖)。位於光纖輸出 10 玖、發明說明 端之四分之一波板或其它光學元件,將由光纖送出之平行 光束中各分量之左旋及右旋偏振轉變成為正交線偏振供外 差干涉儀使用。 第1圖為提供輸入光束至外差干涉儀之系統1〇〇之方塊 5圖。系統100包括雙頻光束源110,調整式發射器120、光 纖130、準直器140、偏振轉變光學裝置15〇、封閉回路控 制系統160、以及偏振分光器17〇。 雙頻光束源110產生一光束,該光束含有兩種頻率略 為不同之頻率分量。典型地於奇曼分光雷射輸出端,二頻 〇率差異於1至4 MHz,但使用聲光調變器(a〇Ms)或其它裝 置可達成高達400 MHz或以上之較大頻率分離。各頻率分 量具有左旋或右旋偏振,其係與另一頻率分量之偏振正交 〇 光束源110之具體貫施例為市售He-Ne雷射頭,例如得 15自安捷倫(Agilent)技術公司之5517系列雷射頭,但光束源 110缺乏輸出光束元件,輸出光束元件通常將腔穴偏振轉 變為線偏振。55 17系列雷射頭之奇曼分光,產生一種外差 光束,其含有頻率分量帶有頻率差異約15至3 MHz及平均 頻率約474十億赫茲(GHz)(或波長約633奈米)。 20 調整式發射器I20將來自光束源no之光束耦合入光纖 130。此種發射器為業界眾所周知,且包括例如得自紐澤 西州卡德威光學研究公司之「光纖埠(Fiber p〇rt)」。發射 器120可視情況需要直接安裝於He-Ne雷射管,俾將指標不 安定性減至最低,將部分計數減至最低,而將傳輸效率增 11 玖、發明說明 至最高。 光、截130將來自光束源110之光束載至準直器140。於 本發明之具體實施例中,光纖130對來自光束源110之光束 之光頻率而g為均向性單模態光纖或少數模態光纖。少數 模態光纖對於具有比_合於纖維之光略為較長波長(或較 低頻率)之光而言為一種單模態光纖。本發明之具體實施 例中,光纖130為得自商業來源例如3M公司之標準單模態 光、截。特別633奈米光之單模態光纖或82〇奈米光之單模態 光纖其對633奈米光而言為少數模態光纖。 虽偏振光通過光纖13〇時,依據光纖13〇的彎折及溫度 而定’輸出偏振可有寬廣多種形式。偏振可於光纖之動態 弯折或溫度改變期間改變,但當光纖13〇達到溫度及機械 平衡時變穩定。光纖130可有硬質或半硬質護套來限制動 態彎折。另外,為了加速機械穩定化,光纖13〇可有「鬆 15 JL. 、 蛮」塗層’例如市面上得自3M公司提供於若干光纖上的 塗層。鬆垂塗層可減少由於光纖對捲繞於線軸上之機械記 憶造成的打結以及糾纏,因而縮短光纖130弛豫.至機械平 衡所需時間。帶有或未帶有鬆垂塗層之光纖13〇可置於疏 鬆嵌合的硬質或半硬質護套内來限制光纖130的移動。 20 其它減少光纖130之動態彎折影響之技術包括:使用 靜態、緊密彎折與搓捻或順著光纖130之夾緊關鍵點而去 除邊際模態;於發射器120讓光纖130之數值孔徑填補不足 且避免銳利彎曲;或略為讓發射器120散焦,如此喪失若 干功率,但將使系統1〇〇對光纖130輸入端的小量移動較不 12 玖、發明說明 敏感。 βο準直裔140提供平行光束,其含有頻率略為差異之二 7色左疑及右旋偏振分量。二分量由同-根光纖(光纖130) 送出 口而限制為同轴,此點係與對分開光束使用分開光 5 纖之系統不同。 "、有左力疋及右旋偏振之頻率分量間的串擾通常比發送 : 又線偏振分$至單一偏振維持光纖之系統產生的串 擾遠更低。圓偏振光由光纖之中心·護套界面散射顯然進 行Ιχ ν去偏振。有較大中心的少數模態光纖於中心-護套 1〇界面也提供較低光強度而進-步降低去偏振。 纖維之消光比及零位軸深度為光纖13〇保存輸入光束 矛度以及光纖13〇維持二頻率分量偏振正交程度之 測量值。特別特定輸入偏振之消光比為當輸入光束具有特 定偏振時,輸入光束之污染偏振與預定偏振之振幅比。零 15位軸深度係依據藉偏振分離二分量後於期望頻率之功率對 於污染頻率之功率比。 系統100操作期間之問題為零位軸深度之穩定度。通 常發現均向性纖維對未受干擾之光纖於長時間間隔(大於3 分鐘)消光比之變化小於5%。 20 ㈣向性域可提供具有深零位軸及消光 比之良好結果。少數模態光纖(換言之對略為較長波長之 單一模態光纖;例如800-1300奈米之單模態光纖用於633 奈米光之時)也可提供深零位軸及消光比,但少數模態光 纖對光纖130之f曲或溫度變化可能較不穩定。輸出傳播 13 1223108 玖、發明說明 角對使用少數模態光纖彎曲也較為敏感。 於第1圖之具體實施例中,偏振轉變光纖!50包括四分 之一波板152及半波板154帶有分開波板安裝系統156及158 。四分之一波板152改變來自準直器14〇之平行光分量之左 5旋及右旋偏振,故由四分之一波板152射出之光束含有兩 種單色線偏振分量,其仍然於同一光束内為同轴。然後半 波板154旋轉分量之線偏振,讓一種分量具有外差干涉儀 之「S」偏振,另一種分量有「p」偏振。 女裝系統156及158提供各別波板152及154之翻滾與傾 1〇斜調整。較佳波板152及154有足夠孔隙來防止安裝系統 156及158之調整範圍出現靴波及功率喪失。通常四分之一 波板152傾斜之調整可確保輸出線偏振為正交。使用全翻 滚凋I以及有效雙軸傾斜調整(例如二垂直軸各別士 1 〇至 Ϊ5度)女裝系統156及158可調整偏振及傳播方向因光纖 15 I30的特火構型及溫度造成的變化,因此讓波板152及154 可產生具有線正交且正確定向偏振以及消光比大於約h dB之輸出光束。 視it况品要封閉回路控制系統丨6〇操作安裝系統156及 158,來視需要調整波板152及154之方向性,俾補償當光 20纖130重新配置彎曲時導致的快速偏振變化,或補償當光 纖130穩定定位時導致的較緩慢偏振變化。 第1圖之具體實施例中,控制系統16G包括非偏振分光 器162、旋轉線偏振器164、差頻信號感應器166及控制電 8非偏振分光杰162指示偏離偏振之束功率微弱 14 玖、發明說明 式樣(例如为4 /〇),轉化光學裝置j 5〇而旋轉線偏振器⑹。 方疋轉線偏振器164有一通軸,該軸線恆常環繞試樣光束之 光轴旋轉。以機械方式旋轉線偏振器、或使用液晶或帶有 5雙折射材料藉應力、電場或磁場或聲音激發而感應之性質 5 ,可達成此種軸線轉動。差頻信號感應器166為交流接收 裔,其拾取通過線偏振器164之光之差頻信號。然後控制 電子裝置168與旋轉線偏振器164之通軸角度同步,讀取此 差頻信號,且判定零位軸深度及零位軸角度,同時系統 1〇〇穩定至平衡、經調整、且經操作來測量物件的移動。 用於系統1〇〇之主動控制,控制電子裝置168可追蹤線 偏振器164之通軸角至約5至1〇弧秒以内,交流接收器166 測疋差頻信號的振幅。於對應各分光之偏振之通軸角,差 頻信號通過最小或「零位軸」,唯一促成差頻信號者為另 一種頻率極少數洩漏。零位軸間隔約90度,涵蓋通軸旋轉 15遠較寬之角度範圍(數度)之最大差頻信號係介於連續零位 轴之中途。控制電子裝置168跟蹤零位軸深度(例如最大與 最小間之差異,以dB表示)以及對應於零位軸之通軸角度 位置二者。控制電子裝置168調整四分之一波板152之方向 性’讓零位軸變更深(換言之讓輸出偏振變成更為線性, 20 且儘可能接近正交)。控制電子裝置168調整半波板154之 方向性而讓正交線偏振對其干涉儀軸。干涉儀軸係於安裝 干涉儀系統時校準。 干涉儀中,偏振分光器170接收來自偏振轉化光學裝 置150之輸出光束且形成分開光束172及174。偏振分光器 15 1223108 玖、發明說明 為業界眾所周知,常見含有雙折射材料或塗層,其可反射 具有線偏振絲及透射具有正交「s」偏振光。偏振 分光器170係根據線偏振分離光束分量。分開光束μ及 m之強度及料分析或比較,指示正交偏振保存的程度 5 ’以及頻率分量分離是否乾淨。 系統100之校準操作等候光纖13〇達到熱及機械穩定, 然後㈣四分之-波板152之傾斜而產生帶有線正交偏振 之分量。通常依據干擾幅度而定以及固體支持結構的鄰近 程度.,使用3毫米PVC護套纖維,達到機械平衡需時數秒 1〇至數分鐘(例如部分停靠在台面上的纖維比掛在半空中的 纖維可在更短時間内達到平衡)。然後四分之一波板152之 定向角經過調整而於分光器17〇分開之光束達到最深的零 位轴。然後於輸出光束調整半波板154而達成預定之線偏 振。 15 雖然已經參照特定具體實施例說明本發明,但此處說 月✓、為本兔明之例證而不可視為限制性。於如下申請專利 範圍界定之本發明範圍内可對揭示之具體實施例特色做出 多種調整與組合。 【囷式簡單說明】 0 第1圖顯示根據本發明之一具體實施例,外差干涉儀 之部分方塊圖。 【圓式之主要元件代表符號表】 100··.系統 120…調整式發射器 110··.雙頻光束源 130···光纖 16 1223108 玖、發明說明 140...準直器 164...旋轉線偏振器 150...偏振轉變光學裝置 166…差頻感應器 152...四分之一波板 168...控制電子裝置 15 4…半波板 17 0...偏振分光 156,158…波板安裝系統 172,174…分開光束 160...封閉回路控制系統 162...非偏振分光器 17

Claims (1)

  1. 拾、申請專利範圍 種用以提供一外差光束之系統,包含: 一光束來源,該光束含有一具有左旋偏振及第一 頻率之第一分量、以及一具有右旋偏振及第二頻率之 第二分量; 一光纖,其係設置成接收光束及導引光束;以及 一偏振轉化系統,其係位於光纖之輸出端,該偏 振轉化系統轉變第一分量之左旋偏振至成為一第一線 偏振’以及將弟一分$之右旋偏振轉成一第二線偏振 ’該第二線偏振係正交於第一線偏振。 2·如申请專利範圍第丨項之系統,其中該光束源包含奇曼 刀光雷射。 3·如申请專利範圍第2項之系統,其中該光束源進一步包 含一發射器,該發射器係安裝於奇曼分光雷射之管且 作用於將光束耦合入光纖。 15 4·如申請專利範圍第1項之系統,其中該光纖包含均向性 光纖。 5·如申請專利範圍第4項之系統,其中該光纖為有第一頻 率之光以及有第二頻率之光之單模態光纖。 20 6.如申請專利範圍第4項之系統,其中該光纖為有第一頻 率之光以及有第二頻率之光之少數模態光纖。 7·如申請專利範圍第!項之系統,其中該光纖包含一塗層 其可縮短光纖達到機械平衡所需時間。 硬質護套 8·如申請專利範圍第1項之系統,進一步包含 ,該硬質護套容納光纖且對抗彎折。 18 1223108 拾、申請專利範圍 9.如申請專利範圍第1項之系統,其中該偏振轉化系統包 含一塊四分之一波板。 10·如申請專利範圍第9項之系統,其中該偏振轉化系統進 一步包含一底座其容納該四分之一波板,底座可調整 5 而控制四分之一波板之傾角俾對光纖的彎折作調整。 11·如申請專利範圍第9項之系統,其中該偏振轉化系統進 一步包含一底座容納四分之一波板,該底座可調整而 控制四分之一波板之翻滾角,俾調整由光纖送出之左 旋及右旋偏振之橢圓性質。 10 丨2·如申晴專利範圍第9項之系統,進一步包含一封閉回路 控制系統,該系統係連結成根據偏振轉化系統之輸出 光束測量得之性質而動態調整四分之一波板之方向性。 13·如申請專利範圍第9項之系統,其中該偏振轉化系統包 含一塊半波板。 15 14·如申請專利範圍第13項之系統,其中該偏振轉化系統 進一步包含: 一第一底座,其容納四分之一波板;以及 一第二底座,其容納半波板,該第一及第二底座 可獨立調整俾控制四分之一波板及半波板之方向性來 20 對光纖的彎折作調整。 15.如申請專利範圍第13項之系統,進一步包含一封閉回 路控制系統,其連結成根據偏振轉化系統之輸出光束 測量得之性質,而動態調整四分之一波板及半波板之 方向性。 19 拾、申請專利範圍 16· —種用以提供一外差光束之方法,包含: 產生一光束,其含有一具有左旋偏振及第一頻率 之第一分量、以及一具有右旋偏振及第二頻率之第二分 量; 5 將光束耦合入光纖;以及 將光纖送出之光束之左旋偏振及右旋偏振轉變成 各別線偏振。 17·如申請專利範圍第16項之方法,其中轉變左旋及右旋 偏振包含將第一分量之左旋偏振轉變成第一線偏振, 10 以及將第二分量之右旋偏振轉變成第二線偏振,該第 一線偏振係正交於該第一線偏振。 18·如申請專利範圍第16項之方法,其中轉變左旋及右旋 圓偏振包含導引來自光纖之光束通過四分之一波板。 19·如申請專利範圍第18項之方法,進—步包含調整四分 15 之一波板之傾角俾對光纖之彎折作補償,讓光束之第 一及第二分量於由四分之一波板送出時具有各別正交 線偏振。 20.如申請專利範圍第18項之方法,進一步包含根據由光 纖送出之左旋及右旋偏振之橢圓性質,調整四分之— 20 波板之翻滾角度。 20
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