TWD222930S - 多腔室處理系統之機座之部分 - Google Patents
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Abstract
【物品用途】;本設計關於一種多腔室處理系統之機座，尤其係指一種用於半導體製程的多腔室處理系統之機座。;【設計說明】;請配合參閱各圖所示，本設計的多腔室處理系統之機座之視覺特徵已如圖式所揭，如是，整體造型處處流露出特異、新穎之視覺感受，故依法提出設計專利申請。;本設計圖式所揭露之粉紅色半透明填色部分，為本案不主張設計之部分。;本設計圖式灰階所產生的明暗差異，為本案不主張設計之部分。;使用狀態參考圖係用以舉例說明多腔室處理系統之機座於使用時之示意圖。
Description
本設計關於一種多腔室處理系統之機座，尤其係指一種用於半導體製程的多腔室處理系統之機座。
請配合參閱各圖所示，本設計的多腔室處理系統之機座之視覺特徵已如圖式所揭，如是，整體造型處處流露出特異、新穎之視覺感受，故依法提出設計專利申請。
本設計圖式所揭露之粉紅色半透明填色部分，為本案不主張設計之部分。
本設計圖式灰階所產生的明暗差異，為本案不主張設計之部分。
使用狀態參考圖係用以舉例說明多腔室處理系統之機座於使用時之示意圖。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| TW111300368F TWD222930S (zh) | 2022-01-24 | 2022-01-24 | 多腔室處理系統之機座之部分 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| TW111300368F TWD222930S (zh) | 2022-01-24 | 2022-01-24 | 多腔室處理系統之機座之部分 |
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| TWD222930S true TWD222930S (zh) | 2023-01-01 |
Family
ID=88878668
Family Applications (1)
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| TW111300368F TWD222930S (zh) | 2022-01-24 | 2022-01-24 | 多腔室處理系統之機座之部分 |
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| TW (1) | TWD222930S (zh) |
Citations (1)
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| TWD214943S (zh) | 2021-05-14 | 2021-10-21 | 日商日立全球先端科技股份有限公司 | 半導體基板評價裝置 |
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2022
- 2022-01-24 TW TW111300368F patent/TWD222930S/zh unknown
Patent Citations (1)
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