TW470686B - Slurry managing system and slurry managing method - Google Patents
Slurry managing system and slurry managing method Download PDFInfo
- Publication number
- TW470686B TW470686B TW088107195A TW88107195A TW470686B TW 470686 B TW470686 B TW 470686B TW 088107195 A TW088107195 A TW 088107195A TW 88107195 A TW88107195 A TW 88107195A TW 470686 B TW470686 B TW 470686B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- slurry
- separation
- liquid
- mixture
- abrasive particles
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q11/00—Accessories fitted to machine tools for keeping tools or parts of the machine in good working condition or for cooling work; Safety devices specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D1/00—Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
- B28D1/02—Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by sawing
- B28D1/025—Use, recovery or regeneration of abrasive mediums
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Mining & Mineral Resources (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Description
470686 A7 B7 五、發明説明(/) 發明領域 本發明係關於一種用以管理一漿液(slurry)之系統以及 方法,該漿液係被使用於切割機(例如,線切割機(wire saw)等)内作為切割工件(workpieces)之用。特別地,本發 明係關於一種漿液之管理系統以及管理方法,其係理想地 將雜質(impurties)從該被使用過之漿液中分離出來1 發明眢景 一線切割機之典型用途即係作為切割工件之用,例如, 將矽鑄錠(silicon ing0t)等工件切割成晶圓(wafer)。該線 切割機包含多個滾輪以及單一條金屬線,該金屬線係螺旋· 地纏繞在該多個滾輪上,並且以每兩相鄰繞圈之間皆為一 特定間距之方式纏繞。該金屬線係藉由該多個滾輪的轉動 而被引導。在該多個滚輪轉動期間,含有研磨粒(abrasWe grains)之漿液係被供給至該金屬線處。在此種狀況下,— 工件被壓迫抵住該金屬線即可同時地被切割成多個晶圓。 經濟部中央標準扃員工消費合作社印裝 該漿液係為一水溶液或一油質性液體(分散液體 (dispering liquid)),其中研磨粒係為分散狀。於該線切割 機内並提供一管理系統,該管理系統係用來準備並且管理 該漿液。該官理系統包含一準備槽’於該準備槽内研磨粒 以及分散液體係被混合而製備成該漿液。該準備於該準備 槽内之漿液係被供給至該線切割處。 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 本紙張尺度適用中國國家楼準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(>) 該被使用過之漿液,即為已被該線切割使用來切割工件 後之漿液,其之較佳處理方式係為將其回收已降低該工件 切割之成本。然而,該被使用過之漿液包含了雜質,該雜 質之組成的粒度比起該研磨粒之粒度還要細小。特別地, 該被使用過之漿液所包含的雜質,其中包括如工件之屑片 以及破裂的研磨粒。該雜質會減低該線切割機的切割能 力。 該管理系統包含一分離裝置,該分離裝置係從該被使用 過之漿液中分離出雜質並且回收可回收使用的研磨粒以及 分散液體。該被回收的研磨粒以及分散液體則被回送至該 準備槽内,進而與額外添加的新鮮研磨粒以及分散液體混 合以再次製備成漿液。該再次被製備成之漿液隨後從該準 備槽供應給該線切割機,並且隨後再回收利用。 該被使用過之漿液的溫度變動或該被使用過之漿液所包 含之雜質之量的變動會改變該被使用過之漿液本身之性 質,例如,比重或黏稠度。該被使用過之漿液之性質的改 變亦會改變該分離裝置的分離效率。如此,將會妨礙從該 被使用過之漿液中回收研磨粒以及分散液體或留下於所回 收之研磨粒以及分散液體内之雜質。 發明概述 因此,本發明之一目的係提供一種漿液管理系統以及一 4ONDA/199906TW,PlP98163TW 2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(彡) 種漿液管理方法,其係極理想地從該被使用過之漿液中分 離出雜質並且保證獲得可回收的研磨粒以及分散液體。 為達成上述之目的,本發明即提供一種用以管理一漿液 之管理系統,該漿液係被使用來切割一工件。該漿液包含 一分散液體以及研磨粒。該管理系統包含一分離裝置,該 分離裝置係用以對該漿液在已經被使用過後執行一分離程 序,進而從該被使用過之漿液中至少回收可回收之研磨 粒。該分離程序之一產物係為一分離液體。該管理系統並 且包含一偵測裝置,該偵測裝置係用以偵測該分離液體之 一性質。該管理系統並且包含一調整裝置,該調整裝置係 根據被該偵測裝置偵測到之性質用以調整該被使用過之漿 液在被傳送至該分離裝置之前的溫度。 關於本發明之另一觀點,其係提供一種管理一漿液之管 理系統,該漿液係被使用來切割一工件。該漿液包含一分 散液體以及研磨粒。該管理系統包含一分離裝置,該分離 裝置係用以對該漿液在已經被使用過後執行一分離程序, 進而從該被使用過之漿液中至少回收可回收之研磨粒。該 分離程序之一產物係為一分離液體。該管理系統並且包含 一偵測裝置,該偵測裝置係用以偵測該分離液體之一性 質。該管理系統並且包含一調整裝置,該調整裝置係根據 被該偵測裝置偵測到之性質用以調整該被使用過之漿液在 被傳送至該分離裝置之前的量。 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 3 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(f) 關於本發明之一進一步的觀點,其係提供一種管理一漿 液之管理方法,該漿液係被使用來切割一工件。該漿液包 含一分散液體以及研磨粒。該管理方法包含對該漿液在已 經被使用過後執行一分離程序,進而從該被使用過之漿液 中至少回收可回收之研磨粒。該分離程序之一產物係為一 分離液體。該管理方法進一步包含偵測該分離液體之一性 質,以及根據所偵測到之性質來調整該被使用過之漿液在 該分離程序執行之前的溫度。 關於本發明之另一觀點,其係提供一種管理一漿液之管 理方法,該漿液係被使用來切割一工件。該漿液包含一分 散液體以及研磨粒。該管理方法包含對該漿液在已經被使 用過後執行一分離程序,進而從該被使用過之漿液中至少 回收可回收之研磨粒。該分離程序之一產物係為一分離液 體。該管理方法進一步包含偵測該分離液體之一性質,以 及根據所偵測到之性質來調整該被使用過之漿液在該分離 程序執行之前的量。 圖式之簡易說明 本發明之特徵誠信極具有新穎性,其並將於所附之專利 範圍内主張。本發明伴隨其本身之目的及優點,可藉由參 照以下所提出之較佳具體實施例及其所附之圖式而得到最 佳的理解。所附圖式之簡易說明如下: 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 4 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本莧) 470686 A7 B7 五、發明説明(穸) 經濟部中夬標準局員工消費合作社印裝 第—圖係為一揭示根據本發明之一第一具體實施例之一 毁液管理系統的部份示意圖; 第二圖係為一揭示該第一具體實施例之一漿液管理系統 的部份示意圖; 第三圖係為一揭示該第一具體實施例之一漿液管理系統 的部份示意圖; 第四圖係為一揭示第一圖至第三圖之管理系統之電子架 構的方塊圖; 第五圖係為一描述於該第一具體實施例中該漿液溫度之 調整的流程圖; 第六圖係為一描述於一第二具體實施例中該漿液溫度之 調整的流程圖; 第七圖係為一描述於一第三具體實施例中該漿液供給量 之調整的流程圖; 第八圖係為一描述於一第四具體實施例中該漿液供給量 之調整的流程圖; 第九圖係為一揭示於一第五具體實施例中之一漿液管理 系統的部份示意圖;以及 1- HAH m* n^n 1 I 一OJ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
4ONDA/199906TW, P1P98163TW 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 470686 A7 B7 五、發明説明( 第十圖係為一揭示第九圖之管理系統之電子架構的方塊 圖 經濟部中央標隼局員工消費合作社印裝 爱:明之詳細銳明 s月參照第一圖至第五圖,根據本發明之一第一具體實施 例將詳述如下。該第一具體實施例之一漿液管理系統之整 體架構係揭示於第一圖至第三圖。如第一圖所示,該管理 系統係包含多個線切割機11(於圖中僅描繪出兩個線切割 機)^每一個線切割11皆具有一漿液槽12,其並裝設一可轉 動的攪拌器13。一液面高度感測器14係附著於該漿液槽12 之外側處’用以偵測在該漿液槽i 2内之漿液的液面高度。 一預定量之漿液係儲備於該漿液槽12内,該漿液包含,例 如’油質性的分散液體以及研磨粒。於該漿液槽12内之漿 液’其係藉由一幫浦15而被送至其所關連之線切割機η 處。 雖然未示於途中,每一線切割機Π皆具有多個滚輪以 及以及單一條金屬線,該金屬線係螺旋地纏繞在該多個滾 輪上’並且以每兩相鄰繞圈之間皆為一特定間距之方式纏 繞。當該多個滾輪轉動並且拉良該金屬線時,漿液即從該 漿液槽12供給至該金屬線處。在此種狀況下,一工件被擠 壓抵住該金屬線即可同時地被切割成多個晶圓。在切割期 間,該被使用過之漿液係被回收至該漿液槽12内,進而被 再次供給至該金屬線處。如此,該漿液係被重複使用。 請 先 閱 之 注
I 装 訂 Λ
4ONDA/199906TW, P1P98163TW 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(7) 供應給該線切割機11之漿液係儲備在一供應槽1 6内, 供應槽16係安置在靠近該線切割機211處。該供應槽16係 經由一供應通道20輸送漿液至該兩漿液槽12。一可轉動之 攪拌器17係被收納在該供應槽16内。兩個液面高度感測器 (18及19)係附著在該供應槽16之外側處,用以偵測在供應 槽16内之漿液的液面高度。一閥門21以及一幫浦22係安設 於該供應通道20之上游端處。於該供應槽16内之漿液係從 該供應通道20經由一閥門23被供應至每一漿液槽12處。該 供應通道20係被連接至一回收通道20a,經由該回收通道 20a,漿液則從該供應通道20被輸送回該供應槽16。 一回收槽24係安設於鄰近該供應槽16處。一可轉動之 攪拌器25係被設置於該回收槽24内。兩個液面高度感測器 (26及27)係附著於該回收槽24之外側,用以偵測於該回收 槽24内之漿液的液面高度。該回收槽24係被連接至一回收 通道28以及一轉運通道29。經由該回收通道28,漿液係從 該漿液槽12被回收。經由該轉運通道29,被回收之漿液係 被輪送至一分離/回收機構40,該分離/回收機構40將描述 於後。一閥門30以及一幫浦31係安設於該轉運通道29之上 游端處。 於該供應槽12内之漿液之反覆使用會增加漿液内雜質 (例如,工件之屑片以及破裂的研磨粒)的量,並且會影響該 線切割機11之切割效能。因此,於每一漿液槽12内被使用 過之漿液,其全部或一些係週期性地或於每一次切割完成 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 7 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ml- - — ^^—^1 tflt I 人—HI— —HI— It (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 五、發明説明(《) 後及經由該幫浦15、閥門32以及回收通道28被輸送至該回 收槽24。該供應槽16即根據從該漿液槽12所排出使用過之 漿液的量,以新鮮的漿液補充每一漿液槽12。 一循環通道28a係延伸至該回收通道28與一閥門35之 間,該閥門35係安設於該轉運通道29内。因此,漿液係經 由該回收槽24、轉運通道29、循環通道28a以及回收通道 28作循環。 該循環通道29係被連接至一計量槽34,該計量槽34係 示於第二圖。於該回收槽24内之被使用過之漿液係經由該 閥門30、幫浦31以及位於該轉運通道29内之閥門35被輸送 至該計量槽34内。一對液面高度感測器(36及37)係附著於 該計量槽34之外側處,用以偵測於該計量槽34内之漿液的 液面高度。該液面高度感測器(36及37)係在一漿液分離程 序執行期間被使用,用以計量在該漿液分離程序執行期間 被使用過之漿液的量。至於該漿液之分離程序將描述於 後。 該計量槽34係藉由一傳送通道39被連接至示於第三圖 中之該分離/回收機構40。該傳送通道39包含多個閥門 (41、42、43、44)以及一幫浦45。當於該計量槽34内被使 用過之漿液經由該傳送通道39被傳送至該分離/回收機構40 時,該分離/回收機構40即會從該被使用過之漿液中移除雜 質並且回收該可回收之研磨粒以及分散液體。該雜質係指 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 8 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填舄本頁) 、? 470686 A7 B7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 五、發明説明(1") 該分離/回收機構40係包含一第一玻璃瓶46(或第一分 離裝置)以及一第二玻璃瓶47(或第二分離裝置)。例如,該 第一玻璃瓶46及第二玻璃瓶47係分形成螺旋輸送器形態之 離心分離裝置。該第二玻璃瓶47之旋轉速度係較該第一玻 璃瓶46之旋轉速度高。 該第一玻璃瓶46係將從該傳送通道3 9輸送來的被使用 過之漿液離心成,例如,具有一粒徑為5微米或更大之可回 收的研磨粒以及一渾濁的分散液體(以下稱為主要分離液 體),該主要分離液體包含粒度較該可回收的研磨粒之粒度 小之顆粒組成。藉由該第一玻璃瓶46分離之主要分離液體 係經由一通道46a被輸送至該第二玻璃瓶47。該第二玻璃瓶 47係將該主要分離液體分離成雜質以及純的、可回收的分 散液體進而回收一可回收之分散液體(以下稱為二次分離液 體)。 藉由該第二玻璃瓶47分離之雜質係經由一排放通道47 a 被輸送至一密封槽49。藉由該第二玻璃瓶47回收之二次分 離液體係經由一通道47b被輸送至該第一玻璃瓶46。閥門 48及閥門70係安置於該通道47b。藉由該第一玻璃瓶46回 收之研磨粒係與從該第二玻璃瓶47輸送來的二次分離液體 混合,並且被該第一玻璃瓶46輸送至一第一開關閥門50。 因此,該固體狀之研磨粒係容易被輸送出去。 一用以偵測主要分離液體之性質的第一偵測器92係安 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 9 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-11 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(A?) 設於該通道46a内。一用以偵測該二次分離液體之性質的第 二偵測器93係安設於該通道47b内。該第一偵測器92及第 二偵測器93皆具有一比重量規78、一黏稠度量規79以及一 黏稠度量規80。 如第二圖所示,一第二開關閥門5 1係安置於該第一開 關閥門50之下游處。從該第一玻璃瓶46輸送出來由該研磨 粒與該二次分離液體所組成之混合物,其係藉由該第一開 關閥門50被選擇性地輸送至該第二開關閥門51以及該計量 槽34。吸入至該第二閥門51内由該研磨粒與該二次分離液 體所組成之該混合物,其係被選擇性地輸送至一對準備槽 54 ° 每一準備槽54皆裝設一可轉動之攪拌器55。一重量感 測器56係附著於該準備槽54之外側處。該重量感測器56係 偵測於該準備槽54内之漿液的重量。 一盛裝新鮮研磨粒之漏斗58係安置於每一準備槽54之 上方。盛裝於該漏斗58内之新鮮的研磨粒係經由一振動進 料器59供給入其所關聯之準備槽54。每一漏斗58係被連接 至一空氣供應通道60,該空氣供應通道60係引導至一空氣 壓縮器61。當研磨粒被供給入該準備槽54内時,該空氣壓 縮器61則輸送壓縮空氣進入該漏斗58内,以幫助該研磨粒 之供給。該漏斗58以及該準備槽54係藉由一吸引通道62被 連接至一集塵器63。盛裝於該漏斗58以及該準備槽54内之 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 10 本紙張尺度適用中國國家楳準(CNS ) A4規格(210X297公釐) n ji I I I —— 本 i I I— I (請先閱讀背面之注意事項再填寫,本頁) 470686 A7 B7 五、發明説明(/7) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 研磨粒(主要為粒度細小之破裂研磨粒)則被該集塵器63抽 出。 如第三圖所示之一對分散液體槽64,其係被安置於該 準備槽54之鄰近處。該對分散液體攢64係盛裝新鮮的分散 液體。盛裝於該對分散液體槽64内之新鮮分散液體係經由 一閥門65、一幫浦66以及一對閥門67被輸送至如第二圖所 示之每一準備槽54。從該漏斗58供給之新鮮研磨粒以及來 自該分散液體槽64之新鮮研磨粒係與來自每一準備槽54内 之分離/回收機構40的研磨粒以及分散液體攪拌、混合。結 果,由研磨粒以及分散液體所製備而成的漿液係具有一特 定比例。該聚液之製備係由該兩個準備槽5 4輪流執行。 於該準備槽54内之混合物中研磨粒與分散液體之重量 比例約為1:0.7至1:0.98。於本發明中,藉由一材料(例如, 氮化矽或碳化矽)所製成具有一尺寸(例如,#600、#800或 # 1 0 0 0)係作為研磨粒之用。石夕油(s i 1 i c ο η 〇 i 1)(例如,由 Paresu Kagaku Kabushiki Kaisha公司所製造之產品編號 為PS-LW-I之矽油)係作為分散液體之用。 如第三圖所示,一閥門69連接一分歧通道68至一供應 通道,該通道係從該分散液體槽64延伸至第二圖所示之準 備槽54。該分歧通道68係藉由閥門70被連接至該通道 47b。該藉由第二玻璃瓶47回收之二次分離液體或該可回收 之分散液體係週期性地經由排放通道47a從該閥門48輸送至
4ONDA/199906TW, P1P98163TW 11 請 先 閲 讀 背 意 事 項 再 填 ' %衣 頁 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公嫠) 470686 A7 B7 五、發明説明(/>) 該密封槽49。於同一時刻,於該分散液體槽64内之分散液 體不僅供應至該準備槽54,並且經由該分歧通道68從閥門 70輸送至該第一玻璃瓶46。 如第一圖集第二圖所示,該準備槽5 4係藉由一供應通 道71被連接至該供應槽16。如第二圖所示,於該供應通道 71連接至該兩準備槽54之部份皆提供有一閥門72。閥門 (73及74)及一幫浦75並安設於該供應通道71内。準備於每 一準備槽54内之漿液係經由該供應通道71被輸送至該供應 槽16。 請 先 閲 讀 背 ιέ 之 注 意 事 項 再 填 ,寫 本 頁 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 一循環通道76係從該供應通道71之閥門74延伸至該兩 準備槽54。該傳送通道39包含一共同通道3 9a,該共同通 道3 9a並且作為延伸在閥門43與閥門44之間的循環通道 76。該循環通道76係藉由一閥門77作分歧,並延伸至該兩 準備槽54之每一準備槽。於該兩準備槽54内在該漿液製備 期間以及該漿液製備完後,該準備槽54内之漿液係藉由該 幫浦75經由該供應通道71之部份通道以及該循環通道76作 循環。 一偵測器100係安設於該共同通道39a内,用以偵測流 經該通道39a之漿液的性質。該偵測器1 00包含比重量規 78、流量速率量規79以及黏稠度量規80。當被使用過之漿 液經由該閥門43以及該傳送通道39被傳送至該分離/回收機 構40時,或當該準備槽54内之漿液經由該供應通道71之部
4ONDA/199906TW, P1P98163TW 12 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X297公釐) 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(/,) 78、流量速率量規79以及黏稠度量規80。當被使用過之漿 液經由該閥門43以及該傳送通道39被傳送至該分離/回收機 構40時,或當該準備槽54内之漿液經由該供應通道71之部 份通道以及該循環通道76作循環時,該漿液之比重、流量 速率以及黏稠度係分別被該比重量規78、該流量速率量規 79以及該黏稠度量規80所偵測。 一整合比重量規78以及流量速率量規79量規亦可被採 用於本發明中。例如,一由Kabushiki Kaisha Ohbaru公 司所製造之微動流量計(micromotion flow meter)係可同 時偵測到一液體之比重以及流量速率,其即可採用於本發 明中 ° 一由 Fisher-Rosemount Japan Kabushiki Kaisha 公司所製造之壓力/差動壓力傳送器(產品編號3051C),其 可被採用作為該黏稠度量規80。 一溫度調整器81係安設於該偵測器100之共同通道下游 處。該溫度調整器81係藉由,例如,改變一用以傳送熱量 至該漿液之熱媒介的溫度或流速,進而加熱或冷卻該漿 液。當該被使用過之漿液係經由該傳送通道39被傳送至該 分離/回收機構40時,該溫度調整器81則偵測該漿液之溫 度。該漿液之溫度即可映射其本質,或該漿液之黏稠度。 上述漿液管理系統之電子架構將詳述如下。如第四圖所 示,一中央處理單元(CPU)84係控制整體漿液管理系統之 運作。各種不同形態且對該漿液管理系統係為必要之控制 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 13 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫'"頁) 470686 Μ Β7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(/t) 制裝置。 該CPU84係接收來自該第一偵測器92、第二偵測器 93、比重量規78以及黏稠度量規80之偵測信號以及接收來 自一操作面板87之操作信號。該CPU84並且藉由驅動電路 (8 8、89、90以及91)分別輸送致動信號至該溫度偵測器 81、閥門、幫浦以及該兩個玻璃瓶(46、47),其中所謂之 閥門及幫浦係包括第一圖至第三圖所示之所有閥門及幫 浦。然而,僅特別與本發明相關之閥門及幫浦才予以標示 圖式標號並不於第四圖中。 當執行該被使用過之漿液之分離程序時,該CPU84則 切換該閥門41成閥門44,進而開啟該傳送通道39,該傳送 通道39係從該計量槽34引導至該分離/回收機構40。在此種 狀況下,該CPU84則致動該幫浦45,進而傳送該被使用過 之漿液從該計量槽34至該分離/回收機構40。當傳送該被使 用過之漿液時,該CPU84則執行一流程描述於第五圖中之 程序。該程序將詳述於後文。 在執行該被使用過之漿液之分離程序期間,該CPU84 並且顯示由該比重量規78、流量速率量規79、黏稍度量規 80、第一偵測器92以及該第二偵測器93所偵測到之偵測值 於一顯示器(未示於圖中)上,該顯示器係提供於該操作面板 87上。 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 14 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、言 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(κ) 在該準備槽54内之漿液之製備期間以及製備完後,該 CPU84會切換該閥門43、44、72-74,用以開啟從該準備 槽54流經該供應通道71之部份通道及該循環通道76並且流 回至該準備槽54之通路。在此狀況之下,該CPU84則致動 該幫浦75,用以循環該準備槽54内之漿液流經該供應通道 71之部份通道以及該循環通道76。 在該漿液作循環期間,該CPU84即以該比重量規78、 離量速率量規79以及黏稠度量規80分別偵測該漿液之比 重、流動速率以及黏稠度。該CPU84隨後調整從該漏斗58 供給至該準備槽54之研磨粒的量以及從該分散液體槽64輸 送至該準備槽54之分散液體的量。如此,可保持該準備槽 54内之研磨粒與分散液體之漿液製備比例在一最佳值,亦 即,如上述之重量比例值約為1:0.7至1:0.98。 於該第一具體實施例内該漿液管理系統之操作將詳述如 下。當在每一線切割11内之工件開始切割時,該漿液槽12 内之漿液則被輸送至該線切割機11,並且經該線切割11使 用過之漿液則輪送回至該漿液槽12。於該漿液槽12内該被 使用過之漿液則週期性地或每一次切割完成後被輸送至該 回收槽24。除此之外,該漿液槽12係根據該被使用過之漿 液索回收之量從該供應槽補充漿液。 於該回收槽24内該被使用過之漿液係從該轉運通道29 被輸送至該計量槽34。於該計量槽34内該被使用過之漿液 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 15 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫,本頁) 470686 A7 B7 五、發明説明(Μ) 於該回收槽24内該被使用過之漿液係從該轉運通道29 被輸送至該計量槽34。於該計量槽34内該被使用過之漿液 係進一步經由該傳送通道39被輸送至該分離/回收機構40。 可回收的研磨粒以及分散液體係藉由該分離/回收機構40内 之該第一玻璃瓶46及該第二玻璃瓶47從該被使用過之漿液 中回收。所回收之研磨粒以及分散液體係以一混合狀態被 輸送回至該準備槽54。在該準備槽54中,所回收之研磨粒 以及分散液體係與來自該漏斗58之新鮮的研磨粒以及從該 分散液體槽64輸送來的分散液體混合,進而製備具有適當 製備比例之漿液。 請 先 閲 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 ,,馬 本 頁 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在該漿液製備期間或製備完後,該準備槽54内之漿液 係經由該循環通道76作循環。當該準備槽54内之漿液的液 面下降至一預定高度或是更低時,於該準備槽54内所製備 的漿液則經由該供應通道71被輸送至該供應槽16。 在該被使用過之漿液之分離程序執行期間,關於該漿液 溫度之調整之執行漿詳述如下,並起參照第五圖中之流程 圖。該漿液溫度之調整係基於貯存於該ROM85内之一控制 程式藉由該CPU84執行。 如果確認該漿液分離程序已經開始於步驟S1,該 CPU84繼續執行步驟S2。在步驟S2,該CPU84係基於從該 第一偵測器92傳送來之偵測信號而偵測到從該第一玻璃瓶 46輸送至該第二玻璃瓶47之該主要分離液體的本質(比重或
4ONDA/199906TW, P1P98163TW 16 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 五、發明説明(/t) 接著,在步驟S3,該CPU84係判斷顯示該主要分離液 體之本質的偵測值是否在一預定範圍内,該預定範圍係事 先貯存於該RAM86内。例如,如果該主要分離液體之比重 被偵測到,所偵測到比重值會被判斷是否在1.00至1.05之 範圍内。如果該主要分離液體之黏稠度被偵測到,所偵測 到之黏稠度值會被判斷是否在50cp(黏稠度單位:釐泊, centipoise)至 120cp 之範圍内。 如果所偵測到之值不在該預定範圍内,該CPU84則繼 續執行步驟S4並且控制該溫度調整器81以升高或降低輸送 至該第一玻璃瓶46處該被使用過之漿液的溫度,致使所偵 測到之值落入該預定範圍内。隨後,該CPU84回歸至步驟 S2並且重複執行步驟S2至步驟S4,直到由該第一偵測器92 所偵測到之值落入該預定範圍内。 例如,如果該主要分離液體之黏稠度被偵測到並且被偵 測到之黏稠度的值比該預定值還高時,該被使用過之漿液 之溫度則被升高進而降低該被使用過之漿液的黏稠度。在 另一方面,如果被偵測到之黏稠度的值比該預定值還低時, 該被使用過之漿液之溫度則被降低進而升高該被使用過之 漿液的黏稠度。該預定值係根據所採用漿液之型態、該玻 璃瓶(46、47)之裝設情況以及其他藉由該玻璃瓶(46、47) 達成良好的製備所需之參數而決定。 如果於步驟S3中所偵測到之值係落入該預定範圍内, 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 17 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(β) 該CPU84則繼續執行步驟S5,並且判斷該漿液分離程序是 否已經完成。步驟S2至步驟S5係由該CPU84重複執行,直 到該漿液分離程序完成為止。 如以上所述,於該第一具體實施例中,該第一偵測器 92係偵測藉由該第一玻璃瓶46回收之主要分離液體的本質 (比重或黏稠度)。更進一步,該被使用過之漿液之溫度係被 調整以控制該被使用過之漿液之黏稠度,致使所被偵測到 之值被維持在該預定範圍内。如此,可保持在該分離/回收 機構40内該第一玻璃瓶46以及該第二玻璃瓶47之分離效率 為恆定值。因此,可回收的研磨粒以及分散液體係有效率 地從該被使用過之漿液中回收。 該第一具體實施例之架構極為簡單。因為,僅有輸送至 該分離/回收機構40處該被使用過之漿液的溫度須要藉由該 溫度調整器81以及該CPU84作調整,該CPU84係控制該溫 度調整器81。 該研磨粒之回收係藉由該第一玻璃瓶46執行,而該分 散液體之回收係藉由該第二玻璃瓶47執行。因此,該玻璃 瓶(46、47)之轉速可分別獨立設定至可適當回收研磨粒或 分散液體之轉速值。 該準備槽54之數量可以只有一個。此種情況下,該供 應槽16可以免除,並且製備於該單一準備槽54内之漿液可 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 18 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟、邱中央標準局員工消费合作社印製 470686 A7 ______B7 五、發明説明(/?) 以直接輸送至該線切割11之漿液槽12。 該回收槽24可以免除,並且被使用過之漿液可以從該 線切割11之漿液槽12直接導引入該計量槽34内。 一水溶液之分散液體可以取代該油質性之分散液體。在 此種情況下,該漿液之本質(比重或黏稠度)之適當範圍必須 有所改變。 該第二玻璃瓶47可以免除’並且該系統可以改變成一 個僅回收研磨粒之系統。 在一第二具體實施例中’其係被描述於第六圖中,於第 五圖之流程圖中步驟S2係被步驟S2'所取代。於步驟S2' 中,該CPU84係偵測該二次分離液體之本質(比重或黏稠 度),該二次分離液體係基於該第二偵測器93傳送來的偵測 號措由該第-—玻璃瓶4 7而回收。例如,如果該二次分離 液體之比重被偵測到,所偵測到之比重之值在接續的步驟 S3中會被判斷是否在0.92至0.99之範圍内。如果該二次分 離液體之黏稠度被偵測到,所偵測到之黏稠度之值在接續 的步驟S3中會被判斷是否在3〇cp至70cp之範圍内。該第二 具體實施例之優點係與描述於第五圖中之第一具體實施例 之優點相同》 在一第三具體實施例中’其係描述於第七圖中,於第五 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 19 本紙張尺度適用中國國家標準( CNS ) Μ規格(210X297公釐) ' —. -裝 訂------\ X V- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明uw 圖之流程圖中步驟S4係被步驟S4·所取代。於步驟S4·中, 該CPU84係控制該幫浦45進而提升或減少輸送至該第一玻 璃瓶46處該被使用過之漿液的量,致使顯示該主要分離液 體之本質的偵測值係落入該預定範圍内。一反向器控制之 mohno幫浦可以被採用作為該幫浦45。 該第三具體實施例之架構極為簡單。因為,僅有輸送至 該分離/回收機構40處該被使用過之漿液的量須要藉由該幫 浦45以及該CPU84作調整,該CPU84係控制該幫浦45。 該漿液之黏稠度係與包含於該漿液内之固體(研磨粒以 及雜質)的量相關聯。因此,藉由根據該主要分離液體之黏 稠度調整輸送至該第一玻璃瓶46處該被使用過之漿液的 量,輸送至該第一玻璃瓶46之固體的量漿可維持恆定。因 此,該加載於該兩玻璃瓶(46、47)之負荷實質上係為恆定 負荷,並且該玻璃瓶(46、47)係持續執行良好的分離。 在一第四具體實施例中,其係描述於八圖中,於第七圖 之流程圖中步驟S2係被步驟S2’所取代。步驟S2*係與第六 圖之步驟S2’完全相同。該第四具體實施例之優點係與描述 於第七圖之第三具體實施例之優點相同。 在描述於第九圖中之一第五具體實施例中,其係將描述 於第一圖至第三圖之第一具體實施例之漿液管理系統的部 份作改變。所改變之部分係概略性地揭示於圖中。在第九 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 20 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填駕本頁) 470686 A7 !____B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 五、發明説明(>/) 圖中’其具有與描述於第一圖至第三圖之管理系統之構件 相同之圖式標記的構件即為其所對應第一圖至第三圖中已 描述之構件。 如第九圖所示,該共同通道39a係作為該傳送通道39以 及該循環通道76 ’該共同通道39a延伸在該閥門43與一第 二閥門102(對應於第二圖之閥門44)之間。該循環通道76係 從該第二閥門1〇2延伸至該準備槽54(第二圖)。一第一閥門 101係安設於該偵測器1〇〇之共同通道39a的上游,該镇測 器100包含該比重量規78、流量速率量規79以及黏稠度量 規80。一第二閥門1〇3係安設於該通道46a内,該通道46a 係從該第一玻璃瓶46延伸至該第二玻璃瓶47。一第四閥門 104係安設於一分散液體排放通道(對應於第三圖之排放通 道47a)内,該分散液體排放通道係從該第二玻璃瓶47延 伸。 一通過通道105係通過該第一閥門101、該偵測器1〇〇 以及該第一閥門102,並且延伸在該溫度调整器81之共同通 道39a的下游處與該分離/回收機構40之間。一第五閥門1〇6 係安設於該通過通道105内。 一第一進入通道107延伸在該第三閥門1〇3之通道46a的 上游處與該偵測器100之共同通道39a的上游處之間。一第 六閥門108係安設於該第一進入通道1〇7内。一第一流出通 道109係延伸在該偵測器1〇〇之共同通道39a的下游處與該
4ONDA/199906TW, P1P98163TW 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210X297公釐>
If· nn In— 1^1^1 n ^^^^1 nn n^l fm 一 ,^ I (請先閱讀背面之注意事項再填雋本頁) 470686 A7 B7 五、發明説明(》) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 道109係延伸在該偵測器1〇〇之共同通道39a的下游處與該 第三閥門103之通道46a的下游處之間。一第七閥門丨丨〇二 設於該第一流出通道109内。 戈 一第二進入通道111係延伸在該第二玻璃瓶47之分散液 體排放通道與該偵測器100之共同通道39&的上游處之間。 一第八閥門112係安設於該第二進入通道1Ur。_第二漭 出通道113係延伸在該偵測器1 〇〇之共同通道39的下游處與 該第五閥門104之下游側。一第九閥門114係安設於該第二 流出通道113内。 該第一第九閥門(101 至 104、106、108、110、112、 114)係選擇性地開啟以及關閉以切換流通的通道。根據所 選擇的流通通道,該偵測器1〇〇持續地偵測該被使用過之漿 液、藉由該第一玻璃瓶46離心的主要分離液體以及藉由該 第一玻璃瓶47離心的二次分離液體之本質(比重、流量迷率 以及黏稠度)。換言之,該偵測器100係作為第三圖之該第 一偵測器92以及該第二偵測器93。 上述漿液管理系統之電子架構將詳述如下,請參照第十 圖。於第十圖中’其具有與描述於第四圖之管理系統之構 件相同之圖式標記的構件即為其所對應第四圖中已描述之 構件。如第十圖所示,該CPU84係接收來自該比重量規 78、流量速率量規79以及黏稠度量規8〇之偵測信號以及來 自一操作面板87之操作信號。該CPU84並且送出致動信號
4ONDA/199906TW, P1P98163TW 22 —^n' ^ϋτ m^l ml —^ϋ m· me r m m 一OJI (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 470686 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(>}) 由一驅動電路115提供給該第一至第九閥門(101至104、 106、108、110、112、114)中之一個閥門。 當該被使用過之漿液被輸送至該分離/回收機構40處 時,或當該準備槽54(第二圖)内之漿液經由該循環通道76 作循環時,該CPU84則以該偵測器100來偵測該漿液在執 行分離程序之前的比重、流量速率以及黏稠度,該CPU84 隨後並貯存所偵測到之結果進該RAM86内。 該CPU84並且以該第一至第九閥門來切換流通通道, 進而以該偵測器100來偵測藉由該第一玻璃瓶46作分離之主 要分離液體的比重、流量速率以及黏稠度。該CPU84隨後 並貯存所偵測到之結果進該RAM86内。更進一步,該 CPU84以該第一至第九閥門來切換流通通道,進而以該偵 測器10 0來偵測藉由該第二玻璃瓶4 7作分離之二次分離液體 的比重、流量速率以及黏稠度,該CPU84隨後並貯存所偵 測到之結果進該RAM86内。 該CPU84顯示所偵測到的值在提供於該操作面板87上 之一顯示器上。該CPU84進一步使用所偵測到之結果,依 照描述於第五圖、第六圖、第七圖及第八圖之流程中之一 個流程來調整該被使用過之漿液之溫度或是供應量。 該第五具體實施例之漿液管理系統的操作將詳述如下。 正常而言,在該漿液執行分離程序期間,該第三至第五閥 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 23 本紙浪尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 470686 A7 ______ B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明UD 門(103、104、106)係為開啟狀態,而其餘之第一第二 及第六至第九閥門(101、102、1〇8、110、112、114)係 為關閉狀態》在此種狀況下,每一線切割機丨丨所使用之漿 液係從該回收槽24(第一圖)經由該通過通道1〇5被導引至該 分離/回收機構4〇,而未流經該偵測器1〇〇,如第九圖中實 線箭頭A1所示。該可回收的研磨粒以及二次分離液體或經 純化過之分散液體係藉由該第一玻璃瓶46及第二玻璃瓶47 從該被使用過之漿液中回收’並且隨後輸送回該準備槽 54(第二圖)。 在該漿液執行分離程序期間,該CPU84在每一預定時 間週期即切換該第一至第九閥門(101至104、1〇6、1〇8、 110、112、114)用以持續偵測該被使用過之漿液、主要分 離液體以及二次分離液體之本質(比重、流量速率以及黏稠 度)。 當偵測該被使用過之漿液的本質時,僅有該第一至第四 閥門(101至104)係為開啟狀態。其餘的第五至第九閥門 (106、108、110、112、114)則為關閉狀態。上述狀況 下,該被使用過之漿液之傳送係流經該偵測器100、該第一 玻璃瓶46以及該第二玻璃瓶47,如第九圖中虛線箭頭A2所 示。因此,該比重量規78、該流量速率量規79以及該黏稠 度量規80發出關於該被使用過之漿液的比重流量速率以及 黏稠度之偵測信號給該CPU84。 4ONDA/199906IW, P1P98163TW 24 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2ίο'〆297公釐) tm· I - -- - m^— , In —^ϋ tl^i n^i ^—t— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 470686 A7 _____B7 五、發明説明(><) 當偵測該主要分離液體本質時,僅有該第四至第七閥門 (1 04、1 06 ' 1 08)係為開啟狀態。其他閥門(1 〇 1至1 03 ' 112、114)則為關閉狀態。上述狀況下,該被使用過之漿液 的傳送係流經該通過通道105、該第一玻璃瓶46、該第一進 入通道1 07、該偵測器1 〇〇、該第一流出通道丨〇9以及該第 二玻璃瓶47,如第九圖中單點線箭頭A3所示。因此,該比 重量規78、流量速率量規79以及黏稠度量規8〇發出關於該 主要分離液體之比重、流量速率以及黏稠度之偵測信號給 該CPU84 ’該主要分離液體係在該第—玻璃瓶46内作分 離。 當偵測該二次分離液體或該可回收的分散液體之本質 時’僅有該第三、第五、第八以及第九閥門(1 〇3、丨〇6、 112、114)係為開啟狀態。其他閥門(1(n、1〇2、1〇4、 108、110)則為關閉狀態。在此種狀況下,該被使用過之衆 液之傳送係經由該通過通道105、該第一玻璃瓶46、該第二 玻璃瓶47、該第二進入通道111、該偵測器1〇〇以及該第二 流出通道11 3,如第九圖中雙點線箭頭A4所示。因此,該 比重量規78、流量速率量規79以及黏稠度量規8〇發出關於 該可回收的分散液體之比重、流量速率以及黏稠度之偵測 信號給該CPU84,該可回收的分散液體係在該第二玻璃瓶 47中作分離。 如以上所述,在該第五具链實施例中,藉由以多個間門 來切換該漿液之流通通道’該被使用過之聚液 '主要分離
4ONDA/199906TW, P1P98163TW ____ 25 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X297公釐) '— —------ ^1- m· ^^^1 1^1 m nn n - - a^—1 1- -- i 、一s04 ; fi (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 470686 A7 B7 五、發明説明(w) 液體以及二次分離液體之本質僅僅以一組比重量規78、流 量速率量規79以及黏稠度量規80即可被持續偵測。如此可 減少用以偵測該漿液之本質之偵測器數目,並且可以簡化 該電子架構用以偵測之部份。 雖然,在此僅描述數個具體實施例,然而明顯地,凡熟 知該領域技術之人皆可將本發明具體實施成其他特定型 態,而未偏離本發明之精神與觀點。因此,於發明中所提 出之例子以及具體實施例應被廣泛地考量而非被限制地考 量,並且本發明不應受限於說明書中所提及之細節,而可 在所附申請專利範圍之觀點與相等性之範疇内作變化。 K^—· I ————— .^ϋ· mu —^ϋ flm t n^lf —^n nn —1« n^— nflfl - > (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印装 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 26 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
Claims (1)
- 470686 Α8 Β8 C8 -___ D8 申請專利範圍 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 一種用以管理一漿液之管理系統,該漿液係被使用來 切割一工件’其中該漿_液包含·一分散液體(dispersing liquid)以及研磨粒(abrasive grains),該管理系統包 含: 一分離裝置(separating means)(40),用以對該聚 液在已經被使用過後執行一分離程序,進而從該 被使用過之漿液中至少回收可回收之研磨粒,其 中該分離程序之一產物係為一分離液體 (separation liquid); 一偵測裝置(92、93、100),用以偵測該分離液體 之一性質;以及 一調整裝置(81),該調整裝置係根據被該偵測裝置 (92、93、100)偵測到之性質,用以調整該被使 用過之漿液在被傳送至該分離裝置(4〇)之前的溫 度。 如申請專利範圍第1項所述之管理系統,其中該偵測 装置(92、93、100)係偵測該分離液體的比重與黏稠 度兩性質中之至少一個性質。 如申請專利範圍第1項所述之管理系統,其中該分離 裝置(40)係對該漿液施以離心力以分離該漿液中之組 成。 如申請專粒範圍第1項、第2項或第3項所述之管理系 4ONDA/199906TW, P1P98163TW (CNS) M 規格·(210 ϋ)1 27 ------------裝--------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填駕本頁) 470686 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 統,其中該漿液在已經被使用過後進一步包含粒度較 該研磨粒細小之雜質,並且其中該分離裝置(40)包 含: 一第一分離裝置(46),用以離心地分離該雜質與來 自該被使用過之漿液的分散液體所組成之一混合 物,進而從該被使用過之槳液中回收可回收之研 磨粒,其中該混合物係為該分離液體;以及 一第二分離裝置(47),用以離心地分離來自該混合 物之雜質,進而從混合物中回收可回收之分散液 體。 請 先 閱 讀 背 之 注 意 事 項 再 填 '寫 頁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如申請專粒範圍第1項、第2項或第3項所述之管理系 統,其中該漿液在已經被使用過後進一步包含粒度較 該研磨粒細小之雜質,並且其中該分離裝置(40)包 含: 一第一分離裝置(46),用以離心地分離該雜質與來 自該被使用過之漿液的分散液體所組成之一混合 物,進而從該被使用過之漿液中回收可回收之研 磨粒;以及 一第二分離裝置(47),用以離心地分離來自該混合 物之雜質,進而從混合物中回收可回收之分散液 體,其中該被回收之分散液體係為該分離液 體。 一種用以管理一漿液之管理系統,該漿液係被使用來 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 28 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 470686 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 切割一工件,其中該漿液包含一分散液體(dispersing liquid)以及研磨粒(abrasive grains),該管理系統包 含: 一分離裝置(separating means)(40),用以對該衆 液在已經被使用過後執行一分離程序,進而從該 被使用過之漿液中至少回收可回收之研磨粒,其 中該分離程序之一產物係為一分離液體 (separation liquid); 一偵測裝置(92、93、100),用以偵測該分離液體 之一性質;以及 一調整裝置(45) ’該調整裝置係根據被該偵測裝置 (92 ' 93、100)偵測到之性質用以調整該被使用 過之漿液在被傳送至該分離裝置(40)之前的量。 如申請專利範圍第6項所述之管理系統,其中該偵測 裝置(92、93、100)係偵測該分離液體的比重與黏稠 度兩性質中之至少一個性質。 如申請專利範圍第6項所述之管理系統,其中該分離 裝置(4 0 )係對該漿液施以離心力以分離該漿液中之組 成。 如申請專利範圍第6項、第7項或第8項所述之管理系 統,其中該漿液在已經被使用過後進一步包含粒度較 該研磨粒細小之雜質,並且其中該分離裝置(4〇)包 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 鮮“祕咖X 297公楚) 29 ------------ I ^--------^---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填驾本頁) 470686 A8 B8 C8 D8 、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 申請專利範圍 含: 一第一分離裝置(46),用以離心地分離該雜質與來 自該被使用過之漿液的分散液體所組成之一混合 物,進而從該被使用過之漿液中回收可回收之研 磨粒,其中該混合物係為該分離液體;以及 一第二分離裝置(47),用以離心地分離來自該混合 物之雜質,進而從混合物中回收可回收之分散液 體。 1〇、如申請專利範圍第6項、第7項或第8項所述之管理系 統,其中該漿液在已經被使用過後進一步包含粒度較 該研磨粒細小之雜質,並且其中該分離裝置(40)包 含: 一第一分離裝置(46),用以離心地分離該雜質與來 自該被使用過之漿液的分散液體所組成之一混合 物,進而從該被使用過之漿液中回收可回收之研 磨粒;以及 一第二分離裝置(47),用以離心地分離來自該混合 物之雜質,進而從混合物中回收可回收之分散液 體,其中該被回收之分散液體係為該分離液 體。 11、一種用以管理一漿液之管理方法,該漿液係被使用來 切割一工件,其中該聚液包含一分散液體(dispersing liquid)以及研磨粒(abrasive grains),該管理方法包 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 30 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------裝--------訂--------線 (請先閱讀背面之注意事項再填駕本頁) 470686 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 六、申請專利範圍 含下列步驟: 對該漿液在已經被使用過後執行一分離程序,進而 從該被使用過之漿液中至少回收可回收之研磨 粒,其中該分離程序之一產物係為一分離液體 (separation liquid); 偵測該分離液體之一性質;以及 根據所偵測到之性質來調整該被使用過之漿液在該 分離程序執行之前的溫度。 12、一種用以管理一漿液之管理方法,該漿液係被使用來 切割一工件,其中該漿液包含一分散液體(dispersing liquid)以及研磨粒(abrasive grains),該管理方法包 含下列步驟: 以一分離裝置(40)對該漿液在已經被使用過後執行 一分離程序,進而從該被使用過之漿液中至少回 收可回收之研磨粒,其中該分離程序之一產物係 為一分離液體(separation liquid); 偵測該分離液體之一性質;以及 根據所偵測到之性質來調整該被使用過之漿液在被 傳送至該分離裝置(40)之前的量。 4ONDA/199906TW, P1P98163TW 31 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ------------政·-------訂---------. I - - .- (請先閱讀背面之注意事項再填名本頁)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35754398A JPH11309674A (ja) | 1998-02-26 | 1998-12-16 | スラリ管理システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW470686B true TW470686B (en) | 2002-01-01 |
Family
ID=18454676
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW088107195A TW470686B (en) | 1998-12-16 | 1999-05-04 | Slurry managing system and slurry managing method |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1010509A2 (zh) |
KR (1) | KR20000047421A (zh) |
NO (1) | NO992561L (zh) |
TW (1) | TW470686B (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI406737B (zh) * | 2009-04-27 | 2013-09-01 | Ihi Compressor And Machinery Co Ltd | Method and device for managing coolant of wire saw |
TWI415714B (zh) * | 2010-03-01 | 2013-11-21 | Ihi Compressor And Machinery Co Ltd | Saw the slurry management device |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100823666B1 (ko) * | 2007-09-11 | 2008-04-18 | (주)세미머티리얼즈 | 폐실리콘 슬러지 재생장치 및 방법 |
WO2012126883A1 (en) * | 2011-03-18 | 2012-09-27 | Meyer Burger Ag | Cutting fluid cleaning arrangement for a wire saw, wire saw arrangements and use of the wire saw arrangement |
-
1999
- 1999-05-04 TW TW088107195A patent/TW470686B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-05-04 EP EP99108858A patent/EP1010509A2/en not_active Withdrawn
- 1999-05-27 NO NO992561A patent/NO992561L/no not_active Application Discontinuation
- 1999-06-24 KR KR1019990024080A patent/KR20000047421A/ko active IP Right Grant
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI406737B (zh) * | 2009-04-27 | 2013-09-01 | Ihi Compressor And Machinery Co Ltd | Method and device for managing coolant of wire saw |
TWI415714B (zh) * | 2010-03-01 | 2013-11-21 | Ihi Compressor And Machinery Co Ltd | Saw the slurry management device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NO992561D0 (no) | 1999-05-27 |
NO992561L (no) | 2000-06-19 |
KR20000047421A (ko) | 2000-07-25 |
EP1010509A2 (en) | 2000-06-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101478872B1 (ko) | 폴리실리콘 덩어리의 투입 및 포장을 위한 방법 및 장치, 및 투입 및 포장 유닛 | |
TW470686B (en) | Slurry managing system and slurry managing method | |
EP2447167B1 (en) | A pressure dispense apparatus for minimizing the generation of particles in ultrapure liquids and dispensing method utilizing such an apparatus | |
JP3408979B2 (ja) | スラリ管理システム | |
US20050041998A1 (en) | Image forming apparatus | |
CN103803103B (zh) | 多晶硅的包装 | |
US20080257450A1 (en) | Method and Apparatus for Filling Open Containers with a Powdery Product | |
US4533464A (en) | Teeter bed zone density control device and method | |
EP0968746A4 (en) | DEVICE AND METHOD FOR CRYSTALIZATION | |
US1223033A (en) | Apparatus for separating or concentrating ores. | |
SE454738B (sv) | Forfarande och apparat for framstellning av en streng av tobaksinlaga | |
EP0550357A1 (en) | Passive liquefier | |
JPH11309674A (ja) | スラリ管理システム | |
FI94844B (fi) | Menetelmä ja laite täyteaineeksi tarkoitettujen mineraalien jauhamiseksi hienoksi | |
JP4074736B2 (ja) | 画像形成装置 | |
KR102330224B1 (ko) | 폴리실리콘용 분리 장치 | |
US7437106B2 (en) | Device and method for the replacement of expired developer | |
JPH027077A (ja) | トナー補給装置 | |
CA2348790A1 (en) | Hydrocarbon separation | |
WO2018041314A1 (en) | A measuring device for analysis of particles and method of analyzing particles using the measuring device | |
JPH0572109A (ja) | スラリー濃度の測定装置 | |
US7257354B2 (en) | Device and method for the replacement of out-of-date developer | |
JP2000351112A (ja) | ワイヤソーの切削液調合・再生管理方法及び装置 | |
US2104926A (en) | Classifier | |
WO2001085351A1 (en) | Mixer and method for mixing liquids or a solid and a liquid |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |