TW202538394A - 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩之製造方法 - Google Patents

反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩之製造方法

Info

Publication number
TW202538394A
TW202538394A TW113140066A TW113140066A TW202538394A TW 202538394 A TW202538394 A TW 202538394A TW 113140066 A TW113140066 A TW 113140066A TW 113140066 A TW113140066 A TW 113140066A TW 202538394 A TW202538394 A TW 202538394A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
phase
shifting
reflective photomask
reflective
Prior art date
Application number
TW113140066A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Inventor
清良輔
浦田新吾
Original Assignee
日商Ａｇｃ股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商Ａｇｃ股份有限公司 filed Critical 日商Ａｇｃ股份有限公司
Publication of TW202538394A publication Critical patent/TW202538394A/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/22—Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof
    • G03F1/24—Reflection masks; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
TW113140066A 2023-11-27 2024-10-22 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩之製造方法 TW202538394A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023-199954 2023-11-27
JP2023199954 2023-11-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202538394A true TW202538394A (zh) 2025-10-01

Family

ID=95897295

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW113140066A TW202538394A (zh) 2023-11-27 2024-10-22 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩之製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (2) JPWO2025115438A1 (https=)
TW (1) TW202538394A (https=)
WO (1) WO2025115438A1 (https=)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113396363B (zh) * 2019-02-07 2024-12-20 Asml荷兰有限公司 图案形成装置及其使用方法
WO2023112767A1 (ja) * 2021-12-13 2023-06-22 Ａｇｃ株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
CN118922779A (zh) * 2022-03-29 2024-11-08 凸版光掩模有限公司 反射型光掩模坯以及反射型光掩模
JP7367901B1 (ja) * 2022-04-28 2023-10-24 Ａｇｃ株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク、反射型マスクの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2025115438A1 (https=) 2025-06-05
JP2026012442A (ja) 2026-01-23
WO2025115438A1 (ja) 2025-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US12216397B2 (en) Reflective mask blank for EUV lithography, mask blank for EUV lithography, and manufacturing methods thereof
JP7728841B2 (ja) 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法
KR101669690B1 (ko) Ｅｕｖ 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크
JP7746160B2 (ja) 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法
TWI823862B (zh) 反射型遮罩基底及反射型遮罩
TW202122907A (zh) 附導電膜之基板、反射型光罩基底及反射型光罩、以及半導體裝置之製造方法
JP7838421B2 (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法
JP7260078B2 (ja) Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランク、ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスク、およびそれらの製造方法
TW202538394A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩之製造方法
TW202528829A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩之製造方法
TW202609452A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩之製造方法
JP7697609B1 (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク、反射型マスクの製造方法
US20250224663A1 (en) Reflection-type mask blank, reflection-type mask, and method for manufacturing reflection-type mask
WO2025239179A1 (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法
WO2025192373A1 (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法
JP2025146050A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスクおよび反射型マスクの製造方法
TW202540761A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩及反射型光罩之製造方法
CN111752085A (zh) 带多层反射膜的基板、反射型掩模坯料及反射型掩模、以及半导体装置的制造方法
JP2025146082A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスクおよび反射型マスクの製造方法
WO2024154535A1 (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法
KR20260052912A (ko) 다층 반사막을 가진 기판, 다층 반사막을 가진 기판의 제조 방법, 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크, 반사형 마스크의 제조 방법
JP2024122359A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク、反射型マスクの製造方法
TW202613704A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩之製造方法
TW202532957A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩基底之製造方法、反射型光罩及反射型光罩之製造方法
JP2026035547A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法