TW202400422A - 用於噴墨印表機之校正方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種製造系統，其包括可移動地耦接至支撐件之分配器單元，分配器單元包含定位感測器及參考物偵測器；測試單元，其包含用於接收來自分配器單元之材料的表面及用於對表面上之材料成像的成像裝置；定位參考物，其安裝至製造系統之定置式組件上；及控制器，其經建構以控制分配器單元及參考物偵測器以偵測定位參考物；基於偵測定位參考物來校正分配器單元之位置；控制測試單元以對表面上之材料成像；控制分配器單元及參考物偵測器以偵測表面上之材料的態樣；比較由測試單元捕獲之材料的影像與由參考物偵測器偵測之材料的態樣；及基於比較校正測試單元。

Description

用於噴墨印表機之校正方法

相關申請案之交叉參考：本申請案主張2022年2月22日申請之美國臨時專利申請案第63/268,357號之權利，該案之全文以引用的方式併入本文中。

本發明提供一種製造系統，其包括可移動地耦接至支撐件之分配器單元，分配器單元包含定位感測器及參考物偵測器；測試單元，其包含用於接收來自分配器單元之材料的表面及用於對表面上之材料成像的成像裝置；定位參考物，其安裝至製造系統之定置式組件上；及控制器，其經建構以控制分配器單元及參考物偵測器以偵測定位參考物；基於偵測定位參考物來校正分配器單元之位置；控制測試單元以對表面上之材料成像；控制分配器單元及參考物偵測器以偵測表面上之材料的態樣；比較由測試單元捕獲之材料的影像與由參考物偵測器偵測之材料的態樣；及基於比較校正測試單元。

包括精確地將材料置放於工件上之精密製造方法使用定位裝置來偵測需要精密定位之組件的位置。定位裝置需要校正。當多個定位裝置用於涉及單一工件之複雜製程中時，定位裝置經常需要校正至單一位置標準，例如用於製造系統之大域座標系。製造方法往往涉及將材料分配至工件上，此可由多於一個分配器執行。當所有分配器需要精確定位且精確地分配材料時，分配器之操作必須精確地校正至單一位置標準。此類製造系統之實例包括可被視為印表機之裝置，包括工業規模噴墨印表機及塗佈機、3D印表機及其他液滴或料流分配系統。需要用於此類系統之快速、穩固校正的方法及裝置。

本文中所描述之實施方式提供一種製造系統，其包含可移動地耦接至支撐件之分配器單元，分配器單元包含定位感測器及參考物偵測器；測試單元，其包含用於接收來自分配器單元之材料的測試表面及用於對測試表面上之材料成像的成像裝置；定位參考物，其安裝至製造系統之定置式組件上；及控制器，其經建構以控制分配器單元及參考物偵測器以偵測定位參考物；基於偵測定位參考物來校正參考物偵測器之位置；控制測試單元以對測試表面上之材料成像；控制分配器單元及參考物偵測器以偵測測試表面上之材料的態樣；比較由測試單元捕獲之材料的影像與由參考物偵測器偵測之材料的態樣；及基於比較校正測試單元。

本文中所描述之其他實施方式提供一種操作噴墨印表機之方法，該方法包含使用噴墨印表機之第一成像裝置捕獲沈積於噴墨印表機之測試表面上之列印材料的第一影像；使用噴墨印表機之第二成像裝置捕獲測試表面上之列印材料的第二影像；自第一影像解析列印材料之第一位置；自第二影像解析列印材料之第二位置；解析第一位置至第二位置之轉換；使用測試成像裝置捕獲測試表面上由噴墨印表機列印之複數個點的第三影像；自第三影像解析複數個點中之一點的第一位置；及藉由將轉換應用於該點之第一位置來解析該點之第二位置。

本文中所描述之其他實施方式提供一種方法，其包含使用製造系統之第一成像裝置以對藉由製造系統之分配器單元沈積於製造系統之測試表面上的測試材料成像；在使用第一成像裝置對測試材料成像的同時，使用製造系統之第二成像裝置對安置於製造系統之工件支撐件上之工件上的特徵成像；藉由比較沈積於測試表面上之校正材料之由第一成像裝置捕獲的第一影像與由耦接至分配器單元之製造系統的第三成像裝置捕獲之校正材料的第二影像來校正第一成像裝置；基於製造系統之定位參考物來校正第二成像裝置；及基於定位參考物來校正第三成像裝置。

圖1為積層製造系統100之示意性平面圖。積層製造系統100通常藉由根據可精細至1 µm之精確公差將材料添加至工件上而起作用。分配器單元102可移動地安置於支撐件104上，下方有工件支撐件130，用於定位工件以自分配器單元102接收材料。分配器單元102典型地以極高的精密度定位以在所需定位處亦以極高的精密度將材料分配至工件上。分配器單元102包括分配器106及附接至本體110之定位感測器108，該本體可為分配器單元102之架座、殼體或其他組件。分配器106及定位感測器108因此彼此處於固定的位置關係中（暫時忽略熱變化）。為了定位分配器單元102使得分配器106處於所需定位，控制器112典型地自定位感測器108接收信號，且自該等信號解析定位感測器108之定位。分配器106之定位可藉由應用恆定的偏移量根據定位感測器108之定位解析，因為分配器106及定位感測器108附接至同一物件。

控制器112需要校正函數 以自信號s解析定位感測器108之定位 ，且在許多情況下不能容許微米尺度誤差。藉由沿著支撐件104移動分配器單元102，定位參考物114在分配器單元102可接近的定位處附接至支撐件104。分配器單元102包括附接至本體110以偵測定位參考物114的參考物偵測器116。為了定義校正函數，將分配器移動至參考物偵測器116可偵測定位參考物114之校正位置。參考物偵測器116將表示定位參考物114在參考物偵測器116之座標系中之定位的信號發送至控制器112。控制器112應用定位參考物114之已知位置來解析參考物偵測器116之確切位置。控制器112使用參考物偵測器116及定位感測器108之已知的固定位置來定義函數 ，使得可始終精確知曉分配器106之位置。

在一些情況下，定位感測器108可為編碼器。參考物偵測器116可為使用電磁之偵測器，諸如電偵測器、磁偵測器或電磁偵測器。參考物偵測器116可為能夠在微觀尺度下解析細節之高放大率相機。定位參考物114可為標線或用於精密成像之類似物件，以與高放大率相機一起使用。在此類情況下，控制器112控制參考物偵測器116以捕獲定位參考物114之影像，且影像處理軟體處理影像以解析在局部座標系（參考物偵測器116之座標系）中之位置。參考物偵測器116可包括可視需要經調適至系統之所需精確度的光源（圖中未示）。

定位參考物114通常安裝至製造系統之定置式組件上，以提供標準定位，用於使用可移動以到達定位參考物114之參考物偵測器來校正定位感測器。當定位感測器需要使用無法到達定位參考物114之工具進行校正時，當此類工具可與參考物偵測器一起共同地分析物件時，可使用參考物偵測器之校正來校正此類工具。此類校正方法等效於使用可追蹤至標準的校正物。參考物偵測器使用定位感測器來定位，該等定位感測器使用定位參考物114作為標準定位進行校正。無法到達定位參考物114之工具可藉由使用參考物偵測器之校正來定位，該校正藉由執行與參考物偵測器共同之分析以建立與參考物偵測器的校正關係來進行。

熱變化可引入大到足以破壞精密定位設備之誤差。只要溫度保持相對恆定，校正函數 就會保持準確。然而，溫度變化可在確定定位感測器108之位置時引入有問題的誤差。在一些情況下，此類誤差可藉由提供附接至支撐件104之第二定位參考物118來捕獲，其中在此類情況下作為第一定位參考物的定位參考物114在分配器單元102之移動範圍之一個末端處，且第二定位參考物118在移動範圍之另一末端處。此處，定位參考物114及定位參考物118定位在z定位處，使得分配器單元102能夠沿著支撐件104移動而不受定位參考物114及定位參考物118之干擾。使用參考物偵測器116對兩個定位參考物114及118成像，且將定位感測器108之信號映射至經解析位置上，可減少熱變化固有的誤差，因為藉由在不同溫度下在分配器單元102之運動範圍之兩個末端處捕獲定位感測器的校正點，可以將校正曲線 定義為定位感測器信號及溫度之函數。此類方法自然需要溫度量測。

在一些情況下，分配器106之效能可變化。在此類情況下，可提供測試單元120以分析分配器106之效能。測試單元120具有用於偵測自分配器106分配之材料之特性的硬體。例如，測試單元120可具有用於接收所分配材料之測試表面122及用於捕獲所分配材料之影像且自影像解析所分配材料之特性的成像裝置124。出於此類目的，常常使用所分配材料在捕獲影像中之位置。為了自此類資料解析分配器效能特性，當材料被分配至測試表面122上時分配器106之位置及所分配材料在測試表面122上之位置必須參照共同定位參考物或座標系精確地確定。

由成像裝置124報導之測試表面122上之所分配材料之影像的位置可使用附接至分配器單元102之相機與分配器106之位置相關聯。相機可為參考物偵測器116或附接至本體110之另一相機（與附接至本體之其他組件具有固定的偏移量）。當參考物偵測器116為高放大率相機時，分配器單元102可經定位以將材料分配至測試表面122上，所分配材料之一影像可由成像裝置124捕獲，且所分配材料之一影像可由參考物偵測器116捕獲。可使用此兩個影像來解析測試表面122上諸如小滴或小滴之部分的所分配材料之特徵的位置，且可確定成像裝置124在製造系統之大域座標系中之確切位置。隨後，所分配材料相對於分配器106之位置可使用成像裝置124精確地解析，且分配器106操作與所分配材料之定位的關係可精確地形成，使得可計劃分配器106之定位及操作。

製造系統100可具有工件支撐件130，其定位工件以用於與分配器單元102相互操作使得分配器單元102可將材料沈積至工件上。此處示意性地顯示工件支撐件130，因為工件支撐件130可為任何類型之支撐件。工件支撐件130具有可移動地安置於定位器132上之支撐件構件131，使得工件支撐件130可相對於分配器單元102移動工件。工件支撐件130具有可為編碼器或另一感測器的定位感測器134，以向控制器112發送工件支撐件130之定位的信號。在此情況下作為第二參考物偵測器之參考物偵測器136相對於支撐件構件131設置在固定位置中，其中參考物偵測器116為第一參考物偵測器。參考物偵測器136可為任何類型之電偵測器、磁偵測器或電磁偵測器。在此情況下，參考物偵測器136為相機，其可為高放大率相機。

可移動工件支撐件130以將第二定位參考物118置放於參考物偵測器136之視野內，因此參考物偵測器136可捕獲第二定位參考物118之影像。應注意，定位器132可安置於製造系統100之任何便利定位處。參考物偵測器136在此處實施於允許參考物偵測器136與第二定位參考物118相互操作之位置中，但參考物偵測器136可實施於用於與第一參考物偵測器116相互操作之位置中。參考物偵測器136捕獲定位參考物118之影像，且數位處理系統使用成像處理以確定定位參考物118之特徵在參考物偵測器116之座標系中的定位。

參考物偵測器116具有自定位感測器134之已知位移，因此控制器112可比較來自定位感測器134之信號與由參考物偵測器136解析之第二定位參考物118之特徵的定位，以在製造系統100之大域座標系中定義定位感測器134的校正函數，該信號接收於工件支撐件130與第二定位參考物118一起定位在參考物偵測器116之視野內之時。校正函數可由控制器112使用以自定位感測器134之信號解析工件支撐件130之精確定位。

工件定位於工件支撐件130上以供製造系統100處理。為了將來自分配器106之材料精確置放至工件上，工件在工件支撐件130上之確切定位必須已知。在一些情況下，甚至設置某種固持器以使每一工件保持在恰好相同之位置亦可能無法確保定位及/或定向工件時的微觀尺度誤差不會引起處理誤差。製造系統可使用工件偵測器140以偵測安置於工件支撐件130上之工件且偵測工件支撐件130上之工件的確切位置及/或定向。工件偵測器140可為相機，其捕獲工件之影像，或特徵或工件，以確定工件支撐件上之工件的位置及/或定向。

對於在製造系統100之大域座標系中需精確知曉之工件的位置，工件偵測器140的精確位置必須已知。工件偵測器140可安裝於任何方便的支撐件上。在此情況下，工件偵測器140可移動地安裝至支撐件104。工件偵測器140可安裝在允許分配器單元102沿著支撐件104移動而無來自工件偵測器140之干擾的z定位處。在此情況下，工件偵測器140在支撐件104之第一側上安裝至支撐件104，而分配器單元102安裝至支撐件104之與第一側相對的第二側。工件支撐件130可使工件移動至相對於工件偵測器140之位置，使得工件之特徵係在工件偵測器140之視野內。工件偵測器140對特徵成像，且影像處理用於確定特徵在工件偵測器140之座標系統內的精確定位。工件偵測器140具有定位感測器142，諸如編碼器，其向控制器112發送定位感測器142之定位的信號。如上，定位感測器142之大域定位可使用定位參考物116/118之一者或兩者校正，因此工件偵測器140之確切位置可由控制器112確定。工件在工件支撐件130上之確切位置隨後可由控制器112確定。

製造系統100因此在製造系統100之大域座標系中校正相對於工件支撐件130的分配器106之定位、成像裝置124之定位、工件支撐件130之定位及工件之定位。以此方式，控制器112可接受來自定位感測器108及134之信號，且可解析分配器106及支撐於工件支撐件130上之工件的精確位置，且可準確地預測分配器106在啟動將在何處沈積材料，所有此等皆處於統一座標系中。製造系統100能夠使用定置式定位參考物，或藉由使用參考物偵測器（其位置使用定置式定位參考物進行校正）及在操作中要使用的偵測器偵測同一特徵，且藉由比較來自兩個偵測器之信號，將各感測器及成像裝置校正至統一座標系。換言之，當定置式定位參考物無法用於校正感測器時，可藉由使用校正至定置式定位參考物的參考物偵測器偵測參考物來使用非定置式參考物，且參考物偵測器之信號可用作校正參考。

圖2為包括關於圖1所描述之特徵之版本的噴墨印表機200之平面圖。印表機200具有基材支撐件202以支撐列印基材。列印支撐件204自基材支撐件202一側至其相對側跨越基材支撐件安置。基材支撐件202縱向延伸以為基材相對於列印支撐件204移動提供支撐。包含列印頭總成208及運動系統210之列印總成206耦接至列印支撐件204。列印支撐件204包含在基材支撐件202之橫向方向上跨越基材支撐件202延伸的列印總成支撐件212，及在基材支撐件202之任一側處支撐列印總成支撐件212的兩個支架214。列印總成206藉由運動系統210耦接至列印總成支撐件212，運動系統允許列印總成206沿列印總成支撐件212在基材支撐件202之橫向方向上移動。基材支撐件202及列印支撐件204之支架214可支撐於基座215上以減少環境移動傳輸至基材支撐件202及列印支撐件204。

列印頭總成208具有殼體216，該殼體容納有用於將列印材料分配至基材上之列印頭（不可見）。列印頭具有在殼體216之面向基材支撐件202的表面處暴露之噴嘴。殼體216亦容納有列印材料遞送件，以及用於控制列印材料自噴嘴噴射的氣動裝置及電氣裝置。

在此實施方式中，基材支撐件202為浮動支撐件，其將基材支撐在氣墊上以進行實質上無摩擦的運動。浮動支撐件允許基材相對於列印支撐件204及列印總成206移動及定位。

在基材支撐件202之一側處為基材固持器總成218。基材固持器總成218包括基材固持器220及固持器支撐件222。固持器支撐件在基材支撐件202之縱向方向上沿著基材支撐件202之側面延伸，且基材固持器220可移動地耦接至固持器支撐件222以沿著固持器支撐件222移動。基材固持器220與基材接合以將基材固持於所需位置中且將基材移動至基材支撐件202上之所需定位。運動系統210在基材支撐件202之橫向方向上移動列印頭總成208，而基材固持器總成218在基材支撐件202之縱向方向上移動基材。以此方式，列印頭總成208可到達基材之所有定位以進行處理。

列印材料在基材上之精確置放依賴於列印頭總成及基材之精確移動及置放。控制器224具有數位處理系統，該數位處理系統經建構以控制運動系統210及基材固持器總成218之致動器以實現材料於基材上之沈積。運動系統210具有第一定位感測器223且基材固持器具有第二定位感測器223。各定位感測器223及223可為編碼器，且各自以操作方式耦接至控制器224以分別發送表示運動系統210及基材固持器220之定位的信號。

控制器224之數位處理系統經建構以解譯來自運動系統210及基材固持器220之定位感測器的信號以確定其定位，以基於所確定定位及基於具有用於將列印材料沈積於基材上之所需定位的列印計劃而確定運動系統210及基材固持器220之所需移動，以及將信號輸出至運動系統210及基材固持器220以實現材料於基材上之移動及沈積。為了準確且精確地定位基材與列印頭總成以及分配列印材料，控制器224之組態必須包括用於自所接收信號解析運動系統210及基材固持器220之定位的校正函數。

高放大率相機226附接至殼體216以用於將控制器224校正至運動系統210之定位感測器。高放大率相機226具有向著基材支撐件202延伸之視野。由於高放大率相機226以距運動系統210之定位感測器223的固定位移附接至殼體，因此高放大率相機226可以捕獲影像，影像處理軟體可在高放大率相機226之座標系內定位影像的特徵，且影像之特徵相對於運動系統210之定位感測器223的定位可通過將高放大率相機226自定位感測器223的固定位移加上在高放大率相機226之座標系中所確定之成像特徵的座標來確定。若藉由高放大率相機226成像之物件固定至印表機200之上部結構，則影像可用於將定位感測器223精確及準確地定位在印表機200之大域座標系中。將該絕對定位與在拍攝影像時自定位感測器223獲得之信號關聯起來，為控制器224提供校正係數或校正函數，以將來自定位感測器223之信號轉化成印表機200之大域座標系中的定位座標。

定位參考物228因此在可藉由高放大率相機226成像的定位處附接至印表機200之定置式組件。定位參考物係可藉由高放大率相機226成像以確定影像之特徵之精確座標的物件。例如，定位參考物228可包括標線。定位參考物228以一位置及定向附接至印表機200之定置式組件，諸如支架214、列印總成支撐件212、基材支撐件202或基座215之一者，該位置及定向使得列印總成206可沿著列印總成支撐件212移動且將定位參考物228置放於高放大率相機226之視野內。控制器224經建構以控制運動系統210移動列印總成206以將定位參考物228帶入高放大率相機226之視野內，及控制高放大率相機226以捕獲定位參考物228或諸如標線之定位參考物228之影像標準的影像。控制器224或另一數位處理系統經建構以應用影像處理技術來解析影像之特徵在相機226之座標系內的精確定位。控制器224經建構有定位參考物228之已知位置，且經建構以使用來自在拍攝定位參考物228之影像時取樣之運動系統210之定位感測器的信號及使用藉由影像處理技術解析之影像的座標來計算係數，從而定義運動系統210之定位感測器的校正函數。以此方式，控制器224然後能夠將來自運動系統210定位感測器之信號轉化成大域座標。

第二定位參考物230可附接至印表機200之定置式組件中之一者以改良校正。在此類情況下，定位參考物228為第一定位參考物。第二定位參考物230可附接在相對遠離第一定位參考物228之定位處以便提供對校正之最大改良，且亦提供對印表機200之其他組件的校正支持。在此情況下，第一定位參考物228及第二定位參考物230均附接至基底215，處於在基材支撐件202之相對側處，且均經定向以可被高放大率相機226接近。可使用高放大率相機226及第二定位參考物230來執行相同校正程序，從而改良用於將定位感測器223之信號轉化成大域座標的係數。視需要，溫度感測器可設置在印表機200上以給出溫度資料，以便與針對定位感測器223計算之係數相關聯。在不同溫度下校正可提供校正函數，該校正函數將定位感測器223之信號連同來自溫度感測器之信號一起轉換成大域定位座標。

列印頭總成208之列印頭經由噴嘴分配列印材料。列印材料之小滴自噴嘴噴射以沈積於基材上。為了準確及精確地將小滴沈積於基材上之所需定位處，必須確定噴嘴之效能、小滴在自噴嘴射出之後如何行進及到達基材。亦即，必須定義一個函數，其在使用特定刺激自位於大域座標系中之已知座標處的噴嘴射出小滴時，得到基材上著陸之小滴在大域座標系之z方向上距離噴嘴z單位的定位。

為確定作為列印頭總成之校正函數的函數（亦即，列印頭總成208中與噴嘴之各可能的刺激成對的各噴嘴具有得出著陸之小滴的定位作為噴嘴位置之函數的校正函數），使用小滴置放分析器232。小滴置放分析器232係提供表面以接收自列印頭總成208之噴嘴射出的列印材料之小滴且帶有分析器236（諸如高放大率相機）以解析所沈積小滴之特性的裝置。小滴置放分析器232可位於可由列印總成206接近之印表機200上的任何位置。在此情況下，小滴置放分析器232位於基材支撐件202之一側處、位於基座215上接近支架214中之一者，與基材固持器總成218相對。因此，小滴置放分析器232及基材固持器總成218位於基材支撐件202之相對側上。分析器236在列印總成支撐件212之一側上安裝至列印總成支撐件上，該側與列印總成支撐件212中安置殼體216之一側相對。小滴置放分析器232可包括定位器238，表面234可以可移動方式耦接至該定位器以提供表面234之運動。分析器236亦可安置於定位器上以允許分析器236接近沈積於表面234上之各定位處的小滴。

當使用小滴置放分析器232對列印頭總成208執行測試時，列印頭總成208之噴嘴的定位在大域座標中係已知的，因為控制器224具有校正函數以將定位感測器223之信號變換成印表機200之大域座標系。小滴置放分析器232經建構以解析安置於接收表面234上之液滴的位置。在小滴置放分析器232之座標系中解析位置。為了使經沈積小滴的位置與分配該小滴之噴嘴的位置相關聯，必須將小滴置放分析器232之座標系變換成大域座標系。在此情況下，用於記錄沈積於表面234上之小滴的位置或其他特徵的分析器236不能直接被校正至定位參考物228或230之任一者。為了將來自分析器236之信號校正至大域座標系，使用小滴置放分析器232及高放大率相機226對同一經沈積小滴成像且解析經沈積小滴之位置。接收表面234具有參考定位特徵240，諸如標記，其可用於在高放大率相機226及小滴置放分析器232之座標系中定位所沈積小滴，且基於小滴在兩個座標系中之位置，進行簡單變換即可得出小滴在大域座標系中之位置，此時彼位置在小滴置放分析器232之座標系中係已知的。

利用至目前為止所描述之特徵，可使用定位感測器223之校正函數在大域座標中精確地知曉列印頭總成208之列印頭之噴嘴的定位，且可使用小滴置放分析器座標系至高放大率相機座標系之變換而在大域座標中精確地知曉使用各種可用的刺激自各噴嘴沈積於基材上之小滴的位置。

可使用自耦接至基材固持器總成218且以操作方式耦接至控制器224之定位感測器之信號導出的校正函數來精確地確定基材位置。高放大率相機244以允許基材固持器總成將高放大率相機244帶至在其視野中捕獲第二定位參考物230之位置的方式耦接至基材固持器總成218。高放大率相機244可使第二定位參考物230成像且以類似於上文所描述之其他移動組件的方式導出用於基材固持器總成218之定位感測器223的校正函數。基材固持器總成218之位置可因此由控制器224準確及精確地確定。視需要，第三定位參考物可用於減少與基材固持器總成218之位置相關聯的熱誤差，如上文所描述。

最後，當基材定位於基材支撐件202上以供處理時，基材的定位及與基材之列印計劃有關的基材上之結構會出現各種誤差。例如，若先前製程在基材上形成的結構在結構佈局之位置上有一些誤差，則需要在基材之列印計劃中考量彼誤差。同樣地，若基材稍微偏離位置或在置放於基材支撐件202上時具有稍微不完美的定向，則亦需要在列印計劃中考慮彼誤差。通常使用基材自身上之標準標記確定及補償此等誤差。相機典型地用於對標準標記成像，且應用影像處理以確定基材在基材支撐件202上之任何位置及定向誤差。類似方法可用於確定先前總成誤差。

高放大率相機226可用於確定基材上之標記的精確位置及定向。控制器224控制基材固持器總成218將基材定位於有可能使基材之校正特徵進入高放大率相機226之視野中的定位處，以便基於提供至控制器224之基材的列印計劃進行成像。控制器224控制運動系統210定位列印頭總成208，使得高放大率相機226之視野涵蓋可能承載基材之校正特徵的區域。控制器控制高放大率相機226對在相機226之視野內的基材之部分進行成像，且影像處理用於確定基材之校正特徵在相機226之座標系中之精確定位。控制器224使用相機226之校正函數將校正特徵之座標變換成大域座標。控制器224隨後可使用基材之列印計劃之資訊，基於校正標記之經偵測位置，從而確定基材之任何其他定位，諸如角落或中心。此等定位可使用印表機200之各種經校正感測器的信號變換成任何其他定位。

使用多個成像裝置對基材上之校正標記進行成像，可以加速基材偵測及校正。例如，當欲自一個基材獲取複數個產品時，該基材可具有複數個校正或對準標記以指示該等產品之各種邊界。印表機200具有複數個校正成像裝置250用於將印表機校正至安置於基材支撐件202上之基材的位置及佈局。成像裝置250以不妨礙列印總成支撐件212移動之方式支撐於列印總成支撐件212上。例如，成像裝置250可自列印總成支撐件212之底部受支撐。設置複數個成像裝置，對基材上之複數個校正及/或對準標記進行成像及定位，可加速校正過程。成像裝置250可為低放大率相機、高放大率相機或其混合形式。成像裝置250亦可為或包括列影像掃描器（line image scanner）。

為了使用複數個成像裝置解析基材之校正及/或對準標記的位置及定向，成像裝置250中之各者必須精確地校正至印表機200之大域座標系。當成像裝置250經建構以移動至對定位參考物228及230中之一者或兩者成像的位置時，可直接校正成像裝置250。各成像裝置250對定位參考物成像且解析定位參考物之特徵在成像裝置250之座標系中的精確位置。成像裝置250中之各者具有定位感測器，如定位感測器223，該定位感測器向控制器224發送成像裝置250之精確位置的信號。控制器224將定位感測器之信號與由成像裝置250解析之定位參考物之特徵的位置相關聯以確定校正函數或係數。

如此處所示，無法移動成像裝置250以捕獲定位參考物228或230中之任一者的影像，因此必須使用可使用定位參考物228或230直接校正之另一裝置的校正來校正成像裝置250。在此情況下，可使用高放大率相機226。成像裝置250中之各者使諸如校正或對準標記之基材上的特徵成像，且高放大率相機226使同一特徵成像。特徵之精確位置可自高放大率相機226之校正已知。由各成像裝置250回報之特徵的位置可與來自相機226之已知位置比較，從而定義由成像裝置250確定之位置與大域座標系之間的關係。此後，成像裝置250可由控制器224控制以確定基材上之校正及對準標記在大域座標系中的位置及定向。

控制器224因此經建構以基於定位參考物228及230及基於使用定位參考物228及230校正高放大率相機226，直接及間接地將印表機200之所有定位感測器校正至印表機200之大域座標系。藉由以下操作來執行間接校正：使用耦接至待校正定位感測器之相機且使用高放大率相機226對同一物件成像；使用兩個影像來解析物件之位置；及比較經解析位置以定義來自所校正定位感測器之信號至大域座標系的變換。

圖3為概述根據一個實施方式之方法300的流程圖。方法300為操作製造系統之方法，製造系統包含：分配器單元，其可移動地耦接至支撐件；工件支撐件，其可移動地安置以定位工件以供分配器單元處理；以及測試單元，其具有用於自分配器單元接收測試材料之測試表面及用於偵測測試材料之態樣的測試偵測器，例如用於對測試材料或其部分成像的成像裝置，以解析分配器單元之效能特性。測試偵測器具有測試定位感測器以輸出表示測試偵測器之位置的信號。分配器單元具有分配器定位感測器以輸出表示分配器單元在支撐件上之位置的信號。分配器單元亦具有第一參考物偵測器，該第一參考物偵測器可用於基於第一定位感測器的信號來定義分配器單元的位置。工件支撐件亦具有：工件支撐件定位感測器，其用於輸出表示該工件支撐件之位置的信號；及第二參考物偵測器，其可用於基於來自工件支撐件定位感測器之信號來定義工件支撐件之位置。工件偵測器亦以可移動方式耦接至支撐件以偵測工件或工件之特徵。工件偵測器具有工件偵測器定位感測器以輸出表示工件偵測器之位置的信號。各種偵測器可為具有相機、光二極體陣列、列感測器或可使用任何適合能量介質呈現影像以在偵測位置中提供精確度之其他裝置的成像單元或系統。

製造系統可具有一或多個控制器，該一或多個控制器使用數位處理器來控制製造系統之各種組件與操作以及收集來自製造系統之各種感測器與偵測器的信號。單個控制器可控制整個製造系統，或諸如測試單元、分配器單元及工件支撐件之各子系統可具有專用控制器，且系統控制器可與體系（hierarchy）中之子系統控制器相互作用以控制製造系統。

在302處，測試偵測器用於偵測測試表面上之測試材料。測試偵測器可為相機或其他成像裝置，以捕獲測試材料之影像使得影像處理可用於解析測試材料之位置。測試材料之其他態樣，諸如厚度、展佈及均一性，亦可自測試材料之影像確定。在一些情況下，測試材料可覆蓋超出偵測器範圍（例如視野）的測試表面區域，且在此類情況下，測試材料之多個影像或訊跡可藉由測試偵測器收集，且可個別地、依序或同時處理，且可整合成測試材料之單個影像或訊跡。在302處進行之測試將定義用於沈積測試材料之分配器單元的效能。例如，可確定自分配器單元噴出之測試材料的位置，且將其與測試表面上之測試材料的位置進行比較，從而解析自分配器單元分配之材料如何到達基材。使用此類資訊，材料自分配器單元噴出至工件可得到精確計劃及執行。製造系統之控制器或測試單元之控制器可經建構以控制測試單元執行部分302之操作。

在304處，在偵測測試基材上之測試材料的同時，工件偵測器用於偵測經安置以供製造系統處理之工件的特徵。測試偵測器可為第一成像裝置，諸如相機，例如高放大率相機，且工件偵測器可為第二成像裝置，諸如相機，例如高放大率相機。藉由偵測特徵，可使用影像處理精確地確定工件之位置及/或定向，其中影像可為普通可見光中之影像或另一種類之影像或訊跡。工件偵測器及測試偵測器獨立地可移動、可定位且可操作，從而允許同時偵測測試材料及偵測工件之特徵，以便最佳化製造系統處理工件之準備。製造系統之控制器或工件支撐件之控制器可經建構以控制工件支撐件執行部分304之操作。

在306處，校正測試偵測器。測試材料沈積於測試表面上，且藉由測試偵測器偵測以得到第一影像。該同一測試材料亦由該第一參考物偵測器偵測以得到第二影像。第一參考物偵測器可為第三成像裝置，諸如相機，例如高放大率相機。例如，藉由使用影像處理或信號處理軟體產生表示各影像之資料且比較該等資料來比較該兩種影像。該比較得出由測試偵測器捕獲之影像或訊跡與由參考物偵測器捕獲之影像或訊跡之間的關係。該關係可用於定義測試定位感測器之信號與測試偵測器之位置之間的關係，使得測試偵測器之位置在測試偵測器偵測測試材料時係已知的，且因此測試材料之位置可以與分配器單元在沈積測試材料時之位置直接可比而沒有實質性誤差的方式得知。製造系統之控制器可經建構以控制測試單元、分配器單元以及第一參考物偵測器執行部分306的操作，製造系統之控制器可與測試單元及分配器單元之控制器相互作用以執行此類操作。

在308處，校正工件偵測器。作為製造系統之定置式組件的定位參考物提供校正製造系統之各種組件之精確定位的固定參考點。製造系統可具有單一定位參考物或多個定位參考物。在熱變化可引起顯著尺寸變化時，多個定位參考物之使用可受此等誤差影響，因為多個定位參考物之相對位置會改變。在此等情形下，根據多個定位參考物校正感測器可提供製造系統之組件的溫度校正。在組件不可使用製造系統之定位參考物直接校正時，例如因為組件無法以提供校正之方式與定位參考物相互作用，組件可與製造系統中可使用定位參考物校正之另一組件相互作用。因此，一個組件相對於標準定位之一個組件的校正可用於校正製造系統之另一組件。

若工件偵測器可經定位以偵測定位參考物，則工件偵測器可偵測定位參考物，例如藉由捕獲定位參考物之影像來進行，可確定定位參考物之位置且將其與來自工件偵測器之定位感測器的信號相關聯，且定義工件偵測器之定位感測器的信號與工件偵測器之位置之間的關係。該關係然後可用於自定位感測器之信號確定工件偵測器之位置。

若無法移動工件偵測器以偵測定位參考物，則耦接至分配器單元的第一參考物偵測器以及工件偵測器可用於偵測工件的相同特徵。自分配器定位感測器之信號及使用定位參考物之第一參考物偵測器的校正知曉第一參考物偵測器之位置。藉由比較影像，例如各影像中所識別之特徵的精確位置，可定義工件定位感測器之信號與影像中之特徵的位置之間的關係，該關係允許工件偵測器之位置以與分配器單元（及其他類似經校正之組件）之位置直接可比的方式精確地知曉，例如在共同座標系中。製造系統之控制器或另一控制器可經建構以執行部分308之操作。

在310處，校正第一參考物偵測器以定義分配器定位感測器的信號與第一參考物偵測器的位置之間的關係。第一參考物偵測器經定位以偵測定位參考物，且定位參考物之位置係例如藉由使用控制器之處理器處理影像而確定的。然後確定分配器定位感測器之信號與定位參考物之位置之間的關係。控制器可經建構以執行定義關係及校正第一參考物偵測器之操作。以此方式，第一參考物偵測器之位置被校正至製造系統之定置式定位參考物，且藉由部分306之操作，使用第一參考物偵測器之校正亦將測試偵測器之位置校正至同一定置式定位參考物。製造系統之控制器或分配器單元之控制器可經建構以執行部分308之操作。

此處，第一參考物偵測器被校正至製造系統之定位參考物，且用於校正製造系統之至少一個其他組件。此說明選擇組件作為標準校正組件的概念，該組件經校正至固定參考物，可用於校正其他組件，使得可根據共同計劃準確且精確地操作所有組件。使用此類方法，並非必需將所有組件直接校正至標準定位，只要該等組件之間的誤差小到足以被忽略或藉由該等組件之相互操作抵消即可。

感測器及偵測器之準確度及精確度及自使用感測器及偵測器獲得之信號及資料導出之參數的準確度及精確度決定了各種校正關係可以得出的位置資訊之精確度。感測器、偵測器及方法可經選擇以在確定製造系統之各種組件的位置時產生任意精確度，且控制器可經建構以反覆地獲得且隨後應用校正關係。例如，製造系統之組件的尺寸及物理性質可隨時間推移變動，例如由於熱循環。可反覆地、任意地執行方法300以重新定義校正關係從而維持製造系統精確地處理工件之能力。

應注意，亦可藉由類似手段校正工件支撐件。如上所指出，工件支撐件定位感測器可用於發送工件支撐件之位置的信號，且第二參考物偵測器可耦接至工件支撐件以使得能夠校正工件支撐件，從而根據由工件支撐件定位感測器提供之信號精確地確定工件支撐件之位置。可移動工件支撐件以將定位標準或另一定位標準置放於第二參考物偵測器之偵測範圍內。替代地，可定位工件支撐件及分配器單元以偵測相同可接近的特徵，例如工件之特徵。使用定位參考物校正之第一參考物偵測器及第二參考物偵測器可偵測特徵，且可例如藉由製造系統之控制器比較自各參考物偵測器獲得之特徵的資料表示。當已知第一參考物偵測器之位置時，工件支撐件定位感測器之信號與工件支撐件之位置之間的關係可以與製造系統之其他組件之位置直接相比的方式精確地定義。

圖4A及4B為概述根據另一實施方式之方法400之部分的流程圖。圖4A顯示方法之一個部分，且圖4B顯示方法之另一部分，該另一部分不可放在圖4A之頁面上。方法400為操作諸如圖2之噴墨印表機200之噴墨印表機的方法。一般而言，可用於實踐方法400之噴墨印表機具有基材支撐件及耦接至支撐件之列印頭總成，該支撐件允許列印頭總成經定位以在安置於基材支撐件上之基材上沈積列印材料。為了測試列印頭總成之效能，噴墨印表機具有用於確定列印頭總成之效能特性的小滴置放分析器，使得列印材料可準確且精確地置放於基材上。該小滴置放分析器具有用於自列印頭總成接收列印材料之測試表面及用於使列印材料在測試表面上成像之成像裝置。自利用小滴置放分析器之成像裝置捕獲之列印材料的影像，可導出列印頭總成之效能特性。例如，若列印頭總成之噴嘴的精確位置在列印材料沈積於測試表面上時係已知的，則例如列印材料在測試表面上之點的位置可藉由處理列印材料在測試表面上之高放大率影像來精確確定，且可確定噴嘴之位置與來自噴嘴之小滴在基材上之沈積位置之間的關係。該關係隨後可用於準確且精確地計劃在基材上的列印。

列印材料可以過大而不能在單一影像中成像之圖案列印於測試表面上，因此成像裝置可支撐於可移動支撐件上以定位成像裝置來捕獲多個影像。可移動支撐件具有用於發送成像裝置之位置之信號的定位感測器。可移動支撐件典型地具有使得能夠定位成像裝置以捕獲整個列印材料圖案之影像的運動範圍，但可能不具有可接近定位標準以校正定位感測器的運動範圍。

列印頭總成通常具有可用於校正噴墨印表機之各種組件的參考成像裝置。因此，小滴置放分析器之成像裝置為第一成像裝置且參考成像裝置為噴墨印表機之第二成像裝置。參考成像裝置附接至可移動地耦接至列印頭總成支撐件的列印頭總成。參考成像裝置可為高放大率相機或其他合適的成像裝置，從而出於包括位置確定及校正、基材檢查及基材位置校正之各種目的提供高品質影像。列印頭總成藉由運動系統耦接至列印頭總成支撐件，該運動系統具有列印頭總成定位感測器以發送列印頭總成在列印頭總成支撐件上之定位的信號。

參看圖4A，在402處，第一成像裝置用於捕獲沈積於測試表面上之列印材料的第一影像，且自第一影像解析列印材料之第一位置，例如使用由數位處理器執行之影像處理軟體。處理器可為噴墨印表機之控制器的組件，如本文中其他地方所描述。

在404處，第二成像裝置用於捕獲列印材料之第二影像。移動列印頭總成以將列印材料置放於第二成像裝置之成像場內。當第一成像裝置或第二成像裝置無法使列印材料之整個圖案成像時，列印材料之同一部分經成像使得可比較來自成像裝置之影像的資料。藉由類似手段自第二影像解析列印材料之第二位置。

在406處，定義第一位置與第二位置之間的關係使得可使用該關係來比較第一成像裝置與列印頭總成之位置。例如，使用該關係，可以共同的單位或座標表示第一成像裝置之位置及列印頭總成之位置。

在408處，第一成像裝置用於使用列印頭總成捕獲沈積於測試表面上之複數個點的第三影像。藉由分析第三影像，例如使用由噴墨印表機之控制器執行的影像處理軟體，確定複數個點中之一點的第一位置。然後應用406之關係以解析該點之第二位置。第一位置可為第一成像裝置之參考框架中的位置，例如第三影像內之座標定位。第二位置可為噴墨印表機之大域座標系或共同座標系中的位置。使用該關係將來自局部座標系的第一位置變換成大域座標系中的第二位置允許比較沈積於測試表面上之點的位置與沈積該等點之噴嘴的位置。

現參看圖4B，在410處，第二成像裝置可用於對噴墨印表機之定位參考物成像。在捕獲定位參考物之影像的同時，可自第二成像裝置之定位感測器獲取第一信號。解析影像中之定位參考物之位置，且可定義第一信號與定位參考物之位置之間的關係。

如本文中別處所指出，定位參考物為例如在噴墨印表機之大域座標系或共同座標系中具有已知位置的噴墨印表機之定置式物件。彼已知位置可與定位感測器之第一信號相關聯，使得第一信號與定位參考物之位置之間的關係可用於根據大域座標系中之第一信號確定第二成像裝置之定位。由於第二成像裝置附接至列印頭總成，因此可自第一信號精確地確定列印頭總成及其任何附接組件（諸如列印頭總成之噴嘴）之定位。

在412處，在捕獲測試表面上之列印材料之第二影像的同時，自第二成像裝置之定位感測器獲取第二信號。為確定第二位置，確定第二影像中列印材料之第三位置。此可為第二成像裝置之局部座標系中之位置及/或影像之座標系中之位置。然後使用來自第二成像裝置之定位感測器的第一信號與定位參考物之位置之間的關係來確定第二位置，該關係可為第二成像裝置之校正函數。

第三成像裝置可用於噴墨印表機以對安置於噴墨印表機之基材支撐件上之基材的特徵成像。特徵之影像可用於確定基材之定位及定向，因此可準確且精確地執行基材之列印計劃。為了使列印頭總成之定位與基材之確定的精確位置及定向相關聯，第三成像裝置之定位必須以可與列印頭總成之定位可比的方式已知。第三成像裝置典型地可移動以促進對基材之特徵成像。第三成像裝置常常藉由包括定位感測器之運動系統與列印頭總成支撐於同一列印支撐件上。

在414處，第三成像裝置用於捕獲噴墨印表機之定位參考物的影像。同時，自第三成像裝置之定位感測器獲取第一信號。解析定位參考物在定位參考物之影像中的位置。此可為第三成像裝置或影像自身之局部座標系中之位置。解析影像中之定位參考物之位置與來自第三成像裝置之定位感測器之第一信號之間的關係，且彼關係可用於解析由第三成像裝置成像之特徵的定位。特別地，當第三成像裝置用於使基材之特徵成像時，藉由在獲取特徵之影像的同時自第三成像裝置之定位感測器獲取信號，解析特徵在影像中之位置以及應用第一信號與定位參考物之位置之間的關係，可知曉彼特徵之定位。由此解析之定位與自列印頭總成之定位感測器之信號在共同座標中解析的列印頭總成之定位或位置可比，使得可定義基材之列印計劃。

噴墨印表機之其他組件可使用噴墨印表機之定位參考物或使用經使用定位參考物校正之另一組件的校正類似地得到校正。例如，噴墨印表機可具有在處理期間移動及定位基材之基材固持器。因為準確及精確地處理需要基材之準確及精確定位及移動，所以必須在噴墨印表機之大域座標系中校正基材固持器之位置以與列印頭總成之位置可比。基材固持器具備定位感測器及成像裝置，如同上文第三成像裝置。基材固持器之成像裝置隨後可用於使定位參考物成像，或通常用使用定位參考物校正之另一成像裝置，如附接至列印頭總成之第二成像裝置對物件成像。基材固持器之位置可因此自噴墨印表機之大域座標系中的基材固持器之定位感測器確定。

雖然前述內容係關於一或多個發明的實施方式，但在不脫離由隨附申請專利範圍確定之本發明之基本範圍的情況下，可設計出本發明中未具體描述的此等發明的其他實施方式。

無

[圖1]為根據一個實施方式之積層製造系統的平面圖。 [圖2]為根據一個實施方式之噴墨印表機的平面圖。 [圖3]為概述根據一個實施方式之方法的流程圖。 [圖4A]及[圖4B]為概述根據另一實施方式之方法之部分的流程圖。

Claims (16)

1. 一種製造系統，其包含： 分配器單元，其可移動地耦接至支撐件，該分配器單元包含定位感測器及參考物偵測器； 測試單元，其包含用於接收來自該分配器單元之材料的測試表面及用於對該測試表面上之該材料成像的成像裝置； 定位參考物，其安裝至該製造系統之定置式組件上；及 控制器，其經建構以： 控制該分配器單元及該參考物偵測器以偵測該定位參考物； 基於偵測該定位參考物來校正該分配器單元之位置； 控制該測試單元以對該測試表面上之該材料成像； 控制該分配器單元及該參考物偵測器以偵測該測試表面上之該材料的態樣； 比較由該測試單元捕獲之該材料的影像與由該參考物偵測器偵測之該材料的該態樣；及 基於該比較校正該測試單元。
2. 如請求項1之製造系統，其中該分配器單元可沿該支撐件移動以處理工件，且該製造系統進一步包含可移動地耦接至該支撐件的工件偵測器，其中該控制器經進一步建構以： 控制該工件偵測器以偵測該定位參考物及基於偵測該定位參考物來校正該工件偵測器之位置；及 控制該工件偵測器以偵測工件之位置。
3. 如請求項1之製造系統，其中該定位參考物為第一定位參考物，且該製造系統進一步包含第二定位參考物，其中該控制器經進一步建構以： 控制該分配器單元及該參考物偵測器以偵測該第二定位參考物；及 亦基於偵測該第二定位參考物來校正該參考物偵測器之該位置。
4. 如請求項3之製造系統，其進一步包含： 控制該分配器單元及該參考物偵測器以在複數個不同溫度下偵測該第一定位參考物及該第二定位參考物；及 亦基於在該複數個不同溫度下偵測該第一定位參考物及該第二定位參考物來校正該參考物偵測器之該位置。
5. 如請求項2之製造系統，其中該參考物偵測器為第一參考物偵測器，且該製造系統進一步包含工件支撐件以定位工件以供該分配器單元處理，其中該工件支撐件包含： 支撐件構件，其用於與該工件接合；及 第二參考物偵測器，其中該控制器經進一步建構以： 控制該工件支撐件及該第二參考物偵測器以偵測該定位參考物；及 基於偵測該定位參考物來校正該工件支撐件之位置。
6. 如請求項1之製造系統，其中該參考物偵測器為高放大率相機。
7. 一種操作噴墨印表機之方法，該方法包含： 使用噴墨印表機之第一成像裝置捕獲沈積於該噴墨印表機之測試表面上之列印材料的第一影像； 使用該噴墨印表機之第二成像裝置捕獲該測試表面上之該列印材料的第二影像； 自該第一影像解析該列印材料之第一位置； 自該第二影像解析該列印材料之第二位置； 解析該第一位置與該第二位置之關係； 使用該第一成像裝置捕獲該測試表面上由該噴墨印表機列印之複數個點的第三影像； 自該第三影像解析該複數個點中之一點的第一位置；及 藉由將該關係應用於該點之該第一位置來解析該點之第二位置。
8. 如請求項7之方法，其中該關係為第一關係，且該方法進一步包含： 使用該第二成像裝置捕獲該噴墨印表機之定位參考物的影像； 在使用該第二成像裝置捕獲該定位參考物之該影像的同時，自該第二成像裝置之定位感測器獲取第一信號； 解析該定位參考物在該定位參考物之該影像中的位置；及 基於該定位參考物在該定位參考物之該影像中的該位置來解析該第一信號與該定位參考物之該位置的第二關係，其中自該第二影像解析該列印材料之該第二位置包含： 在使用該第二成像裝置捕獲該測試表面上之該列印材料的該第二影像的同時，自該第二成像裝置之該定位感測器獲取第二信號； 解析該列印材料在該第二影像中之第三位置；及 基於該第二信號將該第二關係應用至該第三位置。
9. 如請求項7之方法，其中該第二成像裝置耦接至該噴墨印表機之列印頭總成，該列印頭總成包含列印頭定位感測器，且自該第二影像解析該列印材料之該第二位置包含解析該第二影像中之一位置及基於來自該列印頭定位感測器之信號根據該第二影像中之該位置計算該第二位置。
10. 如請求項7之方法，其進一步包含： 使用該噴墨印表機之第三成像裝置捕獲基材之特徵的影像；及 自該特徵之該影像解析該特徵之位置。
11. 如請求項10方法，其中該關係為第一關係，且該方法進一步包含： 使用該第三成像裝置捕獲該噴墨印表機之定位參考物的影像； 在使用該第三成像裝置捕獲該定位參考物之該影像的同時，自該第三成像裝置之定位感測器獲取第一信號； 解析該定位參考物在該定位參考物之該影像中的位置；及 基於該定位參考物在該定位參考物之該影像中的該位置來解析該第一信號與該定位參考物之該位置的第二關係，其中自該特徵之該影像解析該特徵之該位置包含： 在使用該第三成像裝置捕獲該特徵之該影像的同時，自該第三成像裝置之該定位感測器獲取第二信號； 解析該特徵在該第二影像中之第三位置；及 基於該第二信號將該第二關係應用至該第三位置。
12. 如請求項11之方法，其中該第二成像裝置耦接至該噴墨印表機之列印頭總成，該列印頭總成包含列印頭定位感測器，且自該第二影像解析該列印材料之該第二位置包含解析該第二影像中之位置及基於來自該列印頭定位感測器之信號根據該第二影像中之該位置計算該第二位置，其中該列印頭總成及該第三成像裝置各自可移動地耦接至該噴墨印表機之列印支撐件。
13. 如請求項9之方法，其進一步包含基於該點之第二位置解析該列印頭總成之效能特性。
14. 一種方法，其包含： 使用製造系統之第一成像裝置以對藉由該製造系統之分配器單元沈積於該製造系統之測試表面上的測試材料成像； 在使用該第一成像裝置對該測試材料成像的同時，使用該製造系統之第二成像裝置對安置於該製造系統之工件支撐件上之工件上的特徵成像； 藉由比較沈積於該測試表面上之校正材料之由該第一成像裝置捕獲的第一影像與由耦接至該分配器單元之該製造系統的第三成像裝置捕獲之該校正材料的第二影像來校正該第一成像裝置； 基於該製造系統之定位參考物來校正該第二成像裝置；及 基於該定位參考物來校正該第三成像裝置。
15. 如請求項14之方法，其中該定位參考物為第一定位參考物，且校正該第二成像裝置亦係基於該第二定位參考物。
16. 如請求項15之方法，其中該第二成像裝置係基於該第一定位參考物、該第二定位參考物及複數個溫度來校正的。