TW202315935A - 用於溶劑及清潔應用之三元共沸物及類共沸物組成物 - Google Patents

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Abstract

本申請案提供三元共沸物或類共沸物組成物，其包含反式-二氯乙烯及兩種額外組分。亦提供在清潔、去焊、沉積、及載劑流體應用中使用本文所提供之該等組成物之方法。

Description

用於溶劑及清潔應用之三元共沸物及類共沸物組成物
本發明係關於三元共沸物或類共沸物組成物，其包含反式-二氯乙烯及兩種額外組分。本文所述之組成物可用於例如清潔及去焊流體應用中。
氟氯碳化物(Chlorofluorocarbon, CFC)及氫氟碳化物(Hydrofluorocarbon, HFC)已廣泛應用於半導體製造領域以清潔諸如磁碟媒體之表面。然而，諸如CFC化合物之含氯化合物被視為對地球臭氧層有害。此外，已經發現許多用以取代CFC化合物的氫氟碳化合物會造成全球暖化。因此，需要找出新的環境安全溶劑以用於清潔應用上，諸如移除殘餘的助焊劑、潤滑劑或油污、及顆粒。亦需要鑑別用於沉積氟潤滑劑之新溶劑。
本申請案特別提供一種組成物，其包含： i)      反式-1,2-二氯乙烯； ii)     第二組分，其係氫氟醚； iii)    第三組分，其選自氫氟碳化物及烷基全氟烯醚之化合物。
本申請案進一步提供用於自基材表面移除至少一部分殘餘物之方法，包含使足夠量的本文所述之組成物接觸基材。
本申請案進一步提供用於溶解溶質之製程，其包含使該溶質與足量的本文所述之組成物接觸並混合。
本申請案進一步提供一種用於從潮濕基材的該表面移除至少一部分水分之製程，其包含使該基材與本文所述之組成物接觸，然後移除該基材使其不與該組成物接觸。
本申請案進一步提供在表面上沉積氟潤滑劑之程序，其包含： a)     組合氟潤滑劑與溶劑以形成潤滑劑-溶劑組合，其中該溶劑包含本文提供之組成物； b)     使該潤滑劑-溶劑組合與該表面接觸；及 c)     使該溶劑自該表面蒸發，以在該表面上形成氟潤滑劑塗層。
除非另有定義，本文所用之所有技術及科學用語均與本發明所屬技術領域具有通常知識者所通常理解的意義相同。本文中描述了用於本發明之方法及材料；亦可使用所屬技術領域中已知的其他適合的方法及材料。該等材料、方法、及實例僅係說明性質，並不旨在限制。本文所提及之所有出版物、專利申請案、專利、序列、資料庫條目、及其他參考文獻均以全文引用的方式併入本文中。如發生矛盾，則以本說明書（包括定義）為準。
不易燃的氟基溶劑清潔劑可用於工業蒸氣去脂及焊劑移除應用中。由於良好的安全性及健康屬性、零臭氧消耗、良好的溶解性、及低黏度特性之組合，氫氟碳化物(HFC)及此類摻合物已成功用於關鍵清潔。鑑於全球條約（例如，歐盟之F-gas法規、美國之SNAP裁定等），近期環境問題及法規已自臭氧消耗轉向全球變暖。因此，可使用替代清潔劑，其係環境可持續且展現低GWP。此外，共沸及類共沸物組成物對關鍵的清潔應用來說係所欲的，因為此類組合物在蒸餾、冷凝、及再混合後不會分餾。因此，共沸及類共沸物組成物提供一致的清潔效能，使溶劑維持時間降至最低，且提高生產通量。亦所欲高溶解力，用於從電子組件上的無鉛及免清潔焊料中去脂及移除助焊劑殘餘物。
因此，本申請提供新三元共沸及類共沸物組成物，其包含反式-二氯乙烯及兩種額外組分之混合物。此等組成物在許多先前由HFC所提供的應用中具有效用。本申請之組成物擁有以上論述的一些或全部的所欲性質：環境衝擊極小或毫無衝擊，及對溶解油、油脂、及/或助焊劑的能力。因此，本文所提供之組成物可用作清潔劑、去焊劑、及/或去脂劑。 定義及縮寫
如本文所使用，用語「包含(comprises/comprising)」、「包括(includes/including)」、「具有(has/having)」或其任何其他變型旨在涵蓋非排他性的涵括。例如，包含元件列表的製程、方法、物件、或設備不一定僅限於那些元件，而是可以包括其他未明確列出的元件或為該製程、方法、物件、或設備固有的元件。再者，除非有明確相反陳述，否則「或(or)」係指涵括性的或而非排他性的或。例如，以下任何一種情況均滿足條件A或B：A為真（或存在）且B為假（或不存在）、A為假（或不存在）且B為真（或存在）、以及A和B皆為真（或存在）。
如本文所使用，用語「基本上由...組成(consisting essentially of)」係用以定義除了字面揭示的材料、步驟、特徵、組分、或元件之外，還包括材料、步驟、特徵、組分、或元件之組成物、方法，前提是此等額外包括的材料、步驟、特徵、組分、或元件不會實質影響請求保護的發明之基本及新穎特徵，特別是達到本發明的製程中之任一者所欲結果之作用模式。用語「基本上由…組成(consists essentially of/consisting essentially of)」居於「包含(comprising)」與「由…組成(consisting of)」之間的中間地帶。
又，使用「一(a/an)」來描述本文所述的元件和組分。這樣做僅僅是為了方便，並且對本發明的範圍提供一般性的意義。此描述應被解讀為包括一(one)或至少一(at least one)，且除非另有明顯之不同陳述，否則此單數亦包括複數。
如本文所使用，用語「約(about)」意欲考量歸因於實驗誤差所致的變化（例如，指示值加或減大約10%）。無論該用語是否明確使用，本文所報導之所有測量皆應理解為由用語「約」修飾，除非另有明確陳述。
在整個定義中，用語「C n-m」指示包括端點之範圍，其中n及m係整數，且指示碳數目。實例包括C 1-6、C 5-8、及類似者。
如本文中所使用，用語「C n-m烷基」係指可係直鏈或支鏈之飽和烴基，其具有n至m個碳。例示性烷基部分包括但不限於甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、三級丁基、異丁基、二級丁基、正戊基、3-戊基、正己基、正庚基、正辛基、及類似者。在一些實施例中，烷基含有1至8個碳原子、5至8個碳原子、1至6個碳原子、1至3個碳原子、或1至2個碳原子。
如本文中所使用，用語「C n-m醇」係指式(C n-m烷基)-OH之基團，其中烷基具有n至m個碳原子。例示性醇包括但不限於甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、及丁醇。在一些實施例中，醇係C 1-6醇。
如本文中所使用，用語「C n-m酮」係指式(C n-m烷基)C(O)(C n-m烷基)，其中各烷基獨立地具有n至m個碳原子。例示性酮包括但不限於二甲基酮（即丙酮）、乙基甲基酮、二乙基酮、及類似者。在一些實施例中，酮係C 3-6酮。
如本文中所使用，用語「C n-m烷烴」係指可係直鏈或支鏈之飽和烴化合物，其具有n至m個碳。例示性烷基包括但不限於甲烷、乙烷、正丙烷、異丙烷、正丁烷、三級丁烷、異丁烷、二級丁烷、正戊烷、3-戊烷、正己烷、正庚烷、正辛烷、及類似者。在一些實施例中，烷烴係C 5-8烷烴。
如本文中所使用，用語「C n-m環烷烴」係指具有n至m個碳原子之非芳族環烴化合物。例示性環烷烴包括但不限於環丙烷、環丁烷、環戊烷、環己烷、環庚烷、環辛烷、及類似者。在一些實施例中，環烷烴係C 3-6環烷烴。
如本文中所使用，用語「C n-m乙酸烷酯」係指式(C n-m烷基)OC(O)CH 3之化合物，其中烷基具有n至m個碳原子。例示性乙酸烷酯包括但不限於乙酸甲酯（即CH 3OC(O)CH 3）、乙酸乙酯（即CH 3CH 2OC(O)CH 3）、乙酸丙酯（即CH 3CH 2CH 2OC(O)CH 3）、乙酸異丙酯（即(CH 3) 2CHOC(O)CH 3）、及類似者。在一些實施例中，乙酸烷酯係C 1-6乙酸烷酯。在一些實施例中，乙酸烷酯係C 1-3乙酸烷酯。
當一量、濃度或其他值或參數係給定為一範圍、較佳範圍或一較佳上及/或下限值的列表時，無論該等範圍是否分別揭露，均應理解為具體揭露由任何上限或較佳值與任何下限或較佳值之任何數對所形成之全部範圍。凡在本文中給出某一數值之範圍，除非另有陳述，否則該範圍旨在包括其端點以及位於該範圍內的所有整數及分數。
如所屬技術領域中所認知者，共沸物組成物係二或更多種不同組分的混合物，當該等組分呈液體形式時及(1a)在一給定的恆定壓力下，其實質上會在恆定的溫度下沸騰，該溫度可比個別組分的沸騰溫度更高或更低；或(1b)在一給定的恆定溫度下，其實質上會在恆定的壓力下沸騰，該壓力可比個別組分的沸騰壓力更高或更低；及(2)實質上會在恆定的組成下沸騰，該等相組成雖然固定，卻不必然相等（參見例如M. F. Doherty and M.F.Malone, Conceptual Design of Distillation Systems, McGraw-Hill (New York), 2001, 185）。
均相共沸物（在其中單一汽相與單一液相處於平衡之中）除了具有上文性質(1a)、(1b)、及(2)之外，各組分之組成在各共存的平衡相中係相同的。通用用語「共沸物(azeotrope)」係均相共沸物之常用替代名稱。
如本文所使用，「類共沸物(azeotrope-like)」組成物係指行為類似於共沸物組成物之組成物（即，具有恆定沸騰特性或在沸騰或蒸發時不會分餾之傾向）。因此，在沸騰或蒸發期間，該等蒸氣及液體組成若有任何改變，此改變僅是極少或屬可忽略之程度。相對而言，在沸騰或蒸發期間，非類共沸物組成物的蒸氣及液體組成改變程度相當大。
如本文所使用，用語「類共沸物(azeotrope-like)」或「類共沸物行為(azeotrope-like behavior)」係指組成物所展現之露點壓力及泡點壓力幾乎沒有壓差。在一些實施例中，在給定溫度下露點壓力及泡點壓力的差異係3%或更少。在一些實施例中，泡點壓力及露點壓力的差異係5%或更少。 化學縮寫
在本申請案中可使用以下縮寫。 CFC：氟氯碳化物 t-DCE ：反式-1,2-二氯乙烯； HFC：氫氟碳化物 HFCP：1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷 HFE：氫氟醚 HFE-7000：全氟異丙基甲醚 HFE-7100：1-甲氧基全氟丁烷及1-甲氧基全氟異丁烷之混合物 HFE-7200：1-乙氧基全氟丁烷及1-乙氧基全氟異丁烷之混合物 HFE-7300：3 -甲氧基全氟異己烷 HFE-347pc-f：1,1,2,2-四氟乙基-2,2,2-三氟乙醚 MPHE：甲基全氟庚烯醚 Novec ™ 7300：1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟-3-甲氧基-4-(三氟甲基)-戊烷 Novec ™ 7200：乙基九氟丁基醚 共沸物及類共沸物組成物
本申請案提供一種組成物，其包含： i)       反式-1,2-二氯乙烯； ii)      第二組分，其係氫氟醚； iii)     第三組分，其選自氫氟碳化物及烷基全氟烯醚之化合物。
在一些實施例中，組成物不進一步包含選自C 1-6醇、C 3-6酮、C 5-8烷烴、C 3-6環烷烴、及C 1-6乙酸烷酯之化合物。
在一些實施例中，組成物不進一步包含選自C 1-6醇、C 3-6酮、C 5-8烷烴、C 3-6環烷烴、及C 1-6乙酸烷酯之化合物。
在一些實施例中，組成物不進一步包含選自C 1-6醇、C 3-6酮、C 5-8烷烴、C 3-6環烷烴、及C 1-6乙酸烷酯之二更多種化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含選自C 1-6醇、C 3-6酮、C 5-8烷烴、C 3-6環烷烴、及C 1-6乙酸烷酯之三更多種化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含選自C 1-6醇、C 3-6酮、C 5-8烷烴、C 3-6環烷烴、及C 1-6乙酸烷酯之四更多種化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含選自C 1-6醇、C 3-6酮、C 5-8烷烴、C 3-6環烷烴、及C 1-6乙酸烷酯之五更多種化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含選自C 1-6醇、C 3-6酮、C 5-8烷烴、C 3-6環烷烴、及C 1-6乙酸烷酯之六更多種化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含選自C 1-6醇、C 3-6酮、C 5-8烷烴、C 3-6環烷烴、及C 1-6乙酸烷酯之六更多種化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含C 1-6醇、C 3-6酮、C 5-8烷烴、C 3-6環烷烴、及C 1-6乙酸烷酯。
在一些實施例中，組成物不進一步包含C 1-6醇。在一些實施例中，組成物不進一步包含C 3-6酮。在一些實施例中，組成物不進一步包含C 5-8烷烴。在一些實施例中，組成物不進一步包含C 3-6環烷烴。在一些實施例中，組成物不進一步包含C 1-6乙酸烷酯。
在一些實施例中，組成物不進一步包含選自甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、正己烷、環戊烷及、乙酸乙酯之化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含選自甲醇、乙醇、及異丙醇之化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含酮。在一些實施例中，組成物不進一步包含正己烷。在一些實施例中，組成物不進一步包含環戊烷。在一些實施例中，組成物不進一步包含乙酸乙酯。
在一些實施例中，組成物不進一步包含一或多種選自甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、正己烷、環戊烷、及乙酸乙酯之化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含二或更多種選自甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、正己烷、環戊烷、及乙酸乙酯之化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含三或更多種選自甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、正己烷、環戊烷、及乙酸乙酯之化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含四或更多種選自甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、正己烷、環戊烷、及乙酸乙酯之化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含五或更多種選自甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、正己烷、環戊烷、及乙酸乙酯之化合物。在一些實施例中，組成物不進一步包含六或更多種選自甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、正己烷、環戊烷、及乙酸乙酯之。在一些實施例中，組成物不進一步包含甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、正己烷、環戊烷、及乙酸乙酯。
在一些實施例中，組成物係共沸物（即共沸）組成物。在一些實施例中，第二組分及第三組分以有效與反式-1,2-二氯乙烯形成共沸物組成物的量存在於組成物中。在一些實施例中，組成物係類共沸物組成物。在一些實施例中，第二組分及第三組分以與反式-1,2-二氯乙烯有效形成類共沸物組成物的量存在於組成物中。
在一些實施例中，氫氟醚係選自HFE-7000、HFE-7100、HFE-7200、HFE-7300、及HFE-347pc-f。在一些實施例中，氫氟醚係選自HFE-7200及HFE-7300。在一些實施例中，氫氟醚係HFE-720。在一些實施例中，氫氟醚係HFE-7300。
在一些實施例中，組成物包含約5重量百分比至約45重量百分比的HFE-7200。在一些實施例中，組成物包含約5至約40、約5至約38、約7至約35、約10至約30、約12至約28、約15至約25、或約15至約23重量百分比的HFE-7200。在一些實施例中，組成物包含約10至約30重量百分比的HFE-7200。在一些實施例中，組成物包含約33、約25、約15、或約10重量百分比的HFE-7200。在一些實施例中，組成物包含約23重量百分比的HFE-7200。在一些實施例中，組成物包含約15重量百分比的HFE-7200。
在一些實施例中，組成物包含約1重量百分比至約30重量百分比之HFE-7300。在一些實施例中，組成物包含約1至約28、約1至約25、約3至約25、約5至約25、約5至約22、或約5至約20、約7至約18、約10至約15、或約11至約13重量百分比的HFE-7300。在一些實施例中，組成物包含約1至約20重量百分比的HFE-7300。在一些實施例中，組成物包含約5至約20重量百分比的HFE-7300。在一些實施例中，組成物包含約3、約4、約6、約10、約12、約14、約15、約17、約18、或約19重量百分比的HFE-7300。在一些實施例中，組成物包含約12重量百分比的HFE-7300。
在一些實施例中，第三組分係氫氟碳化物。在一些實施例中，氫氟碳化物係選自七氟環戊烷、五氟丁烷、及五氟丙烷。在某些實施例中，氫氟碳化物係七氟環戊烷。在某些實施例中，氫氟碳化物係五氟丁烷。在某些實施例中，氫氟碳化物係五氟丙烷。在一些實施例中，氫氟碳化物係選自1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷、1,1,1,3,3-五氟丁烷、及1,1,1,3,3-五氟丙烷。在一些實施例中，氫氟碳化物係1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。在一些實施例中，氫氟碳化物係1,1,1,3,3-五氟丁烷。在一些實施例中，氫氟碳化物係1,1,1,3,3-五氟丙烷。
在一些實施例中，組成物包含約1重量百分比至約30重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。在一些實施例中，組成物包含約1至約28、約1至約25、約1至約22、約1至約20、約1至約18、約1至約15、約3至約15、或約4至約15重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。在一些實施例中，組成物包含約1至約20重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。在一些實施例中，組成物包含約1至約15重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。在一些實施例中，組成物包含約2、約4、約5、約9、約10、約11、約15、約17、或約22重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。在一些實施例中，組成物包含約4重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。在一些實施例中，組成物包含約9重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。在一些實施例中，組成物包含約15重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
在一些實施例中，第三組分係烷基全氟烯醚。在一些實施例中，烷基全氟烯醚係甲基全氟庚烯醚。在一些實施例中，甲基全氟庚烯醚包含約50重量百分比的5-甲氧基全氟-3-庚烯、約20重量百分比的3-甲氧基全氟-3-庚烯、約20重量百分比的4-甲氧基全氟-2-庚烯、及約8重量百分比的4-甲氧基全氟-3-庚烯之混合物。
在一些實施例中，組成物包含約1重量百分比至約5重量百分比的全氟庚烯醚。在一些實施例中，組成物包含約1至約4、約2至約4、或約3至約4重量百分比的甲基全氟庚烯醚。在一些實施例中，組成物包含約3、約4、或約5重量百分比的甲基全氟庚烯醚。
在一些實施例中，組成物包含約65重量百分比至約98重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯。在一些實施例中、組成物包含約65至約95、約65至約93、約65至約92、或約75至約80重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯。在一些實施例中、組成物包含約65至約85、約68至約82、約70至約80、約72至約80、約75至約80重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯。在一些實施例中，組成物包含約75至約90或約65至約85重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯。在一些實施例中，組成物包含約79、約73、或約70重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯。
在一些實施例中，組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7300、及七氟環戊烷。在一些實施例中，組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7300、及1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
在一些實施例中，組成物包含： i)      約75重量百分比至約90重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)     約1重量百分比至約20重量百分比的HFE-7300；及 iii)    約1重量百分比至約20重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
在一些實施例中，組成物包含： i)      約75重量百分比至約85重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)     約5重量百分比至約15重量百分比的HFE-7300；及 iii)    約1重量百分比至約15重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
在一些實施例中，組成物包含： i)      約79重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)     約12重量百分比的HFE-7300；及 iii)    約9重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
在一些實施例中，組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7200、及七氟環戊烷。在一些實施例中，組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7200、及1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
在一些實施例中，組成物包含： i)      約65重量百分比至約85重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)     約10重量百分比至約30重量百分比的HFE-7200；及 iii)    約1重量百分比至約15重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
在一些實施例中，組成物包含： i)      約68重量百分比至約78重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)     約18重量百分比至約28重量百分比的HFE-7200；及 iii)    約1重量百分比至約8重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
在一些實施例中，組成物包含： i)      約73重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)     約23重量百分比的HFE-7200；及 iii)    約4重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
在一些實施例中，組成物包含： i)      約65重量百分比至約75重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)     約10重量百分比至約20重量百分比的HFE-7200；及 iii)    約10重量百分比至約15重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
在一些實施例中，組成物包含： i)      約70重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)     約15重量百分比的HFE-7200；及 iii)    約15重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
在一些實施例中，組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7300、及甲基全氟庚烯醚。
在一些實施例中，組成物包含： i)      約75重量百分比至約90重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)     約5重量百分比至約20重量百分比的HFE-7300；及 iii)    約1重量百分比至約5重量百分比的甲基全氟庚烯醚。
在一些實施例中，組成物包含： i)      約80重量百分比至約85重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)     約10重量百分比至約15重量百分比的HFE-7300；及 iii)    約1重量百分比至約5重量百分比的甲基全氟庚烯醚。 使用方法
在一些實施例中，本文所述之組成物可用作清潔劑、去焊劑、及/或去脂劑。因此，本申請案提供一種清潔表面之程序，其包含使本文提供之組成物與該表面接觸。在一些實施例中，該製程包含自表面或基材移除殘餘物，其包含使該表面或基材與本文所提供之組成物接觸並自該組成物中回收該表面或基材。在一些實施例中，本申請案進一步提供用於自基材表面移除至少一部分殘餘物之程序，包含使本文提供之組成物接觸基材。在一些實施例中，本申請案進一步提供用於溶解溶質之製程，其包含使該溶質與足量的本文所揭示之組成物接觸並混合。在一些實施例中，本申請案進一步提供一種清潔表面之程序，其包含使本文所揭示之組成物與該表面接觸。
在一些實施例中，該表面或基材可係積體電路裝置，在此情況下，該殘餘物包含松香助焊劑或油。該積體電路裝置可係具有各種類型組件（諸如覆晶(flip chips)、µ　BGAs、或晶片尺度封裝(chip scale packaging)組件）之電路板。該表面或基材可額外地係金屬表面，諸如不銹鋼。該松香助焊劑可係在積體電路裝置的焊接中常用的任何類型，包括但不限於RMA（低活化性松香，rosin mildly activated）、RA（活化性松香，rosin activated）、WS（水溶性，water soluble）、及OA（有機酸，organic acid）。油殘餘物包括但不限於礦物油、機油、及聚矽氧油。在一些實施例中，表面或基材係磁碟媒體。在一些實施例中，殘餘物係焊劑、潤滑劑、油脂、油、蠟、或其組合。
在一些實施例中，本申請案提供一種用於從潮濕基材、或表面、或裝置的表面移除至少一部分水分之程序，其包含使該基材、表面、或裝置與本文所提供之組成物接觸，然後從與該組成物之接觸中移除該基材、表面、或裝置。
在一些實施例中，本文所提供之組成物進一步包含一或多種添加劑組分（即，組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、如本文所述之第二組分、如本文所述之第三組分、及如本文所述之一或多種添加劑組分）。例示性添加劑包括但不限於推進劑、界面活性劑、及氟潤滑劑。
在一些實施例中，本文所述之組成物進一步包含推進劑。在一些實施例中，推進劑係空氣、氮氣、二氧化碳、2,3,3,3-四氟丙烯、反式-1,3,3,3-四氟丙烯、1,2,3,3,3-五氟丙烯、二氟甲烷、三氟甲烷、二氟乙烷、三氟乙烷、四氟乙烷、五氟乙烷、碳氫化合物、二甲醚、或其任何混合物。
在一些實施例中，本文所提供之組成物進一步包含至少一種適合用於使該基材脫水或乾燥之界面活性劑。例示性的界面活性劑包括但不限於烷基二甲基銨異辛基磷酸酯、三級烷基胺（例如三級丁基胺）、全氟烷基磷酸酯、二甲基癸烯醯胺、氟化烷基聚醚、四級胺（例如銨鹽）、及單硬脂酸甘油酯。
用於接觸裝置、表面、或基材之手段並不重要且可例如藉由以下方式來完成：使該裝置、表面、或基材浸泡在含有本文所提供之組成物之浴液中；用本文所提供之組成物噴塗該裝置、表面、或基材；或用已用該組成物濕潤之材料（例如布）擦拭該裝置、表面、或基材。在一些實施例中，接觸係藉由將基材浸泡於組成物中。在一些實施例中，組成物係處於大於環境溫度或室溫之溫度下。在一些實施例中，組成物係處於約該組成物之沸點的溫度下。在一些實施例中，組成物進一步包含將基材第二次浸泡在該組成物中，其中所述組成物係處於低於第一浸泡步驟之溫度的溫度下。在一些實施例中，在第二浸泡步驟中的組成物係處於環境溫度或室溫下。
替代地，本文所提供之組成物亦可用於為移除此種殘餘物而設計之蒸氣去脂或去焊設備中。此種蒸氣去脂或去焊設備得自不同供應商，諸如Forward Technology（Crest Group之子公司，Trenton, NJ）、Trek Industries (Azusa, CA)、及Ultronix, Inc. (Hatfield, PA)等等。在一些實施例中，藉由沸騰組成物以形成所述組成物之蒸氣，並將自基材表面的至少一部分殘餘物暴露至所述蒸氣來執行蒸氣去脂。
儲存數位資訊之最先進、最高紀錄密度及最低成本的方法涉及從旋轉中的磁碟（塗佈有磁性材料）寫入與讀取磁通量圖案(magnetic flux pattern)。將磁性層（其資訊以位元形式儲存）濺鍍至金屬的支撐結構上。接下來將保護膜（通常為基於碳之材料）放置在該磁性層的頂部以用於保護，並於最後將潤滑劑施加至該保護膜上。讀取寫入頭在該潤滑劑上方飛行而使資訊在該頭與該磁性層之間交換。在提升資訊轉移效率的持續努力中，硬碟製造商已縮短該頭與該磁性層之間的距離（或飛行高度）至小於100埃。
不變地，在正常的磁碟機應用期間，該頭與該磁碟表面會發生接觸。為減少磁碟上來自滑動及飛行接觸兩者的磨損，磁碟必須加以潤滑。
氟潤滑劑在磁碟機工業中廣泛用作潤滑劑以減少磁頭與磁碟間的摩擦，亦即減少磨損而因此使磁碟失效的可能性降至最低。
在工業界需要一種沉積氟潤滑劑之經改善的方法。由於其對環境上的影響，某些溶劑的使用已被規範，例如CFC-113及PFC-5060。因此，欲使用於本申請案中之溶劑應考量環境衝擊。再者，此類溶劑必須溶解氟潤滑劑並形成一實質上均勻或均勻的氟潤滑劑塗層。此外，已發現現存的溶劑需要較高的氟潤滑劑濃度以產生一給定厚度的塗層，並且在氟潤滑劑塗層的均勻性方面產生不規則性。
在一些實施例中，本申請案提供一種在表面上沉積氟潤滑劑之方法，其包含組合氟潤滑劑及溶劑以形成潤滑劑-溶劑組合，其中該溶劑包含本文所提供之組成物，使該潤滑劑-溶劑組合與該表面接觸，並將該溶劑自該表面蒸發以在該表面形成氟潤滑劑塗層。
在一些實施例中，本揭露之氟潤滑劑包含全氟聚醚(perfluoropolyether, PFPE)化合物，或包含X-1P ®之潤滑劑（其係含磷腈之磁碟潤滑劑）。此等全氟聚醚化合物有時稱為全氟烷基醚(perfluoroalkylether, PFAE)或全氟聚烷基醚(perfluoropolyalkylether, PFPAE)。此等PFPE化合物的範圍從簡單之全氟化醚聚合物至官能基化之全氟化醚聚合物。在本發明中可用作氟潤滑劑之不同種類的PFPE化合物可從數種來源得到。在一些實施例中，可用於本文所提供之製程中的氟潤滑劑包括但不限於Krytox ®GLP 100、GLP 105、或GLP 160 (The Chemours Co., LLC, Fluoroproducts, Wilmington, DE, 19898, USA)；Fomblin ®Z-Dol 2000、2500或4000、Z-Tetraol、或Fomblin ®AM 2001或AM 3001（由Solvay Solexis S.p.A., Milan, Italy所販售）；Demnum ™LR-200 or S-65 (得自Daikin America, Inc., Osaka, Japan)；X-1P ®（部分氟化之六苯氧基環三磷腈(hyxaphenoxy cyclotriphosphazene)磁碟潤滑劑，得自Quixtor Technologies Corporation，該公司為Dow Chemical Co, Midland, MI的一間子公司）；及其混合物。Krytox ®潤滑劑係具有通式結構F(CF(CF 3)CF 2O) n-CF 2CF 3的全氟烷基聚醚，其中n的範圍為10至60。Fomblin ®潤滑劑係官能化的全氟聚醚，其分子量範圍為500至4000原子質量單位，且具有通式X-CF 2-O(CF 2-CF 2-O) p-(CF 2O) q-CF 2-X，其中X可係–CH 2OH，p+q係40至180，且p/q係0.5至2；CH 2(O-CH 2-CH 2) nOH，其中n係10至60，CH 2OCH 2CH(OH)CH 2OH，或–CH 2O-CH 2-胡椒基。Demnum ™油為全氟聚醚系的油，分子量範圍為2700至8400原子質量單位。此外，正在發展中的新潤滑劑（諸如來自Moresco (Thailand) Co., Ltd者）係可用在本文所提供之製程中。
本文所述之氟潤滑劑可額外地包含添加劑以改善該氟潤滑劑的性質。本身可作為潤滑劑的X-1P ®常被添加至其他較低成本的氟潤滑劑中，藉由鈍化磁碟表面上造成PFPE降解的路易士酸位點以便增加磁碟機的耐用性。在可用於本文所提供之製程的氟潤滑劑中可使用其他常見的潤滑劑添加劑。
本文所述之氟潤滑劑可進一步包含Z-DPA (Hitachi Global Storage Technologies, San Jose, CA)，其為用二烷基胺端基封端之PFPE。該親核性的端基具有與X1P ®相同的作用，因此不用任何添加劑就能提供相同的穩定性。
可沉積該氟潤滑劑之表面係指任何可受益於潤滑之固體表面。半導體材料諸如二氧化矽磁碟、金屬、或金屬氧化物表面、氣相沉積之碳表面或玻璃表面均係可用於本文所述之製程中的代表性表面類型。在一些實施例中，本文所提供之製程在塗佈磁性媒體諸如電腦硬碟機上特別有用。在製造電腦磁碟中，該表面可為具有磁性媒體層的玻璃或鋁基材，該等磁性媒體層亦藉由氣相沉積塗佈非晶形氫化或氮化碳的薄層（10至50埃）。可藉由將該氟潤滑劑施加至該磁碟的碳層上而間接將該氟潤滑劑沉積至該磁碟表面上。
組合該氟潤滑劑與本文所提供之組成物（即，作為溶劑）的第一步驟可以任何適當的方式來完成，諸如在適合的容器（諸如可用作沉積製程中浴液的燒杯或其他容器）中混合。該氟潤滑劑在本文所提供之組成物中的濃度可係約0.010百分比(wt/wt)至約0.50百分比(wt/wt)。
使氟潤滑劑及本文所提供之組成物的該組合與表面接觸的步驟可以任何適合於該表面（考量該表面的大小及形狀）之方式來完成。硬碟機必須以某些方式加以支撐，諸如用一心軸或可適配穿過磁碟中央孔洞的一些其他支撐物。磁碟因此將保持垂直使得磁碟的平面係垂直於溶劑浴液。心軸可具有不同的形狀，包括但不限於圓柱形棒或V形棒。心軸的形狀將決定與磁碟接觸的面積。心軸可由任何強度足以支承磁碟的材料建構，包括但不限於金屬、金屬合金、塑膠或玻璃。此外，磁碟可在編織籃內垂直直立支撐，或在外緣上用一或多個夾具夾到垂直位置上。支撐物可由任何具有支承磁碟強度的材料建構，例如金屬、金屬合金、塑膠或玻璃。不論如何支撐磁碟，磁碟將會降入盛有氟潤滑劑/溶劑（即，本文所提供之組成物）組合的浴液的容器中。可將該浴維持在室溫下或加熱或冷卻至約0℃至約50℃的溫度範圍內。
替代地，可將磁碟如上所述支撐，並升起浴液以浸泡磁碟。不論哪種情況下，隨後皆可將磁碟從浴液中移出（藉由降低浴液或升起磁碟）。多餘的氟潤滑劑/溶劑組合可排入浴液中。
任何一種將磁碟降入浴液中或將浴液升起以浸泡磁碟而使氟潤滑劑/溶劑組合與磁碟表面接觸的製程皆泛指為浸塗。可在本文所述之製程中使用其他使磁碟與該氟潤滑劑/溶劑組合接觸之製程，包括但不限於噴塗或旋塗。
當磁碟從浴液中移出時，磁碟在其表面上會具有含氟潤滑劑塗層及一些殘餘溶劑（即，本文所提供之組成物）。可將殘餘溶劑蒸發。蒸發通常係在室溫下進行。然而，對於蒸發步驟也可使用其他高於或低於室溫之溫度。可用於蒸發之溫度範圍為約0℃至約100℃。
在表面或磁碟（若該表面為一磁碟）在完成塗佈製程之後，將留下一實質上不含溶劑之實質上均勻或均勻的氟潤滑劑塗層。該氟潤滑劑可施加至小於約300 nm的厚度，及替代地至約100至約300 nm的厚度。
對於一磁碟的正常運作而言，均勻的氟潤滑劑塗層係所欲的，因此在磁碟表面上不希望有氟潤滑劑厚度變化的區域。隨著越來越多資訊被儲存在相同尺寸的磁碟中，讀取/寫入頭必須越來越接近磁碟以便正常運作。若在磁碟的表面上存在由於塗層厚度變化所致之不規則性，則磁頭接觸磁碟上此等區域的機率係大為增加。雖然在磁碟上需要具有足夠的氟潤滑劑以流入磁碟可能被磁頭接觸或其他手段而移除之區域，但太厚的塗層可能導致「汙跡(smear)」，此為與讀取/寫入頭拾取過量氟潤滑劑有關的問題。
在工業上觀察到的一種具體的塗層厚度不規則性被稱為「兔耳(rabbit ears)」效應。在使用現有溶劑系統進行氟潤滑劑沉積之後，可在磁碟表面上目視檢查出此等不規則性。當磁碟與氟潤滑劑於溶劑中之溶液接觸然後從溶液中移出時，可能積聚溶液且不易排出的任何點都會形成不易排除的溶液液滴。此種形成液滴的一個點係心軸或其他支撐裝置與磁碟之接觸點（一或數個）。當使用V形心軸時，在心軸接觸磁碟內緣的地方有兩個接觸點。當氟潤滑劑溶液在此等位置（即從該浴液中移出時溶液並未排除之處）形成液滴時，當溶劑蒸發時會產生氟潤滑劑厚度較大的區域。與磁碟接觸的兩個點產生所謂的「兔耳」效應，此乃因為氟潤滑劑厚度較大的區域在磁碟表面上產生一種目視可檢查出之類似兔耳的圖案。
當使用浸塗在表面上沉積氟潤滑劑時，上拉速度（將該磁碟從浴液中移出的速度）、及氟潤滑劑的密度以及表面張力對決定所得之氟潤滑劑膜厚係有關連的。為獲得所欲之膜厚度，必需暸解此等參數。在IEEE Transactions on Magnetics，第31卷，第6期，1995年11月之「Dip-Coating of Ultra-Thin Liquid Lubricant and its Control for Thin-Film Magnetic Hard Disks」中給出此等參數如何影響塗層的細節，該揭露的內容以全文引用方式併入本文中。 實例
本發明將藉由具體實例的方式更詳細地描述。提供以下實例係用於說明性目的，並不旨在以任何方式限制本發明。所屬技術領域中具有通常知識者將輕易認可到可改變或修改各種的非關鍵參數，以產生實質上相同的結果。 實例 1. 組成物 1 之蒸餾分析
將79.85%反式-1,2-二氯乙烯(t-DCE)、10.19% 1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷(HFCP)、及9.95% 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-十氟-3-甲氧基-4-(三氟甲基)-戊烷(Novec ™7300)（組成物1）之混合物透過重量法製備，且使用25板Oldershaw蒸餾塔在大氣壓力下蒸餾。將蒸餾物回流一小時，且接著確保十百分比的蒸餾物流份且經由GC/FID分析。如表1所示，在用25板管柱蒸餾之後，組成不顯著地改變，且蒸餾物指示較佳的共沸組成為約9% HFCP、12% HFCP、及79% t-DCE。亦記錄沸點，其低於純t-DCE之沸點(48.4℃)，確認共沸行為。
表 1.
組分 初始組成 (wt %) 蒸餾物組成 (wt %)
HFCP 10.19 8.93
Novec ™7300 9.95 12.03
t-DCE 79.85 79.04
沸點 (℃) 47.6   
實例 2. 組成物 2 之蒸餾分析
將64.59%反式-1,2-二氯乙烯、10.59% 1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷(HFCP)、及24.81%乙基九氟丁基醚(Novec ™7200)（組成物2）之混合物透過重量法製備，且使用25板Oldershaw蒸餾塔在大氣壓力下蒸餾。將蒸餾物回流一小時，且接著確保十百分比的蒸餾物流份且經由GC/FID分析。如表2所示，包含所有三個初始組分之蒸餾物組成數據展示三元共沸物之存在，較佳含有約4.4% HFCP、23.1% Novec 7200、及約73.5% t-DCE。另外，45.5℃的低沸點確認共沸行為。
表 2.
組分 初始組成 (wt %) 蒸餾物組成 (wt %)
HFCP 10.59 4.4
Novec ™ 7200 24.81 23.11
t-DCE 64.59 72.49
沸點 (℃) 45.5   
實例 3. 組成物 3 之蒸餾分析
製備76.8%反式-1,2-二氯乙烯(t-DCE)、18.3% 3-甲氧基-4-三氟甲基十氟戊烷(HFE-7300)、及4.9%七氟環戊烷(HFCP)之混合物（組成物3），且使用單板蒸餾設備在大氣壓力下蒸餾。將混合物蒸餾直至蒸餾出50重量%之組成物。收集以下蒸餾餾分及殘餘物且經由GC/FID分析，且在整個蒸餾中記錄沸騰燒瓶之溫度及蒸氣露點。三元類共沸物組成物3之分餾結果列於下表3中。
表 3.
組分 初始 10% 20% 30% 40% 50% 50% 殘餘物 (Heel)
t-DCE 76.8% 78.1% 78.1% 78.1% 78.0% 78.1% 75.1%
HFE-7300 18.3% 17.0% 17.0% 17.0% 17.1% 17.0% 19.9%
HFCP 4.9% 4.9% 4.9% 4.9% 4.9% 4.9% 5.0%
表4顯示透過組成物3之蒸餾得到的沸點(BP)及露點(DP)。
表 4.
初始 10% 20% 30% 40% 50%
BP (℃) 46.2 46.4 46.5 46.5 46.5 46.5
DP (℃) 46 46 46 46 46 46
在組成物3之整個蒸餾中，沸騰溫度及組成保持恆定，指示t-DCE、HFE-7300、及HFCP之三元混合物之共沸行為。 實例 4. 組成物 4 之蒸餾分析
對組成物4（75.5% t-DCE、2.6% HFE-7300、及21.9% HFCP）重複實例3之程序。三元類共沸物組成物4之分餾結果列於下表5中。
表 5.
組分 初始 10% 20% 40% 50% 50% 殘餘物
t-DCE 75.5% 79.1% 78.8% 78.6% 78.6% 71.0%
HFE-7300 2.6% 2.7% 2.6% 2.5% 2.5% 2.7%
HFCP 21.9% 18.2% 18.6% 18.9% 18.9% 26.3%
表6顯示透過組成物4之蒸餾得到的沸點及露點。
表 6.
初始 10% 20% 40% 50%
BP (℃) 46.5 46.9 46.9 46.9 46.9
DP (℃) 45 46 46 46 46
在組成物4之整個蒸餾中，沸騰溫度及組成保持恆定，指示t-DCE、HFE-7300、及HFCP之三元混合物之共沸行為。 實例 5. 組成物 5 之蒸餾分析
對組成物5（91.7% t-DCE、4.1% HFE-7300、及4.2% HFCP）重複實例3之程序。三元類共沸物組成物5之分餾結果列於下表7中。
表 7.
初始 15% 25% 40% 50% 50% 殘餘物
t-DCE 91.7% 87.4% 87.9% 88.4% 89.2% 95.5%
HFE-7300 4.1% 6.8% 6.5% 6.1% 5.6% 1.7%
HFCP 4.2% 5.8% 5.6% 5.5% 5.2% 2.8%
表8顯示透過組成物5之蒸餾得到的沸點及露點。
表 8.
初始 15% 25% 40% 50%
BP (℃) 15% 47.1 47.3 47.3 47.4
DP (℃) 47.1 46 46.5 46.5 46.5
在組成物5之整個蒸餾中，沸騰溫度及組成保持恆定，指示t-DCE、HFE-7300、及HFCP之三元混合物之共沸行為。 實例 6. 組成物 6 之蒸餾分析
對組成物6（65.2% t-DCE、17.4% HFE-7300、及17.4% HFCP）重複實例3之程序。三元類共沸物組成物6之分餾結果列於下表9中。
表 9.
初始 10% 25% 40% 50% 殘餘物
t-DCE 65.2% 74.9% 74.7% 74.20% 73.70% 49.2%
HFE-7300 17.4% 11.9% 11.9% 12.10% 12.40% 26.9%
HFCP 17.4% 13.2% 13.4% 13.70% 13.90% 23.9%
表10顯示透過組成物6之蒸餾得到的沸點及露點。
表 10.
初始 10% 25% 40% 50%
BP ( ℃ ) 46.8 47.1 47.1 47.3 47.5
DP ( ℃ ) 46 46.5 46.5 47 47
在整個蒸餾中，沸騰溫度及組成保持恆定，指示t-DCE、HFE-7300、及HFCP之三元混合物之共沸行為。 實例 7. 組成物 7 之蒸餾分析
製備組成物7（79.85% t-DCE、9.95% HFE-7300、及10.19% HFCP）且使用25板Oldershaw蒸餾塔在大氣壓力下蒸餾，以判定較佳共沸物組成物。使各混合物透過蒸餾塔回流一小時，且收集前1%餾份且經由GC/FID分析組成物。表11顯示25板Oldershaw蒸餾組成物之結果。
表 11.
組分 初始組成 蒸餾物組成
t-DCE 79.85% 79.04%
HFE-7300 9.95% 12.03%
HFCP 10.19% 8.94%
BP ( ℃ ) 47.6
實例 8. 組成物 8 之蒸餾分析
對組成物8（78.1% t-DCE、14.1% HFE-7300、及7.8% HFCP）重複實例7之程序。表12顯示25板Oldershaw蒸餾組成物之結果。
表 12.
組分 初始組成 蒸餾物組成
t-DCE 78.1% 79.0%
HFE-7300 14.1% 13.1%
HFCP 7.8% 7.9%
BP ( ℃ ) 47.6
如表11及表12中所示，具有不同起始組成物之t-DCE、HFE-7300、及HFCP之混合物的蒸餾收斂於指示共沸行為之狹窄蒸餾物組成範圍。 實例 9. 組成物 9 之蒸餾分析
製備組成物9（70.0% t-DCE、15.1% HFE-7200、及14.8% HFCP）且使用單板蒸餾設備在大氣壓力下蒸餾。將混合物蒸餾至50%重量，且取出各餾分且分析，以判定混合物是否形成三元類共沸物組成物。經由GC/FID分析各餾分，且紀錄各餾分之沸點及露點。三元類共沸物組成物之分餾之結果列於下表13及表14中。
表 13.
組分 初始 10% 20% 40% 50% 50% 殘餘物
t-DCE 70.0% 73.2% 73.1% 73.2% 72.8% 65.6%
HFE-7200 15.1% 15.3% 15.3% 15.1% 15.2% 15.3%
HFCP 14.8% 11.5% 11.5% 11.7% 12.0% 19.3%
表 14.
初始 10% 20% 40% 50%
BP (℃ ) 46.3 46.3 46.3 46.4 46.4
DP (℃ ) 45.5 45.5 45.5 46 46
在組成物9之整個蒸餾中，沸騰溫度及組成保持恆定，指示t-DCE、HFE-7200、及HFCP之三元混合物之共沸行為。 實例 10. 組成物 10 之蒸餾分析
對組成物10（85.5% t-DCE、9.5% HFE-7200、及5.0% HFCP）重複實例9之程序。三元類共沸物組成物之分餾之結果列於下表15及表16中。
表 15.
組分 初始 10% 20% 30% 40% 50% 50% 殘餘物
t-DCE 85.5% 79.9% 80.2% 80.5% 81.1% 81.6% 90.5%
HFE-7200 9.5% 14.5% 14.2% 13.9% 13.3% 12.8% 5.3%
HFCP 5.0% 5.6% 5.6% 5.6% 5.6% 5.7% 4.2%
表 16.
初始 10% 20% 30% 40% 50%
BP (℃ ) 45.8 46 46.1 46.2 46.2 46.2
DP (℃ ) 45.5 45.5 45.5 46 46 46
在組成物10之整個蒸餾中，沸騰溫度及組成保持恆定，指示t-DCE、HFE-7200、及HFCP之三元混合物之共沸行為。 實例 11. 組成物 11 之蒸餾分析
對組成物11（64.6% t-DCE、33.2% HFE-7200、及2.2% HFCP）重複實例9之程序。三元類共沸物組成物之分餾之結果列於下表17及表18中。
表 17.
組分 初始 10% 20% 30% 40% 50% 50% 殘餘物
t-DCE 64.6% 69.0% 68.7% 68.7% 68.6% 68.3% 56.1%
HFE-7200 33.2% 29.3% 29.6% 29.6% 29.7% 29.9% 41.1%
HFCP 2.2% 1.7% 1.7% 1.7% 1.7% 1.8% 2.8%
表 18.
初始 10% 20% 30% 40% 50%
BP (℃ ) 46.2 46.3 46.2 46.5 46.5 46.6
DP (℃ ) 45.5 45.5 45.5 46 46 46
在組成物11之整個蒸餾中，沸騰溫度及組成保持恆定，指示t-DCE、HFE-7200、及HFCP之三元混合物之共沸行為。 實例 12. 組成物 12 之蒸餾分析
製備組成物12（81.30% t-DCE、3.80% MPHE、及14.90% HFE-7300）且使用單板蒸餾設備在大氣壓力下蒸餾。將混合物蒸餾至45重量%，且取出各餾分並分析，以判定混合物是否形成三元類共沸物組成物。經由GC/FID分析各餾分，且紀錄各餾分之沸點及露點。三元類共沸物組成物之分餾之結果列於下表19及表20中。
表 19.
組分 初始 15% 30% 45% 55% 殘餘物
t-DCE 81.30% 81.80% 81.80% 82.00% 80.60%
HFE-7300 14.90% 16.60% 16.40% 16.20% 13.60%
MPHE 3.80% 1.60% 1.80% 1.80% 5.80%
表 20.
初始 15% 30% 45%
BP (℃ ) 47.00 47.1 47.1 47
DP (℃ ) 46.00 46 46 46
在組成物12之整個蒸餾中，沸騰溫度及組成保持恆定，指示t-DCE、HFE-7300、及MPHE之三元混合物之共沸行為。 實例 13. 組成物 13 之蒸餾分析
對組成物13（75.0% t-DCE、5.9% MPHE、及19.1% HFE-7300）重複實例12之程序。三元類共沸物組成物之分餾之結果列於下表21及表22中。
表 21.
組分 初始 10% 20% 30% 40% 50% 50% 殘餘物
t-DCE 75.0% 80.80% 80.60% 80.50% 80.60% 80.60% 66.60%
HFE 7300 19.1% 17.10% 17.10% 17.20% 17.10% 16.90% 22.20%
MPHE 5.9% 2.1% 2.3% 2.3% 2.3% 2.5% 11.2%
表 22.
初始 10% 20% 30% 40% 50%
BP (℃ ) 45.7 45.8 45.8 45.8 46 46
DP (℃ ) 45.5 45.5 45.5 4.5 45.5 45.5
在組成物13之整個蒸餾中，沸騰溫度及組成保持恆定，指示t-DCE、HFE-7300、及MPHE之三元混合物之共沸行為。 實例 14. 組成物 14 之蒸餾分析
對組成物14（90.20% t-DCE、3.30% MPHE、及6.60% HFE-7300）重複實例12之程序。三元類共沸物組成物之分餾之結果列於下表22及表23中。
表 22.
組分 初始 15% 30% 45% 60% 40% 殘餘物
t-DCE 90.20% 87.95% 88.81% 88.24% 89.09% 92.75%
HFE-7300 6.60% 10.12% 9.18% 9.54% 8.66% 2.35%
MPHE 3.30% 1.93% 2.01% 2.22% 2.25% 4.89%
表 23.
初始 15% 30% 45% 60%
BP (℃ ) 47.0 47.1 47.1 47 47.3
DP (℃ ) 46.0 46 46 46 46.5
在組成物14之整個蒸餾中，沸騰溫度及組成保持恆定，指示t-DCE、HFE-7300、及MPHE之三元混合物之共沸行為。 實例 15. 組成物 15 的清潔有效度因數 (CEF) 分析
將組成物15（70% t-DCE、15% HFCP、及15% HFE-7200）傾析至1000 mL燒杯中，且使用熱板加熱至沸點(45.5℃)。將三片經預清潔之304不銹鋼試樣在分析天平上稱重（初始重量）。在各試樣的一個表面上施加一薄膜的各油脂或油，並用擦拭布將多餘的擦掉。然後各試樣經重新稱重以判定沾汙重量，隨後將其置於沸騰組成物的汽相中十分鐘。接著移除試樣並在重新稱重（清潔後重量）之前允許其乾燥並排氣十分鐘以判定該溶劑摻合物的清潔有效度因數。清潔分析之結果顯示於表24中並根據方程式1判定CEF。 方程式 1.CEF =（沾汙重量-清潔後重量）/（沾汙重量－初始重量）
表 24.
試片 汙染物 初始重量 (g) 沾汙重量 (g) 清潔後重量 (g) CEF （移除 % ）
1 MobilGrease 28 19.9935 20.211 19.994 99.8%
2 Chesterton AWC切削油 19.9927 20.0301 19.993 99.2%
3 DC-200聚矽氧油 19.9935 20.049 19.9939 99.3%
實例 16. 組成物 16 的清潔有效度因數 (CEF) 分析
使用不同污染物對組成物16（92% t-DCE、4% HFE-7300、及4% HFCP）重複實例15之程序，且結果列於下表25中。
表 25.
試片 汙染物 初始重量 (g) 沾汙重量 (g) 清潔後重量 (g) CEF （移除 % ）
1 來自Universal photonics的堆疊蠟#4 19.9947 20.151 19.9948 99.9%
2 礦物油 19.9948 20.0887 19.9948 100.0%
3 DC-44聚矽氧軸承油脂 19.9948 20.0518 19.9974 95.4%
如表24及表25中所示，此兩種三元組成物在僅使用一般用於蒸汽去脂的蒸氣相清潔來移除大範圍的油脂、油、及蠟皆非常有效。 其他實施例
1.在一些實施例中，本申請案提供一種組成物，其包含： i)    反式-1,2-二氯乙烯； ii)   第二組分，其係氫氟醚； iii)  第三組分，其選自氫氟碳化物及烷基全氟烯醚之化合物。
2.如實施例1之組成物，其中該組成物不進一步包含選自C 1-6醇、C 3-6酮、C 5-8烷烴、C 3-6環烷烴、及C 1-6乙酸烷酯之化合物。
3.如實施例1之組成物，其中該組成物不進一步包含選自甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、正己烷、環戊烷、及乙酸乙酯之化合物。
4.如實施例1至3中任一者之組成物，其係共沸物組成物。
5.如實施例1至3中任一者之組成物，其中該組成物係共沸物組成物。
6.如實施例1至5中任一者之組成物，其中該氫氟醚係選自HFE-7000、HFE-7100、HFE-7200、HFE-7300、及HFE-347pc-f。
7.如實施例1至5中任一者之組成物，其中該氫氟醚係選自HFE-7200及HFE-7300。
8.如實施例6或7之組成物，其中該組成物包含約5重量百分比至約45重量百分比的HFE-7200。
9.如實施例6或7之組成物，其中該組成物包含約1重量百分比至約30重量百分比的HFE-7300。
10.如實施例1至10中任一者之組成物，其中該第三組分係氫氟碳化物。
11.如實施例10之組成物，其中該氫氟碳化物係選自七氟環戊烷、五氟丁烷、及五氟丙烷。
12.如實施例10或11之組成物，其中該氫氟碳化物係選自1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷、1,1,1,3,3-五氟丁烷、及1,1,1,3,3-五氟丙烷。
13.如實施例10至12中任一項之組成物，其中該氫氟碳化物係1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
14.如實施例12或13之組成物，其中該組成物包含約1重量百分比至約30重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
15.如實施例1至10中任一項之組成物，其中該第三組分係烷基全氟烯醚。
16.如實施例15之組成物，其中該烷基全氟烯醚係甲基全氟庚烯醚。
17.如實施例16之組成物，其中該甲基全氟庚烯醚包含約50重量百分比的5-甲氧基全氟-3-庚烯、約20重量百分比的3-甲氧基全氟-3-庚烯、約20重量百分比的4-甲氧基全氟-2-庚烯、及約8重量百分比的4-甲氧基全氟-3-庚烯之混合物。
18.如實施例16或17之組成物，其中該組成物包含約1重量百分比至約5重量百分比的甲基全氟庚烯醚。
19.如實施例1至18中任一者之組成物，其中該組成物包含約65重量百分比至約98重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯。
20.如實施例1至7、9至14、及19中任一者之組成物，其中該組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7300、及七氟環戊烷。
21.如實施例1至7、9至14、19、及20中任一者之組成物，其中該組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7300、及1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
22.如實施例1至7、9至14、及19至21中任一者之組成物，其中該組成物包含： i)    約75重量百分比至約90重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約1重量百分比至約20重量百分比的HFE-7300；及 iii)  約1重量百分比至約20重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
23.如實施例1至7、10至14、及19中任一者之組成物，其中該組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7200、及七氟環戊烷。
24.如實施例1至7、10至14、19、及23中任一者之組成物，其中該組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7200、及1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
25.如實施例1至8、10至14、23、及24中任一者之組成物，其中該組成物包含： i)    約65重量百分比至約85重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約10重量百分比至約30重量百分比的HFE-7200；及 iii)  約1重量百分比至約15重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
26.如實施例1至7、9、及15至19中任一者之組成物，其中該組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7300、及甲基全氟庚烯醚。
27.如實施例1至7、9、15至19、及26中任一者之組成物，其中該組成物包含： i)    約75重量百分比至約90重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約5重量百分比至約20重量百分比的HFE-7300；及 iii)  約1重量百分比至約5重量百分比的甲基全氟庚烯醚。
28.如實施例1至7、9至14、及19至22中任一者之組成物，其包含： i)    約79重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約12重量百分比的HFE-7300；及 iii)  約9重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
29.如實施例1至8、10至14、19、及23至25中任一者之組成物，其包含： i)    約73重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約23重量百分比的HFE-7200；及 iii)  約4重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
30.如實施例1至8、10至14、19、及23至25中任一者之組成物，其包含： i)    約70重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約15重量百分比的HFE-7200；及 iii)  約15重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
31.在一些實施例中，本申請案進一步提供一種用於自基材之表面移除至少一部分的殘餘物之方法，其包含使該基材與如實施例1至30中任一者之組成物接觸。
32.如實施例31之方法，其中該組成物進一步包含推進劑。
33.如實施例32之方法，其中該推進劑係空氣、氮氣、二氧化碳、2,3,3,3-四氟丙烯、反式-1,3,3,3-四氟丙烯、1,2,3,3,3-五氟丙烯、二氟甲烷、三氟甲烷、二氟乙烷、三氟乙烷、四氟乙烷、五氟乙烷、碳氫化合物、二甲醚、或其任何混合物。
34.如實施例31至33中任一者之方法，其中該組成物進一步包含界面活性劑。
35.如實施例31至34中任一者之方法，其中所述接觸係藉由蒸氣去脂達成。
36.如實施例35之方法，其中藉由沸騰組成物以形成所述組成物之蒸氣，並將自基材表面的至少一部分殘餘物暴露至所述蒸氣來執行蒸氣去脂。
37.如實施例31至34中任一者之方法，其中所述接觸係藉由將該基材浸泡該組成物中來完成。
38.如實施例37之方法，其中該組成物係處於大於環境溫度或室溫之溫度下。
39.如實施例37之方法，其中該組成物係處於約該組成物之沸點的溫度下。
40.如實施例37至39中任一者之方法，進一步包含將該基材第二次浸泡在該組成物中，其中所述組成物係處於低於第一浸泡步驟之溫度的溫度下。
41.如實施例40之方法，其中在該第二浸泡步驟中的該組成物係處於環境溫度或室溫下。
42.如實施例31至41中任一者之方法，其中該基材係選自不鏽鋼及磁碟媒體。
43.如實施例31至42中任一者之方法，其中該殘餘物係選自助焊劑、潤滑劑、油脂、油、蠟、及其組合。
44.在一些實施例中，本申請案進一步提供一種用於溶解溶質之程序，其包含使該溶質與足量的如實施例1至30中任一者之組成物接觸並混合。
45.在一些實施例中，本申請案進一步提供一種清潔表面之程序，其包含使如實施例1至30中任一者之組成物與該表面接觸。
46.在一些實例中，本申請案進一步提供一種用於自經潤濕基材之表面移除至少一部分的水之程序，其包含使該基材與如實施例1至30中任一者之組成物接觸，然後移除該基材使其不與該組成物接觸。
47.如實施例46之程序，其中該組成物進一步包含至少一種適用於使該基材脫水或乾燥之界面活性劑。
48.在一些實施例中，本申請案進一步提供一種在表面上沉積氟潤滑劑之程序，其包含： a)    組合氟潤滑劑與溶劑以形成潤滑劑-溶劑組合，其中該溶劑包含如實施例1至30中任一者之組成物； b)   使該潤滑劑-溶劑組合與該表面接觸；及 c)    使該溶劑自該表面蒸發，以在該表面上形成氟潤滑劑塗層。
應當理解的是，雖然本發明已搭配其實施方式加以描述，但前面描述旨在說明而非限制本發明之範疇，本發明之範疇係由隨附申請專利範圍之範疇所定義。其他態樣、優點、及修改係在以下申請專利範圍之範疇內。本發明所屬（多個）技術領域中具有通常知識者應瞭解，本文中關於本發明之任何特定態樣及/或實施例所描述之任何特徵均可與本文所描述之本發明之任何其他態樣及/或實施例之任何其他特徵中之一或多者組合，且適宜地修改以確保組合之相容性。此類組合被視為由本揭露所設想之本發明的一部分。
無
無

Claims (48)

  1. 一種組成物，其包含： i)    反式-1,2-二氯乙烯； ii)   第二組分，其係氫氟醚； iii)  第三組分，其選自氫氟碳化物及烷基全氟烯醚之化合物。
  2. 如請求項1之組成物，其中該組成物不進一步包含選自C 1-6醇、C 3-6酮、C 5-8烷烴、C 3-6環烷烴、及C 1-6乙酸烷酯之化合物。
  3. 如請求項1之組成物，其中該組成物不進一步包含選自甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、正己烷、環戊烷、及乙酸乙酯之化合物。
  4. 如請求項1之組成物，其係共沸物組成物。
  5. 如請求項1之組成物，其係類共沸物組成物。
  6. 如請求項1之組成物，其中該氫氟醚係選自HFE-7000、HFE-7100、HFE-7200、HFE-7300、及HFE-347pc-f。
  7. 如請求項1之組成物，其中該氫氟醚係選自HFE-7200及HFE-7300。
  8. 如請求項7之組成物，其中該組成物包含約5重量百分比至約45重量百分比的HFE-7200。
  9. 如請求項7之組成物，其中該組成物包含約1重量百分比至約30重量百分比的HFE-7300。
  10. 如請求項1之組成物，其中該第三組分係氫氟碳化物。
  11. 如請求項10之組成物，其中該氫氟碳化物係選自七氟環戊烷、五氟丁烷、及五氟丙烷。
  12. 如請求項10之組成物，其中該氫氟碳化物係選自1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷、1,1,1,3,3-五氟丁烷、及1,1,1,3,3-五氟丙烷。
  13. 如請求項10之組成物，其中該氫氟碳化物係1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
  14. 如請求項13之組成物，其中該組成物包含約1重量百分比至約30重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
  15. 如請求項1之組成物，其中該第三組分係烷基全氟烯醚。
  16. 如請求項15之組成物，其中該烷基全氟烯醚係甲基全氟庚烯醚。
  17. 如請求項16之組成物，其中該甲基全氟庚烯醚包含約50重量百分比的5-甲氧基全氟-3-庚烯、約20重量百分比的3-甲氧基全氟-3-庚烯、約20重量百分比的4-甲氧基全氟-2-庚烯、及約8重量百分比的4-甲氧基全氟-3-庚烯之混合物。
  18. 如請求項16之組成物，其中該組成物包含約1重量百分比至約5重量百分比的甲基全氟庚烯醚。
  19. 如請求項1之組成物，其中該組成物包含約65重量百分比至約98重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯。
  20. 如請求項1之組成物，其中該組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7300、及七氟環戊烷。
  21. 如請求項1之組成物，其中該組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7300、及1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
  22. 如請求項1之組成物，其中該組成物包含： i)    約75重量百分比至約90重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約1重量百分比至約20重量百分比的HFE-7300；及 iii)  約1重量百分比至約20重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
  23. 如請求項1之組成物，其中該組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7200、及七氟環戊烷。
  24. 如請求項1之組成物，其中該組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7200、及1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
  25. 如請求項1之組成物，其中該組成物包含： i)    約65重量百分比至約85重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約10重量百分比至約30重量百分比的HFE-7200；及 iii)  約1重量百分比至約15重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
  26. 如請求項1之組成物，其中該組成物包含反式-1,2-二氯乙烯、HFE-7300、及甲基全氟庚烯醚。
  27. 如請求項1之組成物，其中該組成物包含： i)    約75重量百分比至約90重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約5重量百分比至約20重量百分比的HFE-7300；及 iii)  約1重量百分比至約5重量百分比的甲基全氟庚烯醚。
  28. 如請求項1之組成物，其包含： i)    約79重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約12重量百分比的HFE-7300；及 iii)  約9重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
  29. 如請求項1之組成物，其包含： i)    約73重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約23重量百分比的HFE-7200；及 iii)  約4重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
  30. 如請求項1之組成物，其包含： i)    約70重量百分比的反式-1,2-二氯乙烯； ii)   約15重量百分比的HFE-7200；及 iii)  約15重量百分比的1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷。
  31. 一種用於自基材之表面移除至少一部分的殘餘物之方法，其包含使該基材與如請求項1之組成物接觸。
  32. 如請求項31之方法，其中該組成物進一步包含推進劑。
  33. 如請求項32之方法，其中該推進劑係空氣、氮氣、二氧化碳、2,3,3,3-四氟丙烯、反式-1,3,3,3-四氟丙烯、1,2,3,3,3-五氟丙烯、二氟甲烷、三氟甲烷、二氟乙烷、三氟乙烷、四氟乙烷、五氟乙烷、碳氫化合物、二甲醚、或其任何混合物。
  34. 如請求項33之方法，其中該組成物進一步包含界面活性劑。
  35. 如請求項33之方法，其中該接觸係藉由蒸氣去脂達成。
  36. 如請求項35之方法，其中藉由沸騰該組成物以形成該組成物之蒸氣，並將自該基材表面的至少一部分殘餘物暴露至該蒸氣來執行該蒸氣去脂。
  37. 如請求項31之方法，其中所該接觸係藉由將該基材浸泡該組成物中來完成。
  38. 如請求項37之方法，其中該組成物係處於大於環境溫度或室溫之溫度下。
  39. 如請求項37之方法，其中該組成物係處於約該組成物之沸點的溫度下。
  40. 如請求項37之方法，進一步包含將該基材第二次浸泡在該組成物中，其中該組成物係處於低於該第一浸泡步驟之溫度的溫度下。
  41. 如請求項40之方法，其中在該第二浸泡步驟中的該組成物係處於環境溫度或室溫下。
  42. 如請求項31之方法，其中該基材係選自不鏽鋼及磁碟媒體。
  43. 如請求項31之方法，其中該殘餘物係選自助焊劑、潤滑劑、油脂、油、蠟、及其組合。
  44. 一種用於溶解溶質之程序，其包含使該溶質與足量的如請求項1之組成物接觸並混合。
  45. 一種清潔表面之程序，其包含使如請求項1之組成物與該表面接觸。
  46. 一種用於自經潤濕基材之表面移除至少一部分的水之程序，其包含使該基材與如請求項1之組成物接觸，然後移除該基材使其不與該組成物接觸。
  47. 如請求項46之程序，其中該組成物進一步包含至少一種適用於使該基材脫水或乾燥之界面活性劑。
  48. 一種在表面上沉積氟潤滑劑之程序，其包含： a)    組合氟潤滑劑與溶劑以形成潤滑劑-溶劑組合，其中該溶劑包含如請求項1之組成物； b)   使該潤滑劑-溶劑組合與該表面接觸；及 c)    使該溶劑自該表面蒸發，以在該表面上形成氟潤滑劑塗層。
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