TW202315850A - 具有減少霧度之可熱處理塗層 - Google Patents

Abstract

一塗覆物件包括具有第一表面和第二表面的基體以及施加在該表面上的功能塗層。功能塗層包括在基體之至少一部分上的基底層；在基底層之至少一部分上的金屬層；以及在金屬層之至少一部分上的頂層。基底層包括在基體之至少一部分上的由氧化錫構成的第一膜及覆蓋第一膜的整個部分的第二膜。亦提供製造塗覆物件的方法、減少散射中心形成的方法及減少紅霧度形成的方法。

Description

具有減少霧度之可熱處理塗層

相關申請案的交互參照

本申請案主張2021年10月11日提申的美國臨時申請案第63/254,237號和2022年9月28日提申的美國專利申請案第17/954,441號的優先權，其揭示內容以參照方式整體併入。 發明領域

本發明關於一種基底層，更尤其關於一種具有第一氧化錫膜的基底層，以防止鹼金屬離子、鹼土金屬離子和金屬離子，例如鈉離子和鋅離子從玻璃基體擴散至介質(比如塗層，例如陽光控制塗層)內或從介質(比如塗層，例如陽光控制塗層)擴散至玻璃基體內。

發明背景 技術考量

陽光控制塗層在建築和車輛透明體領域是已知的。這些陽光控制塗層阻擋或過濾選定範圍的電磁輻射，例如在太陽紅外線或太陽紫外線輻射範圍內，以減少進入車輛或建築物的太陽能的量。此太陽能透射率的降低有助於減少車輛或建築物的冷卻單元的負載。

這些陽光控制塗層通常包括一個或多個連續金屬層以提供太陽能反射，尤其是在太陽紅外線區。沉積在臨界厚度以下的金屬層(本案稱為「亞臨界層」)形成不連續區域、島或互連島，島與島之間有未覆蓋區域而不是連續層。這些不連續層經由已知為表面電漿共振的效應吸收電磁輻射。這些亞臨界層通常在可見光區具有比相同材料的連續層更高的吸收率，亦具有更低的太陽能反射率。

在加熱具有陽光控制塗層的塗覆物件時，由於陽光控制塗層之層的光學性質和形態的變化，會出現非所欲的霧度。期望的是製造一種陽光控制塗層，其中塗層的吸收及/或塗覆物件的顏色在加熱前及加熱後可保持。

發明概要

本發明關於一種包含一基體之塗覆物件。基體包含第一表面及與第一表面相對的第二表面。在第一表面之至少一部分上施加功能塗層。功能塗層包含：在第一表面之至少一部分上的基底層；在該基底層之至少一部分上的一金屬層；以及在金屬層之至少一部分上的頂層。基底層包含與第一表面的該部分直接接觸的包含氧化錫的第一膜及覆蓋第一膜的整個部分的第二膜。

本發明亦關於一種在塗覆物件的金屬層中減少散射中心形成的方法。提供了包含第一表面及與第一表面相對的第二表面的基體。在第一表面之至少一部分上的基底層；在基底層之至少一部分上形成金屬層。在金屬層之至少一部分上的頂層。藉此形成塗覆物件。基底層包含與第一表面的該部分直接接觸的包含氧化錫的第一膜及覆蓋第一膜的整個部分的第二膜。將塗覆物件加熱到大於或等於1,185°F的溫度。在加熱到大於或等於1,185°F的溫度後，在塗覆物件的金屬層中已減少散射中心形成。

本發明亦關於一種降低塗覆物件的紅霧度的方法。提供了包含第一表面及與第一表面相對的第二表面的基體。在第一表面之至少一部分上的基底層；在基底層之至少一部分上形成金屬層。在金屬層之至少一部分上的頂層。藉此形成塗覆物件。基底層包含在第一表面的該部分之至少一部分上的包含氧化錫的第一膜及覆蓋第一膜的整個部分的第二膜。將塗覆物件加熱到大於或等於1,185°F的溫度。加熱到大於或等於1,185°F的溫度後，塗覆物件已降低紅霧度。

本發明亦關於一種絕緣玻璃單元，其包含了包含1號表面及與1號表面相對的2號表面的第一夾層以及包含3號表面及4號表面的第二夾層。第二夾層與第一夾層隔開。第一夾層與第二夾層連接在一起。在2號表面或3號表面上施加功能塗層。功能塗層包含：在2號表面或3號表面之至少一部分上的基底層；在該基底層之至少一部分上的一金屬層；以及在金屬層之至少一部分上的頂層。基底層包含與2號表面或3號表面的該部分直接接觸的包含氧化錫的第一膜及覆蓋第一膜的整個部分的第二膜。

本發明亦關於一種製造塗覆物件的方法。提供了包含第一表面及與第一表面相對的第二表面的基體。在第一表面之至少一部分上形成基底層。在基底層之至少一部分上形成金屬層。在金屬層之至少一部分上形成頂層。基底層包含與第一表面的該部分直接接觸的包含氧化錫的第一膜及覆蓋第一膜的整個部分的第二膜。

本發明亦關於一種擋風玻璃，其包含了包含1號表面及與1號表面相對的2號表面的第一夾層以及包含3號表面及4號表面的第二夾層。第二夾層與第一夾層隔開。第一夾層與第二夾層藉由中間層連接在一起。在2號表面或3號表面上施加功能塗層。功能塗層包含：在2號表面或3號表面之至少一部分上的基底層；在該基底層之至少一部分上的一金屬層；以及在金屬層之至少一部分上的頂層。基底層包含與2號表面或3號表面的該部分直接接觸的包含氧化錫的第一膜及覆蓋第一膜的整個部分的第二膜。

本發明亦關於一種減少塗覆物件內的金屬離子遷移的方法。提供了包含第一表面及與第一表面相對的第二表面的玻璃基體。在第一表面之至少一部分上的基底層；在基底層之至少一部分上形成金屬層。在金屬層之至少一部分上的頂層。藉此形成塗覆物件。基底層包含與第一表面的該部分直接接觸的包含氧化錫的第一膜及覆蓋第一膜的整個部分的第二膜。將塗覆物件加熱到大於或等於1,185°F的溫度。加熱到大於或等於1,185°F的溫度後，塗覆物件已降低紅霧度。

發明說明

如本案所用，例如「左」、「右」、「內」、「外」、「上」、「下」等的空間或方向術語係關於附圖中所示的本發明。然而，應當理解，本發明可採用各種替代取向，據此，此類術語不應被認為是限制性的。此外，如本案所用，在說明書和申請專利範圍使用的所有表達尺寸、物理特性、加工參數、成分的量、反應條件等的數字應理解為在所有情況下由術語「約」修飾。據此，除非有相反指示，在以下說明書和申請專利範圍列出的數值可取決於本發明尋求獲得的所欲特性而變化。最起碼，而非試圖將等效論的應用限制在請求項的範圍內，每個數值至少應依照所報告的有效位數的數量並藉由應用普通的捨入技術來解讀。而且，本案揭示的所有範圍應理解為涵蓋開始和結束範圍值以及其中所納入的任何和所有子範圍。舉例來說，「1至10」的陳述範圍應被認為包括最小值1(包括在內)和最大值10(包括在內)之間的任何和所有子範圍；即，所有的子範圍都以1或更大的最小值開始並以10或更小的最大值結束，比如1至3.3、4.7至7.5、5.5至10等。「一(A)」或「一(an)」是指一個或多個。

此外，如本案所用，術語「形成於上」、「沉積於上」或「設置於上」意指形成、沉積或設置於之上但不一定與表面接觸。舉例來說，「形成在」基體「上」的塗層不排除位於形成的塗層和基體之間的具有相同或不同組成的一個或多個其他塗層或膜的存在。另外，本案提及的所有文件，例如但不限於已頒佈證書的專利和專利申請案，均應視為以其整體「藉由參照方式併入」。如本案所用，術語「膜」是指所欲或所選塗層組成物的塗覆區域。「層」可包含一個或多個「膜」，「塗層」或「塗層堆疊」可包含一個或多個「層」。術語「非對稱反射率」意指一側的塗層的可見光反射率不同於相對側的塗層的可見光反射率。術語「臨界厚度」意指一厚度，在該厚度以上，塗層材料形成連續的、不間斷的層，而在該厚度以下，該塗層材料形成不連續區域或該塗層材料的島而不是連續的層。術語「亞臨界厚度」意指臨界厚度以下的一厚度，俾使塗層材料形成該塗層材料的孤立的、非連接區域。術語「島狀」意指塗層材料不是連續層，而是該材料經沉積以形成孤立的區域或島。

出於以下討論的目的，本案所述之塗覆物件可參考與建築透明體一起使用來討論，例如但不限於絕緣玻璃單元(IGU)。如本案所用，術語「建築透明體」是指位於建築物上的任何透明體，例如但不限於窗戶和天窗。然而，應理解的是，本案所述之塗覆物件不限於與此類建築透明體一起使用，而是可在任何所欲領域中與透明體一起施用，例如但不限於層壓或非層壓的住宅及/或商用窗戶、絕緣玻璃單元及/或用於陸地、空中、太空、水上和水下載具的透明體。在一個態樣或實施方式中，如本案所述之塗覆物件是用於車輛的透明體，例如窗戶或天窗。因此，應當理解，特定揭示的例示性態樣或實施方式僅用於解釋本發明的一般概念，本發明並不限於這些特定的例示性實施方式。此外，雖然典型的「透明體(transparency)」可具有足夠的可見光透射率，俾使可經由該透明體察看材料，但「透明體」不必對可見光透明，而是可為半透明或不透明的。也就是說，「透明的」意指具有大於0%直至100%的可見光透射率。

結合本發明特徵的非限制性透明體10係例示於圖1。透明體10可具有任何所欲的可見光、紅外線輻射或紫外線輻射透射及/或反射。

圖1的例示性透明體10是常規絕緣玻璃單元的形式且包括具有第一主表面14 (1號表面)和相對的第二主表面16 (2號表面)的第一夾層12。在例示的非限制性實施方式中，第一主表面14面向建築物外部，即，是外部主表面，而第二主表面16面向建築物的內部。透明體10亦包括具有內(第一)主表面20 (3號表面)與外(第二)主表面22 (4號表面)並與第一夾層12隔開的第二夾層18。在一些實施方式中，絕緣玻璃單元包括具有第一主表面(5號表面)和相對的第二主表面(6號表面)的第三夾層。夾層表面的此編號與開窗技術中的常規實踐一致。第一夾層12和第二夾層18可以任何合適的方式連接，例如藉由黏合到常規的間隔框架24。在兩個夾層12、18之間形成間隙或腔室26。腔室26可填充有選定的大氣，例如空氣，或非反應性氣體，例如氬氣或氪氣。塗層30 (或下文描述的任何其他塗層)係形成在1號表面14之至少一部分或2號表面16之至少一部分或3號表面20之至少一部分或4號表面22之至少一部分或5號表面之至少一部分或6號表面之至少一部分上。塗層30 (或下文描述的任何其他塗層)係形成在2號表面16之至少一部分或3號表面20之至少一部分上。絕緣玻璃單元的實例可在，舉例來說，美國專利號4,193,228；4,464,874；5,088,258與5,106,663找到。

在一些實施方式中，可將塗層施加到單片式玻璃窗(monolithic glazing)的表面。「單片式(monolithic)」意指具有單一結構支撐件或結構構件，比如具有單一基體。圖2的例示性透明體是用於車輛的常規單片式透明體110的形式，例如窗戶或天窗。為清晰起見，沒有顯示密封件、連接器和開啟機構，也沒有顯示完整的車輛。透明體包括具有第一主表面114 (1號表面)和相對的第二主表面116 (2號表面)的第一夾層112，其安裝在車輛118的車體(部分顯示)。在例示的非限制性實施方式中，第一主表面114面向車輛的外部，因此是外部主表面，而第二主表面116面向車輛的內部。車體的非限制性實例包括：在天窗的情況下的汽車車頂、在汽車窗戶的情況下的汽車門或框架、或飛機的機身。如車輛領域中廣為人知的，透明體可固定到可打開和關閉透明體，例如車窗或天窗的機構。塗層130或本案所述的任何其他塗層顯示為形成在1號表面114上，其可形成在2號表面116之至少一部分上。

如圖3所見，透明體410可為擋風玻璃，該擋風玻璃包括第一夾層或第一基體412，其具有面向車輛外部的第一主表面414 (1號表面)，即外主表面414 (1號表面)和相對的第二或內主表面416 (2號表面)。擋風玻璃透明體410亦包括具有外(第一)主表面422 (4號表面)和內(第二)主表面420 (3號表面)的第二夾層或第二基體418。夾層表面的此編號與汽車技術中的常規實踐一致。第一夾層412和第二夾層418可以任何合適的方式結合在一起，例如藉由常規間層25。儘管不是必需的，但是可在層壓期間及/或之後以任何所欲的方式將常規邊緣密封劑施加到層壓透明體410的周邊。裝飾帶，比如不透明、半透明或有色陰影帶27，例如陶瓷帶可設置在夾層412、418中的至少一者的表面上，舉例來說，圍繞第一夾層412的內主表面416的周邊。功能塗層430或本案所述的任何其他塗層係形成在夾層412、418中一者之至少一部分上，例如在2號表面416或3號表面420上。

在圖3例示的非限制性實施方式中，匯流排組件包括形成在外夾層412的內表面416上並由匯流排至匯流排距離D隔開的第一或底部匯流排96與第二或頂部匯流排98。匯流排96、98與功能塗層430電接觸。在本發明的一個非限制性實施方式中，匯流排96、98可至少部分地或完全地定位在裝飾帶27上，如圖3所示。

在本發明的廣泛實踐中，透明體10、110、410的夾層12、18、112、412、418可為相同或不同的材料。夾層12、18、112、412、418可包括具有任何所欲特性的任何所欲材料。舉例來說，夾層12、18、112、412、418中的一或多者對於可見光可為透明的或半透明的。「透明的」意指具有大於0%直至100%的可見光透射率。或者，夾層12、18、112、412、418中的一或多者可為半透明的。「半透明」意指允許電磁能(比如可見光)通過但擴散此能量，俾使在與觀察者相對之側上的物體不清晰可見。合適材料的例子包括但不限於塑料基體(例如丙烯酸類聚合物，例如聚丙烯酸酯；聚甲基丙烯酸烷基酯，例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丙酯等；聚胺基甲酸酯；聚碳酸酯；聚對苯二甲酸烷基酯，例如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對苯二甲酸丙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯等；含聚矽氧烷的聚合物；或用於製備該等之任何單體的共聚物，或其任何混合物)；陶瓷基體；玻璃基體；或上述之任何混合物或組合。舉例來說，夾層12、18、112、412、418中的一或多者可包括常規的鈉鈣矽酸鹽玻璃、硼矽酸鹽玻璃或含鉛玻璃。玻璃可為清玻璃。「清玻璃」是指非著色或非彩色玻璃。或者，玻璃可為有色或以其他方式著色的玻璃。玻璃可為經退火或熱處理的玻璃。如本案所用，術語「熱處理」是指回火或至少部分回火。玻璃可為任何類型，例如常規浮法玻璃，並可為具有任何光學性質，比如可見光透射、紫外線透射、紅外線透射及/或總太陽能透射之任何值的任何組成物。「浮法玻璃」是指藉由常規浮法製程形成的玻璃，其中使熔融玻璃沉積到熔融金屬浴上並可控地冷卻以形成浮法玻璃條帶。浮法玻璃製程的實例揭示於美國專利號4,466,562和4,671,155。

夾層12、18、112、412、418可各自包含，舉例來說，清浮法玻璃或可為有色或著色玻璃，或者一個夾層12、18、412、418可為清玻璃，而另一個夾層12、18、412、418是著色玻璃。儘管是非限制性的，但適用於第一夾層12、412及/或第二夾層18、418的玻璃的實例係描述於美國專利號4,746,347；4,792,536；5,030,593；5,030,594；5,240,886；5,385,872及5,393,593。夾層12、18、112、412、418可具有任何所欲尺寸，比如長度、寬度、形狀或厚度。在一個例示性汽車透明體中，第一夾層與第二夾層可各自為1 mm至10 mm厚，例如1 mm至8 mm厚，例如2 mm至8 mm，例如3 mm至7 mm，例如5 mm至7 mm，例如6 mm厚。

在本案所述之塗覆物件的非限制性實施方式中，本發明的塗層30、130、430係沉積在玻璃夾層12、18、112、412、418中一者的至少一個主表面之至少一部分上。在根據圖1的實施例中，塗層30形成在內側玻璃夾層18的內表面20之至少一部分上；另外或替代地，應當理解，在與本揭示一致的非限制性實施例中，陽光控制塗層可形成在內側玻璃夾層18的外表面22之至少一部分上。如本案所用，術語「陽光控制塗層」是指由一個或多個層或膜組成的塗層，其影響塗覆物件的太陽光性能，例如但不限於陽光輻射的量，舉例來說，從塗覆物件反射、吸收或通過的可見、紅外線或紫外線輻射；遮光係數；輻射率等。陽光控制塗層30可阻擋、吸收或過濾太陽光譜的選定部分，例如但不限於IR、UV及/或可見光譜。

本案所述的塗層，例如陽光控制塗層30、130、430可藉由任何有用的方法沉積，例如但不限於常規化學氣相沉積(CVD)及/或物理氣相沉積(PVD)方法。CVD製程的實例包括噴霧熱解。PVD製程的實例包括電子束蒸發和真空濺鍍(例如磁控濺鍍氣相沉積(MSVD))。也可使用其他塗覆方法，例如但不限於溶膠-凝膠沉積、縫模塗覆沉積或印刷沉積，例如絲網印刷或噴墨印刷。在一個非限制性實施方式中，塗層30、130、430係藉由MSVD沉積。MSVD塗覆裝置和方法的實例將被本領域中具通常知識者充分理解並描述於，舉例來說，美國專利號4,379,040；4,861,669；4,898,789；4,898,790；4,900,633；4,920,006；4,938,857；5,328,768及5,492,750。

塗覆物件包含基體210。基體210可包括任何所欲的特性，並具有任何所欲的厚度。基體210可包含任何合適的透明的材料或若干材料，例如舉例來說，但不限於在以上夾層12、18、112、412及418的上下文中所述的聚合物、玻璃及/或陶瓷基體。在非限制性範例中，基體210可包含如上述參照圖1、2或3所示的夾層12、18、112、412、418的玻璃基體。然而，應當理解，本發明也可應用於其他基體，例如太陽能電池中使用的基體。

功能塗層30、130、430可包括透明導電氧化物(TCO)，舉例來說但不限於，如美國專利申請案公開號2019/0043640所揭示者。功能塗層30、130、430可包括如美國專利申請案公開號2017/0341977、2014/0272453、2011/0228715及/或美國專利申請案號15/669,414之任一者所述堆疊或其任何部分。

塗層30、130、430可為單一金屬塗層31、131、231 (比如一個金屬層)或雙重金屬塗層32、132、232 (比如兩個金屬層)或三重金屬塗層33、133、233 (比如三個金屬層)或四重金屬塗層34、134、234 (比如四個金屬層)。適用於單一金屬塗層31、131、231的例示性非限制性塗層係如圖4A-4C所示。適用於雙重金屬塗層32、132、232的例示性非限制性塗層係如圖5A-5C所示。適用於三重金屬塗層33、133、233的例示性非限制性塗層係如圖6A-6C所示。適用於四重金屬塗層34、134、234的例示性非限制性塗層係如圖7A-7C所示。

如圖4A所示，例示性塗層30、130、430包括一個金屬層(即單一金屬塗層31、131、231)。單一金屬塗層31、131、231包括位於基體210上並與基體210直接接觸的基底層220 (比如單片式物件中的基體的第一表面；或在IGU的情況下，第一夾層12的2號表面16或第二夾層18的3號表面20；或在擋風玻璃的情況下，第一夾層412的2號表面416或第二夾層418的3號表面420)。基底層220可位於一部分或整個基體210上並與一部分或整個基體210直接接觸(比如單片式物件中的基體的第一表面；或在IGU的情況下，第一夾層12的2號表面16或第二夾層18的3號表面20；或在擋風玻璃的情況下，第一夾層412的2號表面416或第二夾層418的3號表面420)。金屬層228位於基底層220之至少一部分上或與基底層220之至少一部分直接接觸。可選的第一底漆層230可位於金屬層228之至少一部分上或與金屬層228之至少一部分直接接觸。頂層300位於可選的第一底漆層230或金屬層228之至少一部分上或與第一底漆層230或金屬層228之至少一部分直接接觸。可選的最外部保護塗層320可位於頂層300之至少一部分上或與頂層300之至少一部分直接接觸。

如圖5A所示，例示性塗層30、130、430包括兩個金屬層(即雙重金屬塗層32、132、232)。雙重金屬塗層32、132、232包括位於基體210上並與基體210直接接觸的基底層220 (比如單片式物件中的基體的第一表面；或在IGU的情況下，第一夾層12的2號表面16或第二夾層18的3號表面20；或在擋風玻璃的情況下，第一夾層412的2號表面416或第二夾層418的3號表面420)。基底層220可位於一部分或整個基體210上並與一部分或整個基體210直接接觸(比如單片式物件中的基體的第一表面；或在IGU的情況下，第一夾層12的2號表面16或第二夾層18的3號表面20；或在擋風玻璃的情況下，第一夾層412的2號表面416或第二夾層418的3號表面420)。金屬層228位於基底層220之至少一部分上或與基底層220之至少一部分直接接觸。可選的第一底漆層230可位於金屬層228之至少一部分上或與金屬層228之至少一部分直接接觸。第一中間層240位於可選的第一底漆層230或金屬層228之至少一部分上。第二金屬層248位於第一中間層240之至少一部分上或與第一中間層240之至少一部分直接接觸。可選的第二底漆層250位於第二金屬層248之至少一部分上或與第二金屬層248之至少一部分直接接觸。頂層300位於可選的第二底漆層250或第二金屬層248之至少一部分上或與第二底漆層250或第二金屬層248之至少一部分直接接觸。可選的最外部保護塗層320可位於頂層300之至少一部分上或與頂層300之至少一部分直接接觸。

如圖6A所示，例示性塗層30、130、430包括三個金屬層(即三重金屬塗層33、133、233)。三重金屬塗層33、133、233包括位於基體210上並與基體210直接接觸的基底層220 (比如單片式物件中的基體的第一表面；或在IGU的情況下，第一夾層12的2號表面16或第二夾層18的3號表面20；或在擋風玻璃的情況下，第一夾層412的2號表面416或第二夾層418的3號表面420)。基底層220可位於一部分或整個基體210上並與一部分或整個基體210直接接觸(比如單片式物件中的基體的第一表面；或在IGU的情況下，第一夾層12的2號表面16或第二夾層18的3號表面20；或在擋風玻璃的情況下，第一夾層412的2號表面416或第二夾層418的3號表面420)。金屬層228位於基底層220之至少一部分上或與基底層220之至少一部分直接接觸。可選的第一底漆層230可位於金屬層228之至少一部分上或與金屬層228之至少一部分直接接觸。第一中間層240位於可選的第一底漆層230或金屬層228之至少一部分上。第二金屬層248位於第一中間層240之至少一部分上或與第一中間層240之至少一部分直接接觸。可選的第二底漆層250位於第二金屬層248之至少一部分上或與第二金屬層248之至少一部分直接接觸。第二中間層260位於可選的第二底漆層250或第二金屬層248之至少一部分上或與第二底漆層250或第二金屬層248之至少一部分直接接觸。第三金屬層268位於第二中間層260之至少一部分上或與第二中間層260之至少一部分直接接觸。可選的第三底漆層270位於第三金屬層268之至少一部分上或與第三金屬層268之至少一部分直接接觸。頂層300位於可選的第三底漆層270或第三金屬層268之至少一部分上或與第三底漆層270或第三金屬層268之至少一部分直接接觸。可選的最外部保護塗層320可位於頂層300之至少一部分上或與頂層300之至少一部分直接接觸。

如圖7A所示，例示性塗層30、130、430包括四個金屬層(即四重金屬塗層34、134、234)。四重金屬塗層34、134、234包括位於基體210上並與基體210直接接觸的基底層220 (比如單片式物件中的基體的第一表面；或在IGU的情況下，第一夾層12的2號表面16或第二夾層18的3號表面20；或在擋風玻璃的情況下，第一夾層412的2號表面416或第二夾層418的3號表面420)。基底層220可位於整個基體210上並與整個基體210直接接觸(比如單片式物件中的基體的第一表面；或在IGU的情況下，第一夾層12的2號表面16或第二夾層18的3號表面20；或在擋風玻璃的情況下，第一夾層412的2號表面416或第二夾層418的3號表面420)。金屬層228位於基底層220之至少一部分上或與基底層220之至少一部分直接接觸。可選的第一底漆層230可位於金屬層228之至少一部分上或與金屬層228之至少一部分直接接觸。第一中間層240位於可選的第一底漆層230或金屬層228之至少一部分上。第二金屬層248位於第一中間層240之至少一部分上或與第一中間層240之至少一部分直接接觸。可選的第二底漆層250位於第二金屬層248之至少一部分上或與第二金屬層248之至少一部分直接接觸。第二中間層260位於可選的第二底漆層250或第二金屬層248之至少一部分上或與第二底漆層250或第二金屬層248之至少一部分直接接觸。第三金屬層268位於第二中間層260之至少一部分上或與第二中間層260之至少一部分直接接觸。可選的第三底漆層270位於第三金屬層268之至少一部分上或與第三金屬層268之至少一部分直接接觸。第三中間層280位於可選的第三底漆層270或第三金屬層268之至少一部分上或與第三底漆層270或第三金屬層268之至少一部分直接接觸。第四金屬層288位於第三中間層280之至少一部分上或與第三中間層280之至少一部分直接接觸。可選的第四底漆層290位於第四金屬層288之至少一部分上或與第四金屬層288之至少一部分直接接觸。頂層300位於可選的第四底漆層290或第四金屬層288之至少一部分上或與第四底漆層290或第四金屬層288之至少一部分直接接觸。可選的最外部保護塗層320可位於頂層300之至少一部分上或與頂層300之至少一部分直接接觸。

本案所述的任何金屬層可為連續的或不連續的。

本發明的例示性非限制性功能塗層30、130、430顯示於圖4A-4C、5A-5C、6A-6C及7A-7C。此功能塗層30、130、430包括位於基體210上並與基體210直接接觸的基底層220。基底層220包括防止鋅、鈉、鈣、鎂、鹼金屬元素、鹼土元素或其組合擴散的第一膜222。如圖4B-4C、5B-5C、6B-6C及7B-7C所示，基底層220包括位於基體210上並與基體210直接接觸的第一膜222及位於第一膜上並與第一膜直接接觸的第二膜224，俾使第二膜224不接觸基體210。

功能塗層30、130、430包含位於基體上並與基體直接接觸的基底層220。基底層220包括位於基體210上並與基體210直接接觸的第一膜222及位於整個第一膜222上並與整個第一膜222直接接觸的第二膜224。第一膜222可位於一部分基體或整個基體210上並與一部分基體或整個基體210直接接觸。第二膜222不接觸基體210。基底層220可對可見光是透明的。

基底層220的第一膜222是包含氧化錫的膜。氧化錫可在氧氣(O ₂)環境中從錫靶或包含其他材料以改善靶之濺鍍特性的錫靶沉積。舉例來說，O ₂流速(即在用於沉積材料的腔室的大氣中的O ₂濃度)可高達80%的O ₂，例如80%的O ₂、75%的O ₂或70%的O ₂。大氣的其餘部分可為惰性氣體，例如氬氣。氧化錫可藉由磁控濺鍍真空沉積從錫靶或錫鋅靶獲得。舉例來說，錫靶可包括少量(比如至多20 wt.%、至多15 wt.%、至多10 wt.%或至多5 wt.%)的鋅。在該情況下，所得的氧化錫膜將包括小百分比的氧化鋅，比如至多20 wt.%的氧化鋅，比如至多10 wt.%的氧化鋅，比如至多5 wt.%的氧化鋅。由具有至多0 wt.%至20 wt.%鋅的錫靶沉積的塗層在本案被稱作「氧化錫膜」。基底層220的第一膜222可為氧化錫膜，其中錫實質上是第一膜222中唯一的金屬。如本案所用，「實質上不含」意指氧化錫膜含有少於0.5 wt.%的除錫以外的其他金屬。氧化錫膜222可包括80 wt.%的氧化錫和20 wt.%的氧化鋅。氧化錫-鋅膜222可包括90%的氧化錫和10 wt.%的氧化鋅。

基底層220的第一膜222可包含自10 nm至45 nm，例如自15 nm至40 nm，例如自20 nm至35 nm，例如自22至30 nm的總厚度。

基底層220的第二膜224可包含抗反射材料及/或介電材料，例如但不限於金屬氧化物、金屬合金的氧化物、氮化物、氧氮化物或其混合物。用於基底層220的第二膜224的合適金屬氧化物的實例包括鈦、鉿、鋯、鈮、鋅、鉍、鉛、銦、錫、鋁、矽的氧化物及其混合物。該等金屬氧化物可含有少量的其他材料，例如氧化鉍中的錳、氧化銦中的錫等。此外，可使用金屬合金或金屬混合物的氧化物，例如含有鋅和錫的氧化物(比如錫酸鋅，定義如下)、銦錫合金的氧化物、含鋅和鋁的氧化物、氮化矽、氮化矽鋁或氮化鋁。此外，可使用摻雜的金屬氧化物，例如銻或銦摻雜的氧化錫或是鎳或硼摻雜的氧化矽。

基底層220的第二膜224可為鋅/錫合金氧化物。「鋅/錫合金氧化物」意指真正的合金和氧化物的混合物。可從包括其他材料的鋅靶沉積氧化鋅，以改善靶的濺鍍特性。因此，鋅/錫合金氧化物可從鋅和錫的靶以磁控濺鍍真空沉積獲得。舉例來說，鋅靶可包括少量(比如至多20 wt.%、至多15 wt.%、至多10 wt.%或至多5 wt.%)的錫，以改善濺鍍。在該情況下，所得的氧化鋅膜將包括小百分比的氧化錫，比如至多10 wt.%的氧化錫，比如至多5 wt.%的氧化錫。即使可能存在少量錫，由具有至多10 wt.%錫(被添加以增強靶的導電性)的鋅靶所沉積的塗層在本案稱作「氧化鋅膜」。一非限制性靶可包含鋅及錫，其比例為自5 wt.%至95 wt.%的鋅及自95 wt.%至5 wt.%的錫，例如自10 wt.%至90 wt.%的鋅及自從90 wt.%至10 wt.%的錫。然而，也可使用鋅與錫的其他比例。

基底層220的第二膜224可包含氧化鋅膜或氧化鋁鋅膜(Al _xZn _1-x氧化物)。「鋁/鋅合金氧化物」意指真正的合金和氧化物的混合物。因此，鋁/鋅合金氧化物可從鋅和鋁的靶以磁控濺鍍真空沉積獲得且可包括少量(比如小於10 wt.%，例如大於0至5 wt.%)的錫，以改善濺鍍。在該情況下，所得的氧化鋁鋅膜將包括小百分比的氧化錫，比如0 wt.%至小於10 wt.%，比如0 wt.%至5 wt.%的氧化錫。基底層220的第二膜224可包含Al _xZn _1-x氧化物，其中x係於1 wt.%至25 wt.%的範圍內，例如1 wt.%至15 wt.%，例如1 wt.%至10 wt.%，例如2 wt.%至5 wt.%。在一個非限制性實施方式中，x為3 wt.%。

基底層220的第二膜224可包含自5 nm至20 nm，例如自8 nm至20 nm，例如自10 nm至15 nm的總厚度。

基底層220的第一膜222包含位於基體210上並與基體210直接接觸的氧化錫，而基底層220的第二膜224含括位於第一膜222上並與第一膜222直接接觸的氧化鋅，俾使第二膜224不接觸基體210。

基底層220可包含三個膜。基底層220包括位於基體210上並與基體210直接接觸的第一膜222、位於整個第一膜222上並與整個第一膜222直接接觸的第二膜224及位於整個第二膜224上並與整個第二膜224直接接觸的第三膜。

基底層222的第一膜222包含位於基體210上並與基體210直接接觸的氧化錫，第二膜224包含位於第一膜222上並與第一膜222直接接觸的錫酸鋅，俾使第二膜224不接觸基體210，以及第三膜包含位於第二膜224上並與第二膜224直接接觸的氧化鋅。

基底層220可包含自20 nm至50 nm，例如自25 nm至45 nm，例如自30 nm至45 nm的總厚度(比如第一和第二膜222、224的合併厚度)。

金屬層228可沉積在基底層220之至少一部分上。金屬層228可包括反射金屬，例如但不限於金屬金、銅、鈀、鋁、銀或其混合物、合金或組合。在一個實施方式中，金屬層228包含金屬銀層。金屬層228是連續層。「連續層」意指塗層形成材料的連續膜而不是孤立的塗層區域。

第一金屬層228可具有自5 nm至25 nm，例如自8 nm至23 nm，例如自8 nm至20 nm，例如自8 nm至17 nm之範圍內的厚度。

第一底漆層230可位於金屬層228上。第一底漆層230可為單膜或多膜層。第一底漆層230可包括氧捕獲材料，該材料可在沉積製程期間犧牲，以防止金屬層228在濺鍍製程或隨後的加熱製程期間降解或氧化。第一底漆層230還可吸收穿過功能塗層30、130、430的電磁輻射之至少一部分，例如可見光。可用於第一底漆層230的材料的實例包括鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋁、鈷、鉻、鈦、鋁、其合金或其混合物。在一個非限制性實施方式中，第一底漆層230包含鈦、鈦與鋁或鋅與鋁，該等被沉積為金屬，並且鈦或鈦與鋁或鋅與鋁之至少一部分隨後被氧化。在另一個實施方式中，底漆層230包含鎳鉻合金，例如Inconel。在另一個實施方式中，底漆層230包含鈷鉻合金，例如Stellite®。

第一底漆層230可具有自0.5 nm至5 nm，例如自1 nm至4 nm，例如自1 nm至2.5 nm之範圍內的厚度。

第一中間層240位於金屬層228之至少一部分上(比如第一底漆層230上)。第一中間層240可包含一個或多個含金屬氧化物或金屬合金氧化物的膜，例如上述關於基底層220的第二膜224的那些。舉例來說，第一中間層240可包括沉積在第一底漆層230之至少一部分上的包含金屬氧化物比如氧化鋅或氧化鋁鋅的第一膜242、在第一膜242之至少一部分上的含金屬氧化物比如錫酸鋅膜的第二膜244、以及在第二膜244之至少一部分上的包含金屬氧化物比如氧化鋅膜或氧化鋁鋅膜的第三膜246。

第一中間層240的第二膜244可包含錫酸鋅膜。「錫酸鋅」意指具有Zn _XSn _1-XO _2-X(式1)的組成物，其中“x”在大於0到小於1的範圍內變化。舉例而言，“x”可大於 0，可為大於0到小於1之間的任何分數或小數。舉例來說，其中x = 2/3，式1為Zn _2/3Sn _1/3O _4/3，通常被描述為“Zn ₂SnO ₄”。含錫酸鋅膜在層中具有佔主要量的式1的一或多個形式。

在一個實例中，存在第一和第三膜242、246兩者且各者具有在自1 nm至20 nm，例如自5 nm至20 nm，例如自6 nm至15 nm，例如自8 nm至10 nm之範圍內的厚度。第二膜244可具有自5 nm至80 nm，例如自5 nm至70 nm，例如自10 nm至70 nm，例如自20 nm至70 nm，例如自30至70 nm，例如自50 nm至70 nm之範圍內的厚度。

第一中間層240可包含自20 nm至100 nm，例如自20 nm至85 nm，例如自25 nm至80 nm之範圍內的總厚度(例如若干膜的合併厚度)。

第二金屬層248可形成在第一中間層之至少一部分上。第二金屬層248可包括反射金屬，例如但不限於金屬金、銅、鈀、鋁、銀或其混合物、合金或組合。在一個實施方式中，第二金屬層248包含金屬銀層。

在一個實施方式中，第二金屬層248是形成在第一中間層240之至少一部分上的連續層。第二金屬層248是具有自5 nm至30 nm，例如自10 nm至20 nm，例如自10 nm至15 nm或例如自10 nm至12 nm之總厚度的連續層。

在另一個實施方式中，第二金屬層248是不連續層，具有亞臨界厚度，形成在第一中間層240之至少一部分上。金屬材料，例如但不限於金屬金、銅、鈀、鋁、銀或其混合物、合金或組合係以亞臨界厚度施加，俾使形成材料的孤立區域或島，而不是材料的連續層。就銀而言，已測定臨界厚度係小於5 nm，例如小於4 nm，例如小於3 nm，例如小於2.5 nm。就銀而言，連續層和亞臨界層之間的過渡發生在2.5  nm至5  nm的範圍內。就銀而言，已測定有效厚度最多為9  nm；比如5 nm；4 nm；比如3.6 nm，比如2.6 nm；比如2 nm；比如1.7 nm；至少0.1 nm；比如0.2 nm；比如0.3 nm；比如0.4 nm；比如0.5 nm；比如0.6 nm；比如0.7 nm。據估計，銅、金和鈀在此範圍內會表現出類似的亞臨界行為。在一個非限制性實施方式中，第二金屬層248包含島狀銀，具有若干島，其有效厚度為最多7 nm，比如最多4 nm，比如最多3.5 nm，比如最多3 nm，比如最多2.5 nm，比如最多2 nm；比如最多1.7  nm；至少0.1 nm；比如至少0.2 nm；比如至少0.4 nm；比如至少0.5 nm；比如至少0.7 nm；比如至少1 nm。在另一個實施方式中，第二金屬層248包含具有若干島的銅，其有效厚度為最多為9  nm；比如5 nm；4 nm；比如3.6 nm，比如2.6 nm；比如2 nm；比如1.7 nm；至少0.1 nm；比如0.2 nm；比如0.3 nm；比如0.4 nm；比如0.5 nm；比如0.6 nm；比如0.7 nm；以及可選地，具有若干島的銀，其有效厚度為最多7 nm，比如最多4 nm，比如最多3.5 nm，比如最多3 nm，比如最多2.5 nm，比如最多2 nm；比如最多1.7  nm；至少0.1 nm；比如至少0.2 nm；比如至少0.4 nm；比如至少0.5 nm；比如至少0.7 nm；比如至少1 nm。第二金屬層248根據電漿共振理論吸收電磁輻射。此吸收至少部分取決於金屬島界面處的邊界條件。像是金屬層248，第二金屬層248不是紅外線反射層。據估計，就銀和銅而言，以亞臨界厚度以下沉積的銀金屬和銅金屬的金屬島或球可具有約2 nm至7 nm，例如5 nm至7 nm的高度。據估計，假使亞臨界金屬層可均勻展開，其可具有約1.1 nm的厚度。據估計，在光學上，不連續金屬層表現為厚度為2.6 nm的有效層。將不連續金屬層沉積在錫酸鋅而不是氧化鋅或氧化鋁鋅上似乎增加了塗層比如不連續金屬層的可見光吸收率。

第二底漆層250可位於第二金屬層248上。第二底漆層250可為單膜或多膜層。第二底漆層250可包括氧捕獲材料，該材料可在沉積製程期間犧牲，以防止第二金屬層248在濺鍍製程或隨後的加熱製程期間降解或氧化。第二底漆層250還可吸收穿過功能塗層30、130、430的電磁輻射之至少一部分，例如可見光。可用於第二底漆層250的材料的實例包括鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋁、鈷、鉻、鈦、鋁、其合金或其混合物。在一個非限制性實施方式中，第二底漆層250包含鈦、鈦與鋁或鋅與鋁，該等被沉積為金屬，並且鈦或鈦與鋁或鋅與鋁之至少一部分隨後被氧化。在另一個實施方式中，第二底漆層250包含鎳鉻合金，例如Inconel。在另一個實施方式中，第二底漆層250包含鈷鉻合金，例如Stellite®。

第二底漆層250可具有自0.5 nm至5 nm，例如自1 nm至4 nm或例如自1 nm至2.5 nm之範圍內的厚度。

第二中間層260位於第二金屬層248之至少一部分上(比如第二底漆層250上)。第二中間層260可包含一個或多個含金屬氧化物或金屬合金氧化物的膜，例如上述關於第一中間層240的那些。舉例來說，第二中間層260可包括沉積在第二底漆層250之至少一部分上的包含金屬氧化物比如氧化鋅或氧化鋁鋅的第一膜262、在第一膜262之至少一部分上的含金屬氧化物比如錫酸鋅膜的第二膜264、以及在第二膜264之至少一部分上的包含金屬氧化物比如氧化鋅膜或氧化鋁鋅膜的第三膜266。

第二中間層260包含自20 nm至100 nm，例如自20 nm至80 nm，例如自20 nm至50 nm或例如從25 nm到40 nm之範圍內的總厚度(例如若干層的合併厚度)。

在一個實例中，存在第一和第三膜262、266兩者且各者具有在自5 nm至20 nm，例如自5 nm至20 nm，例如自7 nm至15 nm，例如自8 nm至15 nm，例如自9.5 nm至10 nm之範圍內的厚度。第二膜264可具有自10 nm至80 nm，例如自20 nm至70 nm，例如自30 nm至60 nm，例如自38 nm至50 nm，例如自38 nm至45 nm之範圍內的厚度。

第三金屬層268可形成在第二中間層260之至少一部分上。第三金屬層268可包括反射金屬，例如但不限於金屬金、銅、鈀、鋁、銀或其混合物、合金或組合。在一個實施方式中，第三金屬層268包括金屬銀層。

在一個實施方式中，第三金屬層268是形成在第二中間層之至少一部分上的連續層。第三金屬層268是具有例如自2.5 nm至30 nm、例如自5 nm至30 nm、例如自5 nm至20 nm、例如自7 nm至20 nm，例如自12 nm至18 nm或例如自15 nm至18 nm之總厚度的連續層。

在另一個實施方式中，第三金屬層268是不連續層，具有亞臨界厚度，形成在第二中間層之至少一部分上。金屬材料，例如但不限於金屬金、銅、鈀、鋁、銀或其混合物、合金或組合係以亞臨界厚度施加，俾使形成材料的孤立區域或島，而不是材料的連續層。就銀而言，已測定臨界厚度係小於5 nm，例如小於4 nm，例如小於3 nm，例如小於2.5 nm。就銀而言，連續層和亞臨界層之間的過渡發生在2.5  nm至5  nm的範圍內。就銀而言，已測定有效厚度最多為9  nm；比如5 nm；4 nm；比如3.6 nm，比如2.6 nm；比如2 nm；比如1.7 nm；至少0.1 nm；比如0.2 nm；比如0.3 nm；比如0.4 nm；比如0.5 nm；比如0.6 nm；比如0.7 nm。據估計，銅、金和鈀在此範圍內會表現出類似的亞臨界行為。在一個非限制性實施方式中，第三金屬層268包含島狀銀，具有若干島，其有效厚度為最多7 nm，比如最多4 nm，比如最多3.5 nm，比如最多3 nm，比如最多2.5 nm，比如最多2 nm；比如最多1.7  nm；至少0.1 nm；比如至少0.2 nm；比如至少0.4 nm；比如至少0.5 nm；比如至少0.7 nm；比如至少1 nm。在另一個實施方式中，第三金屬層268包含具有若干島的銅，其有效厚度為最多為9  nm；比如5 nm；40 nm；比如3.6 nm，比如2.6 nm；比如2 nm；比如1.7 nm；至少0.1 nm；比如0.2 nm；比如0.3 nm；比如0.4 nm；比如0.5 nm；比如0.6 nm；比如0.7 nm；以及可選地，具有若干島的銀，其有效厚度為最多7 nm，比如最多4 nm，比如最多3.5 nm，比如最多3 nm，比如最多2.5 nm，比如最多2 nm；比如最多1.7  nm；至少0.1 nm；比如至少0.2 nm；比如至少0.4 nm；比如至少0.5 nm；比如至少0.7 nm；比如至少1 nm。第三金屬層268根據電漿共振理論吸收電磁輻射。此吸收至少部分取決於金屬島界面處的邊界條件。像是金屬層228，第三金屬層268不是紅外線反射層。據估計，就銀和銅而言，以亞臨界厚度以下沉積的銀金屬和銅金屬的金屬島或球可具有約2 nm至7 nm，例如5 nm至7 nm的高度。據估計，假使亞臨界金屬層可均勻展開，其可具有約1.1 nm的厚度。據估計，在光學上，不連續金屬層表現為厚度為2.6 nm的有效層。

第三底漆層270位於第三金屬層268上。第四底漆層270可為單膜或多膜層。第三底漆層270可包括氧捕獲材料，該材料可在沉積製程期間犧牲，以防止第三金屬層268在濺鍍製程或隨後的加熱製程期間降解或氧化。第三底漆層270還可吸收穿過功能塗層30、130、430的電磁輻射之至少一部分，例如可見光。可用於第三底漆層270的材料的實例包括鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋁、鈷、鉻、鈦、鋁、其合金或其混合物。在一個非限制性實施方式中，第三底漆層270包含鈦、鈦與鋁或鋅與鋁，該等被沉積為金屬，並且鈦或鈦與鋁或鋅與鋁之至少一部分隨後被氧化。在另一個實施方式中，第三底漆層270包括鎳鉻合金，例如Inconel。在另一個實施方式中，第三底漆層270包含鈷鉻合金，例如Stellite®。

第三底漆層270可具有自0.5 nm至5 nm，例如自1 nm至4 nm或例如自1 nm至2.5 nm之範圍內的厚度。

第三中間層280位於第三金屬層268之至少一部分上(比如第三底漆層上)。第三中間層280可包含一個或多個含金屬氧化物或金屬合金氧化物的膜，例如上述關於第一中間層240的那些。舉例來說，第三中間層可包括沉積在第三底漆層270之至少一部分上的包含金屬氧化物比如氧化鋅或氧化鋁鋅的第一膜282、在第一膜282之至少一部分上的含金屬氧化物比如錫酸鋅膜的第二膜284、以及在第二膜284之至少一部分上的包含金屬氧化物比如氧化鋅膜或氧化鋁鋅膜的第三膜286。

第三中間層280包含自20 nm至100 nm，例如自40 nm至90 nm，例如自50 nm至90 nm，例如自65 nm至80 nm或例如從30 nm到40 nm之範圍內的總厚度(例如若干層的合併厚度)。

在一個實例中，存在第一和第三膜282、286兩者且各者具有在自5 nm至20 nm，例如自7.5 nm至15 nm，例如自8 nm至15 nm或例如自9.5 nm至10 nm之範圍內的厚度。第二膜284可具有自10 nm至80 nm，例如自20 nm至70 nm，例如自30 nm至60 nm，例如自38 nm至50 nm，例如自38 nm至45 nm之範圍內的厚度。

第四金屬層288形成在第三中間層280之至少一部分上。第四金屬層288可包括反射金屬，例如但不限於金屬金、銅、鈀、鋁、銀或其混合物、合金或組合。第四金屬層288是連續層。在一些實施方式中，第四金屬層288包含金屬銀層。

第四金屬層288是具有例如自5 nm至30 nm、例如自6 nm至15 nm、例如自6 nm至10 nm，例如自10 nm至25 nm，例如自15 nm至25 nm，例如自20 nm至25 nm或例如自21 nm至23 nm之總厚度的連續層。

第四底漆層290位於第三金屬層288上。第四底漆層290可為單膜或多膜層。第四底漆層290可包括氧捕獲材料，該材料可在沉積製程期間犧牲，以防止第四金屬層288在濺鍍製程或隨後的加熱製程期間降解或氧化。第四底漆層290還可吸收穿過功能塗層30、130、430的電磁輻射之至少一部分，例如可見光。可用於第四底漆層290的材料的實例包括鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋁、鈷、鉻、鈦、鋁、其合金或其混合物。在一個非限制性實施方式中，第四底漆層290包含鈦、鈦與鋁或鋅與鋁，該等被沉積為金屬，並且鈦或鈦與鋁或鋅與鋁之至少一部分隨後被氧化。在另一個實施方式中，第四底漆層290包括鎳鉻合金，例如Inconel。在另一個實施方式中，第四底漆層290包含鈷鉻合金，例如Stellite®。

第四底漆層290可具有自0.5 nm至5 nm，例如自1 nm至4 nm或例如自1 nm至2.5 nm之範圍內的厚度。

頂層300位於最上面的金屬層上(比如在最上面的底漆層上)。在單一金屬層功能塗層31、131中，頂層300形成在金屬層228之至少一部分上(比如第一底漆層230上)。在雙重金屬層功能塗層32、132中，頂層300形成在第二金屬層248之至少一部分上(比如第二底漆層250上)。在三重金屬層功能塗層33、133中，頂層300形成在第三金屬層268之至少一部分上(比如第三底漆層270上)。在四重金屬層功能塗層34、134中，頂層300形成在第四金屬層288之至少一部分上(比如第四底漆層290之至少一部分上)。

頂層300可包含一個或多個含金屬氧化物或金屬合金氧化物的膜，例如上述關於第一中間層220的那些。舉例來說，頂層300可包括沉積在最上面的金屬層(比如最上面的底漆層)上的第一金屬氧化物膜302，比如氧化鋅膜以及沉積在第一金屬氧化物膜302之至少一部分上的第二金屬合金膜304，比如錫酸鋅膜(圖4B、5B、6B和7B)。舉例來說，頂層300可包括沉積在最上面的金屬層(比如最上面的底漆層)上的第一金屬合金膜302，比如錫酸鋅膜以及沉積在第一金屬合金膜302之至少一部分上的金屬氧氮化物膜304，比如矽氧氮化鋁膜。在另一個實施方式中，頂層300可包括沉積在最上面的金屬層(比如最上面的底漆層)上的第一金屬氧化物膜302，比如氧化鋅膜或氧化鋁鋅膜、沉積在第一膜302之至少一部分上的第二金屬合金膜304，比如錫酸鋅膜，以及沉積在第二錫酸鋅膜304上的第三金屬合金氧氮化物膜306，比如矽氧氮化鋁膜(圖4C、5C、6C和7C)。

頂層300可具有自5 nm至100 nm，例如自20至90 nm，例如自5 nm至75 nm，例如自25 nm至60 nm，例如自30 nm至55 nm，例如自30 nm至40 nm，例如自10 nm至80 nm之範圍內的總厚度(比如若干層的合併厚度)。

可選的最外部保護塗層320可形成在頂層300之至少一部分上且可為塗覆物件的最上層。最外部保護塗層320可幫助保護下面的功能塗層免受機械及/或化學侵蝕。最外部保護塗層320可為氧氣阻隔塗層，以防止或減少周遭氧氣進入塗層的下層，例如在加熱或彎曲期間。最外部保護塗層320可為任何所欲的材料或材料的混合物且可由一個或多個保護膜組成。最外部保護塗層320包含保護層，其中保護層包含Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯之至少一者或其組合。

在一個實施方式中，最外部保護層可由第一保護膜322及在第一保護膜322之至少一部分上的第二保護膜324組成。在一個實施方式中，第一保護膜322包含配置在頂層300的金屬氧氮化物膜(比如矽氧氮化鋁)上且與其接觸的金屬氮化物膜，比如矽氮化鋁，而且第二保護膜324包含配置在第一保護膜322上且與其接觸的金屬合金氧化物，例如氧化鈦鋁。

在一個實施方式中，頂層300的金屬氧氮化物膜是與接觸頂層300的金屬氧氮化物膜的第一保護金屬氮化物膜322中的相同金屬的金屬氧氮化物。在另一個實施方式中，頂層300的金屬氧氮化物膜是梯度層，其中最接近頂層300的最上面的金屬合金膜的金屬氧氮化物膜的部分包含較大量的氧，而金屬氧氮化物膜的相反的部分，比如最接近第一保護金屬氮化物膜322處則包含較大量的氮，舉例來說，以上述原子比例計。在一個實施方式中，頂層300的金屬氧氮化物膜和第一保護金屬氮化物膜322形成連續的單一梯度層。在另一個實施方式中，頂層300的金屬氧氮化物膜係施加在金屬合金氧化物膜上及/或金屬合金氧化物膜與第一保護金屬氮化物膜322之間。在另一個實施方式中，不存在第一保護金屬氮化物膜322，而且頂層300的金屬氧氮化物膜是梯度層，其中頂層300的金屬氧氮化物膜中的氧量隨著距頂層300的金屬合金氧化膜的距離增加而減少。舉例來說，最接近頂層300的最上面的金屬合金氧化膜的頂層300的金屬氧氮化物膜部分包含較大量的氧，而頂層300的氧氮化物膜的相對部分包含較大量的氮，其中金屬氧氮化物中的氧與氮的原子比例是基於氮(N ₂)流速和O ₂流速的約略值。頂層300的氧氮化物膜包含0 wt. %氧氣，並且不超過50 wt. %氧氣；不超過40 wt.%氧氣；不超過30 wt.%氧氣；不超過20 wt.%氧氣；不超過10 wt.%氧氣；不超過5 wt. %氧氣。頂層300的 氧氮化物膜中的氧與氮的有用原子比例的非限制性實例包括 舉例來說但不限於自5%至45% O及自95%至55% N；自10%至50% O及自90%至50% N；自15%至40% O及自85%至60% N；自20%至50% O及自80%至50% N；自25%至45% O及自75%至55% N；自30%至50% O及自70%至50% N；自40%至50% O及自60%至50% N；或50% O及50% N。

頂層300的金屬氧氮化物膜可具有自＞0 nm至40 nm，例如自7 nm至40 nm、自10 nm至40 nm、自28 nm至33 nm或自12 nm至22 nm之範圍內的厚度。在頂層300的金屬氧氮化物膜是梯度層的實施方式中，或者在最外部保護塗層沒有金屬氮化物膜的實施方式中，其可具有自20 nm至40 nm，例如自22.5 nm至39 nm，例如自25 nm至38 nm，例如自28 nm至37.5 nm的厚度。

第一保護金屬氮化物膜322可具有自＞0 nm至40 nm，例如自7 nm至40 nm，例如自10 nm至40 nm，例如自25 nm至40 nm，例如自28 nm至33 nm，例如自20 nm至25 nm，例如自20 nm至40 nm，例如自10 nm至16 nm之範圍內的厚度。在沒有頂層300的金屬氧氮化物膜及/或沒有第二保護膜的實施方式中，第一保護金屬氮化物膜322可具有10 nm至40 nm，較佳25 nm至40 nm，最佳28 nm至33 nm之範圍內的厚度。在頂層300具有金屬氧氮化物膜且最外部保護塗層320具有第二保護膜324的實施方式中，第一保護金屬氮化物膜322可具有10 nm至40 nm，例如自10 nm至33 nm，例如自10.5 nm至30 nm，例如自11.5 nm至25 nm的厚度。在保護塗層320具有第一保護金屬氮化物膜322和第二保護膜324的實施方式中，頂層300的金屬 氧氮化物膜可具有自5 nm至28 nm，例如自7.5 nm至26 nm，例如自10 nm至24 nm，例如自12 nm至22 nm的厚度。

在某些實施方式中，本發明的頂層300的金屬氮氧化物膜(假使存在)及/或第一保護金屬氮化物膜322(假使存在)的合併厚度在20 nm與80 nm之間，例如32 nm至80 nm、32 nm至38 nm或28 nm至37 nm。

在某些實施方式中，保護塗層320可包含有包含TiAlO的第二保護膜324。第二保護膜324的非限制性實例可具有例如自10 nm至40 nm，例如自20 nm至37 nm，例如自24.5 nm至30 nm，例如自28.5 nm至30 nm的厚度範圍。應當理解，第二保護膜324可以比如作為最頂層施加於與本揭示一致的頂層、金屬氮化物膜和金屬氧氮化物膜的任何其他配置。或者，可在第二保護膜324上施加額外的功能層或保護層(未顯示)。此額外的保護膜可為用於形成保護塗層320或第二保護膜324的任何材料或可用作頂塗層的任何材料。類似地，應理解塗覆物件不需要包括第二保護膜324。

最外部保護塗層320具有自20 nm至80 nm，例如自30 nm至70 nm，例如自35 nm至60 nm，例如自40 nm至55 nm的總厚度(即保護塗層320內的若干層或膜的所有厚度的總和)。

最外部保護塗層320也可包含單一氧化鈦膜。單一氧化鈦膜可具有自1 nm至10 nm，例如自2 nm至8 nm或例如自2 nm至3 nm的厚度。

在實行本發明時，藉由選擇用於金屬層的特定金屬、選擇底漆材料和厚度以及選擇介電材料和厚度，可改變塗層的吸收色(比如色調)。本發明之塗覆物件可為不可回火的。本發明之塗覆物件可為可回火的。在實行本發明時，所欲的是在回火前後保持塗覆物件的顏色。

具有單一金屬塗層的本發明塗覆物件可具有自5歐姆/平方(Ω/□)至10.00 Ω/□，例如自6.00 Ω/□至9.00 Ω/□或例如自6.50 Ω/□至8.50 Ω/□。具有單一金屬塗層的本發明塗覆物件可具有退火後自6.00Ω/□至11.00 Ω/□，例如自6.75 Ω/□至10.50 Ω/□或例如自7.75 Ω/□至9.50 Ω/□的薄片電阻。

具有雙重金屬塗層的本發明塗覆物件可具有自1.50Ω/□至2.50 Ω/□，例如自1.60 Ω/□至2.10 Ω/□或例如自1.75 Ω/□至1.95 Ω/□的薄片電阻。具有雙重金屬塗層的本發明塗覆物件可具有退火後自1.50Ω/□至3.50 Ω/□，例如自2.00 Ω/□至3.00 Ω/□或例如自2.25 Ω/□至2.80 Ω/□的薄片電阻。

具有三重金屬塗層的本發明塗覆物件可具有自0.50Ω/□至1.25 Ω/□，例如自0.60 Ω/□至1.00 Ω/□或例如自0.75 Ω/□至0.90 Ω/□的薄片電阻。具有三重金屬塗層的本發明塗覆物件可具有退火後自0.60Ω/□至2.00 Ω/□，例如自0.75 Ω/□至1.50 Ω/□或例如自1.00 Ω/□至1.30 Ω/□的薄片電阻。

具有四重金屬塗層的本發明塗覆物件可具有自0.60Ω/□至1.00 Ω/□，例如自0.70 Ω/□至0.90 Ω/□或例如自0.72 Ω/□至0.85 Ω/□的薄片電阻。具有四重金屬塗層的本發明塗覆物件可具有退火後自0.80Ω/□至2.00 Ω/□，例如自0.90 Ω/□至1.70 Ω/□或例如自1.00 Ω/□至1.50 Ω/□的薄片電阻。塗覆物件包括沉積在基體210的主表面之至少一部分上的基底層220。基底層220可在金屬層中減少微觀散射中心形成，並減少回火後塗覆物件中的紅霧度。

一個非限制性實施方式是一種在金屬層中減少微觀散射中心形成的方法。

「散射中心」意指金屬層中或金屬層上的分支、樹狀或樹叉狀形貌體，或塗層頂部或功能塗層的任一層內的圓形聚集形貌體。舉例來說，散射中心可為晶體或晶體塊。散射可為金屬層加熱後形成的空隙。該等散射中心通常在回火過程期間形成在金屬層中或金屬層上。

當塗覆物件被加熱到大於或等於1,185華氏度(°F，641攝氏度(°C))，例如大於或等於1,200 °F (649°C)，例如大於或等於1,260°F (682°C)的溫度時，在塗覆物件中可能形成散射中心。當塗覆物件加熱到大於或等於1,185°F的溫度時確實形成的散射中心可能會在隨後將該塗覆物件加熱到大於或等於1,200°F的溫度時增大尺寸。如本案所用，此溫度是指包含塗層的基體表面的溫度。

當塗覆物件被加熱到大於或等於1,185°F，例如大於或等於1,200°F的溫度時，不具有本發明的基底層之塗覆物件可能形成散射中心。

為了在金屬層中減少散射中心形成，提供了基體。基體可為本案所述的任何基體。基體具有第一表面及與第一表面相對的第二表面。基底層形成在第二表面的第一表面之至少一部分上。基底層包括在包含氧化錫的基體之至少一部分上的第一膜及在第一膜之整個部分上的第二膜。第二膜可為本案所述的任何材料。金屬層可為本案所述的任何金屬層。頂層形成在金屬層之至少一部分上。頂層可為本案所述的任何頂層。基底層、金屬層和頂層的形成創建了塗覆物件。如本案所述，塗覆物件更可包含額外層。將塗覆物件加熱到大於或等於1,185°F，例如大於或等於1,200°F的溫度，其中與沒有本發明基底層之塗覆物件或具有不同於本發明基底層之基底層之塗覆物件相比，金屬層中的散射中心形成減少了。

另一個非限制性實施方式是一種降低塗覆物件的紅霧度的方法。如上文所述，在金屬層內形成的散射中心可為光散射形貌體，其中光散射形貌體增加了塗覆物件的霧度(即光散射)。金屬層內的散射中心導致電磁能光波更隨機地傳播並破壞波導效應，其增加了穿過金屬層進入基體然後離開基體底表面的電磁能量。如本案所述的「紅霧度(Red haze)」係關於光散射效應，假使塗覆物件在黑暗背景前被強光照射，則該光散射效應是可見的。紅霧度是由於在回火或熱強化過程期間在金屬層中形成的空隙(耗乏或空位)而形成的。鹼金屬離子，例如鈉離子，在加熱期間在玻璃和塗層疊層中的流動性造成成核和生長，其導致散射中心形成，進而導致塗覆物件具有紅霧度。紅霧度係藉由在基體上形成基底層來降低。基底層包括在包含氧化錫的基體之至少一部分上的第一膜及在第一膜之整個部分上的第二膜。第二膜可為本案所述的任何材料。在基底層之至少一部分上形成金屬層。金屬層可為本案所述的任何金屬層。頂層形成在金屬層之至少一部分上。頂層可為本案所述的任何頂層。基底層、金屬層和頂層的形成創建了塗覆物件。如本案所述，塗覆物件更可包含額外層。將塗覆物件加熱到大於或等於1,185°F，例如大於或等於1,200°F的溫度，其中比起沒有本發明基底層之塗覆物件或具有不同於本發明基底層之基底層之塗覆物件的紅霧度，該塗覆物件的紅霧度較少。

藉由在玻璃基體的第一表面上形成基底層，可減少金屬離子在塗覆物件內的遷移。基底層形成在第二表面或第一表面之至少一部分上。基底層包括在包含氧化錫的基體之至少一部分上的第一膜及在第一膜之整個部分上的第二膜，以及可選的第三膜。第二膜可為本案所述的任何材料。金屬層可為本案所述的任何金屬層。頂層形成在金屬層之至少一部分上。頂層可為本案所述的任何頂層。基底層、金屬層和頂層的形成創建了塗覆物件。如本案所述，塗覆物件更可包含額外層。將塗覆物件加熱到大於或等於1,185°F，例如大於或等於1,200°F的溫度，其中與沒有本發明基底層之塗覆物件或具有不同於本發明基底層之基底層之塗覆物件相比，金屬離子的遷移減少了。金屬離子可為鹼金屬離子，例如鈉離子，或過渡金屬離子，例如鋅離子。

以下編號項目例示本發明的各種態樣：

項目1：一種經塗覆物件，包含：一基體，該基體包含一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面；以及在該第一表面之至少一部分上施加一功能塗層，該功能塗層包含：在該基體之至少一部分上的一基底層；在該基底層之至少一部分上的一金屬層；以及在該金屬層之至少一部分上的一頂層，其中該基底層包含與該第一表面之該部分直接接觸的包含氧化錫的一第一膜及覆蓋該第一膜之整個部分的一第二膜。

項目2：如項目1之塗覆物件，其中該塗覆物件是可回火的。

項目3：如項目1或2之塗覆物件，其中該第二膜包含覆蓋該第一膜之該整個部分的氧化鋅。

項目4：如項目1至3中任一項目之塗覆物件，其中該金屬層包括銀、金、鈀、銅、其合金、其混合物或其組合。

項目5：如項目5之塗覆物件，其中該金屬層包含銀。

項目6：如項目1至5中任一項目之塗覆物件，其中該金屬層是一連續的金屬層。

項目7：如項目1至6中任一項目之塗覆物件，其中該頂層包含一第一膜及一第二膜。

項目8：如項目7之塗覆物件，其中該頂層的該第一膜包含在該金屬層之至少一部分上的氧化鋅，以及該第二膜包含在該第一膜之至少一部分上的錫酸鋅。

項目9：如項目1至8中任一項目之塗覆物件，其更包含形成在該金屬層上的一第一底漆層。

項目10：如項目9之塗覆物件，其中該底漆層選自鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋅、鋁、鈷、鉻、鋁、其合金或其混合物。

項目11：如項目1至10中任一項目之塗覆物件，其更包含了包含一保護層的一最外部保護塗層，其中該保護層可為Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

項目12：如項目11之塗覆物件，其中該保護層包含氧化鈦。

項目13：如項目11之塗覆物件，其中該保護層包含一第一保護膜及一第二保護膜，其中該第二保護膜位於該第一保護膜之至少一部分上。

項目14：如項目13之塗覆物件，其中第一保護膜包含SiAlO。

項目15：如項目13之塗覆物件，其中第二保護膜包含TiAlO。

項目16：如項目1至15中任一項目之塗覆物件，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該功能塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；以及位於該中間層之至少一部分上的一第二金屬層，其中該頂層位於該第二金屬層之至少一部分上。

項目17：如項目16之塗覆物件，其中該第一中間層包含一第一膜、一第二膜及一第三膜。

項目18：如項目17之塗覆物件，其中該第一中間層的該第一膜包含在該金屬層之至少一部分上的氧化鋅，該第二膜包含在該第一膜之至少一部分上的錫酸鋅，以及該第三膜包含在該第二膜之至少一部分上的氧化鋅。

項目19：如項目16至18中任一項目之塗覆物件，其中該第二金屬層是一連續層。

項目20：如項目16至18中任一項目之塗覆物件，其中該第二金屬層是一不連續層。

項目21：如項目16至20中任一項目之塗覆物件，其更包含形成在該第二金屬層上的一第二底漆層。

項目22：如項目1至15中任一項目之塗覆物件，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該功能塗層更包含：在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；以及位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層，其中該頂層位於該第三金屬層之至少一部分上。

項目23：如項目22之塗覆物件，其中該第二中間層包含一第一膜、一第二膜及一第三膜。

項目24：如項目23之塗覆物件，其中該第二中間層的該第一膜包含在該第二金屬層之至少一部分上的氧化鋅，該第二膜包含在該第一膜之至少一部分上的錫酸鋅，以及該第三膜包含在該第二膜之至少一部分上的氧化鋅。

項目25：如項目22至24中任一項目之塗覆物件，其中該第三金屬層是一連續層。

項目26：如項目22至24中任一項目之塗覆物件，其中該第三金屬層是一不連續層。

項目27：如項目22至26中任一項目之塗覆物件，其更包含形成在該第三金屬層上的一第三底漆層。

項目28：如項目1至15中任一項目之塗覆物件，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層；在該第三金屬層之至少一部分上的一第三中間層；以及位於該第三中間層之至少一部分上的一第四金屬層，其中該頂層位於該第四金屬層之至少一部分上。

項目29：如項目28之塗覆物件，其中該第三中間層包含一第一膜、一第二膜及一第三膜。

項目30：如項目29之塗覆物件，其中該第三中間層的該第一膜包含在該第三金屬層之至少一部分上的氧化鋅，該第二膜包含在該第一膜之至少一部分上的錫酸鋅，以及該第三膜包含在該第二膜之至少一部分上的氧化鋅。

項目31：如項目28至30中任一項目之塗覆物件，其中該第四金屬層是一連續層。

項目32：如項目28至31中任一項目之塗覆物件，其更包含形成在該第四金屬層上的一第四底漆層。

項目33：一種在塗覆物件的金屬層中減少散射中心形成之方法，該方法包含提供一基體，其包含一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面；在該第一表面之至少一部分上形成一基底層；在該基底層之至少一部分上形成一金屬層；以及在該金屬層之至少一部分上形成一頂層，藉此形成該塗覆物件，其中該基底層包含與該第一表面之該部分直接接觸的包含氧化錫的一第一膜及覆蓋該第一膜之整個部分的一第二膜，將該塗覆物件加熱到大於或等於1,185°F的一溫度，其中在加熱到大於或等於1,185°F的溫度後，該塗覆物件的金屬層中已減少散射中心形成。

項目34：如項目33之方法，其中該第二膜包含覆蓋該第一膜之該整個部分的氧化鋅。

項目35：如項目33或34之方法，其中該金屬層包括銀、金、鈀、銅、其合金、其混合物或其組合。

項目36：如項目35之方法，其中該金屬層包含銀。

項目37：如項目33至36中任一項目之方法，其中該金屬層是一連續的金屬層。

項目38：如項目33至37中任一項目之方法，其中該頂層包含一第一膜及一第二膜。

項目39：如項目38之方法，其中該頂層的該第一膜包含在該金屬層之至少一部分上的氧化鋅，以及該第二膜包含在該第一膜之至少一部分上的錫酸鋅。

項目40：如項目33至39中任一項目之方法，其更包含形成在該金屬層上的一第一底漆層。

項目41：如項目40之方法，其中該底漆層選自鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋅、鋁、鈷、鉻、鋁、其合金或其混合物。

項目42：如項目33至41中任一項目之方法，其更包含了包含一保護層的一最外部保護塗層，其中該保護層可為Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

項目43：如項目42之方法，其中該保護層包含氧化鈦。

項目44：如項目42之方法，其中該保護層包含一第一保護膜及一第二保護膜，其中該第二保護膜位於該第一保護膜之至少一部分上。

項目45：如項目44之方法，其中第一保護膜包含SiAlO。

項目46：如項目44之方法，其中第二保護膜包含TiAlO。

項目47：如項目33至46中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該功能塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；以及位於該中間層之至少一部分上的一第二金屬層，其中該頂層位於該第二金屬層之至少一部分上。

項目48：如項目33至46中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該功能塗層更包含：在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；以及位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層，其中該頂層位於該第三金屬層之至少一部分上。

項目49：如項目33至46中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層；在該第三金屬層之至少一部分上的一第三中間層；以及位於該第三中間層之至少一部分上的一第四金屬層，其中該頂層位於該第四金屬層之至少一部分上。

項目50：如項目33至49中任一項目之方法，其中該塗覆物件被加熱到大於或等於1,200°F的一溫度。

項目51：如項目33至50中任一項目之方法，其中相較於具有一不同基底層的一塗覆物件，該塗覆物件具有減少的散射中心形成。

項目52：一種降低塗覆物件的紅霧度之方法，該方法包含提供一基體，其包含一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面；在該第一表面之至少一部分上形成一基底層；在該基底層之至少一部分上形成一金屬層；以及在該金屬層之至少一部分上形成一頂層，藉此形成該塗覆物件，其中該基底層包含與該第一表面之該部分直接接觸的包含氧化錫的一第一膜及覆蓋該第一膜之整個部分的一第二膜，將該塗覆物件加熱到大於或等於1,185°F的一溫度，其中在加熱到大於或等於1,185°F的溫度後，該塗覆物件已降低紅霧度。

項目53：如項目52之方法，其中該第二膜包含覆蓋該第一膜之該整個部分的氧化鋅。

項目54：如項目52或53之方法，其中該金屬層包括銀、金、鈀、銅、其合金、其混合物或其組合。

項目55：如項目54之方法，其中該金屬層包含銀。

項目56：如項目52至55中任一項目之方法，其中該金屬層是一連續的金屬層。

項目57：如項目52至56中任一項目之方法，其中該頂層包含一第一膜及一第二膜。

項目58：如項目57之方法，其中該頂層的該第一膜包含在該金屬層之至少一部分上的氧化鋅，以及該第二膜包含在該第一膜之至少一部分上的錫酸鋅。

項目59：如項目52至58中任一項目之方法，其更包含形成在該金屬層上的一第一底漆層。

項目60：如項目59之方法，其中該底漆層選自鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋅、鋁、鈷、鉻、鋁、其合金或其混合物。

項目61：如項目52至60中任一項目之方法，其更包含了包含一保護層的一最外部保護塗層，其中該保護層可為Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

項目62：如項目61之方法，其中該保護層包含氧化鈦。

項目63：如項目61之方法，其中該保護層包含一第一保護膜及一第二保護膜，其中該第二保護膜位於該第一保護膜之至少一部分上。

項目64：如項目63之方法，其中第一保護膜包含SiAlO。

項目65：如項目63之方法，其中第二保護膜包含TiAlO。

項目66：如項目52至65中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該功能塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；以及位於該中間層之至少一部分上的一第二金屬層，其中該頂層位於該第二金屬層之至少一部分上。

項目67：如項目52至65中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該功能塗層更包含：在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；以及位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層，其中該頂層位於該第三金屬層之至少一部分上。

項目68：如項目52至65中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層；在該第三金屬層之至少一部分上的一第三中間層；以及位於該第三中間層之至少一部分上的一第四金屬層，其中該頂層位於該第四金屬層之至少一部分上。

項目69：如項目52至68中任一項目之方法，其中該塗覆物件被加熱到大於或等於1,200°F的一溫度。

項目70：如項目52至69中任一項目之方法，其中相較於具有一不同基底層的一塗覆物件，該塗覆物件具有減少的散射中心形成。

項目71：一種絕緣玻璃單元，包含一第一夾層，包含一1號表面及與該1號表面相對的一2號表面；一第二夾層包含一3號表面及一4號表面，其中該第二夾層與該第一夾層隔開，以及其中該第一夾層與該第二夾層連接在一起；以及在2號表面或3號表面之至少一部分上的一功能塗層，該功能塗層包含：在2號表面或3號表面之至少一部分上的基底層；在該基底層之至少一部分上的一金屬層；以及在該金屬層之至少一部分上的一頂層，其中該基底層包含與該2號表面或該3號表面之該部分直接接觸的包含氧化錫的一第一膜及覆蓋該第一膜之整個部分的一第二膜。

項目72：如項目71的絕緣玻璃單元，其中該第二膜包含覆蓋該第一膜之該整個部分的氧化鋅。

項目73：如項目71或72的絕緣玻璃單元，其中該金屬層包括銀、金、鈀、銅、其合金、其混合物或其組合。

項目74：如項目73的絕緣玻璃單元，其中該金屬層包含銀。

項目75：如項目71至74中任一項的絕緣玻璃單元，其中該金屬層是一連續的金屬層。

項目76：如項目71至75中任一項的絕緣玻璃單元，其中該頂層包含一第一膜及一第二膜。

項目77：如項目76的絕緣玻璃單元，其中該頂層的該第一膜包含在該金屬層之至少一部分上的氧化鋅，以及該第二膜包含在該第一膜之至少一部分上的錫酸鋅。

項目78：如項目71至77中任一項的絕緣玻璃單元，其更包含形成在該金屬層上的一第一底漆層。

項目79：如項目78的絕緣玻璃單元，其中該底漆層選自鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋅、鋁、鈷、鉻、鋁、其合金或其混合物。

項目80：如項目71至79中任一項的絕緣玻璃單元，其更包含了包含一保護層的一最外部保護塗層，其中該保護層可為Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

項目81：如項目80的絕緣玻璃單元，其中該保護層包含氧化鈦。

項目82：如項目80的絕緣玻璃單元，其中該保護層包含一第一保護膜及一第二保護膜，其中該第二保護膜位於該第一保護膜之至少一部分上。

項目83：如項目82的絕緣玻璃單元，其中該第一保護膜包含SiAlO。

項目84：如項目82的絕緣玻璃單元，其中該第二保護膜包含TiAlO。

項目85：如項目71至84中任一項的絕緣玻璃單元，其中施加在該2號表面或該3號表面之至少一部分上的該功能塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；以及位於該中間層之至少一部分上的一第二金屬層，其中該頂層位於該第二金屬層之至少一部分上。

項目86：如項目71至84中任一項的絕緣玻璃單元，其中施加在該2號表面或該3號表面之至少一部分上的該功能塗層更包含：在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；以及位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層，其中該頂層位於該第三金屬層之至少一部分上。

項目87：如項目71至84中任一項的絕緣玻璃單元，其中施加在該2號表面或該3號表面之至少一部分上的該塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層；在該第三金屬層之至少一部分上的一第三中間層；以及位於該第三中間層之至少一部分上的一第四金屬層，其中該頂層位於該第四金屬層之至少一部分上。

項目88：一種製造一塗覆物件之方法，該方法包含提供一基體，其包含一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面；在該第一表面之至少一部分上形成一基底層；在該基底層之至少一部分上形成一金屬層；以及在該金屬層之至少一部分上形成一頂層，其中該基底層包含與該第一表面的該部分直接接觸的包含氧化錫的一第一膜及覆蓋該第一膜的整個部分的一第二膜。

項目89：如項目88之方法，其中該第二膜包含覆蓋該第一膜之該整個部分的氧化鋅。

項目90：如項目88或89之方法，其中該金屬層包括銀、金、鈀、銅、其合金、其混合物或其組合。

項目91：如項目90之方法，其中該金屬層包含銀。

項目92：如項目88至91中任一項目之方法，其中該金屬層是一連續的金屬層。

項目93：如項目88至92中任一項目之方法，其中該頂層包含一第一膜及一第二膜。

項目94：如項目93之方法，其中該頂層的該第一膜包含在該金屬層之至少一部分上的氧化鋅，以及該第二膜包含在該第一膜之至少一部分上的錫酸鋅。

項目95：如項目88至94中任一項目之方法，其更包含形成在該金屬層上的一第一底漆層。

項目96：如項目95之方法，其中該底漆層選自鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋅、鋁、鈷、鉻、鋁、其合金或其混合物。

項目97：如項目88至96中任一項目之方法，其更包含了包含一保護層的一最外部保護塗層，其中該保護層可為Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

項目98：如項目97之方法，其中該保護層包含氧化鈦。

項目99：如項目97之方法，其中該保護層包含一第一保護膜及一第二保護膜，其中該第二保護膜位於該第一保護膜之至少一部分上。

項目100：如項目99之方法，其中第一保護膜包含SiAlO。

項目101：如項目99之方法，其中第二保護膜包含TiAlO。

項目102：如項目88至101中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該功能塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；以及位於該中間層之至少一部分上的一第二金屬層，其中該頂層位於該第二金屬層之至少一部分上。

項目103：如項目88至101中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該功能塗層更包含：在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；以及位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層，其中該頂層位於該第三金屬層之至少一部分上。

項目104：如項目88至101中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層；在該第三金屬層之至少一部分上的一第三中間層；以及位於該第三中間層之至少一部分上的一第四金屬層，其中該頂層位於該第四金屬層之至少一部分上。

項目105：一種擋風玻璃，該擋風玻璃包含一第一夾層，包含一1號表面及與該1號表面相對的一2號表面；一第二夾層包含一3號表面及一4號表面，其中該第二夾層與該第一夾層隔開，以及其中該第一夾層與該第二夾層藉由一中間層連接在一起；在2號表面或3號表面之至少一部分上的一功能塗層，該功能塗層包含：在2號表面或3號表面之至少一部分上的基底層；在該基底層之至少一部分上的一金屬層；以及在該金屬層之至少一部分上的一頂層，其中該基底層包含與該2號表面或該3號表面之該部分直接接觸的包含氧化錫的一第一膜及覆蓋該第一膜之整個部分的一第二膜。

項目106：如項目105之擋風玻璃，其中該第二膜包含覆蓋該第一膜之該整個部分的氧化鋅。

項目107：如項目105或106之擋風玻璃，其中該金屬層包括銀、金、鈀、銅、其合金、其混合物或其組合。

項目108：如項目107之擋風玻璃，其中該金屬層包含銀。

項目109：如項目105至108中任一項目之擋風玻璃，其中該金屬層是一連續的金屬層。

項目110：如項目105至109中任一項目之擋風玻璃，其中該頂層包含一第一膜及一第二膜。

項目111：如項目110之擋風玻璃，其中該頂層的該第一膜包含在該金屬層之至少一部分上的氧化鋅，以及該第二膜包含在該第一膜之至少一部分上的錫酸鋅。

項目112：如項目105至111中任一項目之擋風玻璃，其更包含形成在該金屬層上的一第一底漆層。

項目113：如項目112之擋風玻璃，其中該底漆層選自鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋅、鋁、鈷、鉻、鋁、其合金或其混合物。

項目114：如項目105至113中任一項目之擋風玻璃，其更包含了包含一保護層的一最外部保護塗層，其中該保護層可為Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

項目115：如項目114之擋風玻璃，其中該保護層包含氧化鈦。

項目116：如項目114之擋風玻璃，其中該保護層包含一第一保護膜及一第二保護膜，其中該第二保護膜位於該第一保護膜之至少一部分上。

項目117：如項目116之擋風玻璃，其中該第一保護膜包含SiAlO。

項目118：如項目116之擋風玻璃，其中該第二保護膜包含TiAlO。

項目119：如項目105至118中任一項目之擋風玻璃，其中施加在該2號表面或該3號表面之至少一部分上的該功能塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；以及位於該中間層之至少一部分上的一第二金屬層，其中該頂層位於該第二金屬層之至少一部分上。

項目120：如項目105至118中任一項目之擋風玻璃，其中施加在該2號表面或該3號表面之至少一部分上的該功能塗層更包含：在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；以及位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層，其中該頂層位於該第三金屬層之至少一部分上。

項目121：如項目105至118中任一項目之擋風玻璃，其中施加在該2號表面或該3號表面之至少一部分上的該塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層；在該第三金屬層之至少一部分上的一第三中間層；以及位於該第三中間層之至少一部分上的一第四金屬層，其中該頂層位於該第四金屬層之至少一部分上。

項目122：一種減少塗覆物件內的金屬離子遷移之方法，該方法包含：提供一玻璃基體，包含一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面；在該第一表面之至少一部分上形成一基底層；在該基底層之至少一部分上形成一金屬層；以及在該金屬層之至少一部分上形成一頂層，藉此形成該塗覆物件，其中該基底層包含與該第一表面的該部分直接接觸的包含氧化錫的一第一膜及覆蓋該第一膜的整個部分的一第二膜，以及將該塗覆物件加熱到大於或等於1,185°F的一溫度，其中加熱到大於或等於1,185°F的溫度後，該塗覆物件已降低紅霧度。

項目123：如項目122之方法，其中該第二膜包含覆蓋該第一膜之該整個部分的氧化鋅。

項目124：如項目122或123之方法，其中該金屬層包括銀、金、鈀、銅、其合金、其混合物或其組合。

項目125：如項目124之方法，其中該金屬層包含銀。

項目126：如項目122至125中任一項目之方法，其中該金屬層是一連續的金屬層。

項目127：如項目122至126中任一項目之方法，其中該頂層包含一第一膜及一第二膜。

項目128：如項目127之方法，其中該頂層的該第一膜包含在該金屬層之至少一部分上的氧化鋅，以及該第二膜包含在該第一膜之至少一部分上的錫酸鋅。

項目129：如項目122至128中任一項目之方法，其更包含形成在該金屬層上的一第一底漆層。

項目130：如項目129之方法，其中該底漆層選自鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋅、鋁、鈷、鉻、鋁、其合金或其混合物。

項目131：如項目122至130中任一項目之方法，其更包含了包含一保護層的一最外部保護塗層，其中該保護層可為Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

項目132：如項目131之方法，其中該保護層包含氧化鈦。

項目133：如項目131之方法，其中該保護層包含一第一保護膜及一第二保護膜，其中該第二保護膜位於該第一保護膜之至少一部分上。

項目134：如項目133之方法，其中第一保護膜包含SiAlO。

項目135：如項目133之方法，其中第二保護膜包含TiAlO。

項目136：如項目122至135中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該功能塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；以及位於該中間層之至少一部分上的一第二金屬層，其中該頂層位於該第二金屬層之至少一部分上。

項目137：如項目122至135中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該功能塗層更包含：在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；以及位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層，其中該頂層位於該第三金屬層之至少一部分上。

項目138：如項目122至135中任一項目之方法，其中施加在該第一表面之至少一部分上的該塗層更包含在該金屬層之至少一部分上的一第一中間層；位於該第一中間層之至少一部分上的一第二金屬層；在該第二金屬層之至少一部分上的一第二中間層；位於該第二中間層之至少一部分上的一第三金屬層；在該第三金屬層之至少一部分上的一第三中間層；以及位於該第三中間層之至少一部分上的一第四金屬層，其中該頂層位於該第四金屬層之至少一部分上。

項目139：如項目122至138中任一項目之方法，其中該金屬離子是鈉離子。

項目140：如項目122至138中任一項目之方法，其中該金屬離子是鋅離子。

項目141：如項目122至140中任一項目之方法，其中該塗覆物件被加熱到大於或等於1,200°F的一溫度。

項目142：如項目122至141中任一項目之方法，其中相較於具有一不同基底層的一塗覆物件，該塗覆物件具有減少的金屬離子遷移。 實施例

基體被塗覆以根據表1的功能塗層。基體是玻璃。SnO _x是實質上不含任何額外金屬的氧化錫。Sn ₈₀Zn ₂₀O _x和Sn ₉₀Zn ₁₀O _x是經氧化鋅濺射的氧化錫。然後將經塗覆基體加熱到1,260°F ± 3-4°F的溫度。 表1

樣品編號	1	2	3
基底層的第一膜	SnO x	Sn 80Zn 20O x	Sn 90Zn 10O x
基底層的第二膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
金屬層	銀	銀	銀
底漆層	鈦	鈦	鈦
第一中間層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第一中間層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅
第一中間層的第三膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第二金屬層	銀	銀	銀
第二底漆層	鈦	鈦	鈦
頂層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
頂層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅

以根據表2的塗層塗覆基體來製備比較實施例。基體是玻璃。SiAlO _x是矽鋁氧化物。然後將經塗覆基體加熱到1,260°F ± 3-4°F的溫度。 表2

樣品編號	CE-1
第一層的第一膜	SiAlO x
第一層的第二膜	氧化鋅
金屬層	銀
底漆層	鈦
第一中間層的第一膜	氧化鋅
第一中間層的第二膜	錫酸鋅
第一中間層的第三膜	氧化鋅
第二金屬層	銀
第二底漆層	鈦
頂層的第一膜	氧化鋅
頂層的第二膜	錫酸鋅

使用X射線光電子光譜法(XPS)分析1號樣品和CE-1號樣品的塗覆基體。1號樣品的塗層基體已減少了鈉原子從玻璃基體遷移到功能塗層內。樣品CE-1的塗覆基體具有鈉離子從玻璃基體遷移到第一層的第一膜和第二膜及最接近玻璃基體的金屬層內。樣品CE-1的塗覆基體也具有鋅離子從第一層的第二膜遷移到玻璃基體內。 預言性實施例

基體可塗覆以根據表3的功能塗層。基體可為玻璃。SnO _x是實質上不含任何額外金屬的氧化錫。 表3

樣品編號	4	5	6	7
基底層的第一膜	SnO x	SnO x	SnO x	SnO x
基底層的第二膜	氧化鋅	氧化鋅	錫酸鋅	錫酸鋅
基底層的第三膜	N/A	N/A	氧化鋅	氧化鋅
金屬層	銀(連續)	銀(不連續)	銀(連續)	銀(不連續)
底漆層	鈦	鈦	鈦	鈦
頂層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
頂層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅

4至7號樣品的頂層可包括氮化矽(Si ₃N ₄)、氮氧化矽(SiON)、SiON至Si ₃N ₄或SiON的梯度層。4至7號樣品可具有一具有保護層的最外部保護塗層。保護層可包括Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

基體可塗覆以根據表4的功能塗層。基體可為玻璃。SnO _x是實質上不含任何額外金屬的氧化錫。 表4

樣品編號	8	9	10	11
基底層的第一膜	SnO x	SnO x	SnO x	SnO x
基底層的第二膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
金屬層	銀(連續)	銀(連續)	銀(不連續)	銀(不連續)
底漆層	鈦	鈦	鈦	鈦
第一中間層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第一中間層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅
第一中間層的第三膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第二金屬層	銀(連續)	銀(不連續)	銀(連續)	銀(不連續)
第二底漆層	鈦	鈦	鈦	鈦
頂層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
頂層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅

8至11號樣品的頂層可包括Si ₃N ₄、SiON、SiON至Si ₃N ₄或SiON的梯度層。8至11號樣品可具有一具有保護層的最外部保護塗層。保護層可為Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

基體可塗覆以根據表5的功能塗層。基體可為玻璃。SnO _x是實質上不含任何額外金屬的氧化錫。 表5

樣品編號	12	13	14	15
基底層的第一膜	SnO x	SnO x	SnO x	SnO x
基底層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅
基底層的第三膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
金屬層	銀(連續)	銀(連續)	銀(不連續)	銀(不連續)
底漆層	鈦	鈦	鈦	鈦
第一中間層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第一中間層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅
第一中間層的第三膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第二金屬層	銀(連續)	銀(不連續)	銀(連續)	銀(不連續)
第二底漆層	鈦	鈦	鈦	鈦
頂層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
頂層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅

12至15號樣品的頂層可包括Si ₃N ₄、SiON、SiON至Si ₃N ₄或SiON的梯度層。12至15號樣品可具有一具有保護層的最外部保護塗層。保護層可為Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

基體可塗覆以根據表6的功能塗層。基體可為玻璃。SnO _x是實質上不含任何額外金屬的氧化錫。 表6

樣品編號	16	17
基底層的第一膜	SnO x	SnO x
基底層的第二膜	氧化鋅	錫酸鋅
基底層的第三膜	N/A	氧化鋅
金屬層	銀(連續)	銀(連續)
底漆層	鈦	鈦
第一中間層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅
第一中間層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅
第一中間層的第三膜	氧化鋅	氧化鋅
第二金屬層	銀(不連續)	銀(不連續)
第二底漆層	鈦	鈦
第二中間層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅
第二中間層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅
第二中間層的第三膜	氧化鋅	氧化鋅
第三金屬層	銀(連續)	銀(連續)
第三底漆層	鈦	鈦
頂層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅
頂層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅

16號與17號樣品的頂層可包括Si ₃N ₄、SiON、SiON至Si ₃N ₄或SiON的梯度層。16號與17號樣品可具有一具有保護層的最外部保護塗層。保護層可為Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

基體可塗覆以根據表7的功能塗層。基體可為玻璃。SnO _x是實質上不含任何額外金屬的氧化錫。 表7

樣品編號	18	19	20	21
基底層的第一膜	SnO x	SnO x	SnO x	SnO x
基底層的第二膜	氧化鋅	氧化鋅	錫酸鋅	錫酸鋅
基底層的第三膜	N/A	N/A	氧化鋅	氧化鋅
金屬層	銀(連續)	銀(連續)	銀(連續)	銀(連續)
底漆層	鈦	鈦	鈦	鈦
第一中間層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第一中間層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅
第一中間層的第三膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第二金屬層	銀(連續)	銀(不連續)	銀(連續)	銀(不連續)
第二底漆層	鈦	鈦	鈦	鈦
第二中間層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第二中間層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅
第二中間層的第三膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第三金屬層	銀(不連續)	銀(連續)	銀(不連續)	銀(連續)
第三底漆層	鈦	鈦	鈦	鈦
第三中間層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第三中間層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅
第三中間層的第三膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
第四金屬層	銀(連續)	銀(連續)	銀(連續)	銀(連續)
第四底漆層	鈦	鈦	鈦	鈦
頂層的第一膜	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅	氧化鋅
頂層的第二膜	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅	錫酸鋅

18至21號樣品的頂層可包括Si ₃N ₄、SiON、SiON至Si ₃N ₄或SiON的梯度層。18至21號樣品可具有一具有保護層的最外部保護塗層。保護層可為Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合。

熟習此藝者將容易理解的是，可對本發明進行修飾而不逸離前述說明揭示的概念。據此，本案詳細說明的特定實施方式僅是例示性的且不限制本發明的範疇，其將被賦予所附申請專利範圍及其任何和所有等效物的全部範圍。

0:透明體 12:夾層,第一夾層 14:第一主表面,1號表面 16:第二主表面,2號表面 18:夾層,第二夾層 20:內(第一)主表面,3號表面 22:外(第二)主表面,4號表面 24:間隔框架 25:間層 27:陰影帶,裝飾帶 30:塗層,功能塗層 31:單一金屬塗層 32:雙重金屬塗層 33:三重金屬塗層 34:四重金屬塗層 96,98:匯流排 110:透明體 112:夾層,第一夾層 114:第一主表面,1號表面 116:第二主表面,2號表面 118:車輛 130:塗層,功能塗層 131:單一金屬塗層 132:雙重金屬塗層 133:三重金屬塗層 134:四重金屬塗層 210:基體 220:基底層 222:第一膜 224:第二膜 228:金屬層 230:底漆層,第一底漆層 231:單一金屬塗層 232:雙重金屬塗層 233:三重金屬塗層 234:四重金屬塗層 240:第一中間層 242:第一膜 244:第二膜 246:第三膜 248:第二金屬層 250:第二底漆層 260:第二中間層 262:第一膜 264:第二膜 266:第三膜 268:第三金屬層 270:第三底漆層 280:第三中間層 282:第一膜 284:第二膜 286:第三膜 288:第四金屬層 290:第四底漆層 300:頂層 302:第一金屬合金膜 304:第二金屬合金膜,金屬氧氮化物膜,第二錫酸鋅膜 306:第三金屬合金氧氮化物膜 320:最外部保護塗層,保護塗層 322:第一保護膜,第一保護金屬氮化物膜 324:第二保護膜 410:透明體 412:夾層,第一夾層,第一基體 414:第一主表面,外主表面,1號表面 416:第二主表面,內主表面,2號表面 418:夾層,第二夾層,第二基體 420:內(第二)主表面,3號表面 422:外(第一)主表面,4號表面 430:塗層,功能塗層

圖1是具有本發明塗層的例示性絕緣玻璃單元(“IGU”)的側視圖(未按比例)。

圖2是具有本發明塗層的例示性單片透明體的截面圖。

圖3是非限制性擋風玻璃的示意圖(未按比例)。

圖4A、4B和4C是根據本發明實施例的單一金屬塗層的截面圖(未按比例)。圖4A是單一金屬塗層，包含基體、基底層、金屬層、底漆層、頂層及保護塗層。圖4B是圖4A的單一金屬塗層，描繪了包含兩層膜的基底層、包含兩層膜的頂層及包含兩層膜的保護塗層。圖4C是圖4A的單一金屬塗層，描繪了包含兩層膜的基底層、包含三層膜的頂層及包含兩層膜的保護塗層。

圖5A、5B和5C是根據本發明實施例的雙重金屬塗層的截面圖(未按比例)。圖5A是雙重金屬塗層，包含基體、基底層、金屬層、底漆層、第一中間層、第二金屬層、底漆層、頂層及保護塗層。圖5B是圖5A的雙重金屬塗層，其描繪了包含兩層膜的基底層、包含三層膜的第一中間層、包含兩層膜的頂層及包含兩層膜的保護塗層。圖5C是圖5A的雙重金屬塗層，其描繪了包含三層膜的基底層、包含三層膜的第一中間層、包含三層膜的頂層及包含兩層膜的保護塗層。

圖6A、6B和6C是根據本發明實施例的三金屬塗層的截面圖(未按比例)。圖6A是三重金屬塗層，包含基體、基底層、金屬層、底漆層、第一中間層、第二金屬層、第二底漆層、第二中間層、第三金屬層、第三底漆層、頂層及保護塗層。圖6B是圖6A的三重金屬塗層，其描繪了包含兩層膜的基底層、包含三層膜的第一中間層、包含三層膜的第二中間層、包含兩層膜的頂層及包含兩層膜的保護塗層。圖6C是圖6A的三重金屬塗層，其描繪了包含兩層膜的基底層、包含三層膜的第一中間層、包含三層膜的第二中間層、包含三層膜的頂層及包含兩層膜的保護塗層。

圖7A、7B和7C是根據本發明實施例的四重金屬塗層的截面圖(未按比例)。圖7A是四重金屬塗層，包含基體、基底層、金屬層、底漆層、第一中間層、第二金屬層、第二底漆層、第二中間層、第三金屬層、第三底漆層、第三中間層、第四金屬層、第四底漆層、頂層及保護塗層。圖7B是圖7A的四重金屬塗層，其描繪了包含兩層膜的基底層、包含三層膜的第一中間層、包含三層膜的第二中間層、包含三層膜的第三中間膜、包含兩層膜的頂層及包含兩層膜的保護塗層。圖7C是圖7A的四重金屬塗層，其描繪了包含兩層膜的基底層、包含三層膜的第一中間層、包含三層膜的第二中間層、包含三層膜的第三中間膜、包含三層膜的頂層及包含兩層膜的保護塗層。

31:單一金屬塗層

131:單一金屬塗層

210:基體

220:基底層

228:金屬層

230:底漆層，第一底漆層

231:單一金屬塗層

300:頂層

320:最外部保護塗層，保護塗層

Claims (10)

1. 一種塗覆物件，包含： 一基體，該基體包含一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面；以及 在該第一表面之至少一部分上施加一功能塗層，該功能塗層包含： 在第一表面之至少一部分上的一基底層； 在該基底層之至少一部分上的一金屬層；以及 在該金屬層之至少一部分上的一頂層， 其中該基底層包含與該第一表面之該部分直接接觸的包含氧化錫的一第一膜及覆蓋該第一膜之整個部分的一第二膜。
2. 如請求項1之塗覆物件，其中該塗覆物件是可回火的。
3. 如請求項1或2之塗覆物件，其中該金屬層包括銀、金、鈀、銅、其合金、其混合物或其組合。
4. 如請求項1至3中任一項之塗覆物件，其中該頂層包含一第一膜及一第二膜，以及其中該頂層的該第一膜包含在該金屬層之至少一部分上的氧化鋅，以及該第二膜包含在該第一膜之至少一部分上的錫酸鋅。
5. 如請求項1至4中任一項之塗覆物件，其更包含形成在該金屬層上的一第一底漆層， 其中該底漆層選自鈦、矽、二氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、鎳、鋯、鋅、鋁、鈷、鉻、鋁、其合金或其混合物。
6. 如請求項1至5中任一項之塗覆物件，其更包含了包含一保護層的一最外部保護塗層，其中該保護層包含Si ₃N ₄、SiAlN、SiAlON、SiAlO、TiAlO、氧化鈦、氧化鋁、氧化矽、氧化鋯或其組合之至少一者。
7. 如請求項1至6中任一項之塗覆物件，其中該第一膜具有10 nm至45 nm的一厚度。
8. 如請求項1至7中任一項之塗覆物件，其中該第一膜包含至少90%氧化錫。
9. 一種在塗覆物件的金屬層中減少散射中心形成之方法，該方法包含： 提供一基體，其包含一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面； 在該第一表面之至少一部分上形成一基底層； 在該基底層之至少一部分上形成一金屬層；以及 在該金屬層之至少一部分上形成一頂層，藉此形成該塗覆物件， 其中該基底層包含與該第一表面之該部分直接接觸的包含氧化錫的一第一膜及覆蓋該第一膜之整個部分的一第二膜， 將該塗覆物件加熱到大於或等於1,185°F的一溫度， 其中在加熱到大於或等於1,185°F的溫度後，該塗覆物件的金屬層中已減少散射中心形成。
10. 一種絕緣玻璃單元，包含： 一第一夾層，包含一1號表面及與該1號表面相對的一2號表面； 一第二夾層包含一3號表面及一4號表面， 其中該第二夾層與該第一夾層隔開，以及 其中該第一夾層與該第二夾層連接在一起；以及 在該2號表面或該3號表面之至少一部分上的一功能塗層，該功能塗層包含： 在該2號表面或該3號表面之至少一部分上的一基底層； 在該基底層之至少一部分上的一金屬層；以及 在該金屬層之至少一部分上的一頂層， 其中該基底層包含與該2號表面或該3號表面的該部分直接接觸的包含氧化錫的一第一膜及覆蓋該第一膜的整個部分的一第二膜。

Images