TW202240726A - 在真空處理設備中更換測試基板的方法及裝置、處理方法以及處理裝置 - Google Patents

在真空處理設備中更換測試基板的方法及裝置、處理方法以及處理裝置 Download PDF

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Abstract

本發明涉及在真空連續處理設備中，在包含複數個處理步驟的處理過程中更換試驗基板的方法。在處理過程開始時，為至少兩個處理步驟將至少兩個試驗基板66送入真空處理設備，並在處理過程結束後將其送出。在第一個處理步驟結束後，將處理過的第一個試驗基板66從其在處理時佔用的測量位置70取出，並將其放到一個沒有被試驗基板66佔用的空位71。接著將未處理過的第二個試驗基板66放到之前被清空的測量位置70，以便將其送入基板61的下一個處理步驟。本發明還涉及一種使用本發明之方法的處理方法，以及處理複數個基板61及更換試驗基板的裝置。

Description

在真空處理設備中更換測試基板的方法及裝置、處理方法以及處理裝置
本發明涉及一種在真空處理設備中更換測試基板的方法，以下也將測試基板稱為測試玻璃，以及一種執行此方法的裝置。
差異很大的各種基板，例如光學或太陽能發電用的基板、半導體基板、或其他基板，需要受到不同方式的處理。此處所謂的處理是指改性、添加或減少等已知的處理方式，也就是說包括改變基板或基板上的塗層的結構或能量狀態的程序、在基板上沉積或去除材料的程序。大多數的處理都需要用到非常複雜的流程，而且包含多種前面提及的處理方式。整個處理是連續進行的，而且通常都是一持保持真空狀態，沒有中斷。
上述處理用的真空連續處理設備的真空室包含複數個順序排列的處理站，基板按順序通過這些處理站，目的是最後獲得所希望的基板處理效果。真空室及處理站都具有其所需的已知處理設備，例如真空系統、處理源、製程氣體裝置、冷卻裝置、隔膜、測量裝置、控制單元、以及其他許多處理設備。
連續處理設備可以用線性或圓形輸送方式運送基板依序通過處理站。
以下將以一個旋轉盤裝置為例，描述本發明的方法及其可使用的裝置。本發明的方法也可以用類似的方式應用於線性連續處理設備，前提是基板輸送的方式適用於以下描述的本發明方法的流程。
在處理流程的移動過程中，基板支架及輸送裝置之固定基板的部件在以下的說明中統稱為載具。眾所周知的是，這些載具需符合處理設備對載具輪廓的要求，以及與基板的幾何形狀匹配。
所謂的旋轉盤裝置在一個處理室內具有複數個廣泛配置且彼此在空間和製程技術上分開的製程段。這些製程段包括對基板進行必要的前處理及後處理，及/或基板的各種處理流程。處理室被一個處理室頂蓋密封住。處理室內壁及處理室頂蓋是固定的，不會轉動。要使基板通過這種處理設備，以完成處理流程，需要依序啟動必要的製程段，同時被處理的基板和其他所有的基板透過一個適當的基板支架進行必要的轉動，而且通常是以很高的轉速轉動。
所謂處理是指對在處理設備內對基板表面進行的不同的添加、減少、或改性處理，同時也包括對整個基板的處理，例如熱處理、預處理(例如淨化或活化處理)、以及其他的處理。添加處理包括泊添加各種不同的塗層。減少處理包括整個或部分去除表面塗層，不管是寄生或先前形成的塗層，特別是以物理、化學、或機械方法去除。改性包括改變表面塗層的結構或成分，例如以熱作用、電漿作用或化學處理改變表面塗層的結構或成分。旋轉盤裝置經常被用於製造光學玻璃，也裝是在玻璃上沉積出具有所需要的光學特性的塗層堆。
為了調整及監控處理過程，需要以要處理的基板所希望的處理條件將複數個測試基板與基板一起進行處理，光學應用的測試基板稱為測試玻璃，並以適當的監控系統(最好是在現場)對測試基板進行分析。為了逐一驗證各個處理步驟，需要在當下的處理步驟中將測試基板與基板一起進行處理，並在進行下一個處理步驟之前，換上新的試驗基板。也就是說必須定期更換試驗基板，這包括從處理設備將試驗基板取出，以及將一個新的試驗基板放入處理設備。
在已知的處理設備(例如旋轉盤裝置)更換試驗基板是一件很費工、耗能高、又很耗時的事情。首先必須將每一個試驗基板及其相關支架，例如現有的基板載具及/或基板輸送裝置，送入料倉閘門。同時必須將進入料倉閘門的基板移動到負責執行試驗基板更換工作的試驗基板更換器的所在位置。接著將承載一個新的試驗基板的載具送回到處理設備。在一個處理製程中，必須重複這個過程多次。
由於這個過程非常複雜，而且很耗時，在每一次更換的過程中，載具的溫度都會明顯下降，因此接著必須將冷卻的載具加熱到與留在處理設備內與其間接和直接相鄰的元件相同的溫度，例如其他的載具及/或載具固定架。此外，不論是在料倉閘門將新的試驗基板裝到試驗基板更換器或是從試驗基板更換器缷下用過的試驗基板都是一件很費工的事。此外，只有要加快試驗基板的更換速度時，才適合將複數個試驗基板留在載具的料倉中，因為在這種情況下，沒有任何一個要處理的基板可以被放在試驗基板的載具上。
本發明的目的是克服先前技術的缺點。本發明的方法及裝置是應用於塗層作業，亦可替代本文開頭提及的處理方法。
本發明的構想是，將一個處理過程需要的所有試驗基板與基板和這個處理過程的載具(例如旋轉盤段)一起送入閘門。其中試驗基板被適當的固定件固定一或複數個或全部的載具上。透過這種方式，只有在這個這處過程結束，因此將設備打開時，才需要更換試驗基板。
根據本發明，連續式處理過程的複數個試驗基板的配置分為3種不同的位置類型。在第一位置類型，也就是測量位置，試驗基板被處理，而且可以在現場被分析。在這個位置試驗基板對處理裝置而言是“可見的“，而且試驗基板受到跟基板一樣的處理，或是與基板一起被處理。對試驗基板的分析包括重要的塗層特性，例如光學特性、電學特性、或其他特性。另外也有一些位置會處理試驗基板，或是不處理試驗基板，僅是承載試驗基板。在這些停留位置試驗基板受到保護，不會受到處理的影響。同時在載具上至少有一個試驗基板空位。在一個處理過程中，空位可以作為在試驗基板的處理過程中，空位可以作為試驗基板的暫時存放位置。
在一個處理過程中使用複數個試驗基板的流程如下： -         位於測量位置的第一個試驗基板在第一個處理階段與基板一起被處理，並且被分析。如果一個適當的監控系統查出處理步驟結束，則必須以一個新試驗基板取代這個已用過的試驗基板。 -         將第一個試驗基板從測量位置移取出，然後存放在一個空位上。為了接收和存放試驗基板，轉動中的旋轉盤會停下，並利用處理設備的一個適當的裝載站(將在本文後面說明)舉起或放下。這個裝載站可以搭配旋轉盤的計時(轉動)到達旋轉盤和載具上的每一個試驗基板。接著透過旋轉盤的繼續轉動，以及利用暫時存放，將用過的試驗基板與一個沒有被處理過的試驗基板交換。 -         接著從停留位置取出未使用過的第二個試驗基板，並放在測量位置，以監控下一個處理步驟。 -         一再重複將使用過的試驗基板與未使用過的試驗基板交換，並使用新形成的空位，直到所有要驗證的處理步驟都結束為止。 -         處理結束後，可以將處理過的基板及與其一起被處理過的試驗基板從處理設備取出。
此處是把在一個載具上實現的位置稱為基板位置或試驗基板位置，這些位置是由一個容納一個單一基板或一個單一試驗基板的適當的基板支架構成。其中支架的構造是由基板或試驗基板的種類及形狀決定。
一件很明顯的事是可以使用一個以上的測量位置或空位。但由於通常要追求的是高的處理效率，因此基板支架上不是用於基板處理的面積應盡可能的小。可以試驗或模擬精確的計算及優化一個處理過程需要的試驗基板的數量。
試驗基板的形狀通常不需要與基板相同，因此能夠優化可處理的基板表面。
不同的試驗基板位置也可以配合，以獲得高效率和完美的處理結果。
根據本發明的方法的第一種變化方式，一個處理過程需要的所有試驗基板是分佈在基板支架的複數個載具上的相應位置，因此每一個載具最好只有一個在3種可能的位置類型中的一種位置類型的試驗基板。在這種變化方式中，更換試驗基板至少會用到3個載具。為了區別起見，以下將這種主要是承載要處理的基板的載具稱為基板載具。
根據本發明的方法的一種替代方式，一個處理過程需要的所有位置及試驗基板都位於一個載具上，以下稱這個載具為試驗基板載具。在某些情況下可能會需要一個以上的試驗基板載具。試驗基板載具僅能裝載試驗基板，也就是說不裝載要處理的基板，或主要是裝置試驗基板。使用過的試驗基板與新的試驗基板的交換是在這個試驗基板載具的各個位置之間進行。如果因為某種原因，例如基板的形狀或處理情況，使基板在基板載具上的配置無法額外容納一個試驗基板，那麼就可以選擇這種變化方式。這種變化方式僅在試驗基板載具內更換一個處理過程的試驗基板。
前面描述的方法的兩種變化方式的優點是一個處理過程需要的所有試驗基板與要處理的基板一起被送入處理設備，最後也是一起被送出處理設備。因此在更換試驗基板時，基板支架中的載具可以保持在處理條件中。也就是說，在更換試驗基板時，載具不會不均勻的冷卻。此外，其他一起進入處理設備的試驗基板也可以保持在處理溫度，因此具有可重現的特性。同時還可以明顯縮短更換試驗基板的時間。此外，第二種變化方式還可以解決無法將試驗基板一起放置在參與處理過程的載具上的基板配置的問題案。
可以執行本發明的更換試驗基板的方法的處理設備包括至少一個載具，例如一個旋轉盤或複數個旋轉盤段(但這僅是舉例而言，並不構成任何限制)，要處理的基板被固定在載具面對處理源的位置，以接受處理。
一或複數個執行前述方法所使用的載具除了具有基板位置外，還具有n個試驗基板位置。至少需要多少個試驗基板位置n是由一個試驗基板要分析的處理步驟的數量N B決定： n ≥ N B+ m。
很顯然的，n、N B及m都是自然數，而且m ≥ 1。
只要本發明的處理方法在參與處理方法的載具上具有剛好比N B大1(m = 1)的試驗基板位置，則在測量位置及停留位置之間更換試驗基板時，除了尚未處理的基板、已經處理的基板、以及正要處理的試驗基板外，始終會有一個作為暫時存放試驗基板用的空位。從相對於基板輸送路徑來看，由於基板支架上的測量位置對所有試驗基板是保持不變的，因此其處理和後續對每一個處理步驟的監控可以在同一個設備位置進行。因此能夠以較簡單的方式及/或較小的空間需求進行監控，以及提高監控的可再現性。
原則上也可以有更複數個試驗基板位置(m ＞ 1)，例如有1個以上的測量位置可供使用。之所以會如此，一種可能的情況是希望處理設備配備一個以上的監控裝置，或是要提供以不同的監控方法優化的設備位置。有更複數個試驗基板位置的另一個有利的情況是，如果要在同一個時間點在測量位置及停留位置之間更換一個以上的試驗基板，因此需要一個以上的空位。但是首要考量通常是基板支架應盡可能供最多數量的要處理的基板使用，以盡可能提高處理方法的處理效率。
能夠在各個載具上設置多少個試驗基板位置是由一個處理過程使用的載具數量，以及一個試驗基板要分析的處理步驟的數量N B決定。如前面所述，在不同的實施方式中可以將試驗基板集中在一個載具上，或選擇性的集中在複數個試驗基板載具上，或是分佈在若干個或所有的基板載具上。因此可以將n ≥ 1、n ≥ 2、n ≥ 3、n ≥ 5、n ≥ 7、或最好是n ≥ 10個試驗基板設置在一個載具上，當然也可以將介於上述數量之間的任一個數量的試驗基板設置在一個載具上。
如前面開於處理方法的描述，通常n個試驗基板位置中只有一個是對處理源開放，因此位於這個位置的試驗基板面對處理源的表面可以在這個位置受到處理。其他的試驗基板位置則是對處理源封閉。這可以透過一個對處理面具有屏蔽作用的適當的隔膜獲得實現，例如載具中的一個快門，或是以其他適當的方式獲得實現。也可以選擇性的讓空位保持開放，只要不會對涉及的處理步驟的功能性造成明顯不利影響即可。這個屏蔽可以是固的、可拆開的、或是可以轉動的。在最後面提及的兩種實施方式中，試驗基板位置是可以變化著使用的。
此外，處理設備還包括至少一個試驗基板的裝載站，這至少一個裝載站至少適於相對一個試驗基板位置存放及取出試驗基板。裝載站可以部分或整個位於處理室內。
裝載站包括一個適當的夾具，以便抓取及固定試驗基板，然後將試驗基板重新放到一個試驗基板位置。夾具可以將一個試驗基板夾起，或是將一個固定在支架上的試驗基板夾起，其中夾具將支架夾住。 為了達到這個目的，而且能夠配合試驗基板的種類及其支架，夾具可以配備不同的夾緊器，這些夾緊器至少應用下列作用機制中的一種作用機制將試驗基板夾起及放下：機械式、電子式、氣動式、或磁力式作用機制。為了便於理解，以下僅總結說明試驗基板的夾緊、固定、或移動。但是兩種變化方式都應包括在內，也就是直接將試驗基板夾住，以及有支架將試驗基板固定住的變化方式。
為了達到以裝載站更換試驗基板的目的，夾具至少要執行的不同的動作包括抓住試驗基板，以及將試驗基板從所涉及試驗基板位置舉起或放到另一個試驗基板位置。這涉及一個平移移動，通常是大致垂直於載具表面及/或要處理的基板及試驗基板的表面。 此處可以將這個移動理解為Z方向的移動，但是並不應理解為一個絕對垂直的移動。
由於載具的位置及形狀的關係，這個移動也可以偏離垂直若干度。此處Z方向應作為與其夾直角的X-Y平面的基準方向，以及作為一個可能的旋轉運動的軸。與此相應的，裝載站的任務是使試驗基板至少在Z方向移動，以及也可以選擇性在X方向及/或Y方向移動，及/或繞Z軸轉動。裝載站用於執行上述移動的元件統稱為移動單元。
裝載站可以具有一個隔熱屏，這個隔熱屏至少可以遮蔽夾具，也可以選擇性的遮蔽裝載站的其他元件，以隔開來自載具的熱。可以選擇性以主動或被動方式使隔熱屏冷卻。主動冷卻是利用適當的冷卻劑將隔熱屏冷卻到所要的溫度。被動冷卻是使隔熱屏與處理設備的一個溫度較低的元件形成熱接觸，使隔熱屏能夠將熱傳輸到這個元件。
可以將裝載站設置在載具背對處理源的那一個面上，這樣載具就可以保護載具，使其免於處理過程對裝載站造成不利影響。例如，如果處理方向是由下往上，可以將裝載站安裝在處理室頂蓋上。安裝在處理室內壁上也是適當的。
裝載站可以具有距離感測器、接近感測器、及/或位置感測器，以辨識試驗基板的位置及支架。
夾具可以具有一個可以啟動和切斷磁性的磁鐵，以利用一個可磁化的元件，例如一個框架或其他形式的支架，抓取、固定及放下試驗基板。例如可以將一個永久磁鐵與一個使磁鐵失去磁性的線圈組合在一起。
裝載站的夾具可以具有一個作用在移動方向的彈簧，以使夾具的終點位置可以在試驗基板位置彈性減震。以這種方式可以使所使用的試驗基板達到可重現的處理及操作。例如，可以防止試驗基板的位置的微小偏差導致載具或試驗基板現有的支架受損，或是對處理效果造成不良的影響。
夾具有支架可以調整±90°的角度，以配合不同的試驗基板位置。
處理設備的一個適當的元件可以具有一個參考位置，特別是用於校正裝載站與被佔用和未被佔用之試驗基板位置的相對位置，以及確保處理過程中的每一個試驗基板都有可重現的定位。
以下的圖式僅以示意方式顯示裝置，而且僅顯示解說本發明所需的部分。這些圖式並不具備完整性，也不是按正確的比例繪製。
以下說明的實施方式僅是作為說明本發明用的例子，並不對本發明的範圍有任何限制。在合乎目的及合理的情況下，熟習該項技術者可以將前面及以下說明的本發明的不同的實施方式的特徵組合到其他的實施方式中。
圖1顯示一個打開的處理設備60，其中處理設備60在其真空室2內使用一個由分段的旋轉盤1構成的固定裝置。處理設備60的構造為圓形，且在其圓周上分佈複數個用於直接或間接處理基板61的處理站60‘ … 60‘‘‘‘。本實施方式是對光學玻璃進行塗層處理。試驗基板同樣也是玻璃。
旋轉盤1配備段落20，段落20是作為承載兩個接受處理的基板(僅作為舉例之用，並非必須是兩個基板)用的載具。料倉站62內設有複數個料倉(未繪出)，基板61在料倉內被留在段落20的基板位置64。以適當的基板輸送裝置轉動旋轉盤1，使基板61以很高的頻率通過處理站60‘ … 60‘‘‘‘，包括處理站。處理步驟涉及到的站會被啟動，以便在這個站內對轉動的基板執行這個處理步驟。一個處理過程包括依序啟動基板處理所需的所有的站。處理過程結束後，可以在料倉站62取出裝有處理過的基板61的段落20。很顯然的，在處理過程中，處理站60被處理室頂蓋63封住。
在本實施方式中，旋轉盤1具有一個試驗基板段落65，試驗基板段落65承載的不是基板61，而是將複數個試驗基板66(例如5個試驗基板)設置在前面描述的6個不同的試驗基板位置67。6個試驗基板位置67中一個是空的。
裝載站80設置在旋轉盤裝置60的處理室頂蓋63上，並穿過處理室頂蓋63伸入旋轉盤裝置60。裝載站80是用於更換試驗基板位置67內的處理過及未處理的試驗基板66。此處裝載站80位於料倉站62的對面，但這只是作為例子，並不表示裝載站必須位於料倉站對面。
圖2a顯示旋轉盤1帶有如圖1之試驗基板段落65的一個部分。圖式顯示的6個試驗基板位置67中的一個試驗基板位置是測量位置70，在使用處理方法時，這個位置裝有一個試驗基板66，以便使這個試驗基板66接受正要進行的處理。處理時旋轉盤將試驗基板段落65轉動到所涉及的處理站60‘ … 60‘‘‘‘ 。
另一個試驗基板位置67是空位71，這個位置暫時沒有試驗基板，這個位置是用於將置於剩下的4個試驗基板位置67的試驗基板依序更換到測量位置70。前面提及的剩下的4個試驗基板位置67是作為停留位置72。處理過或尚未處理的試驗基板66被固定在這些停留位置，以免於受到的處理過程的影響。
圖2b顯示試驗基板位置67的一種替代配置方式。在這種替代方式中，每一個段落20除了要處理的基板61外，還有一個試驗基板位置67。為了與圖2a描述的僅裝有試驗基板66、但是沒有基板61的試驗基板段落65區別，所以將段落20稱為基板段落69。如圖2a的描述，其中有兩個是測量站70及空位71。在圖2b中，這兩個站位於相鄰的基板段落69，但這僅只作為例子，並不表示測量站及空位必須位於相鄰的基板段落。停留位置72分佈在剩下的段落20。
在圖2a及圖2b中，為了便於區分測量站70及空位71，繪有陰影線的代表測量站70，繪有一個叉號的代表空位71。
圖3顯示一個穿過處理室頂蓋63伸入旋轉盤裝置60的裝載站80。裝載站80 設置在處理室頂蓋63上，因此位於段落20上方。為了使圖面易於觀察，以及便於描述裝載站80，因此並未將段落20 的基板61繪出。
裝載站80包括一個設置在旋轉盤裝置60 內的夾具81，以及一個移動裝置82。例如可以將移動裝置82安裝在處理室頂蓋上，並經由一個軸83與夾具81連接。
移動裝置82可以使夾具81軸向移動。
也可以選擇性的使夾具81進行一個相對於旋轉盤1之中心軸(未繪出)的移動，及/或使夾緊器85(屬於夾具81的一部分)進行一個相對於軸83的徑向移動。
夾具81包括一個用於將試驗基板66夾起的適當的夾緊器85。例如可以將夾緊器85以懸臂方式安裝在夾具81上。
夾具及/或夾緊器85可以繞一個由軸83定義的平行於Z方向(如圖式中座標系統顯示的Z方向)的軸84轉動。
由於夾緊器85可執行的移動，以及搭配裝載站80的一個以旋轉盤1及其上的試驗基板位置67為準的優化位置，夾緊器85可以到達旋轉盤1的每一個試驗基板位置67。
此外，圖3之實施方式的夾具還包括一個設置在夾具81及段落20之間的隔熱屏92，在處理過程中，隔熱屏92至少可以保護夾具81、或是也可以保護夾緊器85免於因段落20所生的熱負荷造成損害。隔熱屏92可以有不同的設計和操作方式，例如可以依據是否有冷卻器及/或冷卻器的種類和大小區別出不同的隔熱屏。在本實施方式中，隔熱屏92是固定安裝在處理室頂蓋63上，同時夾緊器85可以在隔熱屏92 的後方轉動。當然也可以使用其他設計與構造方式的隔熱屏。例如，可以將隔熱屏92設計成可以繞自身的一個與軸84平行的軸轉動。當然也可以將隔熱屏設計成可以執行上述兩種移動方式。
圖4顯示夾緊器85與試驗基板66的共同作用。
試驗基板66就是或是包括被一個框架87固定住的試驗基板86。當然也可以使用其他構造方式的試驗基板66，例如可以根據夾緊器85或基板材料的作用機制或其他條件設計試驗基板66。
夾緊器85具有一個從軸83徑向伸出的懸臂88。懸臂88的自由端89具有一或複數個磁鐵支架90，其中磁鐵支架90的底端帶有平坦的接收面91，以便將試驗基板66的金屬框架吸住、固定、及放下。為達到這個目的，磁鐵支架90具有永久磁鐵(未繪出)及線圈(未繪出)，而且二者共同作用，也就是說線圈可以啟動永久磁鐵的磁場將試驗基板66吸住，以及去除了永久磁鐵的磁場將試驗基板66放下。
夾緊器85及/或夾具82具有適當的感測器(未繪出)，以偵測夾緊器85及試驗基板66對彼此的相對位置及接近情況。例如，感測器能夠以一個適當的參考點為準，偵測出夾具的高度或試驗基板的位置。
磁鐵支架90直接或間接經由一個彈簧91與自由端89連接，由於彈簧會因為磁鐵支架90與試驗基板66的框架87之間的接觸而受壓，因此可以防止二者接觸時，試驗基板受到強力碰撞66，也就是說試驗基板66被彈性減震。以這種方式也可以補償各個試驗基板的不同的高度位置。
1:旋轉盤 2:真空室 20:載具 60:處理設備、旋轉盤裝置 60‘ … 60‘‘‘‘:處理站 61:基板 62:料倉站 63:處理室頂蓋 64:基板位置 65:試驗基板段落 66:試驗基板 67:試驗基板位置 69:基板段落 70:作為測量位置 71:作為空位 72:作為停留位置 80:裝載站 81:夾具 83、84:軸 85:夾緊器 87:框架 88:懸臂 89:自由端 90:磁鐵支架 91:接收面 92:隔熱屏
以下將配合實施方式對本發明做進一步的說明。相關圖式為： 圖1：一個旋轉盤裝置的立體圖。 圖2a及圖2b：一個旋轉盤，顯示其替代的試驗基板位置或試驗基板。 圖3：一個裝載站，安裝在旋轉盤裝置的處理室頂蓋上。 圖4：裝載站的一個位於試驗基板上方的夾具。
1:旋轉盤
2:真空室
20:載具
60:處理設備、旋轉盤裝置
60‘...60````:處理站
61:基板
62:料倉站
63:處理室頂蓋
64:基板位置
65:試驗基板段落
66:試驗基板
67:試驗基板位置
80:裝載站

Claims (16)

  1. 一種在包含複數個依序進行之處理步驟的處理過程中更換試驗基板的方法，其中處理過程是在一個真空連續處理設備中進行，此真空連續處理設備具有複數個處理站(60‘ … 60‘‘‘‘)及一個具有至少一個載具(20)的輸送裝置(1)，其中輸送裝置(1)是利用至少一個載具(20)固定要處理的基板(61)及試驗基板(66)，以及利用複數個處理站(60‘ … 60‘‘‘‘)運送要處理的基板(61)及試驗基板(66)，其中為至少兩個處理步驟各送入一個未處理的試驗基板(66)及一個要處理的基板(61)進行處理， 其特徵為： -         在處理過程開始時，將至少兩個試驗基板(66)送入真空處理設備，並在處理過程結束後將其送出； -         在第一個處理步驟結束後，將處理過的第一個試驗基板(66)從其在處理時佔用的載具(20)上的測量位置(70)取出，並將其放到載具(20)上一個沒有被試驗基板(66)佔用的空位(71)；以及 -         接著將未處理過的第二個試驗基板(66)從其原本在載具(20)上佔用的停留位置(72)取出，並將其放到之前被清空的測量位置(70)，以便將其送入基板(61)的下一個處理步驟。
  2. 如請求項1所述的更換試驗基板的方法，其特徵為：將之前處理過的試驗基板(66)從空位(71)取出，並將其放到載具(20)上一個之前被清空或另一個沒有試驗基板(66)的停留位置(72)。
  3. 如請求項2所述的更換試驗基板的方法，其特徵為：送入兩個以上的試驗基板(66)送入，並在每一個處理步驟結束後，在測量站(70)、空位(71)、以及停留位置(72)之間更換試驗基板(66)，直到所有的試驗基板(66)都被處理過為止。
  4. 如前述請求項中任一項所述的更換試驗基板的方法，其特徵為：利用真空連續處理設備的一個裝載站(80)在前面提及的試驗基板位置(67)之間更換試驗基板(66)，以及利用輸送裝置(1)將試驗基板位置(67)相對於裝載站(80)移動，以供其存取試驗基板。
  5. 如前述請求項中任一項所述的更換試驗基板的方法，其特徵為：裝載站(80)利用至少一種以下列出的作用機制存取試驗基板(66)或固定試驗基板(66) ：機械式、電子式、氣動式、磁力式作用機制。
  6. 如前述請求項中任一項所述的更換試驗基板的方法，其特徵為：輸送裝置(1)包括複數個載具(20)，並且是在同一個載具(20)或不同的載具(20)上的測量站(70)及/或空位(71)及/或停留位置(72)之間更換試驗基板(66)。
  7. 一種在真空處理設備中，以包含複數個依序進行之處理步驟的真空處理過程對複數個基板(61)進行改性、添加或減少的處理方法，其中真空處理設備具有複數個處理站(60‘ … 60‘‘‘‘)，以及一個具有至少一個載具(20)的輸送裝置(1)，其中輸送裝置(1)是利用至少一個載具(20)固定要處理的基板(61)及試驗基板(66)，以及利用複數個處理站(60‘ … 60‘‘‘‘)運送要處理的基板(61)及試驗基板(66)，其中為至少兩個處理步驟各送入一個位於至少一個載具(20)的測量站(70)的未處理的試驗基板(66)及一個基板(61)一起進行處理，並分析試驗基板(66)的處理結果，其特徵為：以前述請求項中任一項所述的方法，為下一個處理步驟將之前在測量位置(70)處理過的試驗基板(66)更換成一個未處理的試驗基板(66)。
  8. 如請求項7所述的處理方法，其特徵為：為處理過程中每一個要監控的處理步驟將一個試驗基板(66)與一個基板(61)一起送入，並在測量站(70)被處理及分析，其中未處理的試驗基板(66)留在停留位置，以免受到處理。
  9. 如請求項7或請求項8所述的處理方法，其特徵為：在處理期間，基板(61)及試驗基板(66)是在一個圓形軌道上被運送通過處理站(60‘ … 60‘‘‘‘)，同時在一個處理步驟涉及的處理站(60‘ … 60‘‘‘‘)內被重複處理，同時為了更換試驗基板(66)的位置，基板運送會在處理設備在更換試驗基板用的裝載站(80)的位置停住，以便能夠抓取現在要使用的試驗基板(67)。
  10. 一種裝載站，用於執行請求項1至請求項6中任一項所述之方法，具有一個夾具(81)，其中夾具(81)具有一個至少是逐段變平坦的接收面(91)，以及一個移動單元(82)，其中接收面(91)可以靠放在試驗基板(66)上，以及將試驗基板(66)固定住，移動單元(82)可以使夾具(81)至少在垂直於接收面的方向移動，以下將這個方向稱為z方向，其特徵為： 夾具(81)包括夾緊器(85)，其作用是啟動及切斷對於試驗基板(66)在接收面(91)上的固定。
  11. 如請求項10所述的裝載站，其特徵為：移動單元(82)可以繞一個Z轉動，及/或在一個垂直於Z方向的X-Y平面移動。
  12. 如請求項10或請求項11所述的裝載站，其特徵為：裝載站(80)還具有下列元件中的至少一種元件：一個可選擇性冷卻的隔熱屏(92)，其作用是保護夾具(81)免於因載具(20)造成的熱負荷而受損；距離、接近及/或位置感測器， 其作用是辨識試驗基板(66)的位置及固定；一個可以在X方向伸長或壓縮的彈簧，其作用是為夾具(81)提供在Z方向移動的彈性減震。
  13. 一種真空連續處理設備，用於執行如請求項7至請求項9中任一項所述的方法，包括以下的元件： -         一個真空室(2)，其內設有複數個在處理基板(61)時要依序通過的處理站(60‘ … 60‘‘‘‘)； -         一個至少包括一個夾具(20)的輸送裝置(1)，其利用至少一個夾具(20)固定基板(61)及試驗基板(66)，以及運送基板(61)及試驗基板(66)通過複數個處理站(60‘ … 60‘‘‘‘)； -         其特徵為：在第一種替代方式中，該至少一個載具(20)具有至少一個接收一個要處理的基板(61)用的基板位置(64)，以及至少一個用於接收一個試驗基板(66)、作為空位(71)、作為測量位置(70)、或作為停留位置(72)用的試驗基板位置(67)；或是在第二種替代方式中， 該至少一個載具(20)具有至少3個試驗基板位置(67)，但是沒有基板位置(64)，其中試驗基板位置(67)中有一個是作為空位(71)、一個是作為測量位置(70)、還有一個是作為停留位置(72)。
  14. 如請求項13所述的真空連續處理設備，其特徵為：一個載具(20)或複數個載具(20)共同具有用於一個處理過程的n個試驗基板位置(67)，其中n是由以每一個試驗基板(66)要分析的處理步驟的數量N B加上m所產生，而且m是一個大於或等於1的自然數。
  15. 如請求項13或請求項14所述的真空連續處理設備，其特徵為：每一個停留位置(72)在其面對處理源的那一個面上都具有一個固定、可轉動、或是可拆開的屏蔽。
  16. 如請求項13至請求項15中任一項所述的真空連續處理設備，其特徵為：處理設備具有一個如請求項10至請求項12中任一項所述的裝載站(80)。
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