TW202203532A - 控制裝置、控制系統與用於操作控制系統的方法 - Google Patents

控制裝置、控制系統與用於操作控制系統的方法 Download PDF

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Abstract

一種用於一雷射模組（20，21）的頻率控制之控制系統（19、29、33、58），包括至少一個用於產生雷射輻射的雷射模組（20、21）、至少一個與該雷射模組（20、21）耦接或可耦接的控制裝置（1），以及至少一個與該控制裝置（1）耦接或可耦接的光學共振器（16、23、34），其中該控制裝置（1）包括一半導體基板（2）、具體實施在該半導體基板（2）上的第一Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）和具體實施在該半導體基板（2）上的至少一個第二Pound-Drever-Hall系統（3、4、22），其中，該雷射模組（20、21）耦接至該控制裝置（1）的第一Pound-Drever-Hall系統（3、4、22），並且耦接至該控制裝置（1）的該至少第二Pound-Drever-Hall系統（3、4、22），並且其中該第一Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）耦接至該光學共振器（16、23、34）並且其中該第二Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）耦接至該光學共振器（16、23、34）。

Description

控制裝置、控制系統與用於操作控制系統的方法
本發明係關於一種控制裝置，該控制裝置包括半導體基板和在該半導體基板上實施的第一Pound-Drever-Hall系統。
本發明更進一步關於控制系統、操作該控制系統的方法以及包括這種控制系統的投影曝光設備。
從先前技術中已知發明背景所述控制裝置類型。在這方面，例如在Idjadi等人的《Integrated Pound-Drever-Hall laser stabilization system in silicon》，Nature Communications 8, 1-9（2017）中描述一種控制裝置，其包括半導體基板和具體實施在該半導體基板上的第一Pound-Drever-Hall系統。在這種情況下，控制裝置具有這樣的效果，即由雷射或雷射模組發射的雷射輻射之頻率可受控制或穩定至可預定的參考頻率，使得雷射輻射的頻率等於參考頻率。在這種情況下，參考頻率由控制裝置本身的元件產生。
從Drever, R. W. P.等人發表於Appl. Phys. B Photophysics Laser Chem. 31, 97–105（1983）以及文件WO2013/016249A2、US2013/0044772A1、WO2013/040143A2中的「Laser phase and frequency stabilization using an optical resonator」、Alnis等人發表於Phys. Rev. A – At. Mol. Opt. Phys. 88（2008）中的「Subhertz linewidth diode lasers by stabilization to vibrationally and thermally compensated ultralow-expansion glass Fabry-Perot cavities」、Zhao等人發表於Opt. Commun. 283, 4696-4700（2019）中的「Sub-Hertz frequency stabilization of a commercial diode laser」、Toptica-Photonics公司產品型錄與資料表「Tuneable Diode Lasers」2020版第41頁，以及Biedermann, B., Menlo Systems ORS1500 Optical Reference System：設計與性能（2013）中，已知其他控制裝置。
在上述先前技術下，本發明目的為提供一種改良的控制裝置和改良的控制系統。
根據獨立專利申請項的特徵可達成此目的。
根據一態樣，提供在半導體基板上具體實施至少一個第二Pound-Drever-Hall系統。因此，在半導體基板上具體實施至少兩個，尤其是十個以上，較佳超過50個Pound-Drever-Hall系統。此處的優點在於使得單一組件或單一控制裝置變得可用，其包括多個Pound-Drever-Hall系統，該系統尤其是可同時操作。作為同時操作的替代方案，至少第二Pound-Drever-Hall系統可根據需求以特定的方式來運用或使用。「根據需求」例如係指至少第二Pound-Drever-Hall系統相對於第一Pound-Drever-Hall系統當成或設置為備用系統，從而，尤其是在第一Pound-Drever-Hall系統的功能故障、嚴重退化或受損的情況下，第二Pound-Drever-Hall系統將接管或可接管第一Pound-Drever-Hall系統的功能或任務。此外，由於相應的Pound-Drever-Hall系統具體實施或能夠具體實施在一個並且相同的半導體基板上，因此該控制裝置可以具成本效益的方式生產並且節省結構空間。
根據一個具體實施例，第一和至少第二Pound-Drever-Hall系統可分別驅動。這提供了Pound-Drever-Hall系統可有針對性地，特別是彼此獨立地進行操作之優點。舉例來說，這確保至少兩個Pound-Drever-Hall系統可同時或可替代地以相對於彼此在時間上偏移之方式操作或可操作。
根據另一具體實施例，控制裝置包括至少一個控制器，其設置成驅動第一和至少第二Pound-Drever-Hall系統。此處的優點在於，多個Pound-Drever-Hall系統可以簡單方式驅動，特別是可由單一控制器集中驅動。該控制器較佳為單獨的控制器，即未具體實施在半導體基板上，該控制器以傳訊方式，特別是有線方式，連接至控制裝置。
根據另一具體實施例，提供相應的Pound-Drever-Hall系統，以包括至少一個可驅動的相位調變器單元和/或至少一個光偵測器單元。尤其借助於相位調變器單元的驅動，以預定方式將引導通過相位調變器的光輻射進行相位調變和/或頻率調變。這確保產生至少一個邊帶的能力，邊帶即與光輻射載波頻率等距間隔的頻帶。光偵測器單元用於偵測或捕捉受引導通過Pound-Drever-Hall系統的光輻射。相位調變器單元和光偵測器單元較佳透過一或多個光波導元件彼此連接。光波導元件或相應光波導元件較佳由玻璃材料、聚合物材料和/或由氮化矽形成。
根據另一具體實施例，光偵測器單元是與控制裝置內聚連接的單獨組件。此處的優點在於，由於能夠將光偵測器單元單獨安裝在半導體基板上，因此簡化了控制裝置的製程。較佳是，光偵測器單元結合到半導體基板上。
根據一個具體實施例，提供Pound-Drever-Hall系統，以包括至少一個電子組件，該至少一個電子組件或多個電子組件例如為放大器、振盪器、低通濾波器或帶通濾波器、電壓電流轉換器和/或類比數位轉換器。
根據一個具體實施例，提供該電子組件為與控制裝置內聚連接的單獨組件。此處的優點在於，由於能夠將該電子組件或該等電子組件單獨安裝在半導體基板上，因此簡化了控制裝置的製程。較佳是，一或多個電子組件結合到半導體基板上。
根據一個具體實施例，半導體基板包括矽和/或氮化矽。
根據本發明的控制系統特徵在於，至少一個用於產生雷射輻射的雷射模組、至少一個與該雷射模組耦接或可耦接的控制裝置，以及至少一個與該控制裝置耦接或可耦接的光學共振器，其中該控制裝置包括一半導體基板、具體實施在該半導體基板上的第一Pound-Drever-Hall系統和具體實施在該半導體基板上的至少一個第二Pound-Drever-Hall系統。在此優點是，提供用於控制頻率，特別是雷射模組中光輻射的載波頻率之特別精確且特別快速的控制系統。較佳是，將頻率或載波頻率控制為在光學共振器中形成的共振頻率。特別是，該控制系統以這種方式確保頻率或載波頻率的可控性，使得即使在共振頻率發生變化的情況下，該頻率也總是等於或保持等於共振頻率。此外，提供的優點是，多個雷射模組可通過控制系統並行操作和控制。光學共振器較佳由彼此隔開一定距離佈置的兩個反射鏡元件形成。較佳是，控制系統還包括至少一個隔離器和至少一個延遲板，特別是λ/4或λ/2板或等效整合組件。
根據本發明，提供雷射模組與控制裝置的第一Pound-Drever-Hall系統耦接，並且可與控制裝置的至少第二Pound-Drever-Hall系統耦接。這樣做的好處是，第二個Pound-Drever-Hall系統可根據需要與雷射模組耦接。因此，第二Pound-Drever-Hall系統特別作為第一Pound-Drever-Hall系統的備用系統。如此在第一Pound-Drever-Hall系統故障或功能故障的情況下，能夠繼續確保控制裝置和控制系統的可靠功能。
根據一個發展，提供控制系統包括至少兩個雷射模組和至少三個Pound-Drever-Hall系統，其中每個雷射模組都耦接到該控制裝置的相應Pound-Drever-Hall系統，並且其中每個雷射模組都可與控制裝置的至少一個第三Pound-Drever-Hall系統耦接。這樣做的好處是，第三Pound-Drever-Hall系統可根據需要與其中一個雷射模組耦接，從而即使在已耦接的Pound-Drever-Hall系統發生功能故障或出現故障的情況下，也可確保或繼續確保控制裝置和控制系統可靠的功能。
根據本發明，提供將第一Pound-Drever-Hall系統耦接到光學共振器，並且第二Pound-Drever-Hall系統可耦接到光學共振器。這樣做的好處是，第二個Pound-Drever-Hall系統可根據需要與光學共振器耦接。因此，第二Pound-Drever-Hall系統作為第一Pound-Drever-Hall系統的備用系統。如此在第一Pound-Drever-Hall系統故障或功能故障的情況下，能夠繼續確保控制裝置和控制系統的可靠功能。
根據一個發展，提供控制系統，以包括至少兩個光學共振器和至少三個Pound-Drever-Hall系統，其中每個光學共振器都耦接到該控制裝置的相應Pound-Drever-Hall系統，並且其中每個光學共振器都可與至少第三Pound-Drever-Hall系統耦接。這樣做的好處是，第三Pound-Drever-Hall系統可根據需要與其中一個光學共振器耦接，從而即使在已耦接的Pound-Drever-Hall系統發生功能故障或出現故障的情況下，也可確保或繼續確保控制裝置和控制系統可靠的功能。
根據一種發展，提供Pound-Drever-Hall系統的數量大於雷射模組或光學共振器的數量。這樣可確保至少有一個Pound-Drever-Hall系統可作為備用系統或其他系統。如果控制系統包括的雷射模組多於光學共振器，那麼Pound-Drever-Hall系統的數量最好大於雷射模組的數量。如果控制系統包括的光學共振器多於雷射模組，那麼Pound-Drever-Hall系統的數量最好大於光學共振器的數量。
根據一種發展，Pound-Drever-Hall系統的數量至少是雷射模組或光學共振器數量的兩倍。
根據一種發展，控制裝置包括至少一個驅動單元，其設置成驅動第一和至少第二Pound-Drever-Hall系統來執行耦接或解耦。此處的優點在於，各個Pound-Drever-Hall系統可以針對性且簡單的方式與特定的雷射模組和/或特定的光學共振器耦接或解耦。
根據一個具體實施例，驅動單元為矩陣電路，特別是光學、光子整合或光纖矩陣電路。此處的優點在於，能夠特別快速地進行耦接和/或解耦。
根據一個具體實施例，雷射模組耦接到至少兩個Pound-Drever-Hall系統。此處的優點在於，單個雷射模組的雷射輻射為或可並行或同時導入兩或多個Pound-Drever-Hall系統中。較佳是，每個Pound-Drever-Hall系統都耦接到一個並相同的光學共振器。另外，每個Pound-Drever-Hall系統都耦接到相應的光學共振器，其中該等光學共振器彼此不同。選擇性，控制系統包括至少兩個雷射模組，其中至少兩個雷射模組的每一者分別與至少兩個Pound-Drever-Hall系統耦接。
根據一個具體實施例，耦接到雷射模組的一個Pound-Drever-Hall系統之雷射輻射和耦接到雷射模組的另一個Pound-Drever-Hall系統之雷射輻射相對於彼此具有相位偏移或頻率偏移。在這種情況下，「相位偏移」係指耦接到雷射模組的一個Pound-Drever-Hall系統中雷射輻射之頻率或載波頻率與耦接到雷射模組的另一個Pound-Drever-Hall系統中雷射輻射之頻率或載波頻率具有不同距離，尤其是彼此等距。因此，「相位偏移」應理解為尤其是頻率偏移。「等距」係指耦接到雷射模組的一個Pound-Drever-Hall系統中雷射輻射之頻率或載波頻率為耦接到雷射模組的另一個Pound-Drever-Hall系統中雷射輻射之頻率或載波頻率的整數倍數。尤其是，耦接到雷射模組的一個Pound-Drever-Hall系統中雷射輻射之頻率或載波頻率與耦接到雷射模組的另一個Pound-Drever-Hall系統中雷射輻射之頻率或載波頻率形成頻率梳。較佳是，提供耦接到雷射模組的一個Pound-Drever-Hall系統中雷射輻射之頻率或載波頻率與耦接到雷射模組的另一個Pound-Drever-Hall系統中雷射輻射之頻率或載波頻率對應到光學共振器的至少兩共振器模組之間一模式間隔的整數倍數。
根據一個具體實施例，為了產生相位偏移或頻率偏移，將調變器單元連接在雷射模組與Pound-Drever-Hall系統之間。調變器單元例如為電光調變器或電光相位調變器。這提供了以下優點：相位偏移或頻率偏移，並且因此尤其是可用簡單方式產生由耦接到雷射模組的一個Pound-Drever-Hall系統中雷射輻射之頻率或載波頻率與耦接到雷射模組的另一個Pound-Drever-Hall系統中雷射輻射之頻率或載波頻率所形成的頻率梳。因此，電光相位調變器較佳設置成產生形成頻率梳的多個邊帶。
根據一個具體實施例，調變器單元包括梳狀線間距控制單元。
根據一種發展，控制系統包括另一光偵測器單元，其中該光偵測器單元可連接或已連接到參考光源。
根據一種發展，控制系統包括第一波長選擇光學開關和至少一個第二波長選擇光學開關。這具有的優點是，頻率梳的可確定或已確定的梳狀線，特別是用於頻率控制的，是可選擇的或可濾波的。
根據本發明用於操作控制系統的方法通過申請專利範圍第22項之特徵來凸顯，由此提供已提到的優點。根據上面的描述和申請專利範圍，其他優點和較佳特徵是顯而易見的。
根據本發明用於對控制系統的雷射模組執行頻率控制之方法通過申請專利範圍第23項之特徵來凸顯，由此提供已提到的優點。根據上面的描述和申請專利範圍，其他優點和較佳特徵是顯而易見的。
根據一個具體實施例，基於驅動梳狀線間距控制單元來執行頻率控制。
根據本發明用於具有如申請專利範圍第25項的特徵之EUV微影投影曝光設備之照明系統，透過如申請專利範圍第1至21項任一項之特徵來凸顯，由此提供已提到的優點。根據上面的描述和申請專利範圍，其他優點和較佳特徵是顯而易見的。
根據本發明用於具有如申請專利範圍第26項的特徵之EUV微影投影曝光設備之投影系統，透過如申請專利範圍第1至21項任一項之特徵來凸顯，由此提供已提到的優點。根據上面的描述和申請專利範圍，其他優點和較佳特徵是顯而易見的。
根據本發明用於具有如申請專利範圍第27項的特徵之EUV微影投影曝光設備，透過如申請專利範圍第1至21項任一項之特徵來凸顯，由此提供已提到的優點。根據上面的描述和申請專利範圍，其他優點和較佳特徵是顯而易見的。
圖1以簡化圖示顯示根據第一示範具體實施例的控制裝置1。控制裝置1包括半導體基板2，並且還包括具體實施於半導體基板2上的第一Pound-Drever-Hall系統3以及具體實施於半導體基板2上的第二Pound-Drever-Hall系統4。選擇性，在半導體基板2上具體實施超過兩個Pound-Drever-Hall系統3、4，特別是超過十個，較佳超過五十個，選擇性超過一百個。
相應的Pound-Drever-Hall系統3、4包括至少一個相位調變器單元5、至少一個分束器元件6，該元件例如由一或多個部分透射反射鏡或特別是由已耦接的波導形成，以及至少一個光偵測器單元7。較佳是，相位調變器單元5、分束器元件6和光偵測器單元7透過光波導元件8彼此連接。光波導元件8較佳由玻璃材料、聚合物材料、矽和/或由氮化矽形成。較佳是，將相位調變器單元5、分束器元件6和波導元件8單片整合在半導體基板2中或具體實施於其上。光偵測器單元7較佳單片整合在半導體基板2中或具體實施於其上。選擇性，光偵測器單元7係例如過鍵合連接而黏結連接至控制裝置1，特別是半導體基板2的單獨組件。
此外，相應的Pound-Drever-Hall系統3、4包括至少一個電子組件9。在當前情況下，相應的Pound-Drever-Hall系統3、4包括多個電子組件9，特別是電子放大器10、電子混合元件11、電子振盪器12，用於驅動相位調變器5的電子驅動器元件13、低通濾波器元件14、電壓-電流轉換器15和數位類比轉換器（這裡未示出）。較佳是，電子組件9各自單一整合或具體實施於半導體基板2中。選擇性，電子組件9至少之一者為係例如透過鍵合連接而黏結連接至控制裝置1，特別是半導體基板2的單獨組件。選擇性，所有電子組件9形成組件模組17，組件模組17可例如透過鍵合連接而黏結連接或已連接至控制裝置1，特別是控制裝置1的半導體基板2。
第一和第二Pound-Drever-Hall系統3、4均具體實施為可驅動，這確保相應Pound-Drever-Hall系統3、4的獨立操作。為了驅動Pound-Drever-Hall系統3、4，控制裝置1包括控制器18，其中控制器18連接到Pound-Drever-Hall系統3、4來傳訊。
較佳是，控制裝置1具體實施為光子積體電路。
較佳是，半導體基板2包括矽、氧化矽和/或氮化矽。
圖2以簡化圖示顯示根據第一示範具體實施例的控制系統19。控制系統19包括至少一個雷射模組20，在當前情況下為兩個雷射模組20、21，控制裝置1其包括根據示範具體實施例的三個Pound-Drever-Hall系統3、4、22，並且也包括至少一個光學共振器16，在當前情況下為兩個光學共振器16、23。控制系統19用於相應雷射模組20、21的頻率控制或頻率穩定，特別是相應雷射模組20、21的頻率或載波頻率。雷射模組20、21較佳具體實施為可調變、可連續操作的雷射模組20、21，特別是雷射二極體。
在當前情況下，雷射模組20之一者耦接到Pound-Drever-Hall系統3，而雷射模組21之另一者則耦接到Pound-Drever-Hall系統4。在基於雷射模組20與Pound-Drever-Hall系統3的範例情況下之解釋，「耦接」係指雷射模組20與Pound-Drever-Hall系統3之間存在傳訊連接。因此，由雷射模組20發射的雷射輻射特別透過波導元件8引導到Pound-Drever-Hall系統3中。在當前情況下，與雷射模組20、21中任一者都不耦接的Pound-Drever-Hall系統22在當前情況下是可耦接的Pound-Drever-Hall系統。
更進一步，光學共振器16耦接到Pound-Drever-Hall系統3，而光學共振器23則耦接到Pound-Drever-Hall系統4。在基於光學共振器16與Pound-Drever-Hall系統3的範例情況下之解釋，「耦接」係指光學共振器16與Pound-Drever-Hall系統3之間存在傳訊連接。已導入Pound-Drever-Hall系統3中的雷射輻射透過波導元件8到達光學共振器16。在當前情況下，與光學共振器16、23中任一者都不耦接的Pound-Drever-Hall系統22在當前情況下是可耦接的Pound-Drever-Hall系統。
控制系統19包括驅動單元24，該單元在當前情況下設置成驅動三個Pound-Drever-Hall系統3、4、22之每一者和/或在當前情況下驅動兩個雷射模組20、21，特別是接著依序將雷射模組20、21之一者耦接至Pound-Drever-Hall系統3、4、22之一者和/或將雷射模組20、21之一者與Pound-Drever-Hall系統3、4、22之一者解耦。驅動單元24包括一矩陣電路25，特別是高頻光學矩陣電路。驅動單元24或矩陣電路25較佳包括多個信號輸入26和多個信號輸出27。較佳是，相應信號輸入26可連接至相應雷射模組20、21，並且相應信號輸出27可連接至相應Pound-Drever-Hall系統3、4。就傳訊而言，驅動單元24較佳連接至控制器18或此處未示出的另一控制器。
在當前情況下，控制系統19包括另一個驅動單元28，該單元特別具體實施為光學矩陣電路25，並設置成在當前情況下驅動三個Pound-Drever-Hall系統3、4、22之每一者和/或在當前情況下兩個光學共振器16、23，特別是依序執行將Pound-Drever-Hall系統3、4、22之一者耦接至光學共振器16、23之一者和/或將Pound-Drever-Hall系統3、4、22之一者與光學共振器16、23之一者解耦。
較佳是，Pound-Drever-Hall系統3、4、22的數量大於雷射模組20、21或光學共振器16、23的數量。較佳是，Pound-Drever-Hall系統3、4、22的數量至少是雷射模組20、21或光學共振器16、23數量的兩倍。這確保總是可取得做為備用系統有足夠數量的額外，尤其是可耦接的Pound-Drever-Hall系統3、4、22或Pound-Drever-Hall系統。
選擇性，控制裝置1包括在此未示出的光學隔離器和/或延遲板，例如λ/4板。隔離器和/或延遲板較佳佈置在控制裝置1與光學共振器16、23之間。
選擇性，雷射模組20、21之至少一者，特別是所有雷射模組20、21，都是控制裝置1本身的一部分。因此，雷射模組20、21選擇性具體實施於控制裝置1的半導體基板2上。
圖3顯示用於雷射模組的頻率穩定或頻率控制之流程圖。為了簡化起見，以雷射模組20、Pound-Drever-Hall系統3和光學共振器16為例來描述該方法。
在第一步驟S1中，將雷射模組20耦接到Pound-Drever-Hall系統3。該耦接受到驅動單元24的影響。
在第二步驟S2中，由雷射模組20產生具有可預定頻率，此後稱為載波頻率的雷射輻射，並將其引導至Pound-Drever-Hall系統3中。
在第三步驟S3中，雷射輻射進入相位調變器5。驅動相位調變器以產生至少一個邊帶，特別是多個邊帶。「邊帶」在當前情況下係指與雷射輻射的載波頻率等距間隔的頻率。
在第四步驟S4中，雷射輻射通過分束器元件15。具有載波頻率的一部分雷射輻射（第一部分光束）在光偵測器單元7的方向上偏轉。而雷射輻射的另一部分（第二部分光束）被指向光學共振器16的方向。光學共振器16較佳由兩個反射鏡元件或者特別已耦接波導元件所形成，該兩反射鏡元件彼此隔開一可預定距離。入射到光學共振器16上而進入光學共振器16的雷射輻射部分在光學共振器16中反射，返回到分束器15，然後在光偵測器單元7的方向上偏轉。雷射輻射的另一部分，即穿過光學共振器16的雷射輻射，同樣具有該載波頻率，其中特別複雜的是，該載波頻率可具有由於光學共振器16的反射率所產生之頻率相依相移。
在第五步驟S5中，第一部分光束的載波頻率經過疊加，並且與第二部分光束的載波頻率進行比較。疊加在光偵測器單元7中進行。
第六步驟S6涉及監視第一部分光束的載波頻率與第二部分光束的載波頻率間之偏差。這尤其取決於第二部分光束的載波頻率與第一部分光束的載波頻率以及由相位調變器5所產生邊帶之疊加。如果所偵測到的偏差等於零，則該偏差可例如基於根據疊加而產生的光電流來確定，則方法繼續步驟S2。如果雷射模組20的載波頻率等於光學共振器16的共振頻率，則該偏差為零。此外或另外，如果第一部分光束的載波頻率等於第二部分光束的載波頻率，則偏差為零，其中第二部分光束的載波頻率為或必須等於光學共振器16的共振頻率。
如果偵測到的偏差不等於零，則在第七步驟S7中，將雷射模組20的載波頻率控制成等於光學共振器16的共振頻率。該控制借助於電校正電流或控制電流來實現，該等電流係基於光電流所產生，特別是透過電子元件9並饋送到雷射模組20。
控制系統19和該方法的優點在於，雷射模組塊20、21的頻率或載波頻率對光學共振器16、23中的變化，特別是長度的變化，特別迅速並且特別準確地起反應或可起反應。因此，載波頻率可以與光學共振器16的共振頻率相同之方式連續控制。在至少兩個Pound-Drever-Hall系統3、4位於一個且相同的半導體基板2上之具體實施例，以具成本效益並節省結構空間之方式，確保多個光學共振器16、23是或可以同時且彼此獨立地監視，因此可連續控制多個Pound-Drever-Hall系統3、4的載波頻率。
在圖4中例示頻率分佈的一個範例，其中在當前情況下由參考符號65表示的載波頻率受控制。在這種情況下，傾斜延伸線表示在光學共振器16中形成或可形成的模式或共振模式。光學共振器16的長度呈現於x軸上，在當前情況下由X表示，並且載波頻率或雷射頻率呈現於y軸上，在當前情況下由Y表示。根據光學共振器16的長度，控制載波頻率以使其保持在相同模式內。在當前情況下，由參考符號60表示的雷射模組20之可調變性頻寬較佳至少為100 GHz且至多為10000 GHz，較佳至少為1000 GHz且至多為10000 GHz，特別較佳至少為1000 GHz且至多為5000 GHz。
圖5以簡化圖示顯示根據第二示範具體實施例的控制系統29。控制系統29對應於圖2中描述的控制系統19，不同之處在於控制系統29另包括另一光偵測器單元30，例如光電二極體，特別是四重光電二極體。該另一個光偵測器單元30為控制裝置1本身的單獨組件或替代部分，也就是具體實施於控制裝置1的半導體基板2上。另一個光偵測器單元30連接到參考光源31，該光源設置成在傳訊方面產生參考載波頻率或參考頻率。另外，產生相對於參考載波頻率的至少一個邊帶，特別是多個邊帶。參考光源31較佳包括用於產生至少一個邊帶，特別是頻率梳的頻率梳產生器。在另一個光偵測器單元30中，尤其是受控制的雷射模組20、21之載波頻率與參考載波頻率或頻率梳重疊。在傳訊方面，光偵測器單元31連接至評估單元32。評估單元32監視載波頻率與參考載波頻率或頻率梳之間的偏差。如果偵測到的偏差等於零，即如果載波頻率等於參考載波頻率，則光學共振器16的長度變化為零。如果偵測到的偏差不等於零，即載波頻率不等於參考載波頻率，則根據載波頻率相對於參考載波頻率，特別是相對於一或多個邊帶的參考載波頻率，之位置或位置變化，來確定光學共振器16的長度變化。在本文中，「長度變化」係指例如由於橫向位移造成的距離變化，或例如由於光學共振器16、23的反射鏡元件相對於彼此傾斜造成的位置變化。
圖6以簡化圖示顯示根據第三示範具體實施例的控制系統33。在當前情況下，控制系統33包括一個雷射模組20、控制裝置1，根據示範性具體實施例，該裝置包括至少兩個，在當前情況下為三個Pound-Drever-Hall系統3、4、22，並且也包括至少一個光學共振器，在當前情況下為三個光學共振器16、23、34。
在當前情況下，將雷射模組20耦接到三個Pound-Drever-Hall系統3、4、22之每一者。在當前情況下，引導到各個Pound-Drever-Hall系統中的雷射輻射之載波頻率彼此具有相位偏移或頻率偏移。為了產生相位偏移或頻率偏移，將調變器單元35連接在雷射模組20與Pound-Drever-Hall系統3、4、22之間。調變器單元35較佳具體實施為電光調變器。較佳是，調器單元35連接至控制器18，就傳訊而言，用於由控制器18進行驅動。特別是，借助於相位偏移或頻率偏移來產生頻率梳。這意味著被引導進入Pound-Drever-Hall系統3、4、22的各個雷射輻射之載波頻率或梳狀線彼此等距隔開。換句話說：耦接到或可耦接到光學共振器16中的雷射輻射具有頻率梳光譜。後者的特徵在於具有相同頻率間隔的多個頻率。較佳選擇與光學共振器16的至少兩共振器模式之間模式間隔的整數倍相對應之頻率間隔。
這裡的優點是，特別是對於當前情況，其中Pound-Drever-Hall系統3、4、22中每一者都耦接到一個且相同的光學共振器，在當前情況下耦接到光學共振器16，這一個光學共振器16可由多個Pound-Drever-Hall系統3、4、22監視。如果雷射模組的可調變性頻寬被限制為例如小於1000 GHz，特別是小於100 GHz，則這特別有利。
舉例來說，如果根據光學共振器16的共振頻率來控制Pound-Drever-Hall系統3的載波頻率，在當前情況下稱為第一載波頻率36，並且如果該載波頻率達到雷射模組20的可調變性限制，則較佳驅動Pound-Drever-Hall系統4、22的另一個。此受驅動的Pound-Drever-Hall系統4、22，尤其是Pound-Drever-Hall系統4，其中引入相對於第一載波頻率等距相鄰的第二載波頻率37。然後基於該第二載波頻率37進行頻率控制。如果此第二載波頻率達到雷射模組20的可調變性極限，則較佳驅動Pound-Drever-Hall系統3、22中另一者，例如Pound-Drever-Hall系統4，其中引入相對於第二載波頻率37等距相鄰的第三載波頻率38。根據光學共振器16的顯影或當前共振頻率，驅動相應的Pound-Drever-Hall系統3、4、22。
圖7顯示頻率分佈的一個範例，其中根據關於圖6描述的控制系統33來控制載波頻率。
其中例示第一載波頻率36、第二載波頻率37、第三載波頻率38和可選的其他載波頻率。如果達到雷射模組20的可調變性極限，即上限39或下限40，則切換到相應的載波頻率36、37、38。雷射模組的可調變性頻寬，也就是說在當前情況下上限39與下限40之間的間隔特別是最大為100 GHz，特別是最大為1000 GHz。
圖8以簡化圖示顯示根據第四示範具體實施例的控制系統58。在當前情況下，控制系統58包括一個雷射模組20、控制裝置1，根據示範性具體實施例，該裝置包括至少兩個，在當前情況下為三個Pound-Drever-Hall系統3、4、22，並且也包括至少一個光學共振器16。該控制系統更進一步包括第一波長選擇光學開關59和第二波長選擇光學開關60，以及包括驅動單元24和調變器單元35。
在當前情況下，將雷射模組20耦接或可耦接到三個Pound-Drever-Hall系統3、4、22之每一者。借助於調變器單元35，從雷射模組20的載波頻率產生頻率梳。頻率梳的梳狀線數量較佳對應於Pound-Drever-Hall系統3、4、22的數量。這確保Pound-Drever-Hall系統3、4、22鎖定在梳狀線上或可鎖定在梳狀線上，或可耦接到梳狀線。在當前情況下，頻率梳的兩條梳狀線間之梳狀線間隔可以可變的方式設置，特別是藉助於控制器18對調變器單元35的驅動。較佳是，調變器單元35包括可驅動的梳狀線間距控制單元61，其設置成用於以可變方式設定梳狀線間隔。
由雷射輻射產生的頻率梳被引導到相位調變器5中，後者相對於所產生的每個梳狀線產生至少一個邊帶。隨後，雷射輻射被分束器62解耦為第一部分光束63和第二部分光束64。第一部分光束63被引導至第一波長選擇光學開關59，第二部分光束64被引導到光學共振器16，然後被引導到第二波長選擇光學開關60。在當前情況下，第一部分光束63為具有載波頻率的光束。第二部分光束64，即穿過光學共振器16的雷射輻射，同樣具有該載波頻率，其中特別複雜的是，此載波頻率可具有由於光學共振器16的反射率所產生之頻率相依相移。
波長選擇光學開關59、60設置成在當前的情況下，從三個梳狀線或輸入頻率切換或過濾輸出梳狀線或輸出頻率。波長選擇光學開關59、60在此分別過濾相同的梳狀線，例如分別過濾第一、第二或第三梳狀線。分別切換或濾波的輸出梳狀線在另一個分束器62中組合，並傳遞至光偵測器單元7，其中疊加梳狀線。
選擇性，關於圖2描述的控制系統19或關於圖5描述的控制系統29包括波長選擇光學開關59、60以及選擇性包括梳狀線間距控制單元61。
選擇性，控制系統35、58包括至少兩個雷射模組20、21，其中至少兩個雷射模組20、21的每一者分別與至少兩個Pound-Drever-Hall系統3、4、22耦接。
圖9顯示頻率分佈的一個範例，其中根據關於圖8描述的控制系統58來控制載波頻率。在此例示出第一載波頻率36或第一梳狀線、第二載波頻率37或第二梳狀線、第三載波頻率38或第三梳狀線以及選擇性的其他載波頻率或梳狀線。如果鎖定或耦接到共振器模式的梳狀線達到雷射模組20的可調變性極限，即上限39或下限40，則驅動調變器單元35，特別是梳狀線間距控制單元61。
基於此，特別是最接近的梳狀線或載波頻率，在當前情況下為梳狀線66，在這種情況下，梳狀線或載波頻率仍然或仍然保持耦接或鎖定到共振器模式，或基於相應已耦接的Pound-Drever-Hall系統3、4、22，特別是對梳狀線間距的進一步控制而實現。這樣可確保梳狀線始終保持或鎖定至共振器模式。
較佳是，調變器35的梳狀線間距控制單元61在預定的時間點驅動，例如在達到極限39、40之前的預定時間段或在達到極限39、40時。
圖10顯示用於操作控制系統19、29、33、58的流程圖。
在第一步驟S1中，控制裝置1的一個Pound-Drever-Hall系統3、4、22和控制裝置1的至少另一個Pound-Drever-Hall系統3、4、22進行操作或投入操作。如果控制裝置1包括兩個以上的Pound-Drever-Hall系統3、4、22，那麼較佳所有Pound-Drever-Hall系統3、4、22都進行操作。
在第二步驟S2中，將雷射模組20、21耦接至控制裝置1的Pound-Drever-Hall系統3、4、22之一。選擇性或另外，已耦接至雷射模組20、21的Pound-Drever-Hall系統3、4、22耦接至光學共振器16、23、34。
在第三步驟S3中，偵測到該一個Pound-Drever-Hall系統3、4、22的可預定電參數之至少一個實際值。該電參數為例如控制裝置1的電子組件9之至少一者之電容或電阻和/或Pound-Drever-Hall系統3、4、22的某個其他元件，例如光偵測器單元7。
在第四步驟S4中，將實際值與可預定的設定點值進行比較。舉例來說，將偵測到的實際電阻與可預定的設定點電阻進行比較。如果偵測到實際值與設定點值之間的偏差小於或等於可預定的極限偏差，則該方法繼續步驟S3。
如果偵測到實際值與設定點值之間的偏差大於可預定的極限偏差，則在第五步驟S5中，識別Pound-Drever-Hall系統3、4、22的非功能性或臨界功能性，並且雷射模組20、21與非功能性Pound-Drever-Hall系統3、4、22解耦。之後，將雷射模組20、21耦接到另一個可耦接的Pound-Drever-Hall系統3、4、22。較佳是，非功能性Pound-Drever-Hall系統3、4、22另外與光學共振器16、23、34解耦，並且光學共振器16、23、34隨後耦接到另一個可耦接的Pound-Drever-Hall系統3、4、22。相應的耦接和/或解耦透過驅動單元24或矩陣電路25來實現。
這提供的優點是，即使該已使用或已耦接的Pound-Drever-Hall系統3、4、22之一者為無作用或變得無作用，也可確保或保持對光學共振器16、23、34的可靠監視。
圖11顯示根據一個示範具體實施例用於EUV微影或EUV微影設備的投影曝光設備42。投影曝光設備42包括具有可驅動光源的光束產生系統43、在當前情況下產生工作光的EUV光源44、照明系統45以及投影系統46。
根據本示範具體實施例，光束產生系統43包括第一殼體47，其至少局部包圍該光束產生系統的內部，照明系統45包括第二殼體48，其至少局部包圍照明系統45的內部，並且投影系統46包括第三殼體49，其至少局部包圍投影系統46的內部。第一、第二和/或第三殼體47、48、49分別具體實施為投影曝光設備42的總殼體50之部分殼體，該總殼體在此僅以簡化的方式例示。
投影曝光設備42，特別是總殼體50或形成總殼體50的部分殼體47、48、49，在真空條件下操作。
在當前情況下，由EUV光源44發射並在當前情況下具有至少5 nm且至多30 nm波長的EUV光聚焦在光束產生裝置43的集光反射鏡51中，然後被引導進入照明系統45。
在當前情況下，照明系統45包括分別具體實施為反射鏡或反射鏡元件的至少一個第一和一個第二光學元件52、53。引入照明系統45的EUV光由光學元件52、53引導到光罩54或倍縮光罩上，其具有透過投影系統46縮小比例成像到晶圓55上的結構。為此，投影系統包括第三和第四光學元件56、57，其分別具體實施為反射鏡或反射鏡元件。
根據本示範具體實施例，投影系統46包括控制系統19、29、33、58。控制系統19、29、33、58特別是完全或較佳僅部分佈置或可佈置在投影系統46中。
如上所述，控制系統19、29、33、58包括至少一個用於產生雷射輻射的雷射模組20、21，至少一個與雷射模組20、21耦接或可耦接的控制裝置1以及至少一個耦接到或可耦接到控制裝置的光學共振器16、23、34。選擇性，控制系統19、29、33、58還包括至少一個驅動單元24和/或至少一個調變器單元35。
在當前情況下，第三和第四光學元件56、57形成光學共振器16、23、34。控制裝置1透過至少一個光波導8，例如光纖，連接到光學共振器16、23、34。就傳訊而言，控制系統19、29、33、58，特別是控制裝置1，連接至控制器18。
選擇性，投影系統46以及照明系統45分別包括多於兩個，特別是三個、四個、五個或更多個光學元件52、53、56、57。較佳是，光學共振器16、23、34分別由在工作光的光路徑上彼此相鄰佈置之兩光學元件所形成。照明系統45因此可同樣包括一個光學共振器16、23、34或多個光學共振器16、23、34。投影系統46和照明系統45的光學共振器16、23、34較佳可由單一控制系統19、29、33、58或單一控制裝置1監視。選擇性，照明系統45包括分配給其的單獨控制裝置1或單獨控制系統19、29、33、58。
借助於控制裝置1的頻率穩定化之優點在於，可特別準確且特別快速地偵測或捕獲相應光學共振器16、23、34之變化，尤其是長度變化。特別精確意味著皮克範圍內長度變化或位置變化是可偵測的。特別快速意味著微秒範圍內長度變化或位置變化是可偵測的。
舉例來說，如果偵測到光學共振器16、23、34的長度變化或形成光學共振器16、23、34的光學元件相對於彼此之位置變化大於預定極限變化，則較佳實施例如校正或調整共振器16、23、34的至少一個光學元件位置或地點之措施。在這種情況下，以這樣的方式進行校正，即校正後的長度或位置對應於可預定設定點的長度或可預定設定點的位置。較佳是，控制器18驅動光學元件52、53、56、57中至少一者或投影系統42的另一元件，其設置成校正或調整光學元件52、53、56、57或光學共振器16、23、34的地點或位置。
較佳是，控制裝置1包括用於半導體基板2和/或Pound-Drever-Hall系統3、4、22的溫度調節，特別是用於加熱和/或冷卻之裝置。較佳是，控制裝置1包括用於使半導體基板2和/或Pound-Drever-Hall系統3、4、22熱絕緣的裝置。較佳是，控制裝置1包括殼體，其中至少局部佈置有半導體基板2和/或Pound-Drever-Hall系統3、4、22。
控制裝置1和/或控制系統19、29、33、58的使用不限於與投影曝光設備一起使用。控制裝置1和/或控制系統19、29、33、58還可例如在光學座標測量系統中或用於此、在雷射雷達（光偵測和測距）系統中或用於此或在光學相干斷層攝影系統中或用於此。
較佳是，控制系統19、29、33、58或控制裝置1包括一PID控制器，其中PID控制器的D元素不等於零。
1:控制裝置 2:半導體基板 3:第一Pound-Drever-Hall系統 4:第二Pound-Drever-Hall系統 5:相位調變器單元 6:分束器元件 7:光偵測器單元 8:光波導元件 9:電子組件 10:電子放大器 11:電子混合元件 12:電子振盪器 13:電子驅動器元件 14:低通濾波器元件 15:相位調變器 16、23、34:光學共振器 17:組件模組 18:控制器 19:控制系統 20、21:雷射模組 22:Pound-Drever-Hall系統 24:驅動單元 25:矩陣電路 26:信號輸入 27:信號輸出 28:另一個驅動單元 29、33、58:控制系統 30:另一個光偵測器單元 31:參考光源 32:評估單元 35:調變器單元 36:第一載波頻率 37:第二載波頻率 38:第三載波頻率 39:上限 40:下限 42:投影曝光設備 43:光束產生系統 44:EUV光源 45:照明系統 46:投影系統 47:第一殼體 48:第二殼體 49:第三殼體 50:總殼體 52、53、56、57:光學元件 54:光罩 55:晶圓 59:第一波長選擇光學開關 60:頻寬 60:第二波長選擇光學開關 61:可驅動的梳狀線間距控制單元 62:分束器 63:第一部分光束 64:第二部分光束 65:載波頻率 66:梳狀線
參考圖式，本發明以下將會詳細解釋，其中：
圖1顯示根據一個具體實施例的控制裝置之示意圖，
圖2顯示根據第一具體實施例的控制系統之示意圖，
圖3顯示根據一個示範具體實施例之雷射模組的頻率穩定或頻率控制之流程圖，
圖4顯示根據第一具體實施例的控制系統所控制之雷射模組頻率的頻率曲線，
圖5顯示根據第二具體實施例的控制系統之示意圖，
圖6顯示根據第三具體實施例的控制系統之示意圖，
圖7顯示根據第二具體實施例的雷射模組之受控制頻率的頻率曲線，
圖8顯示根據第四具體實施例的控制系統之示意圖，
圖9顯示根據第三具體實施例的雷射模組之受控制頻率的頻率曲線，
圖10顯示根據一個示範具體實施例操作控制系統的流程圖，以及
圖11顯示包括根據一個示範具體實施例的控制系統之投影曝光設備。
1:控制裝置
2:半導體基板
3:第一Pound-Drever-Hall系統
4:第二Pound-Drever-Hall系統
8:光波導元件
16、23:光學共振器
18:控制器
19:控制系統
20、21:雷射模組
22:Pound-Drever-Hall系統
24:驅動單元
25:矩陣電路
26:信號輸入
27:信號輸出
28:另一個驅動單元

Claims (28)

  1. 一種用於一雷射模組（20，21）的頻率控制之控制系統（19、29、33、58），包括用於產生雷射輻射的至少一雷射模組（20、21）、與該雷射模組（20、21）耦接或可耦接的至少一控制裝置（1），以及與該控制裝置（1）耦接或可耦接的至少一光學共振器（16、23、34），其中該控制裝置（1）包括一半導體基板（2）、具體實施在該半導體基板（2）上的一第一Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）和具體實施在該半導體基板（2）上的至少一第二Pound-Drever-Hall系統（3、4、22），其中 該雷射模組（20、21）耦接到該控制裝置（1）的該第一Pound-Drever-Hall系統（3、4、22），並且可耦接至該控制裝置（1）的該至少一第二Pound-Drever-Hall系統（3、4、22），其中 該第一Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）耦接至光學共振器（16、23、34），並且其中該第二Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）可耦接至該光學共振器（16、23、34）。
  2. 如請求項1之控制系統，特徵在於至少兩個雷射模組（20、21）和至少三個Pound-Drever-Hall系統（3、4、22），其中每一雷射模組（20、21）都耦接到該控制裝置（1）的相應Pound-Drever-Hall系統（3、4、22），並且其中每一雷射模組（20、21）都可耦接至該控制裝置（1）的至少一第三Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）。
  3. 如請求項1至2任一項之控制系統，特徵在於至少兩個光學共振器（16、23、34）和至少三個Pound-Drever-Hall系統（3、4、22），其中每一光學共振器（16、23、34）耦接到該控制裝置（1）的相應Pound-Drever-Hall系統（3、4、22），並且其中每一光學共振器（16、23、34）都可耦接至該至少一第三Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）。
  4. 如請求項1至3任一項之控制系統，特徵在於Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）的數量大於雷射模組（20、21）或光學共振器（16、23、34）的數量。
  5. 如請求項4之控制系統，特徵在於Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）的數量至少是雷射模組（20、21）或光學共振器（16、23、34）的兩倍數量。
  6. 如請求項1至5任一項之控制系統，特徵在於至少一個驅動單元（24）設置成驅動該第一Pound-Drever-Hall系統和該至少一第二Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）來執行耦接或解耦。
  7. 如請求項6之控制系統，特徵在於該驅動單元（24）為一矩陣電路（25）。
  8. 如請求項1至7任一項之控制系統，特徵在於該雷射模組（20、21）耦接到至少兩Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）。
  9. 如請求項8之控制系統，特徵在於耦接到該雷射模組（20、21）的一個Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）之雷射輻射和耦接到該雷射模組（20、21）的另一個Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）之雷射輻射相對於彼此具有相位偏移。
  10. 如請求項9之控制系統，特徵在於為產生該相位偏移，一調變器單元（35）連接在該雷射模組（20、21）與該等Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）之間。
  11. 如請求項10之控制系統，特徵在於該調變器單元（35）包括一梳狀線間距控制單元（61）。
  12. 如請求項1至11任一項之控制系統，特徵在於更有一光偵測器單元（30），其中該光偵測器單元（30）可連接或已連接到一參考光源（31）。
  13. 如請求項1至12任一項之控制系統，特徵在於一第一波長選擇光學開關（59）和至少一第二波長選擇光學開關（60）。
  14. 如請求項1至13任一項之控制系統，特徵在於一PID控制器，其中該PID控制器的D元素（element）不等於零。
  15. 如請求項1至14任一項之控制系統，特徵在於可分別驅動該第一Pound-Drever-Hall系統和該至少一第二Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）。
  16. 如請求項15之控制系統，特徵在於至少一個控制器（18）設置成驅動該第一Pound-Drever-Hall系統和該至少一第二Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）。
  17. 如請求項1至16任一項之控制系統，特徵在於相應的Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）包括至少一可驅動的相位調變器單元（5）和/或至少一光偵測器單元（7）。
  18. 如請求項17之控制系統，特徵在於該光偵測器單元（7）為黏結地連接至該控制裝置（1）的一單獨組件。
  19. 如請求項1至18任一項之控制系統，特徵在於該Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）包括至少一電子組件（9）。
  20. 如請求項19之控制系統，特徵在於該至少一電子組件（9）為黏結連接至該控制裝置（1）的一單獨組件。
  21. 如請求項1至20任一項之控制系統，特徵在於該半導體基板（2）包括矽、氧化矽和/或氮化矽。
  22. 一種用於操作一控制系統（19、29、33、58）之方法，其中如請求項1至21任一項來具體實施該控制系統（19、29、33、58），該方法包括下列步驟： a)   操作該控制裝置（1）的一個Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）和該控制裝置（1）的該至少另一Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）； b)  將該雷射模組（20、21）耦接至該控制裝置（1）的該等Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）之一； c)   偵測該一個Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）的一可預定電參數之至少一個實際值； d)  將該實際值與一可預定設定點值比較； e)   如果實際值與設定點值間所確定之偏差大於一可預定極限偏差，則將該雷射模組（20、21）與該一個Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）解耦； f)   將該雷射模組（20、21）耦接至該等Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）之另一者。
  23. 一種對於一控制系統（19、29、33、58）的一雷射模組（20、21）執行頻率控制之方法，其中如請求項1至21任一項來具體實施該控制系統（19、29、33、58），該方法包括下列步驟： a)   將該雷射模組（20、21）耦接至該控制裝置（1）的該等Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）之至少一； b)  借助於雷射模組（20、21）產生雷射輻射，並將該雷射輻射引入該Pound-Drever-Hall系統（3、4、22）； c)   將具有該雷射輻射的載波頻率之該雷射輻射引入該控制裝置（1）的一相位調變器（5），並產生至少一個邊帶（sideband）； d)  將該雷射輻射分成具有該雷射輻射的載波頻率之一第一部分輻射，以及具有該雷射輻射的潛在相移載波頻率之一第二部分輻射； e)   疊加該第一部分輻射和該第二部分輻射； f)   監視該第一部分輻射與該第二部分輻射之間的一可預定偏差； g)  如果識別出該第一部分輻射與該第二部分輻射之間的偏差大於該可預定偏差，則控制該雷射輻射的該載波頻率，其中控制該載波頻率使其等於該參考頻率。
  24. 如請求項23之方法，特徵在於基於驅動一梳狀線間距控制單元（61）來執行該頻率控制。
  25. 一種用於EUV微影的投影曝光設備（42）之照明系統（45），包括：包圍一內部之一殼體（48）、位於該殼體（48）內之至少兩個光學元件（52、53），其中該至少兩個光學元件（52、53）形成一光學共振器（16、23、34），其特徵在於如請求項1至21任一項來具體實施的一控制系統（19、29、33、58）。
  26. 一種用於EUV微影的投影曝光設備（42）之投影系統（46），包括：包圍一內部之一殼體（49）、位於該殼體（49）內之至少兩個光學元件（56、57），其中該至少兩個光學元件（56、57）形成一光學共振器（16、23、34），其特徵在於如請求項1至21任一項來具體實施的一控制系統（19、29、33、58）。
  27. 一種用於EUV微影的投影曝光設備（42），包括：一照明系統（45）和一投影系統（46），其特徵在於如請求項1至21任一項來具體實施的一控制系統（19、29、33、58）。
  28. 如請求項27之投影曝光設備（42），特徵在於如請求項25具體實施該照明系統（45）和/或如請求項26具體實施該投影系統（46）。
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