TW202140146A - 可控噴頭裝置 - Google Patents

Abstract

本發明係指一種可控噴頭裝置，其中，該可控噴頭裝置設有：本體與控制元件。該本體內部設有容室，該本體側面設有入霧端子，該入霧端子橫穿有貫通該容室的入霧孔，而該容室上方固定有電控磁鐵，該容室在該電控磁鐵下方設有止霧槽，該止霧槽下穿有微霧噴口，該止霧槽上方抵接有堵住該微霧噴口之止霧體；且該電控磁鐵連接有控制及驅動該電控磁鐵吸附該止霧體上提脫離該微霧噴口之該控制元件的優異事實依據者。

Description

可控噴嘴裝置

本發明係為一種可控噴頭裝置，其中，係以該容室內之該止霧體堵住該微霧噴口，且該容室上方之該電控磁鐵在驅動後吸附上提該止霧體令該微霧噴口開啟霧噴的技術領域者。

首按，依目前已知的霧噴系統10都是藉造霧機101與管路102及霧噴口103之實施。其人造霧20一般是將水導入高壓或高周波之造霧機101，施以高壓經由耐高壓管路102輸送至霧噴口103噴出人造霧20，人造霧20之水珠極微小，用以增加水珠表面積來吸收空氣間的高溫，據此在噴霧範圍內吸收高溫，令噴霧範圍內之氣溫能有效下降(如：第1圖所示)。

但是，空氣溫度若有變化時，人造霧20也需跟進調整噴霧量，就依目前人造霧20相關技術，只能針對造霧機101之功率調整。而其中若將造霧機101功率調高者，可能會過度擴大人造霧20之瀰漫範圍，且會因人造霧20造成嚴重遮蔽視線之干擾。而若將造霧機101功率調低者，人造霧20之瀰漫範圍就可能有限縮及不足情況，連帶也會影響空氣降溫效果；因此，若依單純調整造霧機101功率，實非最佳方式，也不利於人造霧20施放控制。

鑑於以上所述，得知習用有造霧機不利控制人造霧瀰漫範 圍之缺失，因此，促使本案發明人朝向針對人造霧瀰漫範圍有效控制的方向研發，並經由本案發明人多方思考，遂而思及利用一可開啟及關閉之可控噴頭是為最佳。

本發明之可控噴頭裝置設有：一本體與一控制元件；該本體內部設有一容室，該本體側面設有一朝右延伸之入霧端子，該入霧端子橫穿有一貫通該容室的入霧孔，而該容室上方固定有一電控磁鐵，該容室在該電控磁鐵下方設有一圓錐形下凹之止霧槽，該止霧槽中央下穿有一微霧噴口，該止霧槽上方抵接有一堵住該微霧噴口之止霧體；且該電控磁鐵連接有控制及驅動該電控磁鐵吸附該止霧體上提開啟該微霧噴口之該控制元件。

本發明之該本體分設有上、下對接的：一下本體與一上本體；該下本體下凹有一下容室，該下容室下方設有一圓錐形下凹之該止霧槽，且該下本體側面設有一朝右延伸之該入霧端子；而該上本體上凹有一上容室，該上容室納置有該電控磁鐵之上段，且該電控磁鐵之下段恰可伸入該下容室。

本發明目的係在於：該控制元件連接有控制有該電控磁鐵吸附該止霧體上提開啟該微霧噴口之依據。

〔習知〕

10:霧噴系統

101:造霧機

102:管路

103:霧噴口

20:人造霧

〔本發明〕

A:人造霧

1:可控噴頭裝置

2:本體

21:容室

22:入霧端子

221:入霧孔

23:止霧槽

24:微霧噴口

25:下本體

251:下容室

26:上本體

261:上容室

3:控制元件

4:電控磁鐵

5:止霧體

第1圖 係為習用之霧噴系統示意圖。

第2圖 係為本發明之可控噴頭裝置示意圖。

第3圖 係為本發明之本體立體分解示意圖。

第4圖 係為本發明之可控噴頭裝置累積示意圖。

第5圖 係為本發明之可控噴頭裝置開始施放示意圖。

今為使貴審查委員對本發明有更進一步之瞭解，茲佐以下列實施例說明之。

本發明係為一種可控噴頭裝置1，其中，該可控噴頭裝置1設有：至少一本體2與至少一控制元件3；該本體2內部至少設有一容室21，該本體2側面至少設有一朝右延伸之入霧端子22，該入霧端子22至少橫穿有一貫通該容室的入霧孔221，而該容室21上方固定有一電控磁鐵4，該容室21在該電控磁鐵4下方設有一圓錐形下凹之止霧槽23，該止霧槽23中央至少下穿有一微霧噴口24，該止霧槽23上方抵接有一堵住該微霧噴口24之止霧體5；且該電控磁鐵4連接有控制及驅動該電控磁鐵4吸附該止霧體5上提開啟該微霧噴口24之該控制元件3(如：第2、3圖所示)。

本發明之該本體2另至少分設有一下本體25，該下本體25上方另至少對接有一上本體26；而該下本體25又下凹有一下容室251，該下容室251下方另設有一圓錐形下凹之該止霧槽252，且該下本體25側面又至少設有一朝右延伸之該入霧端子22；而該上本體26又上凹有一上容室261，該上容室261另納置有該電控磁鐵4之上段，且該電控磁鐵4之下段又恰可伸入該下容室251(如：第2、3圖所示)。

本發明是針對人造霧A瀰漫範圍的有效控制最佳方向配置，係據該控制元件3設定該電控磁鐵4的靜置與驅動時間。惟，該電控磁鐵4靜置時：該止霧體5可據自身是金屬球體來無死角堵塞該微霧噴口 24，令人造霧A累積於該容室21內(如：第4圖所示)。而當該控制元件3以電力驅動該電控磁鐵4時：該電控磁鐵4恰可吸附該止霧體5上提開啟該微霧噴口24，令累積於該容室21之人造霧A由該微霧噴口24施放噴出。俾此，令人造霧A在該可控噴頭裝置1串連實施時，可由該控制元件3反覆操作該電控磁鐵4靜置與驅動吸附及下放該止霧體5來達成人造霧A的中斷瀰漫、瀰漫範圍與瀰漫時間之完美控制(如：第5圖所示)。

經由以上敘述可知：本發明係據該控制元件3設定該電控磁鐵4的靜置與驅動時間。其該止霧體5可堵塞該微霧噴口24令人造霧A累積於該容室21內。而當該電控磁鐵4驅動時恰可吸附該止霧體5上提開啟該微霧噴口24，令累積於該容室21之人造霧A由該微霧噴口24噴出。俾此，令人造霧A在該可控噴頭裝置1串連實施時，可由該控制元件3反覆操作該電控磁鐵4靜置與驅動吸附及下放該止霧體5來達成人造霧A的中斷瀰漫、瀰漫範圍與瀰漫時間之完美施放優異特點，據此可知，本發明確實具符合新穎性、進步性及產業利用性之發明專利要件。

本發明之技術內容及技術特點已揭示如上，本發明確實具符合新穎性、進步性及產業利用性之發明專利要件。然而熟悉本項技術之人士仍可能基於本發明之揭示而作各種不背離本案發明精神之替換及修飾。因此，本發明之保護範圍應不限於實施例所揭示者，而應包括各種不背離本發明之替換及修飾，並為本發明申請專利範圍所涵蓋。

1:可控噴頭裝置

2:本體

3:控制元件

21:容室

22:入霧端子

221:入霧孔

23:止霧槽

24:微霧噴口

25:下本體

251:下容室

26:上本體

261:上容室

4:電控磁鐵

5:止霧體

Claims (2)

1. 一種可控噴頭裝置，其中，該可控噴頭裝置設有：至少一本體與至少一控制元件；該本體內部至少設有一容室，該本體側面至少設有一朝右延伸之入霧端子，該入霧端子至少橫穿有一貫通該容室的入霧孔，而該容室上方固定有一電控磁鐵，該容室在該電控磁鐵下方設有一圓錐形下凹之止霧槽，該止霧槽中央至少下穿有一微霧噴口，該止霧槽上方抵接有一堵住該微霧噴口之止霧體；且該電控磁鐵連接有控制及驅動該電控磁鐵吸附該止霧體上提開啟該微霧噴口之該控制元件。
2. 如請求項1所述之可控噴頭裝置，其中，該本體另至少分設有一下本體，該下本體上方另至少對接有一上本體；而該下本體又下凹有一下容室，該下容室下方另設有一圓錐形下凹之該止霧槽，且該下本體側面又至少設有一朝右延伸之該入霧端子；而該上本體又上凹有一上容室，該上容室另納置有該電控磁鐵之上段，且該電控磁鐵之下段又恰可伸入該下容室。

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