TW202117435A - 成像光路導引裝置及其方法 - Google Patents

Abstract

一種成像光路導引裝置及其方法，包含至少一光投射系統用於投射至少一可見光；及至少一光導引元件具有一第一端、一從該第一端向外延伸的第二端及一位於該第一、二端之間的一光路，該第一端接收對應該至少一光投射系統投射的該至少一可見光，並通過該光路導引至該第二端外的一被投射物包含但不限於使用者眼睛，形成一實像或虛像，進而達到可見光抵達被投射物時亮度高、光源耗能低，同時增加在空間有限的裝置中安裝彈性的效果者。

Description

成像光路導引裝置及其方法

本發明係有關於一種成像光路導引裝置及其方法，特別指一種可增加在空間有限的裝置中光源設置位置的彈性，並使光抵達被投射物時亮度高、光源耗能低的成像光路導引裝置及其方法。

習知有一種投影成像是透過空氣為介質將光投射至被投射物，此方式優點為光抵達被投射物時亮度高、光源之耗能低，然而，此種光投射方式只能令光朝直線前進，在空間有限的裝置中限縮了光源設置的彈性。為了使光束能改變角度行進，可在路徑中額外設置反射結構，改變光路角度，然而額外設置反設結構將造成製程成本增加、生產困難、設計不易或尺寸上升等等問題。習知有另一種投影成像是透過光閘及繞射方式導引光行進不受到直線行進的限制，然而此種光投射方式使光抵達被照射物時亮度低、光源之耗能高，不利於電源及散熱的設計，並且光延路徑行進過程中可能產生干涉現象，對載波材料及成形結構品質要求侷限光學級產品，形成設計及量產困難，並且不利成像顯示品質。 因此，解決上述問題係為本領域研究人員所要努力的方向。

本發明之一目的係為，提供一種可增加在空間有限的裝置中光源設置的彈性，並使光抵達被投射物時亮度高、光源耗能低的成像光路導引裝置及其方法。 為達成上述之目的，本發明提供一種成像光路導引裝置，係包含：至少一光投射系統，用於投射至少一可見光；及至少一光導引元件，與該至少一光投射系統對應設置，該至少一光導引元件具有一第一端、一從該第一端向外延伸的第二端及一位於該第一、二端之間的一光路，該第一端接收對應該至少一光投射系統投射的該至少一可見光，並通過該光路導引至該第二端外的一被投射物形成一影像。 為達成上述之目的，本發明另外提供一種成像光路導引方法，係包含以下步驟：提供至少一光投射系統投射至少一可見光；及提供至少一光導引元件與該至少一光投射系統對應設置，該至少一光導引元件的一第一端接收對應該至少一光投射系統投射的該至少一可見光，該至少一光導引元件的一光路導引該至少一可見光至該至少一光導引元件的一第二端外的一被投射物形成一影像，該第二端為從該第一端向外延伸，該光路位於該第一、二端之間。 藉由本發明此設計，可達到光投射系統投射的可見光行進可為直線或折線或曲線，抵達被投射物時可達到亮度高、光源耗能低，同時可增加在空間有限的裝置中安裝的彈性之功效。

本發明之上述目的及其結構與功能上的特性，將依據所附圖式之較佳實施例予以說明。 請參考第1圖，係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之側視圖，如圖所示，本發明所述成像光路導引裝置係包含至少一光投射系統1及至少一光導引元件3。在本實施例中係表示為一個光投射系統1及一個光導引元件3，關於複數個光投射系統1及複數個光導引元件3之態樣將在另一實施例詳細描述。 該光投射系統1用於投射一可見光，該可見光在圖示中係表示為虛線箭頭。該光投射系統1在本實施例係表示為有機發光二極體（Organic Light-emitting diode, OLED）顯示器，但並不侷限於此，在其他實施例中該光投射系統1也可以表示為發光二極體（Light-emitting diode, LED）顯示器、微發光二極體（Micro Light-emitting diode）顯示器、微機電雷射（MEMS controlled laser）投影機、單晶矽反射式液晶（Liquid crystal on silicon, LCoS）投影機、薄膜電晶體液晶（Thin film transistor liquid crystal display, TFT-LCD）顯示器或數位光處理（Digital light processing, DLP）投影機其中任一。該可見光的波長為380nm至750nm，該可見光為經過處理後令人類眼睛可觀察之可見效果，並透過光投射系統1投射出來的影像光。 該光導引元件3與該光投射系統1對應設置，該光導引元件3具有一第一端31、一第二端32及一光路33，該第二端32從該第一端31向外延伸，也可以理解為該第二端32是從該第一端31朝遠離該光投射系統1的方向延伸，該光路33位於該第一、二端31、32之間，該第一端31接收對應該光投射系統1投射的該可見光，並通過該光路33導引該可見光至該第二端32外的一被投射物5形成一影像。 該光導引元件3為實心透光長條狀結構，該光投射系統1的可見光實際上在光路中利用調整入射角，可以直線或全內反射的Z字形（如第2圖）行進，為了方便表示，將該可見光以單一虛限箭頭表示行進方向（如第1圖）。 該光導引元件3在本實施例中係表示為長直長條狀結構，但並不侷限於此，在其他實施例中該光導引元件3也可以表示為彎曲長條狀結構（如第3圖）。該光導引元件3的第二端32的端面在本實施例中係表示為表面處理形成透光表面，令該可見光可直接穿透該第二端32，但並不侷限於此，在其他實施例中該光導引元件3的第二端32的端面也可表示為附加不同折射率結構34（如第4圖）形成透光表面，該不同折射率結構34之折射率與該光導引元件3之折射率不同。 在一替代實施例中，該光導引元件3的第二端32的端面係表示為表面處理形成反射表面321，令該可見光不穿透該第二端32，而是朝一預定方向反射，並該第二端32對應該反射表面321表面處理形成一出光表面322（如第5圖），但並不侷限於此，在其他實施例中該光導引元件3的第二端32的端面也可表示為附加不同折射率結構341（如第6、7圖）形成透光表面，並該第二端32對應該反射表面321表面處理形成一出光表面322。藉由反射或折射的方式可使該可見光彎繞行進。 在另一替代實施例中，該第二端32對應該反射表面321附加不同折射率結構342形成該出光表面322（如第8至10圖）。 藉此令成像光路導引裝置藉由彎曲的光導引元件3、朝一預定方向反射該可見光而增加在空間有限的裝置中光源設置的彈性。 該光導引元件3之截面形狀選擇為圓形、矩形、多邊形或任意幾何形狀其中任一。該光導引元件3的第一端31或第二端32其中一端或其中的兩端的端面選擇為平面、斜面、凸面或凹面其中任一。為了方便表示，在本實施例中僅示出該第二端32的端面，該光導引元件3的第二端32的端面在本實施例中係表示為平面，但並不侷限於此，在其他實施例中該光導引元件3的第二端32的端面也可以表示為斜面（如第11圖）、凸面（如第12圖）或凹面（如第13圖）。 在本實施例中該光導引元件3的光路33形成有一凹槽35（如第14至17圖），但並不侷限於此，在其他實施例中該光導引元件3的光路33形成有複數凹槽35（未繪示）彼此並列平行或陣列設置且相鄰該第二端32。該凹槽35係相鄰該第一端31或該第二端32其中一端或其中的兩端。為了方便表示，在本實施例中僅示出該凹槽35相鄰該第二端32，藉此令該可見光藉由不同的光學設計，例如該光導引元件3的截面形狀、該第一、二端31、32的端面結構、該光路33的凹槽35，可改變該可見光在該被投射物5成像的形狀、大小或形成虛像、實像或修正成像等功能。 該光導引元件3的第一端31或第二端32其中一端或其中的兩端係同軸堆疊至少一透鏡或等效透鏡（如第18至19圖）。為了方便表示，在本實施例中僅示出該第二端32的端面堆疊一透鏡36或複數透鏡36。 該光導引元件3之材料在本實施例中係表示為塑膠，但並不侷限於此，在其他實施例中該光導引元件3之材料也可以表示為玻璃、石英或複合材料其中任一，或塑膠、玻璃、石英或複合材料其中的任意組合。該光導引元件3選擇為透過蝕刻、堆積、長晶、拉絲、模具成形及切削工序其中任一或其中的任意組合製成。 該被投射物5在本實施例中係表示為眼睛，但並不侷限於此，在其他實施例中該被投射物5也可以表示為任意實體物件表面或另外一個光學系統（例如但不限於透鏡或透鏡組），例如燈罩、保護鏡面，該實體物件表面可以是透光，半透光或不透光其中任一。此外，該實體物件表面可以是具曲面或不具曲面的形狀。 藉由本發明此設計，光投射系統投射的可見光抵達被投射物時可達到亮度高、光源耗能低，同時可增加在空間有限的裝置中安裝的彈性。 請參閱第20圖，係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之立體示意圖，並輔以參閱第1至19圖，如圖所示，本實施例部分結構及功能係與上述第一實施例相同，故在此將不再贅述，惟本實施例與上述第一實施例之不同處係為，本發明之成像光路導引裝置包含複數光導引元件3堆疊黏合設置可導引複數可見光，並該等光導引元件3在本實施例中係表示為平行排列，但並不侷限於此，在其他實施例中該等光導引元件3也可以表示為從第一端31朝第二端32漸擴排列（如第21圖）或從第一端31朝第二端32漸縮排列（如第22圖）其中任一。 再者，該等光導引元件3分別具有相同或不相同的光學設計結構，所述光學設計結構包含截面形狀、端面及長度。該等光導引元件3之截面形狀在本實施例中係表示為圓形、三角形、矩形組合而成之陣列（如第23圖），但並不侷限於此，在其他實施例中該等光導引元件3之截面形狀也可以表示為圓形、矩形、多邊形或任意幾何形狀其中任一或其中的任意組合。 此外，該等光導引元件3的第一端31或第二端32其中一端或其中的兩端的端面選擇為平面、斜面、凸面或凹面其中任一或其中的任意組合。為了方便表示，在本實施例中僅示出該第一端31的端面，在本實施例中係表示為該等光導引元件3的第一端31的端面為平面，但並不侷限於此，在其他實施例中也可以表示為該等光導引元件3的第一端31的端面為斜面、凸面或凹面其中任一或其中的任意組合（未繪示），或者該第一、二端31、32兩者的端面同時具有不同光學設計結構之組合，例如第24圖所示為第二端32的端面為凹面37及凸面38不同光學設計結構之組合。 該等光導引元件3在本實施例中係表示為長度相等，但並不侷限於此，在其他實施例中該等光導引元件3也可以表示為長度不相等（未繪示）。當該等光導引元件3為長度不相等時，可將該等光導引元件3的第二端32皆設置為反射表面，並該等光導引元件3的長度從該第二端32朝該第一端31依序漸縮（如第25圖），令該等光導引元件3可將該等可見光朝一預定方向反射。 該等光導引元件3之截面在本實施例中係表示形成為方陣陣列（如第26圖），該等光導引元件3輸出的該等可見光對應為方陣陣列，但並不侷限於此，在其他實施例中該等光導引元件3之截面也可以表示為形成為圓形陣列（如第27圖）、波浪狀陣列（如第28圖）、任意幾合形狀陣列或不規則狀陣列（未繪示）其中任一，該等光導引元件3輸出的該等可見光對應為圓形陣列、波浪狀陣列、任意幾合形狀陣列及不規則狀陣列構成該影像。 此外，該等光導引元件3的第一端31或第二端32其中一端或其中的兩端的端面係同軸堆疊至少一透鏡36或複數透鏡其中任一或其中的任意組合。為了方便表示，在本實施例中僅示出該第二端32的端面設有不同光學設計結構之透鏡36組合（如第29圖），但並不侷限於此，在其他實施例中也可以表示為該等光導引元件3的第一端31的端面設有不同光學設計結構之透鏡36組合，或者該第一、二端31、32兩者的端面同時具有不同光學設計結構之透鏡36組合。 在本實施例中，由不同截面形狀的光導引元件3示意具有不同光學設計結構的光路群組，且實際實施時不限於圖式所呈現之光導引元件數量，各不同群組的光路分別在該第二端32外的不同距離位置處形成相對應群組的影像（如第30圖），示意截面為圓形的光導引元件3所導引的可見光在距離A的位置成像，示意截面為方形的光導引元件3所導引的可見光在距離B的位置成像，示意截面為三角形的光導引元件3所導引的可見光在距離C的位置成像，藉此可達到例如景深不同的成像焦平面距離不同的效果。 在一替代實施中，該等光導引元件3設於一乘載板2上且平行排列（如第31圖）。在另一替代實施中，該等光導引元件3同軸對應設置，其中一光導引元件3的第一端31對應其中另一光導引元件3的第二端32（如第32圖）。 藉此，該等可見光分別通過相同或不相同的光學設計結構的該等光導引元件3在該第二端32外的不同距離位置處形成像。 請參閱第33、34圖，係為本發明成像光路導引裝置之第三實施例之側視圖，並輔以參閱第1至32圖，如圖所示，本實施例部分結構及功能係與上述第一、二實施例相同，故在此將不再贅述，惟本實施例與上述第一、二實施例之不同處係為，本發明之成像光路導引裝置具有複數各自不同光投射系統1可投射複數可見光，該等光投射系統1在本實施例中陣列設置為方陣陣列（如第35圖），但並不侷限於此，在其他實施例中該等光投射系統1也可以表示為陣列設置為圓形陣列、波浪狀陣列及不規則狀陣列其中任一。 再者，該等光投射系統1在本實施例中係表示為有機發光二極體顯示器，但並不侷限於此，在其他實施例中該等光投射系統1也可以表示為發光二極體顯示器、微發光二極體顯示器、微機電雷射投影機、單晶矽反射式液晶投影機、薄膜電晶體液晶顯示器及數位光處理投影機其中任一或其中的任意組合。 此外，該等光投射系統1投射的該等可見光可以是相同波長，也可以是不同波長，該等光投射系統1投射的該等可見光波長為380nm至750nm。 請參考第36圖，是依照第一、二、三實施例之成像光路導引裝置繪示的成像光路導引方法之流程圖，如圖所示，所述成像光路導引方法包含以下流程，步驟S201：提供至少一光投射系統投射至少一可見光。該至少一光投射系統1用於投射至少一可見光，該至少一可見光在圖示中係表示為虛線箭頭。 步驟S202：提供至少一光導引元件與該至少一光投射系統對應設置，該至少一光導引元件的一第一端接收對應該至少一光投射系統投射的該至少一可見光，該至少一光導引元件的一光路導引該至少一可見光至該至少一光導引元件的一第二端外的一被投射物形成一影像，該第二端為從該第一端向外延伸，該光路位於該第一、二端之間。該光導引元件3與該光投射系統1對應設置，該光導引元件3具有一第一端31、一第二端32及一光路33，該第二端32從該第一端31向外延伸，也可以理解為該第二端32是從該第一端31朝遠離該光投射系統1的方向延伸，該光路33位於該第一、二端31、32之間，該第一端31接收對應該光投射系統1投射的該可見光，並通過該光路33導引該可見光至該第二端32外的一被投射物5形成一影像。 以上已將本發明做一詳細說明，惟以上所述者，僅為本發明之一較佳實施例而已，當不能限定本發明實施之範圍。即凡依本發明申請範圍所作之均等變化與修飾等，皆應仍屬本發明之專利涵蓋範圍。

1:光投射系統 2:承載板 3:光導引元件 31:第一端 32:第二端 321:反射表面 322:出光表面 33:光路 341、342:不同折射率結構 35:凹槽 36:透鏡 37:凹面 38:凸面 5:被投射物

第1圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之側視圖； 第2圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之實際實施示意圖； 第3圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光導引元件彎曲示意圖； 第4圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之附加不同折射率結構示意圖； 第5圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光導引元件第二端反射及出光示意圖； 第6圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光導引元件第二端反射及出光示意圖； 第7圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光導引元件第二端反射及出光示意圖； 第8圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光導引元件第二端反射及出光示意圖； 第9圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光導引元件第二端反射及出光示意圖； 第10圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光導引元件第二端反射及出光示意圖； 第11圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光導引元件第二端端面斜面結構示意圖； 第12圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光導引元件第二端端面凸面結構示意圖； 第13圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光導引元件第二端端面凹面結構示意圖； 第14圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光導引元件凹槽示意圖； 第15圖係為本發明成像光路導引裝置之第一實施例之光路的凹槽示意圖； 第16圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件凹槽示意圖； 第17圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件凹槽示意圖； 第18圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件堆疊透鏡示意圖； 第19圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件堆疊複數透鏡示意圖； 第20圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之立體堆疊示意圖； 第21圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件漸擴展開示意圖； 第22圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件漸縮收斂示意圖； 第23圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件的光學設計結構分別為不相同截面形狀組合示意圖； 第24圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件的光學設計結構分別為不相同端面組合示意圖； 第25圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件的光學設計結構為長度依序漸縮示意圖； 第26圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件方陣陣列示意圖； 第27圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件圓形陣列示意圖； 第28圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件波浪狀陣列示意圖； 第29圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件的光學設計結構為不同透鏡堆疊組合示意圖； 第30圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之於不同距離成像示意圖； 第31圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之承載板承載複數光導引元件示意圖； 第32圖係為本發明成像光路導引裝置之第二實施例之光導引元件同軸對應設置示意圖； 第33圖係為本發明成像光路導引裝置之第三實施例之側視圖； 第34圖係為本發明成像光路導引裝置之第三實施例之光導引結構長度依序漸縮示意圖； 第35圖係為本發明成像光路導引裝置之第三實施例之光投射結構立體示意圖； 第36圖係為本發明成像光路導引方法之流程圖。

1:光投射系統

3:光導引元件

31:第一端

32:第二端

33:光路

5:被投射物

Claims (28)

1. 一種成像光路導引裝置，係包含： 至少一光投射系統，用於投射至少一可見光；及 至少一光導引元件，與該至少一光投射系統對應設置，該至少一光導引元件具有一第一端、一從該第一端向外延伸的第二端及一位於該第一、二端之間的一光路，該第一端接收對應該至少一光投射系統投射的該至少一可見光，並通過該光路導引至該第二端外的一被投射物形成一影像。
2. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一光投射系統選擇為發光二極體顯示器、有機發光二極體顯示器、微發光二極體顯示器、微機電雷射投影機、單晶矽反射式液晶投影機、薄膜電晶體液晶顯示器或數位光處理投影機其中任一或其中的任意組合。
3. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中複數光投射系統陣列設置為方陣陣列、圓形陣列、波浪狀陣列或不規則狀陣列其中任一。
4. 如申請專利範圍第3項所述的成像光路導引裝置，其中複數可見光選擇為相同波長或不同波長其中任一。
5. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一可見光的波長為380nm至750nm。
6. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一光導引元件為實心透光長條狀結構。
7. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一光導引元件選擇為長直長條狀結構或彎曲長條狀結構其中任一。
8. 如申請專利範圍第7項所述的成像光路導引裝置，其中複數光導引元件設於一乘載板上且平行排列。
9. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一光導引元件的第二端的端面選擇表面處理或附加不同折射率結構其中任一形成一透光表面。
10. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一光導引元件的第二端的端面選擇表面處理或附加不同折射率結構其中任一形成一反射表面，並該第二端對應該反射表面選擇表面處理或附加不同折射率結構其中任一形成一出光表面。
11. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一光導引元件之截面形狀選擇為圓形、矩形、多邊形或任意幾何形狀其中任一。
12. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一光導引元件的第一端或第二端其中一端或其中的兩端的端面選擇為平面、斜面、凸面或凹面其中任一。
13. 如申請專利範圍第12項所述的成像光路導引裝置，其中複數光導引元件同軸對應設置，其中一光導引元件的第一端對應其中另一光導引元件的第二端。
14. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一光導引元件的光路形成有至少一凹槽。
15. 如申請專利範圍第14項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一凹槽係相鄰該第一端或該第二端其中一端或其中的兩端。
16. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一光導引元件的第一端或第二端其中一端或其中的兩端係同軸堆疊至少一透鏡或等效透鏡。
17. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一光導引元件之材料選擇為塑膠、玻璃、石英或複合材料其中任一或其中的任意組合。
18. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該至少一光導引元件選擇為透過蝕刻、堆積、長晶、拉絲、模具成形或切削工序其中任一或其中的任意組合製成。
19. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中複數光導引元件堆疊黏合設置，並該等光導引元件選擇為平行排列、從第一端朝第二端漸擴排列或從第一端朝第二端漸縮排列其中任一。
20. 如申請專利範圍第19項所述的成像光路導引裝置，其中該等光導引元件分別具有相同或不相同的光學設計結構，所述光學設計結構包含截面形狀、端面及長度，該等可見光分別通過相同或不相同的光學設計結構的該等光導引元件在該第二端外的不同距離位置處形成像。
21. 如申請專利範圍第19項所述的成像光路導引裝置，其中該等光導引元件之截面形狀選擇為圓形、矩形、多邊形或任意幾何形狀其中任一或其中的任意組合。
22. 如申請專利範圍第19項所述的成像光路導引裝置，其中該等光導引元件的第一端或第二端其中一端或其中的兩端的端面選擇為平面、斜面、凸面或凹面其中任一或其中的任意組合。
23. 如申請專利範圍第19項所述的成像光路導引裝置，其中該等光導引元件選擇為長度相等或不相等其中任一。
24. 如申請專利範圍第19項所述的成像光路導引裝置，其中該等光導引元件的長度從該第二端朝該第一端依序漸縮。
25. 如申請專利範圍第19項所述的成像光路導引裝置，其中該等光導引元件之截面形成為方陣陣列、圓形陣列、波浪狀陣列、任意幾合形狀陣列或不規則狀陣列其中任一，該等光導引元件輸出的該等可見光對應為方陣陣列、圓形陣列、波浪狀陣列、任意幾合形狀陣列或不規則狀陣列構成該影像。
26. 如申請專利範圍第19項所述的成像光路導引裝置，其中該等光導引元件的第一端或第二端其中一端或其中的兩端的端面係同軸堆疊至少一透鏡或複數透鏡其中任一或其中的任意組合。
27. 如申請專利範圍第1項所述的成像光路導引裝置，其中該被投射物選擇為眼睛或任意實體物件表面其中任一。
28. 一種成像光路導引方法，係包含以下步驟： 提供至少一光投射系統投射至少一可見光；及 提供至少一光導引元件與該至少一光投射系統對應設置，該至少一光導引元件的一第一端接收對應該至少一光投射系統投射的該至少一可見光，該至少一光導引元件的一光路導引該至少一可見光至該至少一光導引元件的第二端外的一被投射物形成一影像，該第二端為從該第一端向外延伸，該光路位於該第一、二端之間。

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