TW202045373A - 滑動裝置 - Google Patents

Abstract

對滑動對象物W之表面進行滑動處理之滑動裝置1具有：滑動部4，其設置有具有平坦之作用面6A之滑動體6；第1驅動機構20，其使滑動體6平行於作用面6A有規律地移動；及第2驅動機構30，其於利用第1驅動機構20使滑動體6移動期間，使該滑動部4平行於作用面6A且沿與利用第1驅動機構20進行之移動不同之方向有規律地移動。藉此，對滑動對象物之表面均勻地提供滑動處理物，或淨化滑動對象物之表面。

Description

滑動裝置

本發明係關於一種對滑動對象物之表面提供或排除滑動處理物之滑動裝置。

近年來，在各種用途中要求於膜表面之凹部中放入特定之填料而得之含填料膜。例如，對形成於膜基板之特定圖案之凹部提供電極用膏，並利用擦拭裝置去除過量之膏，藉此製作生物感測器用電極（專利文獻1）。於該情形時，向凹部提供膏及擦拭過量之膏時分別使用刀片（blade）。

另一方面，揭示有以下內容：於印刷裝置中，為了使墨水於遮罩板上延展，通常使用刮漿板（squeegee），使刮漿板於與該刮漿板之長邊方向正交之方向（x方向）上往返運動並且亦於刮漿板之長邊方向（y方向）上往返運動，以使印刷濃度變得均勻，藉此，使刮漿板相對於遮罩板呈鋸齒狀移動（專利文獻2）。

如此，以往於向基材表面之凹部或孔部提供填料、以及自基材表面去除過量之填料時，使用刀片或刮漿板。 先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本特表2002-506205號公報 專利文獻2：日本特開平10-16183號公報

[發明所欲解決之課題]

對表面形成有特定之凹部圖案之壓紋（emboss）體提供填料時，考慮依照專利文獻2之記載使刮漿板呈鋸齒狀移動，以均一地進行提供。然而，使刮漿板呈鋸齒狀移動之情形時，於刮漿板之移動方向變動之壓紋體表面之兩側部，難以充分提高放入有填料之凹部之個數（N1）與壓紋體表面之凹部之個數（N0）的比率（%）（100×N1/N0）。即，產生被不均一地提供了填料之部分。若對此使填料之投入量增多，則浪費之填料增加，並且填料彼此過度地相互摩擦，因此，擔心填料之損傷或變形等。

針對此種以往技術之課題，本發明之課題在於：將如壓紋體等在表面形成有特定之凹部圖案者作為滑動對象物，對該滑動對象物表面之凹部提供填料等滑動處理物之情形時，可向對滑動對象物進行滑動處理物之提供處理之區域（以下稱為滑動對象區域）之凹部整體均勻地提供滑動處理物，並且將多餘之滑動處理物自滑動對象物排除，且可減少提供給滑動對象物之滑動處理物中最終自滑動對象物排除之多餘滑動處理物之量，防止因滑動處理物彼此過度地碰撞或相互摩擦而導致的滑動處理物之損傷或變形，又，於滑動對象物之表面平坦之情形時對該表面提供滑動處理物時，可對滑動對象區域之表面整體均勻地提供滑動處理物。

再者，於本發明中，所謂對滑動對象物之表面提供滑動處理物，包含如下情況：於滑動對象物為壓紋體且滑動處理物為粒狀物之情形時，向壓紋體表面之凹部均勻地放入粒狀物。又，亦包含如下情況：於滑動處理物為液狀物之情形時，在滑動對象物之表面以均一之厚度形成該液狀物之塗膜。又，於本發明中，所謂對滑動對象物之表面排除滑動處理物，包含如下情況：於滑動對象物上附著有粒狀物之情形時，藉由提供液狀物作為滑動處理物而排除粒狀物。 [解決課題之技術手段]

本發明者想到，相對於刮漿板與滑動對象物線接觸，若對滑動對象物使用具備複數個具有平坦之作用面之滑動體的滑動部，使滑動體沿第1方向移動並且使滑動部亦沿第2方向移動，則滑動處理期間之滑動處理物相對於滑動對象物之相對移動量增加，而滑動處理物被均勻地提供給滑動對象物，又，多餘之滑動處理物自滑動對象物被排除，於不提供滑動處理物之情形時可淨化滑動對象物之表面，從而完成了本發明。

即，本發明提供一種滑動裝置，其具有： 滑動部，其設置有複數個具有平坦之作用面之滑動體；及 驅動機構，其於使滑動體平行於作用面相對於滑動對象物有規律地移動期間，使滑動部平行於滑動體之作用面且沿與滑動體之移動方向不同之方向相對於滑動對象物有規律地移動；且 使用上述滑動部之滑動體對滑動對象物之表面進行滑動處理。 [發明之效果]

根據本發明之滑動裝置，使滑動體相對於滑動對象物沿第1方向移動，並且使設置有該滑動體之滑動部向第2方向移動，故而與使滑動體僅於任一方向上移動之情形相比，滑動體之作用面內之任意點相對於滑動對象物於每單位時間之移動量增加，藉由滑動體使於滑動對象物上移動之滑動處理物之移動量亦增加。並且，滑動體並非如刮漿板般與滑動對象物線接觸，而是將平坦面作為對滑動對象物之作用面，因此，若對該滑動裝置提供滑動處理物，則滑動處理物被滑動體之側面推壓而於滑動對象物上移動，不僅如此，亦藉由被滑動體之底面即作用面捕獲而移動。因此，根據本發明之滑動裝置，於滑動對象物上藉由滑動體而移動之滑動處理物其本身之量與移動量增加。由此，可將滑動處理物均勻地提供給滑動對象區域，且將多餘之滑動處理物自滑動對象區域排除，從而可減少為了利用滑動處理物處理滑動對象物所需要之滑動處理物之提供量。

藉此，例如於將壓紋體作為滑動對象物且將填料作為滑動處理物之情形時，可將填料均勻地放入壓紋體表面之凹部中，且可將無用地附著於凹部以外之部分之填料排除，從而可減少為了將填料均勻地放入壓紋體之凹部所需要之填料向壓紋體之投入量。

又，例如於提供液狀物作為滑動處理物之情形時，藉由使用液狀物擦拭滑動對象物，能夠去除滑動對象物上之多餘附著物。於不提供滑動處理物而對滑動對象物進行滑動處理之情形時亦能夠淨化滑動對象物之表面。

以下，參照圖式對本發明之滑動裝置詳細地進行說明。再者，各圖中，同一符號表示同一或同等之構成要素。

＜滑動裝置之概要＞ 圖1係本發明之一實施例之滑動裝置1之概略側視圖。該滑動裝置1具有滑動部4，滑動部4將表面具有凹部之壓紋體W作為滑動對象物，將填料F作為滑動處理物。滑動部4較佳為視需要於壓紋體W之搬送方向（箭頭Z）上並排設置。

於滑動部4設置有複數個具有平坦之作用面6A之滑動體6，以作用面6A與壓紋體W之表面抵接之方式調節其等之位置關係。

滑動裝置1具有第1驅動機構20及第2驅動機構30作為一面使滑動體6沿第1方向移動一面使滑動部4亦沿與第1方向不同之第2方向移動之驅動機構，該第1驅動機構20使滑動體6平行於作用面6A有規律地移動，該第2驅動機構30於藉由第1驅動機構20使滑動體6移動期間，使含有複數個滑動體6之滑動部4整體平行於作用面6A有規律地移動。再者，第1驅動機構之驅動源與第2驅動機構之驅動源既可共用亦可分開。又，於本發明之滑動裝置中，作為如上所述使滑動體及滑動部移動之驅動機構，亦可設置一體之驅動機構。

滑動裝置1具有向壓紋體W之表面W2之特定部位投入填料F之處理物投入手段，且可視需要具有刮漿板，該刮漿板於利用滑動部4使投入至壓紋體W之填料F延展之前預先將填料F於壓紋體W上以某種程度擴展。

如下所述，藉由利用該第1驅動機構20及第2驅動機構30而移動之滑動體6，對壓紋體W均勻地提供填料F，填料進入壓紋體W之凹部中，多餘之填料F被自壓紋體W之除凹部以外之表面上排除。或者，所提供之填料F以較高之比率進入壓紋體之凹部W3中，不產生或僅產生少量要被排除之填料F。因此，本發明作為向壓紋體之凹部填充填料之裝置有用，此外，作為將存在於凹部以外之部位之多餘填料排除之裝置亦有用，還能夠用於回收已排除之填料加以再利用之情形。

＜滑動對象物＞ 本發明中，滑動對象物W可設為具有與滑動體6之作用面6A平行之面的各種板、膜、立體物等，滑動裝置1可根據滑動對象物之種類、形態等適當具備滑動對象物W之支持機構或搬送機構。例如，於滑動對象物為板或膜等之情形時，可具備支持其之台座、或作為搬送機構之驅動裝置、捲取裝置等。

圖1、2所示之實施例之滑動裝置1係將板狀之壓紋體作為滑動對象物W。如圖4A、圖4B所示，壓紋體W於長條之壓紋本體W1之表面W2具有複數個凹部W3。或者，壓紋體W亦可為以於特定位置保持填料F之方式形成有表面凹凸者。

關於壓紋體W，可採用具有可塑性或硬化性之樹脂、金屬等，利用其物性或功能而形成。壓紋體W之厚度、寬度及長度並無特別限定。例如，無論壓紋體W是板狀還是膜狀，壓紋體W之寬度（與搬送方向正交之方向之長度）皆可根據滑動處理後之壓紋體之用途設為10 cm以上、30 cm以上、或50 cm以上，又，可設為10 m以下、5 m以下、2 m以下。於壓紋體W為板狀之情形時，其長度（搬送方向之長度）例如可未達1 m，亦可為1 m以上，還可設為5 m以上。於壓紋體W為膜狀之情形時，長度可為5 m以上，亦可為100 m以上。關於長度之上限，就操作之觀點而言，於將壓紋體設為卷狀物（捲繞於卷芯而成者）之情形時，通常可設為5000 m以下、1000 m以下、或300 m以下。

關於壓紋體W之厚度，只要能利用搬送手段3將壓紋體W搬送至滑動部4並使壓紋體W與滑動體6抵接或將其等之距離維持為特定大小而無障礙地進行滑動處理，則並無特別限制。

壓紋體W之材質並不限定於樹脂。可為對玻璃或金屬之表面進行加工而成者，亦可具有自各種樹脂、玻璃或金屬中選擇之複數種材料之積層構造。又，構成壓紋體W之各個層或壓紋體整體可為剛性，亦可具有可撓性或彈性，還可為於常溫（25℃±15℃）發揮黏著性者。因此，形成壓紋體之樹脂材料例如可自化學便覽（初版，應用篇）之化學裝置材料之有機材料、物理學與化學便覽（第4版）、工程塑膠技術聯合會（http://enpla.jp/enpla/bunrui.html）所記載之通用塑膠、工程塑膠、特殊工程塑膠之中適當選擇與所需物性等對應之熱塑性樹脂、熱固性樹脂。金屬材料亦同樣地可使用各種通用材料。一般而言，於藉由滑動處理對壓紋體填充填料時，若壓紋體W具有可撓性或黏著性，則難以對壓紋體之滑動對象區域整體均勻地填充填料，但根據本發明，不論壓紋體W為單層體抑或積層體，即便具有可撓性或黏著性，亦能夠作為滑動對象物。

於壓紋體W具有複數種層之積層構造之情形時，亦可於具有凹部W3等表面凹凸之層與成為其基底之層之間介置黏著層或與其類似之樹脂層。例如，具有表面凹凸之層可設為剛性之層，亦可設為彈性體或可塑性體，於滑動處理時之溫度為常溫之情形時，亦可設為於常溫能夠保持表面凹凸之形狀的高黏度之黏性體或黏彈性體。位於具有表面凹凸之層之下的黏著層或與其類似之層可設為與具有表面凹凸之層同等以上之高黏度，亦可設為較具有表面凹凸之層低之黏度，還可設為液狀或接近液狀之黏性體。因此，位於具有表面凹凸之層之下的層之黏度作為一例於常溫處於0.1 Pa‧s〜10⁴ Pa‧s之範圍。該數值係利用公知之振動黏度計、旋轉黏度計、黏彈性測定裝置（例如，TA Instruments製造之流變計）進行計測。於本發明中，即便壓紋體W為如此般具有各種材質或物性之層的積層體，亦能夠不對填料施加如造成變形或損傷之過度負荷，而將填料收容於凹部。

用以於壓紋體W之表面形成凹部W3等表面凹凸之加工方法只要能以μm單位進行尺寸控制，則並無特別限定。可根據構成壓紋體W之材料之種類使用切削加工、衝壓加工、蝕刻、多孔層之積層、印刷等方法。亦可預先將設置於母盤之凹凸轉印至壓紋體W之成為表面之層。例如，若壓紋體W之表面為金屬，則可藉由切削加工形成表面凹凸。又，於利用樹脂形成壓紋體W之表面凹凸之情形時，可利用各種印刷方法形成表面凹凸，亦可積層具有表面凹凸或孔之層。

形成於壓紋本體W1之凹部W3之開口面之形狀及深度係根據壓紋體之用途、放入該凹部W3之填料F之種類、大小等決定。例如，如圖5、圖6所示，一個凹部W3之徑及深度可設為供1個球狀填料F恰好放入之大小者。更具體而言，為了使構成填料F之1個球狀物放入一個凹部W3，滑動處理物F之粒徑之下限為可見光波長以上，較佳為1 μm以上，更佳為2 μm以上，關於上限，作為一例，可設為200 μm以下，為了減少大小不均，較佳可設為30 μm以下，更佳可設為20 μm以下，於該情形時，可將凹部W3之開口徑設為粒徑之較佳為1倍以上1.5倍以下，更佳為1倍以上1.2倍以下。

為了使1個球狀物放入一個凹部W3，凹部W3之開口形狀與球狀物之形狀既可一致，亦可不一致。較佳為凹部W3之開口形狀與球狀物之形狀具有相似性或類似點。例如，於凹部W3之開口形狀為由1：1.2之比之邊所構成之長方形時，若球狀物之最大徑與凹部W3之短邊即1相同，則會具有適度之餘裕地被收容。又，於壓紋本體W1之材質為樹脂等且可容許變形之情形時，即便凹部W3之開口形狀與球狀物一致且大小為等倍，亦能夠收容。

另一方面，亦可使凹部W3之開口徑大於1個填料F之粒徑，使1個凹部W3收容複數個填料。例如，於填料F之表面預先附著有微小填料之情形時，填料F與表面之微小填料一起放入凹部W3中。於該情形時，上述關係適合於附著有微小填料之填料F之大小與開口徑。

壓紋體W之凹部W3之排列圖案並無特別限定。例如，可設為具有特定之重複圖案之規律性排列。更具體而言，例如可如圖4A所示設為六方格子。此外，亦可設為正方格子、長方格子、斜方格子等格子排列。又，亦可為複數個不同形狀之格子組合而成者。亦可使填料以特定間隔呈直線狀排列而成之填料行以特定之間隔並排。又，重複圖案可連續存在，亦可使形成有重複圖案之區域隔開間隔重複。具有固定之重複圖案時，就方便製品管理而言，亦有若存在識別該圖案之標記或微小之變化（例如，開口部之形狀於不影響填料之收容之程度上存在差異等）則較佳之情形。

再者，於本發明中，滑動對象物並不限於上述具有表面凹凸者，亦可為具有微細之表面、平坦面、易受損傷之表面等者。

＜滑動處理物＞ 本發明中所使用之滑動處理物係根據提供有滑動處理物之滑動對象物之用途等，自粉體、粒狀體等填料、溶劑等液體等中適當選擇。藉由將液體作為滑動處理物，可淨化滑動對象物之表面。再者，於將填料作為滑動處理物之情形時，填料雖可與液體混合，但較佳為非膏狀。

於圖1所示之實施例之滑動裝置1中，使用填料F作為滑動處理物。將填料F作為滑動處理物之情形時，可於填料中含有一或複數種粉狀物、粒狀物。各粉狀物、粒狀物既可獨立，亦可為集合而成之凝聚體。又，填料F可為於其表面附著有更小之填料者，亦可為該表面由更小之填料被覆者。凝聚體可由滑動體6壓碎，又，若凹部W3為能夠收容凝聚體之大小，則亦可保持凝聚體之狀態被提供。

填料F之形成素材可根據提供填料F之壓紋體W或由提供填料F之壓紋體W製造而成之物品之用途適當選擇，例如，可設為無機系填料（金屬、金屬氧化物、金屬氮化物等）、有機系填料（樹脂、橡膠等）、或由有機系材料與無機系材料所構成之有機無機複合材料構成之複合填料。於複合填料中，既可有機材料與無機材料混合存在，亦可有機材料之表面由無機材料被覆，還可無機材料之表面由有機材料被覆。亦可有機材料與無機材料複合存在。又，可視需要併用2種以上填料作為填料F。再者，填料F之表面既可平滑，亦可不平滑。例如，亦可形成有微小之隆起。

更具體而言，於將壓紋體W設為光學膜或消光膜之情形時，可使用氧化矽填料、氧化鈦填料、苯乙烯填料、丙烯酸填料、三聚氰胺填料或各種鈦酸鹽等作為填料F。為了使壓紋體具有遮光性或色調，填料F亦可為與顏料相同之材料。

於將壓紋體W設為電容器用膜之情形時，可使用氧化鈦、鈦酸鎂、鈦酸鋅、鈦酸鉍、氧化鑭、鈦酸鈣、鈦酸鍶、鈦酸鋇、鈦酸鋯酸鋇、鈦酸鋯酸鉛及其等之混合物等作為填料F。

於將壓紋體W設為接著膜之情形時，作為填料F，可含有聚合物系之橡膠、聚矽氧橡膠等。於該情形時，例如，可使填料F發揮間隔件之功能。

又，填料F既可為電性絕緣材料（絕緣體），亦可與其相反地為導電材料（導體），還可為表現出半導體之性質者。作為填料F，亦可將發揮不同功能或相反功能之2種以上併用。

再者，於本實施例之滑動裝置中，填料F係乾式地收容於壓紋體W之由表面凹凸決定之特定部位（例如，凹部W3之開口部等）。於該方面，填料F和｢如網版印刷用塗料或焊膏般，顏料或焊料之類的粒子與液狀或膏狀之樹脂黏合劑混合存在而成者｣有所區別。又，相對於使用粉末之滑動對象物之研磨裝置，本發明之滑動裝置於「對填料及滑動對象物（壓紋體）W均不造成損害」之方面不同。因此，根據本發明，可再利用填料及滑動對象物中之至少一者，亦能夠將再利用之填料提供給壓紋體之凹部。

被提供有填料F之壓紋體W之用途並不限定於上述例，利用滑動裝置1可處理各種用途之壓紋體。

填料F之大小可根據要提供填料F之壓紋體W之用途適當決定。例如，為了使填料F均勻地放入壓紋體W之凹部W3，較佳設為1個填料放入壓紋體W之1個凹部W3中之大小。另一方面，亦可視需要設為複數個填料放入1個凹部W3中之大小。

再者，填料之大小可藉由普通之粒度分佈測定裝置來測定，又，使用粒度分佈測定裝置亦能夠求出平均粒徑。作為粒度分佈測定裝置之一例，可列舉濕式流動式粒徑、形狀分析裝置FPIA-3000（Malvern Instruments Ltd）。另一方面，作為將填料提供給壓紋體W之凹部W3後求出填料之粒徑之方法，可利用金屬顯微鏡等光學顯微鏡或SEM等電子顯微鏡於俯視或剖視下進行觀察而求出。於該情形時，較理想為將測定填料之粒徑的樣品數設為200以上。又，於填料之形狀並非球形之情形時，可將最大長度或仿照球形之形狀之直徑設為填料之粒徑。

就使填料均等地放入壓紋體W之由凹部W3等表面凹凸決定之特定部位之方面而言，填料之粒徑較佳為不均較小，尤其是填料之粒徑之不均之CV值（標準偏差/平均）較佳為20%以下，更佳為10%以下，進而較佳為5%以下。

填料之粒徑之不均可使用上述濕式流動式粒徑、形狀分析裝置FPIA-3000（Malvern Instruments Ltd）求出。於該情形時，若測定之填料個數為1000個以上，較佳為3000個以上，更佳為5000個以上，則可準確地掌握填料個體之不均。於將填料配置於壓紋體之情形時，可與上述平均粒徑之測定同樣地利用平面影像或剖面影像求出。

填料之形狀可根據壓紋體之用途，自球形、橢圓球、柱狀、針狀、其等之組合等中適當選擇。就使填料均等且精確地放入壓紋體W之凹部W3之方面而言，填料較佳為球形，特佳為大致真球。

此處，所謂大致真球係指利用下式算出之真球度為70〜100。 真球度=〔1－（So－Si）/So〕×100

上述式中，So係填料之平面影像中之該填料之外接圓之面積，Si係填料之平面影像中之該填料之內切圓之面積。

該算出方法較佳為於放入有填料之壓紋體之俯視及剖視下拍攝填料之影像，計測各影像中任意100個以上（較佳為200個以上）填料之外接圓之面積與內切圓之面積，求出外接圓之面積之平均值與內切圓之面積之平均值，設為上述So、Si。又，較佳為於俯視及剖視之任一者中，真球度均為上述範圍內。俯視及剖視之真球度之差較佳為20以內，更佳為10以內。再者，填料個體之真球度亦可使用濕式流動式粒徑、形狀分析裝置FPIΑ-3000（Malvern Instruments Ltd）求出。

＜滑動對象物之搬送手段＞ 圖1所示之實施例之滑動裝置1具有：支持台2，其支持作為滑動對象物之壓紋體W；及搬送手段3，其以壓紋體W之表面W2相對於滑動體6之作用面6A平行之方式搬送壓紋體W。

支持台2如圖示般具備供載置壓紋體W之平坦之上表面，使搬送中之壓紋體W之表面抵接於滑動體6之作用面6A，或使其等隔開特定之間隙相對向。

如圖1所示，搬送手段3利用滾輪式輸送機等將載置於支持台2之板狀壓紋體單片式地至少自填料F被提供給壓紋體W之位置搬送至利用滑動部4進行之處理結束之位置。於該情形時，亦可斷續地搬送板狀壓紋體。另一方面，於壓紋體以長條膜狀成為卷狀物之情形時，亦可使用提供輥與捲取輥以卷對卷方式搬送壓紋體。

作為向壓紋體W上之特定部位投入填料F之處理物投入手段（未圖示），較佳為能夠調整每單位時間向壓紋體W上投入填料F之量者。

＜刮漿板＞ 於本發明中，刮漿板係根據滑動裝置之用途、滑動處理物F之形態、利用處理物投入手段投入滑動處理物F之態樣等，視需要而設置。例如，於利用處理物投入手段不將填料投入至壓紋體W之整個寬度而是投入至中央部之情形時，可將刮漿板設置於投入位置與滑動部4之間。

作為刮漿板之材質，例如可使用橡膠、工程塑膠、金屬、纖維等，非金屬材料之情形時之硬度可設為蕭氏A5〜100。又，可將壓紋體之搬送方向之刮漿板長度設為1〜50 mm，將刮漿板前端面之粗度設為Ra0.05〜100，將對刮漿板施加之按壓力設為0.001〜1 kgf/cm。

另一方面，於將本發明之滑動裝置用於排除或拂拭附著在滑動對象物上之無用之滑動處理物之情形時，不需要刮漿板。

＜滑動部＞ 滑動部4具備具有平坦之作用面6A之滑動體6。作為一例，滑動體6可如圖3所示般具有圓柱狀之外形。該圖之滑動體6由構成其側面及作為底面之作用面6A的表面材6B、佔據表面材6B之內部之彈性材6C、及上表面材6D形成。再者，於本發明中，滑動體6之作用面6A之形狀並不限於圓形，亦可為多邊形。就使對填料施加之負荷均等之方面而言，較佳為成為作用面6A之底面與側面之角6a被製成圓弧形，使得滑動體6周圍之填料能夠平滑地進入作用面6A等。

又，於圖1所示之滑動裝置1中，滑動體6之作用面6A抵接於壓紋體W之表面，但於本發明中，作用面6A與滑動對象物之距離可適當進行調整。

表面材6B藉由以氟樹脂等形成之膜或纖維體而形成為有底圓筒形狀，其圓形底面成為平坦之作用面6A。關於滑動對象物之表面之表面材6B之動摩擦係數之較佳範圍，由於滑動處理物之移動容易度受填料之材質、大小等滑動處理物之性狀與壓紋體之材質、凹部之大小等滑動對象物之性狀的組合關係影響，故作為一例，較佳為25以下，更佳為2以下，且較佳為1以上。再者，動摩擦係數可使用新東科學股份有限公司製造之表面性測定機、型號：14（HEIDON），以負載100 g、移動速度1000 mm/min進行測定。亦可依據JIS K7125，以移動速度100 mm/ min進行測定。

於圖1所示之滑動裝置1中，使用海綿作為滑動體6之彈性材6C（圖3）。藉由彈性材6C佔據滑動體6之內部，可防止對夾在作用面6A與壓紋體W之間之填料F施加無用之力而對填料F產生變形、破裂、剝離、損傷等對表面之損害等。再者，於本發明中，亦可設置將表面材6B向其作用面6A側賦能（energization）之彈簧材作為彈性材6C。

另一方面，上表面材6D與第1驅動機構20連接。

於本發明之滑動裝置中，滑動部4既可設置一個，亦可設置複數個，但就提昇滑動對象物上之滑動處理物之延展性之方面而言，較佳為於滑動對象物之搬送方向上並排設置複數個滑動部，例如，可於壓紋體W之搬送方向上並排設置2個滑動部4。於該情形時，相鄰之滑動部4彼此之距離可根據應使滑動處理物於滑動對象物上延展之面積或處理速度等適當進行調整。

又，於各個滑動部4設置複數個滑動體6時，例如，可於一個滑動部4呈三角格子狀、正方格子狀、放射狀等設置3〜6個滑動體6。於該情形時，相鄰之滑動體6彼此之距離只要根據填料之材質進行調整即可，若較長則對填料施加之負荷不連續，故而較佳，若較短則延展變得連續，故可預計會提昇延展性。若重視延展性之提昇，則相鄰之滑動體6彼此之距離較短為佳，例如，可將其等之最接近距離較佳設為2〜500 mm，更佳設為2〜300 mm，進而較佳設為10〜50 mm。

於本發明中，利用第1驅動機構20移動滑動體6之態樣與利用第2驅動機構30移動滑動部4之態樣分別設為有規律地改變移動方向之態樣，特佳為平滑且有規律地改變移動方向之 態樣。例如，可設為圓、橢圓、雙紐線、擺線、玫瑰線等各種平滑地閉合之曲線上之環繞運動、或圓形運動等。該等移動態樣可使用凸輪機構、齒輪機構、旋轉機構等構成。不論於滑動體6及滑動部4取哪一種移動態樣之情形時，均如圖2所示，滑動體之作用面6A內之任意點P藉由第1驅動機構20沿該作用面6A內之虛線軌跡以速度Vx移動，且藉由第2驅動機構30於包含作用面6A之平面內沿二點鏈線之軌跡以速度Vy移動，藉此，與利用第1驅動機構20及第2驅動機構30中之任一者使點P移動之情形相比，該點P於滑動對象物W之表面上每單位時間之移動量變大。因此，能使滑動處理物F於滑動對象物W上充分延展。尤其是於點P進行直線往返運動之情形時，會產生如下情形，即，於移動方向急遽轉向之部分滑動處理物未延展，填料F自滑動對象區域被擠出而無用地消耗，或對周圍造成污染。但若使點P之移動方向平滑地呈曲線變化，則延展性變得更加良好，可防止填料F自滑動對象區域被擠出。又，藉由搬送手段3，上述點P相對於滑動對象物W之移動量變得更大。因此，滑動對象物W上之滑動處理物F之延展性進一步提昇。相對於此，若該點P之移動量過小，則無法使滑動處理物F於滑動對象物W上充分延展。又，於利用搬送手段3之移動速度過大之情形時，無法充分確保滑動處理時間，由此，延展性亦會降低。因此，利用搬送手段3使滑動對象物W移動之速度較佳為根據滑動體6與滑動部4之移動速度來適當決定。

如上所述，作用面6A內之任意點P藉由第1驅動機構20及第2驅動機構30之作用而每單位時間之移動量變大，但此意指與滑動對象物W內之基準點對應之作用面6A內之點之相對移動量變大。因此，根據本發明，於將滑動處理物F均勻地提供給滑動對象物W且滑動對象物W為壓紋體之情形時，滑動處理物F進入其凹部之比率變高，又，能夠將多餘之滑動處理物F自滑動對象物W排除。

＜滑動裝置之用途＞ 本發明之滑動裝置可用作向壓紋體等具有凹部之滑動對象物W之該凹部乾式地提供填料之裝置、自被提供有填料之壓紋體排除多餘填料之裝置，又，可用作向任意滑動對象物W所具有之平坦面提供溶劑等液狀物等並進行拂拭之裝置、淨化滑動對象物W之表面之裝置等。

＜滑動裝置之使用方法＞ 作為本發明之滑動裝置之使用方法，根據相關用途適當選擇滑動對象物W與滑動處理物F，並將其等設置於滑動裝置。又，調整第1驅動機構20及第2驅動機構30之驅動速度。進而，於使用該滑動裝置1之滑動處理期間利用搬送手段3搬送滑動對象物W之情形時，對其搬送速度亦進行調整。

例如，於將壓紋體W作為滑動對象物，將填料F作為滑動處理物，將填料F均勻地放入至有規律地配置在壓紋體W表面之壓紋體之凹部W3之情形時，首先，將壓紋體W載置於支持台2上，將支持台2設置於搬送手段3，分別以特定速度驅動搬送手段3、及滑動部4之第1驅動機構20與第2驅動機構30。於壓紋體W為膜之情形時，較佳為如上所述般使用捲取機構等。

其次，將填料F以特定之投入速度提供給壓紋體W之特定部位。提供量可根據對壓紋體W之凹部W3之個數之幾%填充填料F等滑動處理之目的來決定，但通常填料投入個數相對於壓紋體之凹部之個數較佳為250%以下，更佳為200%以下，進而較佳為150%以下。提供量之下限亦可低於100%。其原因在於：根據滑動處理之目的不同，亦存在填料個數少於凹部W3之個數之情形。再者，壓紋體之凹部個數可與下述殘存率中之凹部個數同樣地求出。

於視需要在投入部位之下游設置有刮漿板之情形時，藉由自刮漿板通過，填料F於壓紋體W上以某種程度擴展。

其次，當壓紋體W上之填料F到達第1滑動部4（上游側之滑動部）時，滑動體6藉由第1驅動機構20及第2驅動機構30而移動，藉此，如圖5所示抵接於滑動體6側面之填料F進入滑動體6之作用面6A與壓紋體W之間，被該作用面6A捕獲之填料F於滑動體6之移動方向上移動，進入壓紋體W之凹部W3中。即便於藉由最先接觸填料F之滑動體6未能使填料F進入凹部W3之情形時，與該滑動體6相鄰之滑動體6亦會與填料F接觸，從而將填料F再次引導至凹部W3。

根據本發明，藉由使用第1驅動裝置與第2驅動裝置，可使滑動體6之作用面6A內之任意點P每單位時間之移動量變長，尤其是藉由在滑動部4設置複數個滑動體6，此外，在滑動裝置並排設置複數個滑動部4，壓紋體W上之填料F藉由利用滑動體6之滑動處理而被均勻地提供至壓紋體W上，進入壓紋體之凹部W3之效率亦提昇。因此，根據本發明，可將相對於壓紋體W之凹部W3之個數的填充至該凹部W3之填料F之個數的比率（填充率）較佳設為90%以上，更佳設為95%以上，進而較佳設為97%以上，特佳設為99.5%以上。填充率可如下所述般利用與殘存率相同之方法求出。再者，如上所述，本發明未必限定於使填充率近似100%。

又，於以往之印刷裝置等之刮漿板之上游會出現填料F積存，相對於此，若使用本發明之滑動裝置1之滑動體6，則填料不易積存於滑動體6之周圍，亦能夠防止因填料積存導致填料彼此相互摩擦而使填料受損傷之情況。

於利用滑動體6之滑動處理中，如圖6所示，藉由滑動體6使填料F於壓紋體W上移動之情形時，當移動目的地之凹部W3中已放入有填料F時，填料F不會被壓入凹部W3中，而是自壓紋體W之表面被排除。於該情形時，滑動裝置1作為剩餘填料之排除裝置發揮功能。再者，於本發明中，亦可追加於另一步驟中進行不需要之填料之排除的其他裝置。

關於此，根據本發明之裝置，可於壓紋體W之滑動對象區域之單位面積中，將未進入凹部W3而殘存於壓紋體W上之填料之個數與該單位面積中之凹部W3之個數的比率（殘存率）較佳設為2%以下，更佳設為1%以下，進而較佳設為0.5%以下。

殘存率較佳為藉由如下方法求出：於壓紋體W之滑動對象區域中抽取5處以上、較佳為20處以上之1邊為200 μm以上之矩形區域，將其合計面積設為1 mm² 以上，較佳為4 mm² 以上，測定該面積中壓紋體W之凹部W3之個數、及未進入凹部W3而殘存於壓紋體W上之填料之個數。再者，於壓紋體W之總面積明顯較大之情形時，較佳為任意抽取10處以上其面積之1%之區域，利用所抽取之部位測定上述殘存率。上述填充率亦可利用相同方法，藉由計測凹部W3之個數與填充有填料之凹部之個數而求出。再者，亦可預先計測凹部W3之個數，求出每單位面積之凹部W3之個數密度。

關於每單位面積之凹部W3之個數、填充有填料之凹部W3之個數及未進入凹部W3而殘存於壓紋體上之填料之個數，可利用金屬顯微鏡等光學顯微鏡、SEM等電子顯微鏡、其他公知之觀察手段進行測定。亦可使用公知之影像解析軟體（例如，WinROOF（三谷商事股份有限公司）、A像君（註冊商標）（旭化成工程股份有限公司）等）簡易地求出。

又，於將「提供給壓紋體W之滑動對象區域之每單位面積之填料F的個數與每個該單位面積之凹部W3之個數的比率（提供率）」、和「該單位面積中進入凹部W3之填料之個數與該單位面積中之凹部W3之個數的比率（填充率）」的差設為剩餘率（剩餘率=提供率－填充率）之情形時，可將剩餘率較佳設為160%以下，更佳設為105%以下，進而較佳設為50%以下。

利用第1驅動機構20移動滑動體6之速度、利用第2驅動機構30移動滑動體6之速度、及利用搬送手段3搬送壓紋體W之速度係根據該壓紋體之凹部之大小、形狀、分佈密度、或填料F之最大徑、性狀等適當選擇。

＜滑動處理之後處理＞ 將填料提供給壓紋體表面之凹部後，為了對填料之配置狀態加以保護等，亦可於被提供有填料之壓紋體之表面塗佈硬化性液狀物，使該硬化性液狀物硬化等而於壓紋體之表面設置樹脂層。亦可藉由在被提供有填料之壓紋體表面直接貼合樹脂膜而設置樹脂層。進而，亦可將設置於被提供有填料之壓紋體表面之樹脂層或樹脂膜剝離，使填料移動至與壓紋體分開之樹脂層或樹脂膜等。作為該硬化性液狀物或樹脂膜，可使用公知之接著材或黏著材中所使用者。硬化性液狀物或樹脂膜中亦可預先含有與填料不同之較填料小之微小填料。

於提供填料後設置於壓紋體表面之層、或使提供給壓紋體表面之填料移動至其他材料之情形時之移動目的地之材料中亦可含有除樹脂以外之材料。該除樹脂以外之材料可與將壓紋體設為積層構造之情形時之各層之材料同樣地自各種材料中適當選擇。

亦可於將填料提供給壓紋體後，進行作為滑動對象物吹送溶劑之滑動處理，將存在於壓紋體之凹部以外之多餘填料去除。根據本發明，能以保持填料之配置狀態之方式進行此種滑動處理。

再者，將填料提供給壓紋體後之上述處理可不依存於壓紋體W之表面凹凸之加工方法或表面材料而進行。因此，可應用於藉由積層具有表面凹凸之層或具有孔之層中之任一者而形成壓紋體之表面凹凸之情形。又，可應用於與將壓紋體設為積層構造之情形時之各層之材料同樣地由各種材料形成具有表面凹凸之層或具有孔之層之情形。例如，於壓紋體W之表面由空出有孔之金屬層形成之情形時，為了保護進入該孔之填料之配置狀態，又，為了使進入該孔之填料移動至其他材料，可進行上述處理。

本發明係只要具備本發明之滑動裝置，便可具備各種周邊裝置。例如，於滑動對象物W為板狀壓紋體之情形時，可具備將其等連續地送出至滑動裝置之輸送機式搬送機構或固定機構、將滑動處理後之板狀壓紋體回收至特定位置之回收裝置，又，於滑動對象物W為膜狀壓紋體之情形時，可具備將成為卷狀物之膜狀壓紋體送出至滑動裝置之機構或將滑動處理後之膜狀壓紋體捲取之捲取機構。

亦可設置向提供有填料之壓紋體之表面設置負責對填料之配置狀態加以保護等之上述樹脂層或樹脂膜的機構等。又，本發明亦包含如下裝置，該裝置係在滑動裝置內組裝有確認填料之填充狀態、殘存狀態、或延展後之填料之存在狀態的檢查機構（攝影機或感測裝置）。 實施例

以下，利用實施例具體地說明本發明。 實施例1 （1）裝置構成 作為滑動裝置1，製作具有2個滑動部4且將其等在薄膜狀之壓紋體W之搬送方向（箭頭Z）上並排設置而成之裝置。於該情形時，由聚四氟乙烯之有底筒狀成型體（厚度20 mm）形成各滑動體6之作用面6A及表面材6B，向其中放入海綿作為彈性材6C。滑動體6之外形為圓柱狀，作用面6A之徑設為80 mm。於1個滑動部4設置5個滑動體6（滑動體6間之最接近距離為14 mm），將其等繞滑動部4之中心軸呈放射狀配置，利用第1驅動機構20使各滑動體6繞中心軸旋轉，利用第2驅動機構30使滑動部4繞該滑動部4之中心軸旋轉。將各滑動體6之中心軸與滑動部4之中心軸之距離設為80 mm，將滑動對象區域之寬度設為一個滑動部4之寬度。又，滑動對象物W之搬送方向上排列之2個滑動部4之中心軸彼此之距離設為300 mm。

滑動對象物W設為壓紋體，使用其卷狀物（長度100 m以上），該壓紋體中，於PET膜（厚度50 μm）上積層有「使含有丙烯酸酯樹脂（M208、東亞合成股份有限公司）100質量份、光聚合起始劑（IRGACURE184、BASF）2質量份之光硬化樹脂組成物光硬化而形成的厚度30 μm之膜」，於該膜中以中心間距離10 μm呈六方格子排列有開口徑6 μm、深度7 μm之圓筒型凹坑。滑動對象物W之寬度（即膜寬度）足夠寬於滑動對象區域之寬度，且以滑動對象區域之膜寬度方向之中心成為膜寬度之中心之方式設置。

滑動處理物F係設為由聚甲基丙烯酸甲酯系交聯物形成之粒徑5 μm之填料（對日本觸媒股份有限公司製造之epostar MA1006進行分級而得者）。

（2）滑動體之觸碰長度與填充率及剩餘率 於上述滑動裝置中，為了探尋降低剩餘率之最佳模式之滑動處理條件，進行了如下滑動試驗：使利用第1驅動機構20使滑動體6旋轉之速度於20〜100 rpm之範圍內變化，使利用第2驅動機構30使滑動部4旋轉之速度於20〜100 rpm之範圍內變化，將利用搬送手段3之線速設為1、2或3 m/min。

各滑動試驗中，藉由模擬算出滑動體6之觸碰長度。此處，所謂「滑動體之觸碰長度」係指在滑動處理期間自滑動對象物W內之特定基準點上通過之滑動體6的作用面6A上之該基準點之軌跡長度的總和，於複數個滑動體6之作用面6A自基準點通過之情形時，指將各作用面上之基準點之軌跡的長度加以合計所得之長度。於本實施例中，將壓紋體之寬度之中心線上之點設為基準點，「滑動體之觸碰長度」係在該基準點到達上游側之滑動部4之後至離開下游側之滑動部4為止之滑動處理期間，自基準點上通過之作用面6A上的該基準點之軌跡長度的總和。 將滑動體6之旋轉速度（rpm）與滑動體6之觸碰長度之關係示於圖7。

另一方面，測定了｢以壓紋體W之滑動對象區域之每單位面積之填料F的提供個數成為該單位面積中之凹部W3之個數之1.4倍以上1.5倍以下之方式投入｣之情形時的各滑動試驗中之填料之填充率。

此處，所謂填充率係指壓紋體W之滑動對象區域之單位面積中之放入壓紋體之凹部的填料之個數N1與壓紋體之凹部之個數N0的比率（%）（100×N1/N0）。

作為填充率，於對壓紋體W沿搬送方向進行100 m以上之滑動處理後之該壓紋體W之滑動對象區域之中央部區域（滑動對象區域之寬度方向中心部之60%）中抽取10處1 mm×1 mm之任意區域，計測各區域中放入凹部W3之粒子數而算出。又，計測該區域中未放入凹部W3而殘存於壓紋體W上之粒子數，從而算出殘存率。

將滑動體之觸碰長度與填料之填充率之關係示於圖8A。 由圖8A可知，於該試驗系統中，若滑動體之觸碰長度處於1000〜3200 mm之範圍，則填充率為97%以上，有所提昇。 殘存率係於任一計測部位均為2%以下。

針對圖8A中填充率為97%以上之填料填充後之壓紋體，於壓紋體之滑動處理起點、距該起點向下游側為1.5 m之點、距該起點向下游為10 m之點、之後向下游側每隔10 m一直到距起點為100 m為止之點（合計12個點）中，計測了填充率及殘存率，結果確認任一點之填充率均為97%以上，殘存率為2%以下。

又，測定了｢以使壓紋體W之滑動對象區域之每單位面積之填料F的提供個數成為該單位面積中之壓紋體W之凹部W3之個數的1.4倍以上1.5倍以下之方式投入｣之情形時的各滑動試驗中之填料之剩餘率。此處，所謂剩餘率係如下數值，即，於將對壓紋體W之滑動對象區域之每單位面積提供之填料F之個數與每個該單位面積之凹部W3之個數的比率設為提供率Ns（%），將該單位面積中放入凹部W3之填料之個數N1與該單位面積中之凹部W3之個數N0的比率設為填充率（%）（100XN1/N0）之情形時，利用剩餘率=提供率－填充率而算出之數值。將滑動體之觸碰長度與填料之剩餘率之關係示於圖8B。

由圖8B可知，於該試驗系統中，若滑動體之觸碰長度為1000 mm以上，則剩餘率降低至42%以下，可減少填料F之提供量。

進而，於上述滑動試驗中，將第1驅動機構20中之滑動體之旋轉速度與滑動體之觸碰長度之關係針對每一線速示於圖9。根據圖8A及圖8B，可知本次所實施之滑動處理物與滑動對象物之關係中，較佳為將滑動體之觸碰長度設為大致1500 mm〜3200 mm（塗滿灰色之區域），因此，可知為了使填充率接近100%且降低剩餘率，較佳為根據滑動體之旋轉速度將線速設定為特定之範圍。再者，滑動體之旋轉速度、滑動體之觸碰長度及線速各自之較佳範圍因滑動對象物與滑動處理物之組合或滑動處理之目的而異，本發明並不限定於本實施例之範圍。

為了參考，於實施例1之裝置構成中，代替2個滑動部4而將刮漿板（形成材料：胺酯（urethane）、長度（與滑動對象物W之搬送方向垂直之方向之長度）120 mm、厚度10 mm）以該刮漿板之下邊與滑動對象物W接觸之方式設置（設置角度70°），線速設為2 m/min，按壓力設為0.1 MPa，與實施例1同樣地測定了填料之填充率及剩餘率。於該情形時，使填料之提供量逐漸增加，針對每一提供量測定填充率及剩餘率，從而求出填充率達到97%以上之提供量。該提供量為實施例1之相同線速（2 m/min）之態樣之提供量的約4倍，剩餘率為約12倍。

1:滑動裝置 2:支持台 3:搬送手段 4:滑動部 6:滑動體 6a:角 6A:作用面 6B:表面材 6C:彈性材 6D:上表面材 20:第1驅動機構 30:第2驅動機構 F:滑動處理物、填料 W:滑動對象物、壓紋體 W1:壓紋本體 W2:表面 W3:凹部

[圖1]係表示本發明之實施形態之滑動裝置之概略側視圖； [圖2]係本發明之實施形態之滑動體之作用的說明圖； [圖3]係滑動體之概略放大剖面圖； [圖4A]係用作滑動對象物之壓紋體之俯視圖； [圖4B]係圖4A所示之壓紋體之剖面圖； [圖5]係將壓紋體作為滑動對象物且將填料作為滑動處理物之情形時之利用滑動體提供填料之作用之說明圖； [圖6]係將壓紋體作為滑動對象物且將填料作為滑動處理物之情形時之利用滑動體排除多餘填料之作用之說明圖； [圖7]係滑動體之旋轉速度與滑動體之觸碰長度之關係圖； [圖8A]係滑動體之觸碰長度與填料之填充率之關係圖； [圖8B]係滑動體之觸碰長度與剩餘率之關係圖； [圖9]係滑動體之旋轉速度與滑動體之觸碰長度之關係圖。

1:滑動裝置

2:支持台

3:搬送手段

4:滑動部

6:滑動體

6A:作用面

20:第1驅動機構

30:第2驅動機構

F:滑動處理物、填料

W:滑動對象物、壓紋(emboss)體

W2:表面

Z:箭頭

Claims (7)

1. 一種滑動裝置，其具有： 滑動部，其設置有複數個具有平坦之作用面之滑動體；及 驅動機構，其於使滑動體平行於作用面相對於滑動對象物有規律地移動期間，使滑動部平行於滑動體之作用面且沿與滑動體之移動方向不同之方向相對於滑動對象物有規律地移動；且 使用上述滑動部之滑動體對滑動對象物之表面進行滑動處理。
2. 如請求項1之滑動裝置，其具有：第1驅動機構，其使滑動體平行於作用面有規律地移動；及 第2驅動機構，其使滑動部平行於作用面且沿與利用第1驅動機構進行之移動不同之方向有規律地移動。
3. 如請求項1或2之滑動裝置，其具有相對於滑動體之作用面平行地搬送滑動對象物之搬送手段。
4. 如請求項3之滑動裝置，其於滑動對象物之搬送方向上並排設置有複數個滑動部。
5. 如請求項1至4中任一項之滑動裝置，其中，滑動體具備構成作用面之表面材及設置於表面材之內部之彈性材。
6. 如請求項1至5中任一項之滑動裝置，其於滑動對象物之表面上滑動體之作用面之動摩擦係數為25以下。
7. 如請求項1至6中任一項之滑動裝置，其中，將後述軌跡長度的總和設為1500 mm〜3200 mm，該軌跡長度的總和為：於滑動處理期間，在滑動處理期間自滑動對象物內之特定基準點上通過之滑動體的作用面上之該基準點之軌跡長度的總和。

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