TW202033487A - 用於純化溶劑之系統及方法 - Google Patents
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Abstract
本揭示涉及純化溶劑之方法。該純化的溶劑可在多步半導體製程中用於清潔半導體基材。
Description
相關申請案之交叉引用
此申請案主張提申日期2018年11月20日之美國臨時申請案第62/769,612號之優先權,其完整地在此併入本案以為參考。
發明領域
本揭示有關用於純化溶劑(如,有機溶劑)之系統及方法。特別是,本揭示有關可用於獲得具有高純度、低晶圓上粒子數及低晶圓上金屬數之有機溶劑之系統及方法。
發明背景
半導體產業在電子組件之積體密度方面,由於組件尺寸持續的縮小而達到快速的改善。最後可將更多更小的組件集成到指定區域中。此等改善大部分是由於新的高精度及高解析度處理技術之發展。
在高解析度積體電路(ICs)的製造期間,各種處理液會與裸露的晶圓或覆膜晶圓接觸。例如,精細的金屬互連之製作,通常涉及在用複合液塗佈基底材料以形成抗蝕膜之前,先用預濕液塗佈該基底材料之程序。已知此等含有專有成份及各種添加物之處理液,是污染IC晶圓之來源。
推測即使微量的污染物混合進入此等化學液體,諸如晶圓預濕液或顯影溶液中,所產生的電路圖案亦可能會有缺陷。已知非常低位準的金屬雜質的存在,低如1.0 ppt,會干擾半導體元件之性能及安定性。且視金屬污染物之種類,可能會使氧化物之特性劣化、可能會形成不精確的圖案、可能損害半導體電路的電氣性能,此基本上會不利地影響製造產率。
雜質污染,如金屬雜質、細粒、有機雜質、濕氣等等可能在化學液體之製造的各階段期間被引入化學液體中。例子包括下列情況:原料中存在雜質,或化學液體製造時產生的副產物或殘留未反應的反應物,或從製造裝置之表面或從用於運輸、儲存或反應之容器設備、反應容器等掙脫或萃取之外來物質。因此,減少或移除此等用於高度精密及超精細半導體電子電路之化學液體中的不溶性及可溶性污染物,是產生無缺陷ICs基本的保證。
在這方面,為形成製作超精細和極精密半導體電子電路時必不可少的高純度化學液體,大幅地改善及嚴格地控制化學液體製程及系統的標準及品質是勢在必行的。
發明概要
據此,為形成高度精密積體電路,對超純化學液體之要求及此等液體之品質改善及控制變得非常重要。針對品質改善及控制的具體關鍵參數包括:減少液體及晶圓上金屬、減少液體或晶圓上粒子數、減少晶圓上缺陷及減少有機污染物。全部此等關鍵參數均顯示會受到純化系統之必要準備及純化過程之適當設計的影響。
鑑於以上,本揭示特別提供一種純化系統及一種使用該純化系統來純化溶劑(如,有機溶劑)之方法,供用於製備目標用於半導體製程之溶劑,其中產生了超純的溶劑,該溶劑中之微粒數量及金屬雜質數量控制在一預定範圍內且沒有產生或引入未知及不想要的物質。因此,抑制了殘留物和/或粒子缺陷之發生並改善了半導體晶圓之產率。
在一個態樣中,本揭示之特徵在於一種純化有機溶劑之方法,其包括使一有機溶劑通過一純化系統中之一第一過濾器至一包裝站,以獲得一純化的有機溶劑。該第一過濾器包括一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,及該至少一個過濾介質具有至多約5nm之平均孔徑。該純化系統包括該第一過濾器、該包裝站及與該第一過濾器及該包裝站流體連通之一導管,及該導管或該過濾器外殼的內表面包括氟聚合物。
在另一個態樣中,本揭示之特徵在於一種純化有機溶劑之方法,其包括使一有機溶劑通過第一及第二過濾器,以獲得一純化的有機溶劑。該第一過濾器包括至少一個過濾介質,其具有至多約5nm之平均孔徑且包括聚醯胺,及該第二過濾器包括至少一個過濾介質,其具有至多約5nm之平均孔徑且包括氟聚合物。
在另一個態樣中,本揭示之特徵在於一種系統,其包括(1)一第一過濾器,其包括一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,及該至少一個過濾介質具有至多約5nm之平均孔徑;(2)一包裝站;及(3)與該第一過濾器及該包裝站流體連通之一導管。該過濾器外殼及該導管的內表面包括氟聚合物。
在又另一個態樣中,本揭示之特徵在於一種系統,其包括(1)一第一過濾器,其包括一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,其中該至少一個過濾介質具有至多約5nm之平均孔徑且包括聚醯胺;及(2)與該第一過濾器流體連通之一第二過濾器,其中該第二過濾器包括一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,及該至少一個過濾介質具有至多約5nm之平均孔徑且包括氟聚合物。
實施例可包括一或多個下列特徵。
在一些實施例中,本文所述的方法可進一步包括使該有機溶劑通過與該第一過濾器及包裝站流體連通且位在其等之間一第二過濾器,其中該第二過濾器包括一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,及該第二過濾器中之至少一個過濾介質具有至多約5nm之平均孔徑。在一些實施例中,該第二過濾器之濾器外殼的內表面可包括氟聚合物。在一些實施例中,整個該第二過濾器可由氟聚合物製成。
在一些實施例中,該第一或第二過濾器中之至少一個過濾介質包括聚醯胺(如,尼龍)、聚烯烴(如,聚乙烯)、氟聚合物(如,聚四氟乙烯)或其等之共聚物。例如,該第一過濾器中之至少一個過濾介質可包括尼龍,而該第二過濾器中之至少一個過濾介質可包括聚四氟乙烯。
在一些實施例中,該第一過濾器、該第二過濾器或該導管的內表面可包括聚四氟乙烯或其共聚物。
在一些實施例中,該第一過濾器可包括1至120個過濾介質,該第二過濾器可包括1至30個過濾介質。
在一些實施例中,使該有機溶劑通過該第一過濾器至該包裝站,在至多約80℉之溫度下進行。
在一些實施例中,本文所述的方法可進一步包括使該有機溶劑通過一熱交換器,以便將該有機溶劑之溫度維持在至多約80℉下。
在一些實施例中,本文所述的方法可進一步包括在使該有機溶劑通過該第一過濾器之前,先使該有機溶劑通過一第三過濾器,其中該第三過濾器包括至少一個過濾介質,其具有至多約200nm之平均孔徑。在一些實施例中,本文所述的方法可進一步包括在使該有機溶劑通過該第三過濾器之後,但在使該有機溶劑通過該第一過濾器之前,使該有機溶劑通過一第四過濾器,其中該第四過濾器包括至少一個離子交換過濾介質。在一些實施例中,本文所述的方法可進一步包括在使該有機溶劑通過該第四過濾器之後,但在使該有機溶劑通過該第一過濾器之前,使該有機溶劑通過一第五過濾器,其中該第五過濾器包括至少一個過濾介質,其具有至多約20nm之平均孔徑。
在一些實施例中,本文所述的方法可進一步包括在將該有機溶劑遞送至該包裝站之前,先使該有機溶劑通過包括該第一過濾器之一再循環迴路循環至少二次。
在一些實施例中,該有機溶劑包含環己酮、乳酸乙酯、乙酸正丁酯、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚乙酸酯、4-甲基-2-戊醇或碳酸伸丙酯。
本揭示之詳細說明
如本文之定義,所有表示的百分比,除非另有說明,否則應理解成占組成物總重量的重量百分比。除非另有說明,否則周遭溫度定義在約16與約27攝氏度(℃)之間。本文中所提及的術語“溶劑”,除非另有說明,否則意指單一溶劑或二或多種(如,三或四種)溶劑之組合。在本揭示中,“ppm”意指“百萬分之一”、“ppb”意指“十億分之一”及“ppt”音指“兆分之一”。
概略而言,本揭示之特徵在於用於純化溶劑(如,有機溶劑)之系統及方法。本文所提及的溶劑可用作晶圓處理溶液(諸如預濕液、顯影溶液、漂洗溶液、清洗溶液或剝離溶液)或用於半導體製程中所使用的半導體材料之溶劑。
在用本揭示之純化方法處理之前,溶劑可能含有不良數量的污染物與雜質。在經過本揭示之純化方法處理該溶劑後,可從該溶劑中去除大量的污染物與雜質。在本揭示中,處理前的溶劑亦稱作“未純化的溶劑”。處理前的溶劑可為內部合成的或從供應商購得的。在本揭示中,處理後的溶劑亦稱作“純化的溶劑”。“純化的溶劑”可包括限制在預定範圍內之雜質。
概略而言,本文中所提及的溶劑可包括至少一種(如,二種、三種或四種)有機溶劑。適合的有機溶劑之例子包括甲醇、乙醇、1-丙醇、異丙醇、正丙醇、2-甲基-1-丙醇、正丁醇、2-丁醇、叔丁醇、1-戊醇、2-戊醇、3-戊醇、正己醇、環己醇、2-甲基-2-丁醇、3-甲基-2-丁醇、2-甲基-1-丁醇、3-甲基-1-丁醇、2-甲基-1-戊醇、2-甲基-2-戊醇、2-甲基-3-戊醇、3-甲基-1-戊醇、3-甲基-2-戊醇、3-甲基-3-戊醇、4-甲基-1-戊醇、4-甲基-2-戊醇、2-乙基-1-丁醇、2,2-二甲基-3-戊醇、2,3-二甲基-3-戊醇、2,4-二甲基-3-戊醇、4,4-二甲基-2-戊醇、3-乙基-3-庚醇、1-庚醇、2-庚醇、3-庚醇、2-甲基-2-己醇、2-甲基-3-己醇、5-甲基-1-己醇、5-甲基-2-己醇、2-乙基-1-己醇、甲基環己醇、三甲基環己醇、4-甲基-3-庚醇、6-甲基-2-庚醇、1-辛醇、2-辛醇、3-辛醇、2-丙基-1-戊醇、2,6-二甲基-4-庚醇、2-壬醇、3,7-二甲基-3-壬醇、乙二醇、丙二醇、二乙醚、二丙醚、二異丙醚、丁基甲基醚、丁基乙基醚、丁基丙基醚、二丁醚、二異丁醚、叔丁基甲基醚、叔丁基乙基醚、叔丁基丙基醚、二叔丁基醚、二戊醚、二異戊醚、環戊基甲基醚、環己基甲基醚、溴甲基甲基醚、α,α-二氯甲基甲基醚、氯甲基乙基醚、2-氯乙基甲基醚、2-溴乙基甲基醚、2,2-二氯乙基甲基醚、2-氯乙基乙基醚、2-溴甲基乙基醚、(±)-1,2-二氯乙基乙基醚、2,2,2-三氟乙基醚、乙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、烯丙基乙基醚、烯丙基丙基醚、烯丙基丁基醚、二烯丙基醚、2-甲氧丙烯、乙基-1-丙烯醚、順式-1-溴基-2-乙氧基乙烯、2-氯乙基乙烯基醚、烯丙基-1,1,2,2-四氟乙醚、辛烷、異辛烷、壬烷、癸烷、甲基環己烷、十氫萘、二甲苯、乙苯、二乙苯、異丙苯、仲丁基苯、異丙基甲苯、雙戊烯、丙酮酸甲酯、單甲醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、環戊酮、環己酮、乙酸正丁酯、γ-丁內酯、二異戊醚、乙酸異戊酯、氯仿、二氯甲烷、1,4-二㗁烷、己醇、2-庚酮、乙酸異戊酯、碳酸伸丙酯及四氫呋喃。
在一些實施例中,該溶劑是預濕液。預濕液之例子包括環戊酮(CyPe)、環已酮(CyH)、單甲醚、丙二醇單甲醚(PGME)、丙二醇單乙醚(PGEE)、丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇單丙醚(PGPE)及乳酸乙酯(EL)中之至少一個。在其它實施例中,該溶劑可為諸如乙酸正丁酯之顯影溶液,或諸如4-甲基-2-戊醇(MIBC)之漂洗液。
在一些實施例中,該處理前或未純化的有機溶劑可具有至少約95% (如,至少約96%、至少約97%、至少約98%或至少約99%)之純度。在一些實施例中,由本文所述的方法獲得之處理後或純化的有機溶劑可具有至少約99.5% (如,至少約99.9%、至少約99.95%、至少約99.99%、至少約99.995%或至少約99.999%)之純度。本文中所提及的“純度”意指該溶劑占液體總重量的重量百分比。液體中該有機溶劑之含量可使用氣相層析質譜儀(GCMS)測量。
在一些實施例中,本文中所述的溶劑之沸點,從提高半導體晶片的製造良率之觀點,至多約200℃ (如,至多約150℃)或至少約50℃ (如,至少約100℃)。在本揭示中,沸點意思在1大氣壓下之沸點。
通常,處理前的有機溶劑中所含的雜質可包括金屬雜質、粒子及其它,諸如有機雜質及濕氣。
本文所述的金屬雜質可為固體形式(如,金屬單純形、含金屬微粒之化合物等等)。常見的金屬雜質之例子包括重金屬,如鐵(Fe)、鋁(Al)、鉻(Cr)、鉛(Pb)及鎳(Ni),及離子金屬,諸如鈉(Na)、鉀(K)及鈣(Ca)。依金屬種類,金屬雜質可能會降低氧化物之完整性、降解MOS 閘極堆疊及減少元件的夀命。在經過本文所述的方法純化之有機溶劑中,總微量金屬含量較佳的質量在0至300ppt (如,0至150ppt)之預定範圍內。
在本揭示中,具有尺寸0.03µm或更大的物質稱作“粒子”或“微粒”。粒子之例子包括粉塵、髒污、有機固體物質及無機固體物質。該粒子亦可包括膠態金屬原子雜質。容易膠化之金屬原子類型沒有特別限定,且可包括至少一種選自於由Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni、Zn及Pb所構成之群組之金屬原子。在經過本文所述的方法純化之有機溶劑中,每1毫升的溶劑中具有尺寸0.03µm或更大之粒子的總量,較佳的在至多100個(如,至多80個、至多60個、至多50個、至多40個或至多20個)之預定範圍內。使用光散射型液體中粒子計數器計算液體介質中“粒子”之數量,並稱作LPC (液體粒子數)。
如本文所述,有機雜質與有機溶劑不同,指的是相對於含有該有機溶劑與該有機雜質之液體的總質量中,含量為5000質量ppm或更少之有機物質。有機雜質可為存在周遭空氣中,甚至無塵室裡面之揮發性有機化合物。有些有機雜質源自運輸和儲存設備,而有些存在起始原料中。有機雜質之其它例子包括有機溶劑合成時之副產物和/或未反應的反應物。
純化的有機溶劑中有機雜質的總含量沒有特別限定。從提高半導體元件之製造良率觀點,純化的有機溶劑中有機雜質之總含量可為0.1至5000質量ppm (如,1至2000質量ppm、1至1000質量ppm、1至500質量ppm或1至100質量ppm)。在本文所述的溶劑中有機雜質的含量可使用氣相層析質譜儀(GC-MS)測量。
圖1是顯示根據本揭示之一些實施例之純化系統之配置的示意圖。如圖1所示,純化系統10包括供應單元20、第一過濾系統110、貯存槽130、第二過濾系統120及包裝站140,其等全部彼此流體連通(如,通過一或多個導管)。
通常,供應單元20 (如,槽)配置成可保存或遞送起始材料(如,處理前或未純化的有機溶劑)。該起始材料可經過純化系統10處理,而產生或製得其中不要的污染物(如,微粒、有機雜質、金屬雜質)之數量限定在預定範圍內之純化的有機溶劑。供應單元20之類型沒有特別的限制,只要其可連續或間歇地供應該起始材料至純化系統10之其它組件即可。在一些實施例中,供應單元20可包括材料接收槽、感應器,如準位規(未示出)、泵(未示出)和/或用於控制該起始材料之流動的閥(未示出)。圖1中,純化系統10包括一個供應單元20。然而,在一些實施例中,可為各種待純化系統10處理之起始材料,提供多個供應單元20 (如,併聯或串聯)。
純化系統10可包括至少一個第一過濾系統110及至少一個第二過濾系統120。通常,第一過濾系統110進行起始材料之初始過濾(如,未純化的有機溶劑),去除大部分的雜質和/或粒子,而第二過濾系統120進行後續的過濾,以去除剩餘的雜質及細粒,以便獲得超高純度有機溶劑。
在一些實施例中,純化系統10可任擇地包括溫度控制單元100,用於設定或維持有機溶劑的溫度在一特定溫度範圍內,使該有機溶劑在純化過程期間維持在實質上恆定的溫度下。如本文所述,溫度控制單元可包括,但不限於,商用再循環加熱/冷卻單元、冷凝器或熱交換器,其可安裝在例如純化系統10之導管上。溫度控制單元100可配置在例如供應單元20與第一過濾系統110之間。在一些實施例中,溫度控制單元100可將該有機溶劑之溫度設定在至多約80℉ (如,至多約75℉、至多約70℉、至多約65℉或至多約60℉)和/或至少約30℉ (如,至少約40℉、至少約50℉或至少約60℉)下。在一些實施例中,因為純化系統10中所使用的泵會產生熱及增加溶劑溫度,所以純化系統10可在適合的位置處包括額外的溫度控制單元(諸如下文所述的單元170及180),以便將該溶劑之溫度維持在一預定值下。
參考圖1,第一過濾系統110可包括任擇的溫度控制單元100、供應口110a、一或多個(如,二個、三個、四個、五個或十個)過濾器112、流出口110b、任擇的再循環導管160h及一或多個任擇的溫度控制單元170,其等全部彼此流體連通(如,通過一或多個導管)。
在一些實施例中,各過濾器112可包括過濾器外殼及在該過濾器外殼中之一或多個過濾介質114。例如,圖1中所示的第一過濾系統110包括三個過濾器(即,112a、112b及112c),其各分別包括一或多個過濾介質114a、114b及114c。在一些實施例中,在第一過濾系統110中,過濾器112沒有分隔外殼,且一或多個過濾介質114 (如,114a、114b或114c)以無隔間方式配置。在其它實施例中,除了一或多個過濾器112外,第一過濾系統110還可包括其它純化模組(未示出)。
參考圖1,過濾器112a可包括一或多個過濾介質114a,過濾器112b可包括一或多個過濾介質114b及過濾器112c可包括一或多個過濾介質114c,其中過濾介質114a、114b及114c可具有不同的功能或特性,且提供不同的純化處理。在一些實施例中,分別裝在相應的過濾器112 (如,112a、112b及112c)中之某個過濾介質114 (如,114a、114b及114c)可具有相同或相似的純化功能、物化特性、孔徑和/或結構材料。在一些實施例中,各過濾器112可獨立地選自於由下列所構成之群組:粒子去除過濾器、離子交換過濾器及離子吸附過濾器。
在一些實施例中,過濾器112a中之過濾介質114a可為粒子去除過濾介質,用於從有機溶劑中去除相對大的粒子。在一些實施例中,過濾介質114a可具有至多約1000nm (如,至多約800nm、至多約600nm、至多約500nm、至多約400nm、至多約200或至多約150nm)和/或至少約50nm (如,至少約100nm、至少約150nm、至少約200nm或至少約250nm)之平均孔徑。在以上範圍內,其能夠可靠地去除有機溶劑中所含的外來物質如雜質或凝集物,同時防止後續過濾器(如,過濾器112b、112c、122a或122b)阻塞。在一些實施例中,過濾器122a可包括一個、二個、三個、四個、五個、六個及七個過濾介質114a。
適合該粒子去除過濾器之材料的例子包括氟聚合物(如,聚四氟乙烯(PTFE)、全氟烷氧基烷烴(PFA)或改質的聚四氟乙烯(MPTFE));聚醯胺樹脂,諸如尼龍(如,尼龍6或尼龍66);聚烯烴樹脂(包括高密度及超高分子量),諸如聚乙烯(PE)及聚丙烯(PP)。例如,粒子去除過濾器中之過濾介質可由至少一種選自於由下列所構成之群組之聚合物製成:尼龍、聚丙烯(包括高密度聚丙烯)、聚乙烯、聚四氟乙烯、四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物、聚醯亞胺及聚醯胺醯亞胺。由以上材料製成的過濾器能有效地去除可能導致殘留缺陷和/或粒子缺陷之外來物質(如,具高極性之物質)及有效地降低化學液體中金屬組份之含量。
在一些實施例中,過濾器112b中之過濾介質114b可為離子交換樹脂膜,用以去除有機溶劑中之帶電粒子和/或金屬離子。本揭示中所使用的離子交換樹脂膜沒有特別限定,且可使用包括具有適合的離子交換基團固定在樹脂膜上之離子交換樹脂之過濾器。此離子交換樹脂膜之例子包括在樹脂膜上具有化學改質的陽離子交換基團(諸如磺酸基團)之強酸性陽離子交換樹脂。適合的樹脂膜之例子包括該等含有纖維素、矽藻土、尼龍(具醯胺基團之樹脂)、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、具醯亞胺基團之樹脂、具醯胺基團與醯亞胺基團之樹脂、氟樹脂或高密度聚乙烯膜者。在一些實施例中,該離子交換樹脂膜可為具有粒子去除膜與離子交換樹脂膜整合一體的結構之膜。較佳的是其上帶有化學改質的離子交換基團之聚伸烷基(如,PE或PP)膜。陽離子交換基團優選作為該離子交換基團。本揭示中所使用之具有離子交換樹脂膜之過濾器,可為具有金屬離子去除功能的商購過濾器。可以根據離子交換效率以及過濾器的估計孔徑小至約0.2μM (200nm)來選擇這些過濾器。
在一些實施例中,過濾器112c中之過濾介質114c可為離子吸附膜,用以去除有機溶劑中相對小的粒子和/或金屬離子。離子吸附膜可具有多孔膜材料且可具有離子交換功能。適合用於製造離子吸附膜之材料的例子包括,但不限於,纖維素、矽藻土、具微過濾膜如尼龍(具有醯胺基團之樹脂)之薄膜材料、聚乙烯(如,高密度聚乙烯)、聚丙烯、聚苯乙烯、具有醯亞胺基團之樹脂、具有醯胺基團與醯亞胺基團之樹脂、氟樹脂、其中引入具有離子交換能力官能基之膜材料或類似物。該膜材料之形狀的例子包括褶式、平膜型、中空纖維型、JP-A No. 2003-112060中所述的多孔體等等。作為要引入膜材料中之離子交換基團,優選使用陽離子交換基團、螯合物交換基團及陰離子交換基團中至少二種之組合,以便最佳化欲去除組份的洗提及選擇性。因為該離子吸附膜具多孔性,所以其亦能夠去除一部分的細粒。
在一些實施例中,過濾介質114c可具有至多約100nm (如,至多約80nm、至多約60nm、至多約50nm、至多約40nm、至多約20或至多約15nm)和/或至少約5nm (如,至少約10nm、至少約15nm、至少約20nm或至少約25nm)之平均孔徑。
不欲受理論之約束,但一般認為第一過濾系統110去除雜質之能力,可通過使用具有不同介質類型及不同孔徑之過濾器最佳化。例如,在此第一過濾系統110中,過濾器112a可為具有一或多個平均孔徑約200nm之聚丙烯介質之過濾器,過濾器112b可為離子交換過濾器,而過濾器112c可為具有一或多個平均孔徑約20nm之尼龍介質之過濾器。
在一些實施例中,第一過濾系統110可任擇地包括再循環導管160h,形成用於使部分純化的有機溶劑再循環回到第一過濾系統110並再次接受第一過濾系統110中之過濾器處理的再循環迴路。在一些實施例中,溫度控制單元170 (如,熱交換器)可沿著再循環導管160h配置。在此實施例中,溫度控制單元170可配置在至多約80℉ (如,至多約75℉、至多約70℉或至多約65℉)和/或至少約30℉ (如,至少約40℉、至少約50℉或至少約60℉)之溫度下,如此當該部分純化的有機溶劑再循環回到第一過濾系統110時,其溫度可維持在約80℉下或更低。在如圖1所示的例子中,再循環導管160h配置在第一過濾系統110之流出口110b之上游側。在一些實施例中,再循環導管160h可配置在流出口110b之下游側。應可理解,可依需求在第一過濾系統110之各導管、流出口與供應口,供應單元20,及溫度控制單元100處安裝泵及閥。
如圖1中所述的例子,純化系統110可任擇地在過濾器112a與過濾器112b之間包括溫度控制單元170 (如,熱交換器),用以在將有機溶劑載入過濾器112b中並於其中處理之前,使該有機溶劑之溫度控制在至多約80℉ (如,至多約75℉、至多約70℉或至多約65℉)和/或至少約30℉ (如,至少約40℉、至少約50℉或至少約60℉)下。
亦應注意,溫度控制單元170之位置並不限定在以上所示之例子。在一些實施例中,溫度控制單元170可配置在過濾器112a之上游、過濾器112b與112c之間或過濾器112c之下游。在此等實施例中,可在過濾器112a之下游,進入後續過濾器(如,過濾器112b和/或過濾器112c)之入口前安裝或不安裝另一溫度控制單元。在過濾器112a之下游裝配另一溫度控制單元是任擇的,條件是在過濾器112a與後續的過濾器(如,過濾器112b和/或過濾器112c)之間沒有引入或安排可於該有機溶劑中再引入熱能之工具或設備(如,泵)。
在一些實施例中,第一過濾系統110中之過濾器112可不包括過濾器外殼,且該一或多個過濾介質114在該第一過濾系統110中配置成無隔間的。例如,第一過濾系統110可為多階系統,包括在第一過濾系統110內部串接在一起之可置換過濾介質114 (如,114a、114b及114c),該有機溶劑可像梯瀑一般通過過濾介質114 (如,114a、114b及114c)。在此實施例中,溫度控制單元170可配置在該有機溶劑會經過或像梯瀑一般通過之第一離子交換膜或離子吸附膜上游的任何位置。例如,假如第一過濾系統110在其供應口110a之下游依序容納粒子去除過濾器A、粒子去除過濾器B、離子交換膜A、離子交換膜B及離子吸附膜A,則溫度控制單元170可配置在粒子去除過濾器B與離子交換膜A之間,以便在該有機溶劑經過並接受該離子交換膜A以及後面的離子交換膜B與離子吸附膜A的處理之前,將該有機溶劑調整及控制在約80℉或更低之溫度下。注意,以上例子僅供例示之目的,並無限制之意圖。
如圖1所示,純化系統10亦包括一第二過濾系統120,其與貯存槽130及包裝站140流體連通且介於其等之間。第二過濾系統120可包括供應口120a、一或多個(如,二個、三個、四個、五個或十個)過濾器122、流出口120b、再循環導管160f及一或多個任擇的溫度控制單元180,其等全部彼此流體連通(如,透過一或多個導管)。應可理解,可依需求在第二過濾系統120中之各導管、流出口與供應口及溫度控制單元處安裝泵及閥。
在一些實施例中,各過濾器122可包括過濾器外殼及在該過濾器外殼中之一或多個過濾介質124。例如,圖1中所示的第二過濾系統120包括二個過濾器(即,122a及122b),其各分別包括一或多個過濾介質124a及124b。在一些實施例中,第二過濾系統120可僅包括一個過濾器(如,122a)。在一些實施例中,過濾器122可不具有分隔外殼,及一或多個過濾介質124 (如,124a及124b) 在第二過濾系統120中以無隔間方式配置。在其它實施例中,除了一或多個過濾器122外,第二過濾系統120亦可包括其它純化模組(未示出)。
參考圖1,過濾器122a可包括一或多個過濾介質124a,過濾器122b可包括一或多個過濾介質124b,其中過濾介質124a及124b可具有不同的功能或特性且提供不同的純化處理。在一些實施例中,分別裝在相應的過濾器122 (如,122a及122b)中之過濾介質124 (如,124a及124b)可具有相同或相似的純化功能、物化特性、孔徑和/或結構材料。在一些實施例中,各過濾器122可獨立地選自於由下列所構成之群組:粒子去除過濾器、離子交換過濾器及離子吸附過濾器。
在一些實施例中,過濾器122a中之過濾介質124a可為粒子吸附膜(如上文中有關過濾介質114c之說明),用以去除待純化的有機溶液中之細帶電粒子和/或金屬離子。在一些實施例中,過濾介質124a可具有至多約10nm (如,至多約7nm、至多約5nm、至多約3nm或至多約1nm)和/或至少約1nm (如,至少約3nm或至少約5nm)之平均孔徑。一般認為,過濾介質124a可進行篩選功能(如,去除細粒子)及離子交換功能(如,去除帶電粒子和/或金屬離子)。
適合用於過濾介質124a或124b之材料的例子包括聚醯胺(如,尼龍6或尼龍66之尼龍)、聚烯烴(如,聚乙烯或聚丙烯)、氟聚合物(如,聚四氟乙烯(PTFE)、全氟烷氧基烷烴(PFA)或改質的聚四氟乙烯(MPTFE))或其等之共聚物。在一些實施例中,過濾介質124a或124b可由非氟聚合物製成,如聚醯胺(如,尼龍)。
在一些實施例中,過濾器122a可包括至少一個(如,至少2個、至少3個、至少5個、至少10個、至少20個、至少30個、至少50或至少80個)和/或至多120個(如,至多110個、至多100個、至多90個、至多70個、至多50個或至多25個)過濾介質124a。
在一些實施例中,過濾器122b中之過濾介質124b (如,離子吸附膜)可具有與過濾器122a中之過濾介質124a相同的特徵(如,相同的孔徑),但其等由不同的材料製成。例如,在一些實施例中,當過濾器122a中之過濾介質124a由尼龍製成時,過濾器122b中之過濾介質124b可由氟聚合物(如,PTFE) 製成。在一些實施例中,過濾器122b可包括至少一個(如,至少2個、至少3個、至少5個、至少10個、至少15或至少20)和/或至多30個(如,至多25個、至多20個、至多15個、至多10或至多5個)過濾介質124b。
不欲受理論之約束,但一般認為結合使用其中過濾介質124a及124b由不同材料製成的過濾器122a與122b,可使減少雜質、粒子及金屬離子之作用最大化,以獲得超高純度有機溶劑。此外,不欲受理論之約束,但一般認為,在過濾介質124a是由尼龍製成,而過濾介質124b是由氟聚合物(如,PTFE)製成,或反之亦然之實施例中,過濾介質124a及124b可具有相對較大的孔徑(如,5nm),但仍具有比具較小孔徑(如,3nm)但由不同材料(如,聚烯烴)製成之過濾介質好的過濾結果。
參考圖1,第二過濾系統120包括再循環導管160f,形成用於使部分純化的有機溶劑再循環回到貯存槽130並再次接受第二過濾系統120中之過濾器122處理的再循環迴路。在一些實施例中,在純化處理結束及將該有機溶劑遞送到包裝站140之前,使該部分純化的有機溶劑再循環至少二次(如,至少三次、至少四次或至少五次)。在一些實施例中,不欲受理論之約束,但一般認為使部分純化的溶劑再循環通過第二過濾系統120超過二次,可能無法進一步提高雜質的去除。在如圖1所示之範例中,再循環導管160f配置在第二過濾系統120之流出口120b的下游側。在其它範例中,再循環導管160f可配置在流出口120b之上游側。
在一些實施例中,第二過濾系統120可在任一適合的位置處包括一或多個任擇的溫度控制單元180 (如,熱交換器)。例如,溫度控制單元180可沿著再循環導管160f配置。在一些實施例中,溫度控制單元180可配置在供應口120a與過濾器122a之間、過濾器122a與122b之間及過濾器122b與流出口120b之間。在一些實施例中,溫度控制單元180可設定在至多約80℉ (如,至多約75℉、至多約70℉或至多約65℉)和/或至少約30℉ (如,至少約40℉、至少約50℉或至少約60℉)之溫度下,如此可使在第二過濾系統120中之有機溶劑的溫度維持在約80℉或更低之溫度下。
在一些實施例中,過濾器122a及122b各包括過濾器外殼,其具有包括氟聚合物(如,PTFE、PFA或其組合)的內表面。例如,該氟聚合物可為形成在過濾器122a及122b的內表面上之塗層。在一些實施例中,假如過濾器122a或122b包括由氟聚合物製成之過濾介質,則整個過濾器122a或122b可由該氟聚合物製成。在一些實施例中,過濾器122a或122b與包裝站140間之所有的設備(包括導管及閥,若有的話)的內表面可包括氟聚合物。不欲受理論之約束,但一般認為使用此設備(亦稱作氟聚合物襯裡設備)可大幅著地降低於純化的有機溶劑中再引入雜質(如,金屬離子或有機雜質)。
在一些實施例中,當純化系統10之第二過濾系統120中包括過濾器122a與122b二者時,用於純化系統10中之設備的至少一些(如,全部)組件(如,過濾器、溫度控制單元、導管、閥、供應口或流出口)可由不含氟之材料製成(除氟聚合物過濾介質外)。此材料之例子包括不鏽鋼(包括電拋光或非電拋光不鏽鋼)。一般認為此系統相對便宜且可降低製造成本,同時仍能產生超高純度有機溶劑。
在一些實施例中,包裝站140可為移動儲存槽(如,槽或油罐車)或固定儲存槽。在一些實施例中,包裝站140可為氟聚合物內襯設備(如,其內表面可包括氟聚合物,如PTFE)。
本揭示之特徵還在於純化溶劑(如,有機溶劑)之方法。概略而言,該純化方法可包括使該有機溶劑通過第二過濾系統120中之一或多個(如,二或三個)過濾器(如,過濾器122a和/或122b)。例如,參考圖1,利用純化系統10,藉由使從供應單元20而來之溶劑通過第一過濾系統110中之過濾器112,然後收集在儲存槽130中,及使從儲存槽130而來之溶劑通過第二過濾系統120中之過濾器122至包裝站140,可純化未純化或處理前的溶劑(即,起始材料)。在一些實施例中,本文中所述的純化方法可包括在將純化的溶劑遞送至包裝站140之前,使溶劑通過再循環迴路於第二過濾系統120 (如,通過儲存槽130、過濾器122及再循環導管160f)中再循環至少一次(如,二次或三次)。在一些實施例中,本文中所述的純化方法可包括在將該部分純化的溶劑遞送至包裝站130之前,使該溶劑通過再循環迴路於第一過濾系統110 (如,通過過濾器112及再循環導管160h)中再循環至少一次(如,二或三次)。
在一些實施例中,該未純化或純化前的溶劑可包括含有選自於由下列所構成之群組之金屬元素的有機溶劑:鐵(Fe)、鉻(Cr)、鎳(Ni)及鉛(Pb)。在一些實施例中,該處理前的溶劑中各金屬組份之含量範圍從約0.1至1000質量ppt (如,200至1000質量ppt或500至1000質量ppt)。
參考圖1,當處理前的溶劑到達溫度控制單元(如,單元100或任何後面的溫度單元,如單元170及180)時,該溶劑的溫度可被調整至一預定的最佳溫度範圍(如,從30℉至80℉、從30℉至70℉、從41℉至67℉或從50℉至65℉)。例如,該溶劑之溫度可被調整至70℉、68.5℉或67.5℉。通常,該溫度控制單元可在純化系統10之一特位置處(如,在過濾器之入口前)或整個純化系統10,維持或調整溶劑之溫度。
當經過第一及第二過濾系統110及120處理完後,從純化的溶劑中檢測到的粒子數及雜質數量控制在該預定範圍內時,可產生超高純度溶劑(如,含0.1至100質量ppt之選自於由鐵(Fe)、鉻(Cr)、鎳(Ni)及鉛(Pb)所構成之金屬元素之群組之金屬組份)。之後,可將該超高純度溶劑遞送至包裝站140或用於製造半導體物件之製程。
在一些實施例中,經過本文中所述的方法及系統純化的溶劑可具有至少約99.5% (如,至少約99.9%、至少約99.95%、至少約99.99%、至少約99.995%或至少約99.999%)之純度。在一些實施例中,經過本文中所述的方法及系統純化的溶劑,在整個晶圓上可具有至多約500個(如,至多約450個、至多約400個、至多約350個、至多約300個、至多約250個、至多約200個、至多約150個或至多約100個)晶圓上粒子數。在一些實施例中,經過本文中所述的方法及系統純化的溶劑,在整個晶圓上可具有至多約100個(如,至多約90個、至多約80個、至多約70個、至多約60個、至多約50個、至多約40個、至多約30個、至多約20或至多約10個)晶圓上金屬數(如,晶圓上總金屬數或晶圓上特定金屬如Fe或Ni之金屬數)。
將參考以下範例更詳細地說明本揭示,所述範例僅用於說明之目的,不應解釋為限制本揭示的範疇。範例 OWPC 及OWMC 測量之概述
採集溶劑樣本,然後將其插入晶圓塗佈工具中。在裸晶圓經樣本塗佈後,將該晶圓遞送至雷射檢驗系統進行檢驗。藉由使用雷射光,雷射檢驗系統會檢測、計數、記錄晶圓上各粒子的位置與尺寸,檢測限度為19nm。更具體地,計數標的包括具有19nm或更大尺寸的粒子。將數據用於製作晶圓地圖並提供晶圓上總粒子數(OWPC)。
之後將該晶圓遞送至EDX (能量色散X射線)進行檢驗。使用EDX (能量色散X射線)檢驗每個由雷射檢驗系統報告的粒子,用於提供元素資訊。所有被發現會產生任何金屬信號之粒子均計數為金屬粒子。加總具金屬信號之粒子總數,報告為OWMP (晶圓上金屬粒子)。總微量金屬測量之概述
使用ICP-MS (感應耦合電漿質譜儀(ICP-MS)),測試各溶劑樣本中之總微量金屬濃度。使用Fujifilm顯影方法檢驗各樣本存在26種金屬之情況,檢測極限是金屬專一性的,但一般的檢測極限在0.00010至0.030ppb之範圍內。之後加總各金屬種類之濃度,得出總微量金屬(ppb)值。範例1
環己酮是此範例中純化的溶劑。參考圖1,使用下列四個純化系統(即,系統1-4)純化環己酮,其各包括第一及第二過濾系統110及120。在全部系統1-4中,第一過濾系統110包括200nm聚丙烯過濾器作為過濾器112a、離子交換過濾器作為過濾器112b及20nm尼龍過濾器作為過濾器112c,但不包括任何再循環迴路。系統1-4間之差異如下。
系統1中,第二過濾系統120於再循環迴路中包括5nm尼龍過濾器(即,具有多個由尼龍製成且具有平均孔徑為5nm之過濾介質之過濾器)作為過濾器122a、3nm PE過濾器(即,具有多個由聚乙烯製成且具有平均孔徑為3nm之過濾介質之過濾器)作為過濾器122b,但不包括任何PTFE內襯設備或用於控制溶劑溫度之溫度控制單元。
在系統2中,第二過濾系統120於再循環迴路中包括5nm尼龍過濾器作為唯一的過濾器(即,過濾器122a),包括PTFE內襯設備(即,PTFE內襯過濾器外殼及過濾器122a與包裝站140間之PTFE內襯導管)及包括沿著再循環導管160f之溫度控制單元180,用以將溶劑之溫度控制低於80℉。
在系統3中,第二過濾系統120於再循環迴路中包括5nm尼龍過濾器作為過濾器122a,及5nm PTFE過濾器(即,具有多個由PTFE製成且具有平均孔徑為5nm之過濾介質之過濾器)作為過濾器122b,包括PTFE內襯設備(即,PTFE內襯過濾器外殼及過濾器122a與包裝站140間之PTFE內襯導管)及包括沿著再循環導管160f之溫度控制單元180,用以將溶劑之溫度控制低於80℉。
在系統4中,第二過濾系統120於再循環迴路中包括5nm尼龍過濾器作為過濾器122a,及5nm PTFE過濾器作為過濾器122b,僅包括不鏽鋼設備(即,全部設備均由不鏽鋼製成)及包括沿著再循環導管160f之溫度控制單元180,用以將溶劑之溫度控制低於80℉。
評估經由以上所述的系統1-4純化的環己酮之特性(包括晶圓上粒子數、晶圓上總金屬數、晶圓上鐵數及總微量金屬數)並總結於以下表1中。表 1
“飽和數”意指該系統有太多缺陷,無法計數。
環己酮 | 系統1 | 系統2 | 系統3 | 系統4 |
晶圓上粒子數 | 5000 | 475 | 160 | 150 |
晶圓上金屬數(全部) | 飽和數 | 60 | 1.5 | 3 |
晶圓上金屬數(僅Fe) | 飽和數 | 25 | 0 | 0 |
總TM數 | 2.357 | 0.13 | 0.13 | 0.13 |
如表1所示,經系統1純化的環己酮表現出相對高的晶圓上粒子數、晶圓上總金屬數、晶圓上鐵數及總微量金屬數。經系統2、3或4純化的環己酮意外地表現出比系統1純化的環己酮低很多的晶圓上粒子數、晶圓上總金屬數、晶圓上鐵數及總微量金屬數。範例 2
使用系統5-7純化乳酸乙酯。系統5與範例1中所述的系統1相同,但第二過濾系統120僅包括一個5nm尼龍過濾器。系統6與範例1中所述的系統2相同。系統7與範例1中所述的系統3相同。
評估經系統5-7純化的乙酸乙酯之特性(包括晶圓上粒子數、晶圓上總金屬數、晶圓上鐵數、晶圓上鎳數及總微量金屬數)並總結於以下表2中。表 2
乳酸乙酯 | 系統5 | 系統6 | 系統7 |
晶圓上粒子數 | 1949 | 350 | 175 |
晶圓上金屬數(全部) | 237 | 30 | 10 |
晶圓上金屬數(僅Fe) | 35 | 5 | 3 |
晶圓上金屬數(僅Ni) | 11 | 0 | 1 |
總TM數 | 0.7 | 0.4 | 0.13 |
如表2所示,經系統5純化的乙酸乙酯表現出相對高的晶圓上粒子數、晶圓上總金屬數、晶圓上鐵數、晶圓上鎳數及總微量金屬數。經系統6或7純化的乙酸乙酯意外地表現出比系統5純化的乙酸乙酯低很多的晶圓上粒子數、晶圓上總金屬數、晶圓上鐵數、晶圓上鎳數及總微量金屬數。
雖然已經參考本發明之某些實施例詳細地說明本發明,但應理解,修改及變化落在所述及主張的技思想範疇內。
10:純化系統
20:供應單元
100,170,180:溫度控制單元
110:第一過濾系統
110a,120a:供應口
110b,120b:流出口
112,112a,112b,112c,122,122a,122b:過濾器
114,114a,114b,114c,124,124a,124b:過濾介質
120:第二過濾系統
130:貯存槽
140:包裝站
160h,160f:再循環導管
圖1是顯示根據本揭示之一些實施例之純化有機溶劑之方法中所採用的純化系統之例子的示意圖。
10:純化系統
20:供應單元
100,170,180:溫度控制單元
110:第一過濾系統
110a,120a:供應口
110b,120b:流出口
112,112a,112b,112c,122,122a,122b:過濾器
114,114a,114b,114c,124,124a,124b:過濾介質
120:第二過濾系統
130:貯存槽
140:包裝站
160h,160f:再循環導管
Claims (30)
- 一種純化有機溶劑之方法,其包含: 使一有機溶劑通過一純化系統中之一第一過濾器至一包裝站,以獲得一純化的有機溶劑,該第一過濾器包含一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,且該至少一個過濾介質具有至多約5nm之平均孔徑; 其中該純化系統包含該第一過濾器、該包裝站及與該第一過濾器及該包裝站流體連通之一導管,且該導管或該過濾器外殼的內表面包含氟聚合物。
- 如請求項1之方法,其進一步包含使該有機溶劑通過與該第一過濾器及包裝站流體連通且位在其等之間之一第二過濾器,其中該第二過濾器包含一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,且該第二過濾器中之該至少一個過濾介質具有至多約5nm之平均孔徑。
- 如請求項2之方法,其中該第一或第二過濾器中之至少一個過濾介質包含聚醯胺、聚烯烴、氟聚合物或其等之共聚物。
- 如請求項2之方法,其中該第一或第二過濾器中之至少一個過濾介質包含尼龍、聚乙烯、聚四氟乙烯或其等之共聚物。
- 如請求項2之方法,其中該第一過濾器中之至少一個過濾介質包含尼龍。
- 如請求項2之方法,其中該第二過濾器中之至少一個過濾介質包含聚四氟乙烯。
- 如請求項2之方法,其中該第二過濾器之該過濾器外殼的內表面包含氟聚合物。
- 如請求項7之方法,其中該第一過濾器、該第二過濾器或該導管的內表面中之氟聚合物,包含聚四氟乙烯或其共聚物。
- 如請求項2之方法,其中整個該第二過濾器由氟聚合物製成。
- 如請求項2之方法,其中該第一過濾器包含1至120個過濾介質,且該第二過濾器包含1至30個過濾介質。
- 如請求項1之方法,其中使該有機溶劑通過該第一過濾器至該包裝站,在至多約80℉之溫度下進行,或其中該方法進一步包含使該有機溶劑通過一熱交換器,以便將該有機溶劑之溫度維持在至多約80℉下。
- 如請求項1之方法,其進一步包含在使該有機溶劑通過該第一過濾器之前,先使該有機溶劑通過一第三過濾器,其中該第三過濾器包含至少一個過濾介質,其具有至多約200nm之平均孔徑。
- 如請求項12之方法,其進一步包含在使該有機溶劑通過該第三過濾器之後,但在使該有機溶劑通過該第一過濾器之前,使該有機溶劑通過一第四過濾器,其中該第四過濾器包含至少一個離子交換過濾介質。
- 如請求項13之方法,其進一步包含在使該有機溶劑通過該第四過濾器之後,但在使該有機溶劑通過該第一過濾器之前,使該有機溶劑通過一第五過濾器,其中該第五過濾器包含至少一個過濾介質,其具有至多約20nm之平均孔徑。
- 如請求項1之方法,其進一步包含在將該有機溶劑遞送至該包裝站之前,先使該有機溶劑通過包含該第一過濾器之一再循環迴路循環至少二次。
- 如請求項1之方法,其中該有機溶劑包含環己酮、乳酸乙酯、乙酸正丁酯、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、4-甲基-2-戊醇或碳酸伸丙酯。
- 一種純化有機溶劑之方法,其包含: 使一有機溶劑通過第一及第二過濾器,以獲得一純化的有機溶劑; 其中該第一過濾器包含至少一個過濾介質,其具有至多約5nm之平均孔徑且包含聚醯胺,且該第二過濾器包含至少一個過濾介質,其具有至多約5nm之平均孔徑且包含氟聚合物。
- 如請求項17之方法,其中該聚醯胺包含尼龍,且該氟聚合物包含聚四氟乙烯。
- 如請求項17之方法,其中整個該第二過濾器係由氟聚合物製成。
- 如請求項17之方法,其中該第一過濾器包含1至120個過濾介質,且該第二過濾器包含1至30個第二過濾介質。
- 如請求項17之方法,其中遞送該有機溶劑在至多約80℉之溫度下進行或其中該方法進一步包含使該有機溶劑通過一熱交換器,以便將該有機溶劑維持在至多約80℉之溫度下。
- 如請求項17之方法,其中該第一過濾器包含一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,該第二過濾器包含一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,及該第一或第二過濾器之該過濾器外殼的內表面包含氟聚合物。
- 如請求項17之方法,其中該第一及第二過濾器係在一純化系統中;該純化系統進一步包含一包裝站以及與該第一過濾器、該第二過濾器及該包裝站流體連通之一導管;且該導管的內表面包含氟聚合物。
- 如請求項17之方法,其進一步包含在使該有機溶劑通過該第一及第二過濾器之前,先使該有機溶劑通過一第三過濾器,其中該第三過濾器包含至少一個過濾介質,其具有至多約200nm之平均孔徑。
- 如請求項24之方法,其進一步包含在使該有機溶劑通過該第三過濾器之後,但在使該有機溶劑通過該第一及第二過濾器之前,使該有機溶劑通過一第四過濾器,其中該第四過濾器包含至少一個離子交換過濾介質。
- 如請求項25之方法,其進一步包含在使該有機溶劑通過該第四過濾器之後,但在使該有機溶劑通過該第一及第二過濾器之前,使該有機溶劑通過一第五過濾器,其中該第五過濾器包含至少一個過濾介質,其具有至多約20nm之平均孔徑。
- 如請求項17之方法,其進一步包含在將該有機溶劑遞送至一包裝站之前,先使該有機溶劑通過包含該第一及第二過濾器之一再循環迴路循環至少二次。
- 如請求項17之方法,其中該有機溶劑包含環己酮、乳酸乙酯、乙酸正丁酯、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、4-甲基-2-戊醇或碳酸伸丙酯。
- 一種系統,其包含: 一第一過濾器,其中該第一過濾器包含一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,且該至少一個過濾介質具有至多約5nm之平均孔徑; 一包裝站;及 與該第一過濾器及該包裝站流體連通之一導管; 其中該過濾器外殼及該導管的內表面包含氟聚合物。
- 一種系統,其包含: 一第一過濾器,該第一過濾器包含一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,其中該至少一個過濾介質具有至多約5nm之平均孔徑且包含聚醯胺;及 與該第一過濾器流體連通之一第二過濾器,該第二過濾器包含一過濾器外殼及在該過濾器外殼內之至少一個過濾介質,其中該至少一個過濾介質具有至多約5nm之平均孔徑且包含氟聚合物。
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