TW201725938A - 發光裝置 - Google Patents

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Abstract

本案係提供一種發光裝置，包括一結構光產生單元以及一控制單元。該結構光產生單元包括複數發光源，該些發光源中之一者於一投射面上的一第一位置投影出一第一結構光圖案(structured lighting pattern)，該些發光源中之另一者於該投射面上的一第二位置投影出一第二結構光圖案，其中，該第一位置不同於該第二位置。該控制單元控制該些發光源其中之該一者以及其中之另該一者依時序發光，藉使該第一結構光圖案以及該第二結構光圖案依時序呈現於該投射面上的該第一位置以及該第二位置。

Description

發光裝置
本案係關於一種發光裝置，特別是一種依時序於一投射面的不同位置投射出結構光圖案的發光裝置。
結構光(structure light)指的是具有特定形態的光，而隨著光學技術的蓬勃發展，其可被設計成線形態、面形態、網格形態、甚至更複雜形態的光形，並進而被應用在許多的領域，如3D輪廓重現、距離量測、防偽辨識、體感互動與新穎造型設計與應用等等，而傳統的警示標識也得以更延伸應用於諸如需無污染等醫療或生醫環境應用等等，因此結構光的重要性已逐漸地提升，且其相關技術被廣泛地研究與開發。
結構光產生單元發射出一結構光，當結構光投射至標的物時，標的物的表面會呈現結構光圖案。標的物的表面所呈現的結構光圖案是被拿來判斷空間資訊的重要辨識特徵，然而，就目前市面上大多數發光裝置而言，標的物的表面上所呈現的結構光圖案，不論是線形態、面形態、網格形態等等，結構光圖案 不會隨著時間而有投影位置上的變化。因此導致對應的投射範圍可能不夠，又或者導致投射內容不夠多樣性，以致於在結構光圖案的應用上受到拘限，而無法提供作為後續在空間資訊精準計算的所需。此外，若是使用微機電系統透過可動光學模組來輔助產生結構光圖案，會有高功耗的缺點，又因為是動件(moving parts)，所以組立公差要求高，常導致生產時良率(yield)低與耐久性較差，而以上所述均係為此技術領域所亟需解決之目標。
本發明之主要目的在於提供一種發光裝置，該發光裝置包括一結構光產生單元以及一控制單元。該控制單元可控制該結構光產生單元內不同的發光源輪流發光，將使投射面上的不同位置輪流投射有結構光圖案，如此即可做為在空間資訊時解析時的良好參考數據，提高解析程度。此外在光學器件上並無動件，也因此消耗功率較低，而組立良率與耐久性也會較佳。
本案之一較佳實施概念，在於提供一種發光裝置，包括一結構光產生單元以及一控制單元。該結構光產生單元包括複數發光源以及一光學元件組，該些發光源所發出的光線通過該光學元件組，該些發光源中之一者於一投射面上的一第一位置投影出一第一結構光圖案(structured lighting pattern)，該些發光源中之另一者於該投射面上的一第二位置投影出一第二結構光圖案，該第一位置不同於該第二位置。該控制單元，訊號連接於該結構 光產生單元，並控制該些發光源其中之該一者以及其中之另該一者依時序發光，藉使該投射面上依時序呈現該第一結構光圖案以及該第二結構光圖案。
於一較佳實施例中，該控制單元可程式(programmable)地開啟及關閉每一該發光源。
於一較佳實施例中，該些發光源為線性排列，且該控制單元沿該線性方向的順序輪流且週期性開啟及關閉該些發光源；抑或，該些發光源為線性排列，且該控制單元不沿該線性方向的順序輪流，但為週期性開啟及關閉該些發光源。
於一較佳實施例中，該些發光源為環形排列，且該控制單元沿該環形方向的順序輪流且週期性開啟及關閉該些發光源；抑或，該些發光源為環形排列，且該控制單元不沿該環形方向的順序輪流，但為週期性開啟及關閉該些發光源。
於一較佳實施例中，該些發光源規則散佈排列於二次元的一平面上；抑或，該些發光源規則散佈排列於三次元的一曲面或空間裡。
於一較佳實施例中，該些發光源包括一雷射二極體(LD)、一發光二極體(LED)以及一有機發光二極體(OLED)或熱光源(thermal source)中之至少一者。
於一較佳實施例中，該光學元件組包括相應於該第一結構光圖案以及該第二結構光圖案之複數光學元件，每一該光學元件為一繞射光學元件(Diffractive Optical Element,DOE)、一折 射式光學元件以及一反射式光學元件其中之一者。
於一較佳實施例中，該折射式光學元件係為一多孔(multiple aperture)透鏡、一柱狀透鏡(lenticular lens)、或一陣列透鏡(lens array)。
於一較佳實施例中，該些光學元件的數量相同於該些發光源的數量，且該些光學元件組與該些發光源相對應地設置。
於一較佳實施例中，該結構光產生單元更包括複數準直透鏡，每一該準直透鏡係設置於相對應的該發光源以及該光學元件組之間，用以準直該發光源所發出的光線並予以傳送至該光學元件組。
於一較佳實施例中，該光學元件組的一出光口處側與該些發光源該裝置的底部的直線距離或該發光裝置的總高度小於7公釐(mm)。
於一較佳實施例中，該發光裝置更包括一殼體，該殼體承載該光學元件組；其中，該光學元件組與該些發光源具有固定相對組態或固定距離，抑或，該光學元件組與該些發光源具有可程式化調動的相對組態或相對距離。
於一較佳實施例中，該發光裝置更包括一感應單元，該感應單元感應位於該投射面上不同位置的該第一結構光圖案以及該第二結構光圖案，偵測感應而產生一信號。
於一較佳實施例中，該控制單元根據該信號可程式化地開啟及關閉每一該發光源。
於一較佳實施例中，該些發光源皆設於一板體層，且該些發光源與該板體層電性導通；其中，且該板體層可以熱穩定(thermally stabilize)該些發光源，抑或，該板體層不熱穩定(thermally stabilize)該些發光源。
於一較佳實施例中，該些發光源以及該控制單元皆設於一板體層，且該些發光源以及該控制單元與該板體層電性導通；其中，該板體層可以熱穩定(thermally stabilize)該些發光源以及該控制單元，抑或，該板體層不熱穩定(thermally stabilize)該些發光源以及該控制單元。
於一較佳實施例中，該些發光源以及該控制單元皆設於一板體層，該些發光源以及該控制單元與該板體層電性導通，且該版體層設置有至少一感應單元以偵測感應產生一信號而回饋至該控制單元；其中，該板體層可以熱穩定(thermally stabilize)該些發光源、該控制單元以及該至少一感應單元，抑或，該板體層不熱穩定(thermally stabilize)該些發光源、該控制單元以及該至少一感應單元。
1‧‧‧結構光產生單元
11‧‧‧電路基板
11a‧‧‧第一發光源
11b‧‧‧第二發光源
12a‧‧‧第一準直透鏡
12b‧‧‧第二準直透鏡
13‧‧‧光學元件組
13a‧‧‧第一光學片
13b‧‧‧第二光學片
2‧‧‧控制單元
31‧‧‧電路基板
31a‧‧‧第一發光源
31b‧‧‧第二發光源
31c‧‧‧第三發光源
31d‧‧‧第四發光源
32a~32d‧‧‧準直透鏡
33‧‧‧光學元件組
33a~33d‧‧‧光學片
4‧‧‧控制單元
51‧‧‧電路基板
51a‧‧‧發光源
53‧‧‧光學元件組
53a‧‧‧光學片
6‧‧‧控制單元
7‧‧‧結構光產生單元
71a‧‧‧發光源
71b‧‧‧感應器
72‧‧‧板體層
8‧‧‧控制單元
90‧‧‧結構光產生單元
91‧‧‧控制單元
A‧‧‧感應單元
P‧‧‧投射面
Q1‧‧‧第一結構光圖案
Q2‧‧‧第二結構光圖案
Q3‧‧‧第三結構光圖案
Q4‧‧‧第四結構光圖案
S1‧‧‧第一結構光圖案
S2‧‧‧第二結構光圖案
R1~R9‧‧‧結構光圖案
圖1係為本案第一實施例的發光裝置在實行發光照射時之概念示意圖。
圖2係為本案第一實施例的第一發光源以及第二發 光源在實行發光照射時之時間座標示意圖。
圖3係為本案第二實施例的發光裝置在實行發光照射時之概念示意圖。
圖4係為本案第二實施例的第一發光源、第二發光源、第三發光源、第四發光源在實行發光照射時之時間座標示意圖。
圖5係為本案第三實施例的發光裝置在實行發光照射時之概念示意圖。
圖6係為本案第四實施例的發光裝置在實行發光照射時之概念示意圖。
圖7係為本案第五實施例的發光裝置在實行發光照射時之概念示意圖。
請參閱圖1，圖1係為本案第一實施例的發光裝置在實行發光照射時之概念示意圖。
本案第一實施例的發光裝置包括結構光產生單元1以及控制單元2，控制單元2訊號連接於結構光產生單元1，以控制結構光產生單元1的發光時序。本案的結構光產生單元1包括複數發光源11a、11b以及一光學元件組13，每一發光源11所發出的光線會通過光學元件組13，以向外投射出而形成結構光圖案(structured lighting pattern)。於本案第一實施例中，結構光產生單 元1包括兩個發光源11a、11b，但此數量僅為本實施例方便說明之例舉，並非作一限制。
如圖1所示，結構光產生單元1包括一第一發光源11a、一第二發光源11b以及一光學元件組13，第一發光源11a以及第二發光源11b所發出之光線經光學元件組13後向外照射，並可於一投射面P上(一般為一物體的表面)投射出結構光圖案。第一發光源11a以及第二發光源11b並列設置於一電路基板11上(示意位置可參圖1中自電路基板11所引出氣球狀內的另一視角)，且由於第一發光源11a以及第二發光源11b本身在位置設置上的不同(可以是二次元平面位置的不同或三次元空間位置的不同)，故第一發光源11a所發出之光線經光學元件組13後，會相應於投射面P上的一第一位置投影出一第一結構光圖案S1，且第二發光源11b所發出之光線經光學元件組13後，會相應於投射面P上的一第二位置投影出一第二結構光圖案S2。
其中，控制單元2與一電路基板11訊號連接，以供控制單元2依一時序可程式化控制第一發光源11a以及第二發光源11b發光，使得投射面P上會依該時序而呈現第一結構光圖案S1以及第二結構光圖案S2，也會造成有視覺位置上的改變。因此，若將本案能呈現出多樣的結構光圖案的發光裝置，更進一步搭配結合於一感應單元(詳述於後)，即可充份作為後續在空間資訊精準計算所需的處理及應用。
接下來詳細講述第一發光源11a以及第二發光源11b 依時序發光的實施態樣。圖2係為本案第一實施例的第一發光源11a以及第二發光源11b在實行發光照射時之時間座標示意圖，請參閱圖2，於時間區段t1時，第一發光源11a執行發光(ON)且第二發光源11b停止發光(OFF)，於時間區段t2時，第一發光源11a停止發光(OFF)且第二發光源11b執行發光(ON)，待時間區段t3時又回到了第一發光源11a執行發光(ON)且第二發光源11b停止發光(OFF)，並依此規則輪替下去而輪流發光，故使得位於投射面P上第一位置的第一結構光圖案S1以及位於投射面P上第二位置的第二結構光圖案S2會輪流出現。於本實施態樣中，第一發光源11a以及第二發光源11b係為發光時間互相不重疊地輪替發光。在圖1的投射面P上，第一結構光圖案S1以虛線繪示，第二結構光圖案S2以實線繪示，以表示於此時間，第一發光源11a停止發光，且第二發光源11b執行發光並投射出第二結構光圖案S2於投射面P上。不過當然，第一發光源11a以及第二發光源11b的發光時間若為部份重疊而輪替發光，亦屬可以施行之設置。
詳細而言，光學元件組13係包括至少一光學片，以供第一發光源11a以及第二發光源11b所發出之光線行經並產生向外照射產生結構光圖案。於本實施例中，光學片的數量相同於發光源的數量，即為兩個光學片(一第一光學片13a以及一第二光學片13b)，且一個發光源11a、11b與一個光學片13a、13b相對應設置。再者，光學片13a、13b上的圖刻決定出結構光圖案的生成圖案，換句話說，第一結構光圖案S1之生成係根據光線通過於一第一光 學片13a，而第二結構光圖案S2之生成係根據光線通過於一第二光學片13b。於第一實施例中，由於第一光學片13a以及一第二光學片13b上的圖刻相同，故第一結構光圖案S1的圖形會相同於第二結構光圖案S2的圖形，於本實施例中，第一結構光圖案S1以及第二結構光圖案S2的圖形係以複數直條線形態作舉例呈示，其有投射位置上的差異，但此僅為一例舉，而不作一限制。
於此需特別說明者為，每一光學元件可為一繞射光學元件(Diffractive Optical Element,DOE)、一折射式光學元件以及一反射式光學元件其中之一者。其中，該折射式光學元件可為一多孔(multiple aperture)透鏡、一柱狀透鏡(lenticular lens)、或一陣列透鏡(lens array)。至於光學元件組可被一殼體(圖未示)所承載，使得光學元件組13與發光源11a、11b可以具有固定相對組態或固定距離，抑或，光學元件組13與發光源11a、11b可以具有可程式化調動的相對組態或相對距離。且於一較佳實施例中，光學元件組13的一出光口側與發光源11a、11b的直線距離小於7公釐(mm)。
此外，發光源則可為一雷射二極體(LD)、一發光二極體(LED)以及一有機發光二極體(OLED)或熱光源(thermal source)其中之一者，屬較佳選擇之設置。
進一步來說，結構光產生單元1更包括至少一準直透鏡，以供準直自第一發光源11a以及第二發光源11b所發出之光線。於本實施例中，準直透鏡的數量相同於發光源11a、11b/光學片13a、13b的數量，即為兩個準直透鏡(一第一準直透鏡12a以及一 第二準直透鏡12b)，且一個準直透鏡12a、12b相對應設置於一個發光源11a、11b與一個光學片13a、13b之間，用以準直發光源11a、11b所發出的光線並予以傳送至光學片13a、13b後繼續向外發射，而於投射面P上的不同位置投射形成第一結構光圖案S1以及第二結構光圖案S2。
在實際應用上，本案發光裝置更包括一感應單元A或與外界之一感應單元A電性連接，感應單元A負責感應投射面P上位於不同位置的第一結構光圖案S1以及第二結構光圖案S2，偵測感應產生一信號，而傳送至控制單元2作比對，以作為後續在空間資訊精準計算的所需。更甚者，可以根據該信號，使控制單元2可程式化地開啟及關閉每一發光源11a、11b。
圖3係為本案第二實施例的發光裝置在實行發光照射時之概念示意圖。本案第二實施例相似於第一實施例，第二實施例的發光裝置包括結構光產生單元3以及控制單元4，且控制單元4訊號連接於結構光產生單元3，以控制結構光產生單元3的發光態樣。本案的結構光產生單元3包括複數發光源31a~34d以及一光學元件組33，每一發光源31a~34d所發出的光線會通過光學元件組33，以便於向外投射出而形成出結構光圖案。與第一實施例不同的是，第二實施例的結構光產生單元3包括四個發光源31a~34d，且此四個發光源(第一發光源31a、第二發光源31b、第三發光源31c以及第四發光源31d)為環形排列地設置於一電路基板31上，故四個發光源31a、31b、31c、31d所發出之光線經光學元件組33後， 即於投射面P上的四個位置投影出結構光圖案。
其中，控制單元4可程式化地控制沿該環形方向的順序輪流且週期性開啟及關閉該些發光源31a~34d。使投射面P上沿該環形方向的順序輪流被投射出第一結構光圖案Q1、第二結構光圖案Q2、第三結構光圖案Q3以及第四結構光圖案Q4。抑或者是，控制單元4可程式化地控制不沿該環形方向的順序(即亂序)輪流且週期性開啟及關閉該些發光源31a~34d，使投射面P上不沿該環形方向的順序(即亂序)被投射出第一結構光圖案Q1、第二結構光圖案Q2、第三結構光圖案Q3以及第四結構光圖案Q4。
圖4係為本案第二實施例的第一發光源、第二發光源、第三發光源以及第四發光源在實行發光照射時之時間座標示意圖，請參閱圖4，第二實施例中的四個發光源依時序發光的實施態樣相似於第一實施例。於時間區段t1’時，只有第一發光源31a執行發光(ON)且另外三個發光源31b~31d停止發光(OFF)，於時間區段t2’時，只有第二發光源31b執行發光(ON)且另外三個發光源31a、31c~31d停止發光(OFF)，於時間區段t3’時，只有第三發光源31c執行發光(ON)且另外三個發光源31a~31b、31d停止發光(OFF)，於時間區段t4’時，只有第四發光源31d執行發光(ON)且另外三個發光源31a~31c停止發光(OFF)，待時間區段t5’時又回到了第一發光源31a執行發光(ON)且另外三個發光源31b~31d停止發光(OFF)，並依此規則輪替下去而輪流發光，故使得位於投射面P上第一位置的第一結構光圖案Q1、第二位置的第二結構光圖案 Q2、第三位置的第三結構光圖案Q3以及第四位置的第四結構光圖案Q4會輪流出現於投射面P上。於本實施態樣中，第一發光源31a、第二發光源31b、第三發光源31c以及第四發光源31d係為發光時間互相不重疊地輪替發光，但第一發光源31a、第二發光源31b、第三發光源31c以及第四發光源31d的發光時間亦可為部份重疊而輪替發光，亦屬可施行之設置。
相似於第一實施例，光學元件組33係包括至少一光學片，以供每一發光源31a~31d所發出之光線行經並產生向外照射產生結構光圖案。於本實施例中，光學片的數量相同於發光源31a~31d的數量，即為四個光學片33a~33d，且一個發光源與一個光學片相對應設置。再者，光學片33a~33d上的圖刻決定出結構光圖案的生成圖案，於第二實施例中，結構光圖案係以複數點狀散佈的形態作舉例呈示。也由於第一發光源31a、第二發光源31b、第三發光源31c以及第四發光源31d本身設置的位置不同，故第一結構光圖案Q1、第二結構光圖案Q2、第三結構光圖案Q3以及第四結構光圖案Q4會分別於投射面P上投射於不同的投影位置。
進一步來說，結構光產生單元3更包括至少一準直透鏡，以供準直自每一發光源所發出之光線。於本實施例中，準直透鏡的數量相同於發光源/光學片的數量，即為四個準直透鏡32a~32d，且一個準直透鏡32a~32d相對應設置於一個發光源31a~31d與一個光學片33a~33d之間，用以準直發光源31a~31d所發出的光線並予以傳送至光學片33a~33d後繼續向外發射。
圖5係為本案第三實施例的發光裝置在實行發光照射時之概念示意圖。本案第三實施例相似於第一實施例，第三實施例的發光裝置包括結構光產生單元5以及控制單元6，控制單元6訊號連接於結構光產生單元5，以供控制結構光產生單元5的發光時序。本案的結構光產生單元5包括複數發光源51a以及一光學元件組53，每一發光源51a所發出的光線會通過光學元件組53，以便於向外投射出而形成結構光圖案。與第一實施例不同的是，第三實施例的結構光產生單元5包括九個發光源51a，且此九個發光源51a為呈陣列排列地設置於一電路基板51上，其中，控制單元6可程式化地依一發光順序開啟及關閉該些發光源51a，也因此於投射面P上會相應該發光順序而於不同位置投射形成不同的結構光圖案R1~R9。
相似於第一實施例，光學元件組53係包括至少一光學片53a，以供每一個發光源51a發出之光線行經並產生向外照射產生結構光圖案，於本實施例中，光學片53a的數量相同於發光源51a的數量，即為九個光學片53a，且一個發光源51a與一個光學片53a相對應設置。此外，光學片53a上的圖刻決定出結構光圖案的生成圖案，於第三實施例中，每一個發光源51a發出之光線行經並產生向外照射產生結構光圖案的圖形皆為不同。但當然每一個發光源51a發出之光線行經並產生向外照射產生結構光圖案的圖形皆為相同，或是，每一個發光源51a發出之光線行經並產生向外照射產生結構光圖案的圖形中至少二個相同，皆屬可行之設置。
進一步來說，結構光產生單元5更包括至少一準直透鏡52a，以供準直自每一發光源51a所發出之光線。於本實施例中，準直透鏡52a的數量相同於發光源51a/光學片53a的數量，即為九個準直透鏡52a，且一個準直透鏡52a相對應設置於一個發光源51a與一個光學片53a之間，用以準直發光源51a所發出的光線並予以傳送至光學片53a。
除此之外，發光源51a的排列包括有線性排列(比如3*3陣列中上方列)，故控制單元6可沿該線性方向的順序輪流且週期性開啟及關閉該些發光源51a；抑或，該些發光源仍為線性排列，但控制單元6不沿該線性方向的順序輪流且週期性開啟及關閉該些發光源51a，亦屬可行之設置。
圖6係為本案第四實施例的發光裝置在實行發光照射時之概念示意圖。本案第四實施例相似於第三實施例，第四實施例的發光裝置包括結構光產生單元7以及控制單元8。與第三實施例不同在於第四實施例的每一個發光源71a上皆配置有一感應器71b，感應器71b會直接感測相應發光源71a所投射出之結構光圖案，並感應產生一信號而回饋至控制單元8，並且，發光源71a及感應器71b皆設於一板體層72上，板體層72可提供良好的保護屏障的作用或電性導通的作用，或穩定器件的工作溫度的作用。
圖7係為本案第五實施例的發光裝置在實行發光照射時之概念示意圖。本案第五實施例相似於第三實施例，第五實施例的發光裝置包括結構光產生單元90以及控制單元91。第五實 施例與第三實施例不同僅在於第五實施例的結構光產生單元未設置有準直透鏡。藉由省略準直透鏡的設置可更進一步使得發光裝置整體的厚度減小，使得發光裝置在裝設上有更大的彈性空間。
綜上所述，本案之發光裝置特別搭配設置有可依程式化發光的多個發光源，藉由控制發光源的發光時序，使得投射面上隨時間依序呈現出不同位置或不同形狀的結構光圖案，如此在後續執行空間資訊計算時，即可產生足夠供計算的資源，提高解析度。並且相較於微機電系統驅動可動光學模組，本案亦有具備有大幅降低功率消耗以及亦減省整體體積的占用的優點。
上述實施例僅為例示性說明本發明之原理及其功效，以及闡釋本發明之技術特徵，而非用於限制本發明之保護範疇。任何熟悉本技術者之人士均可在不違背本發明之技術原理及精神的情況下，可輕易完成之改變或均等性之安排均屬於本發明所主張之範圍。因此，本發明之權利保護範圍應如後述之申請專利範圍所列。
1‧‧‧結構光產生單元
11‧‧‧電路基板
11a‧‧‧第一發光源
11b‧‧‧第二發光源
12a‧‧‧第一準直透鏡
12b‧‧‧第二準直透鏡
13‧‧‧光學元件組
13a‧‧‧第一光學片
13b‧‧‧第二光學片
2‧‧‧控制單元
S1‧‧‧第一結構光圖案
S2‧‧‧第二結構光圖案
A‧‧‧感應單元
P‧‧‧投射面

Claims (17)

  1. 一種發光裝置，包括：一結構光產生單元，包括複數發光源以及一光學元件組，該些發光源所發出的光線通過該光學元件組，該些發光源中之一者於一投射面上的一第一位置投影出一第一結構光圖案(structured lighting pattern)，該些發光源中之另一者於該投射面上的一第二位置投影出一第二結構光圖案，該第一位置不同於該第二位置；以及一控制單元，訊號連接於該結構光產生單元，並控制該些發光源其中之該一者以及其中之另該一者依時序發光，藉使該投射面上依時序呈現該第一結構光圖案以及該第二結構光圖案。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中該控制單元可程式化地開啟及關閉每一該發光源。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之發光裝置，其中該些發光源為線性排列，且該控制單元沿該線性方向的順序輪流且週期性開啟及關閉該些發光源；抑或，該些發光源為線性排列，且該控制單元不沿該線性方向的順序輪流，週期性開啟及關閉該些發光源。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之發光裝置，其中該些發光源為環形排列，且該控制單元沿該環形方向的順序輪流且週期性開啟及關閉該些發光源；抑或，該些發光源為環形排列，且該控制單元 不沿該環形方向的順序輪流，週期性開啟及關閉該些發光源。
  5. 如申請專利範圍第2項所述之發光裝置，其中該些發光源規則散佈排列於二次元的一平面上；抑或，該些發光源規則散佈排列於三次元的一曲面或空間裡。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中該些發光源包括一雷射二極體(LD)、一發光二極體(LED)以及一有機發光二極體(OLED)或熱光源(thermal source)中之至少一者。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中該光學元件組包括相應於該第一結構光圖案以及該第二結構光圖案之複數光學片，每一該光學片為一繞射光學元件(Diffractive Optical Element,DOE)、一折射式光學元件以及一反射式光學元件其中之一者。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之發光裝置，其中該折射式光學元件係為一多孔(multiple aperture)透鏡、一柱狀透鏡(lenticular lens)、或一陣列透鏡(lens array)。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中該些光學片的數量相同於該些發光源的數量，且該些光學片與該些發光源相對應地設置。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之發光裝置，其中該結構光產生 單元更包括複數準直透鏡，每一該準直透鏡係設置於相對應的該發光源以及該光學元件組之間，用以準直該發光源所發出的光線並予以傳送至該光學元件組。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中該光學元件組的一出光口側與該些發光源的直線距離或該發光裝置的總高度小於7公釐(mm)。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，更包括一殼體，該殼體承載該光學元件組；其中，該光學元件組與該些發光源具有固定相對組態或固定距離，抑或，該光學元件組與該些發光源具有可程式化調動的相對組態或相對距離。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，更包括一感應單元，該感應單元感應位於該投射面上不同位置的該第一結構光圖案以及該第二結構光圖案，而偵測感應產生一信號。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之發光裝置，其中該控制單元根據該信號可程式化地開啟及關閉每一該發光源。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中該些發光源皆設於一板體層，且該些發光源與該板體層電性導通；其中，該板體層可以熱穩定(thermally stabilize)該些發光源，抑或，該板體層不熱穩定(thermally stabilize)該些發光源。
  16. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中該些發光源以及該控制單元皆設於一板體層，且該些發光源以及該控制單元與該板體層電性導通；其中，該板體層可以熱穩定(thermally stabilize)該些發光源以及該控制單元，抑或，該板體層不熱穩定(thermally stabilize)該些發光源以及該控制單元。
  17. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中該些發光源以及該控制單元皆設於一板體層，該些發光源以及該控制單元與該板體層電性導通，且該板體層設置有至少一感應單元以偵測感應產生一信號而回饋至該控制單元；其中，該板體層可以熱穩定(thermally stabilize)該些發光源、該控制單元以及該至少一感應單元，抑或，該板體層不熱穩定(thermally stabilize)該些發光源、該控制單元以及該至少一感應單元。
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