TW201520678A - 藍光合成方法及系統 - Google Patents
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Abstract
一種藍光合成方法,其包括以下步驟:提供一藍光雷射;在藍光雷射的光路徑配置一波長轉換元件,部分的藍光雷射激發波長轉換元件而發出一經調變波長的藍光;將未經調變波長的藍光雷射與經調變波長的藍光進行混光。
Description
本發明係關於一種光合成方法及系統,特別關於一種藍光合成方法及系統。
投影機產生色彩畫面需要紅藍綠(RGB)三原色互相搭配比例,一般而言,可透過白平衡計算來預估各顏色所需之成分比例,其中,藍光的比例對於白平衡色座標位置與色溫點影響甚鉅。若以紅、綠、藍三色混光討論,僅需約10%以內的藍光比例,即可達到一般常用的白平衡規格,剩下的 90%比例則主要是由紅光與綠光組成。因此,換個角度說,藍光成分的多少,決定了投影機白畫面的亮度。
不同於傳統燈泡(Lamp)結合濾鏡或是搭配藍光LED的藍色光源,雷射投影機一般是使用藍光雷射作為主要藍色光源。然而,若以上述藍光雷射作為投影機的藍色光源,整個投影機能顯示的色域無法涵蓋Rec. 709的標準色域而降低了色彩豐富度。再者,由於藍色光源的成分是以藍光雷射為主,隨著產品規格的提升,雷射的瓦數亦隨之增加,高亮度的產品勢必會面臨殘餘雷射過多,而無法符合雷射產品安全規範的問題。
因此,如何提供一種藍光合成方法及系統,將合成後的藍光作為藍色光源,可使得系統顯示的色彩涵蓋Rec. 709的標準色域,並且能符合雷射產品的安全規範已成為重要課題之一。
有鑑於上述課題,本發明之目的為提供一種可符合Rec. 709規範並同時符合IEC-60825-1雷射產品標準安全規範的藍色光源之藍光合成方法及系統。
為達上述目的,依據本發明的一種藍光合成方法,其包括以下步驟:提供一藍光雷射;在藍光雷射的光路徑配置一波長轉換元件,部分的藍光雷射激發波長轉換元件而發出一經調變波長的藍光;將未經調變波長的藍光雷射與經調變波長的藍光進行混光。
在一實施例中,進行混光步驟前更包括一步驟:對未經調變波長的藍光雷射進行強度衰減或部分濾除。
在一實施例中,波長轉換元件具有一透光區。波長轉換材料配置於透光區以外的區域。
在一實施例中,藍光雷射部分通過透光區,部分經波長轉換材料調變波長而為經調變波長的藍光。
在一實施例中,波長轉換元件包括一色輪。
在一實施例中,波長轉換材料包括螢光材料、磷光材料、或其組合。
在一實施例中,螢光材料包括矽氧化合物。
在一實施例中,藍光雷射的波長為445nm至448nm,該經調變波長的藍光的主要發光波長為460nm±5nm。
為達上述目的,依據本發明的一種藍光合成系統,其包括:一發光源、一波長轉換元件以及一光學元件組。發光源用以提供一藍光雷射。波長轉換元件配置於藍光雷射的一光路徑。光學元件組構成光路徑。部分的藍光雷射激發波長轉換元件而發出一經調變波長的藍光。將未經調變波長的藍光雷射與經調變波長的藍光進行混光。
在一實施例中,光學元件組包括一濾光片,用以濾除藍光雷射,且經調變波長的藍光穿透濾光片。
在一實施例中,光學元件組包括一衰減片,用以衰減藍光雷射,且經調變波長的藍光穿透衰減片。
在一實施例中,光學元件組包括一分光鏡,用以反射藍光雷射,且經調變波長的藍光穿透分光鏡。
在一實施例中,波長轉換元件具有一透光區。波長轉換材料配置於透光區以外的區域。
在一實施例中,藍光雷射部分通過透光區,部分經波長轉換材料調變波長而為經調變波長的藍光。
在一實施例中,波長轉換元件包括一色輪。
在一實施例中,波長轉換材料包括螢光材料、磷光材料、或其組合。
在一實施例中,螢光材料包括矽氧化合物。
在一實施例中,藍光雷射的波長為445nm至448nm。經調變波長的藍光的主要發光波長為460nm±5nm。
綜上所述,本發明的藍光合成方法及系統,藉由部分藍光雷射激發出經調變波長的藍光,並將部分藍光雷射與經調變波長的藍光進行混光,以產生符合Rec. 709規範的藍色光源,同時符合IEC-60825-1雷射產品標準安全規範。
1、2‧‧‧藍光合成系統
11、21‧‧‧發光源
12、22‧‧‧波長轉換元件
13、23‧‧‧光學元件組
131、132‧‧‧透鏡
133‧‧‧濾光片/衰減片
14、24‧‧‧積分柱
231‧‧‧分光鏡
232‧‧‧反射鏡
A‧‧‧透光區
L‧‧‧光路徑
L1‧‧‧路徑
L2‧‧‧藍光雷射的原光路徑
S、R‧‧‧區域
S102、S104、S105、S106‧‧‧步驟
11、21‧‧‧發光源
12、22‧‧‧波長轉換元件
13、23‧‧‧光學元件組
131、132‧‧‧透鏡
133‧‧‧濾光片/衰減片
14、24‧‧‧積分柱
231‧‧‧分光鏡
232‧‧‧反射鏡
A‧‧‧透光區
L‧‧‧光路徑
L1‧‧‧路徑
L2‧‧‧藍光雷射的原光路徑
S、R‧‧‧區域
S102、S104、S105、S106‧‧‧步驟
圖1為本發明較佳實施例的一種藍光合成方法的步驟流程圖。
圖2為螢光頻譜圖。
圖3A及圖3B為波長轉換元件的示意圖。
圖4A為藍光雷射頻譜圖。
圖4B為藍光雷射、衰減片及濾光片的頻譜圖。
圖4C為混光藍光頻譜圖。
圖5為本發明較佳實施例的一種藍光合成系統的示意圖。
圖6為本發明較佳實施例的另一種藍光合成系統的示意圖。
圖2為螢光頻譜圖。
圖3A及圖3B為波長轉換元件的示意圖。
圖4A為藍光雷射頻譜圖。
圖4B為藍光雷射、衰減片及濾光片的頻譜圖。
圖4C為混光藍光頻譜圖。
圖5為本發明較佳實施例的一種藍光合成系統的示意圖。
圖6為本發明較佳實施例的另一種藍光合成系統的示意圖。
以下將參照相關圖式,說明依本發明較佳實施例之一種藍光合成方法及系統,其中相同的元件將以相同的參照符號加以說明。
圖1為本發明較佳實施例的一種藍光合成方法的步驟流程圖。請參考圖1所示,藍光合成方法包括以下步驟:提供一藍光雷射(S102);在藍光雷射的光路徑配置一波長轉換元件,部分的藍光雷射激發波長轉換元件而發出一經調變波長的藍光(S104);將未經調變波長的藍光雷射與經調變波長的藍光進行混光(S106)。本發明的藍光合成方法可適用但不限制為照明系統、投影機、顯示器或其他光學裝置,本實施例是以雷射投影機為例。
於步驟S102中,提供藍光雷射的方式,可以是藉由氣體雷射器、固體雷射器、光纖雷射器或半導體雷射器等發光源提供,本發明不作限制。在本實施例中,由於藍光雷射除了作為激發光源以外,另有混光的用途。目前市面上的雷射器所提供的藍光雷射中,其波長大多介於445nm~448nm之間,而為了降低混光的成本,因此本實施例所選用的藍光雷射,其波長即是介於445nm~448nm之間。如此一來,可不用特製提供特定波長的雷射器,故可降低成本。當然,本發明並不限定其藍光雷射之波長範圍,以能夠混出所需要的混光藍光為主要考量。
在步驟S104中,在藍光雷射的光路徑配置一波長轉換元件,部分的藍光雷射激發波長轉換元件而發出一經調變波長的藍光。波長轉換元件具有波長轉換材料,較佳是一色輪。在本實施例中,當藍光雷射射向波長轉換元件並且打在波長轉換材料上時,波長轉換材料會被激發出光。而本實施例中,波長轉換材料所激發出的光是以藍光為主,其主要波長為460nm±5nm,可根據不同波長的調變需求對應選用不同波長的材料。在實施上,當使用波長為445nm的藍光雷射時,為了有效降低藍光雷射的殘餘量(即更能符合雷射產品安全規範)則可以使用波長為460nm的波長轉換材料。於此,相較於先前技術使用綠色螢光粉(主波長約在550nm)或是青色螢光粉(主波長約在490nm)來混光,本實施例使用的波長轉換元件(主波長460nm±5nm)可有效降低藍光雷射需求量。
另外,轉換材料可以是螢光材料、磷光材料、或其組合。在本實施例中,可以採用螢光材料實現,其主要成分包括矽氧化合物。而本實施例的螢光材料,其主要波長為460nm,其激發出的螢光頻譜圖如圖2所示。
在本實施例中,波長轉換元件可具有一透光區,其可以是一透明的實體例如是玻璃,亦可以是一通孔,只要能達到透光效果即可,在此不作限制。在其他實施例中,波長轉換材料可以是配置於上述透光區以外的區域。請參考圖3A及圖3B,分別為本實施例的波長轉換元件12及22的示意圖,並以色輪為例。如圖3A所示,在波長轉換元件12的區域R配置波長轉換材料,使得藍光雷射(區域S為入射的藍光雷射的截面示意)穿透波長轉換元件12的區域R時,雖然全部藍光雷射均會打在波長轉換材料上,但其中部分的藍光雷射會激發波長轉換材料產生調變後的藍光,而部分藍光雷射則不會被波長轉換材料所吸收,將直接穿透出射波長轉換材料,並且波長不會改變。而如圖3B所示的波長轉換元件22,由於雷射光具有方向性,亦即光束的平行度高,因此當藍光雷射(區域S為入射的藍光雷射的截面示意)射向透光區A的邊緣時,部分的藍光雷射會穿透透光區A而透出,而未穿透透光區A的部分藍光雷射會打在具有波長轉換材料的區域R上而激發出光。在本實施例中,被激發出的光為藍光,較佳為藍光螢光。
圖4A為藍光雷射頻譜圖,請參考圖4A所示。由於藍光雷射在激發波長轉換元件的過程中,部分藍光雷射穿透透光區,因此穿透透光區而進行混光的藍光雷射,其所具有的能量相較於完整藍光雷射的能量低,從而符合IEC-60825-1雷射產品標準安全規範(藍光雷射的能量值,其瓦數依實際應用需求而有不同規範,例如須小於5mW或2mW)。而在部分實施例中,未經調變波長的藍光雷射,仍具有較高的能量,而無法達到IEC-60825-1雷射產品標準安全規範,因此在進行混光步驟之前,可對未經調變波長的藍光雷射進行強度衰減或部分濾除,即步驟S105。在本實施例中,於藍光雷射的光路徑上配置一濾光片,其用以濾除部分的藍光雷射,例如濾除60%的藍光雷射,並且濾光片可濾除的波長範圍是設計在445nm~448nm之間。如此一來,本實施例的濾光片僅可濾除部分的藍光雷射,而不會濾除主要波長為460nm±5nm的藍光螢光。值得一提的是,本實施例的濾光片亦可以衰減片替代。類似地,衰減片可衰減的波長範圍是設計在445nm~448nm之間,以衰減部分的藍光雷射,例如衰減60%的藍光雷射,並且不會衰減主要波長為460nm±5nm的藍光螢光。於此,濾除或衰減後的藍光雷射,其具有的能量較低,進而符合IEC-60825-1雷射產品標準安全規範。上述濾光片/衰減片的頻譜圖之設計即如圖4B所示,其為藍光雷射、衰減片及濾光片的頻譜圖,其中濾光片/衰減片可將多餘的藍光雷射之能量去除。
接著進入步驟S106,將未經調變波長的藍光雷射與經調變波長的藍光進行混光。如上所述,本實施例是以部分藍光雷射作為激發光源,以將波長轉換元件的波長轉換材料激發出藍光螢光。而部分穿透透光區的藍光雷射則與激發出的藍光螢光進行混光,並將混光後的混光藍光作為本實施例雷射投影機的藍色光源。由於本實施例是以波長為445nm~448nm的藍光雷射與主要波長為460nm±5nm的藍光螢光進行混光,因此上述混光藍光即為符合Rec. 709規範的藍光。其中混光藍光的頻譜如圖4C所示。
總括來說,本實施例藉由雷射器提供藍光雷射,以及將部分藍光雷射激發出藍光螢光,並且以未作為激發的部分藍光雷射與藍光螢光進行混光,其混光後的藍光即為本實施例之雷射投影機的藍色光源。由於藍光雷射與藍光螢光的波長為特定範圍之間,因此藉由上述藍光合成後的混光藍光即為符合Rec. 709規範的藍光。另外,部分實施例藉由濾光片或衰減片的設計,以濾除或衰減部分的藍光雷射,進而降低藍光雷射的能量,以符合IEC-60825-1雷射產品標準安全規範。
圖5為本發明較佳實施例的一種藍光合成系統的示意圖。請參考圖5,上述較佳實施例的藍光合成方法,可由本實施例的藍光合成系統1配合應用。在本實施例中,藍光合成系統1包括一發光源11、一波長轉換元件12、一光學元件組13以及一積分柱(integrator rod)14。其中,發光源11及波長轉換元件12(參照圖3A)如上述實施例所述,於此不再贅述。
在本實施例中,藍光雷射具有光路徑L。光學元件組13構成光路徑L,其包含多個透鏡131、132以及一濾光片/衰減片133。其中,濾光片/衰減片133配置於透鏡131及透鏡132之間,並且發光源11配置於透鏡131相對於濾光片/衰減片133的另一側,而波長轉換元件12則配置於透鏡131與發光源11之間。另外,本實施例經由藍光雷射激發出經調變波長的藍光,其路徑以符號L1表示,並以藍光螢光為例。積分柱(integrator rod)14接收混光後的藍光,並將其作為雷射投影機的藍色光源。須注意的是,由於經調變波長的藍光(例如藍光螢光)不一定如同雷射光具有方向性,其可能是發散的形式,以輻射狀發光,因此本實施例以符號L1所表示的路徑為部分範圍的藍光螢光之路徑示意。
本實施例以整體觀之,當藍光雷射經由發光源11發出後,射入波長轉換元件12以激發出藍光螢光。接著,如藍光雷射的光路徑L與藍光螢光的路徑L1所示,依序經由透鏡131、濾光片/衰減片133以及透鏡132後聚集混光至積分柱(integrator rod)14。於此,本實施例的藍光雷射激發出藍光螢光後,此時整個藍光合成系統的頻譜包含波長445~448nm的藍光雷射以及主要波長460nm±5nm的藍光螢光,再經由濾光片/衰減片133,將藍光雷射作部分濾除/衰減。如此一來,最後的混光藍光即為符合Rec. 709規範的藍光,並且有效降低雷射的能量而符合IEC-60825-1雷射產品標準安全規範。換句話說,本實施例是以穿透光路之減法式(minus approach)藍光合成系統實現,利用濾光片/衰減片133降低過多的雷射能量,以將藍光雷射與藍光螢光混合成混光藍光並作為雷射投影機的藍色光源。
圖6為本發明較佳實施例的另一種藍光合成系統的示意圖。請參考圖6,上述較佳實施例的藍光合成方法,亦可由本實施例的藍光合成系統2配合應用。在本實施例中,藍光合成系統2包括一發光源21、波長轉換元件22、一光學元件組23以及一積分柱(integrator rod)24。其中發光源21、波長轉換元件22(參照圖3B)以及積分柱(integrator rod)24的敘述可參考上述實施例,在此不作贅述。
在本實施例中,波長轉換元件22為一色輪,其具有一透光區。請同時參考圖3B,其為本實施例的波長轉換元件的示意圖,並且為光路徑L入射方向的視角圖。透光區A可以是一透明的實體例如是玻璃,亦可以是一通孔,只要能達到透光效果即可,在此不作限制。在本實施例中,透光區A以外的區域(例如區域R)配置有波長轉換材料,其被激發出的光是以藍光為主,且主要波長為460nm±5nm,其中本實施例是以主要波長為460nm的藍光螢光為例。如圖3B所示,區域S為入射的藍光雷射的截面示意。當藍光雷射射向透光區A的邊緣時,部分藍光雷射穿透透光區A,而部分藍光雷射則激發出藍光螢光。在本實施例中,藍光螢光的路徑L1將以藍光雷射的原光路徑L2的反方向發出。
請繼續參考圖6。在本實施例中,光學元件組23包括一分光鏡231以及多個反射鏡232,分別配置於藍光雷射的光路徑L上。分光鏡231是用以反射藍光雷射,而經調變波長的藍光(例如藍光螢光)會穿透分光鏡231。詳而言之,本實施例分光鏡231的設計,是針對400nm~450nm頻段的光進行反射,由於藍光雷射的波長為445nm~448nm,而藍光螢光的主要波長為460nm±5nm,因此分光鏡231可反射藍光雷射,而藍光螢光會穿過分光鏡231。
本實施例以整體觀之,當藍光雷射經由發光源21發出而射向分光鏡231時,分光鏡231將藍光雷射反射至波長轉換元件22。當藍光雷射射入波長轉換元件22後,部分的藍光雷射穿透透光區,而部分的藍光雷射打在波長轉換材料而激發出藍光螢光,其中藍光螢光的路徑L1將以藍光雷射的原光路徑L2的反方向發出並穿透分光鏡231至積分柱(integrator rod)24。同時,穿透透光區的部分藍光雷射,如圖所示,依序經過三個反射鏡232而三次反射後射向分光鏡231。分光鏡231再將經過反射的藍光雷射反射至積分柱(integrator rod)24,以混合成混光藍光。於此,本實施例的部分藍光雷射激發出藍光螢光後,此時整個藍光合成系統的頻譜包含波長445~448nm的藍光雷射以及主要波長460nm±5nm的藍光螢光,而穿透透光區的部分藍光雷射經由多次反射後至積分柱(integrator rod)24以作補回。由於本實施例的藍光雷射其部分作為激發光源,因此部分穿透透光區而補回的藍光雷射,其能量較低。而最後的混光藍光的頻譜即如圖4C所示,為符合Rec. 709規範的藍光,並且有效降低雷射的能量而符合IEC-60825-1雷射產品標準安全規範。換句話說,本實施例是以反射光路之加法式(plus approach)藍光合成系統實現,利用分光鏡將藍光雷射與藍光螢光分開為不同的路徑,最後再補足的藍光雷射,以將藍光雷射與藍光螢光混合成混光藍光並作為雷射投影機的藍色光源。
綜上所述,本發明的藍光合成方法及系統,藉由部分藍光雷射激發出經調變波長的藍光,並將部分藍光雷射與經調變波長的藍光進行混光,以產生符合Rec. 709規範的藍色光源,同時符合IEC-60825-1雷射產品標準安全規範。
以上所述僅為舉例性,而非為限制性者。任何未脫離本發明之精神與範疇,而對其進行之等效修改或變更,均應包含於後附之申請專利範圍中。
S102、S104、S105、S106‧‧‧步驟
Claims (18)
- 一種藍光合成方法,包括以下步驟:
提供一藍光雷射;
在該藍光雷射的光路徑配置一波長轉換元件,部分的該藍光雷射激發該波長轉換元件而發出一經調變波長的藍光;以及
將未經調變波長的藍光雷射與該經調變波長的藍光進行混光。 - 如申請專利範圍第1項所述的藍光合成方法,其中進行混光步驟前,更包括一步驟:
對未經調變波長的藍光雷射進行強度衰減或部分濾除。 - 如申請專利範圍第1項所述的藍光合成方法,其中該波長轉換元件具有一透光區,波長轉換材料配置於該透光區以外的區域。
- 如申請專利範圍第3項所述的藍光合成方法,其中該藍光雷射部分通過該透光區,部分經波長轉換材料調變波長而為該經調變波長的藍光。
- 如申請專利範圍第3項所述的藍光合成方法,其中該波長轉換元件包括一色輪。
- 如申請專利範圍第3項所述的藍光合成方法,其中波長轉換材料包括螢光材料、磷光材料、或其組合。
- 如申請專利範圍第6項所述的藍光合成方法,其中該螢光材料包括矽氧化合物。
- 如申請專利範圍第1項所述的藍光合成方法,其中該藍光雷射的波長為445nm至448nm,該經調變波長的藍光的主要發光波長為460nm±5nm。
- 一種藍光合成系統,包括:
一發光源,用以提供一藍光雷射;
一波長轉換元件,配置於該藍光雷射的一光路徑;以及
一光學元件組,構成該光路徑;
其中,部分的該藍光雷射激發該波長轉換元件而發出一經調變波長的藍光,將未經調變波長的藍光雷射與該經調變波長的藍光進行混光。 - 如申請專利範圍第9項所述的藍光合成系統,其中該光學元件組包括一濾光片,用以濾除部分的該藍光雷射,且該經調變波長的藍光穿透該濾光片。
- 如申請專利範圍第9項所述的藍光合成系統,其中該光學元件組包括一衰減片,用以衰減部分的該藍光雷射,且該經調變波長的藍光穿透該衰減片。
- 如申請專利範圍第9項所述的藍光合成系統,其中該光學元件組包括一分光鏡,用以反射該藍光雷射,且該經調變波長的藍光穿透該分光鏡。
- 如申請專利範圍第9項所述的藍光合成系統,其中該波長轉換元件具有一透光區,波長轉換材料配置於該透光區以外的區域。
- 如申請專利範圍第13項所述的藍光合成系統,其中該藍光雷射部分通過該透光區,部分經波長轉換材料調變波長而為該經調變波長的藍光。
- 如申請專利範圍第13項所述的藍光合成系統,其中該波長轉換元件包括一色輪。
- 如申請專利範圍第13項所述的藍光合成系統,其中波長轉換材料包括螢光材料、磷光材料、或其組合。
- 如申請專利範圍第16項所述的藍光合成系統,其中該螢光材料包括矽氧化合物。
- 如申請專利範圍第9項所述的藍光合成系統,其中該藍光雷射的波長為445nm至448nm,該經調變波長的藍光的主要發光波長為460nm±5nm。
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