TW201509481A - 用於口罩之隔絕結構的製造方法 - Google Patents
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Abstract
一種用於口罩之隔絕結構的製造方法,係先將第一基材、第二基材及第三基材依上中下順序同時往一第一滾壓裝置之輸入端運送,並由該第一滾壓裝置進行加溫以將第一基材、第二基材及第三基材疊合輸出為一隔絕材料,之後,再將第四基材、隔絕材料及第五基材依上中下順序同時往一第二滾壓裝置之輸入端運送,以將第四基材、隔絕材料及第五基材疊合輸出為一具有非平面表面之隔絕材料,最後,再將該具有非平面表面之隔絕材料的上表面的第四基材與下表面的第五基材剝除,以形成僅有第一基材、第二基材及第三基材之具有非平面表面的隔絕結構。
Description
本發明係關於一種用於口罩之隔絕結構的製造方法,特別是指一種能夠用於口罩結構之隔絕層的製造方法,而所製出之隔絕結構能夠使口罩不需靜電集塵並能達到高過濾效率、且能夠長期使用與沒有使用期限。
日前,受到流感疫情傳染的報導,導致市場口罩的需求量大增,尤以目前媒體大幅度所報導的N95口罩,更是一個難求,其具有可以適當防護空氣中結核桿菌,有效阻隔帶病毒飛沫的最佳產品,且強調係通過美國NIOSH驗證通過的防塵口罩分級標誌,乃以0.075μ氯化鈉微粒進行測試,效率達95%以上。
而N95口罩主要具有過濾、吸附、滅殺等功能,其中藉由口罩的材質與紡織方式,並添加靜電濾網層,用以將病毒吸附在口罩過濾層;另外使用二氧化鈦、光觸媒一類具有殺菌功能的口罩材質,則能夠直接殺死病毒。
但現有市場上N95這一類的口罩,係以不織布為材料,材料透氣性並不夠好,所以吸入空氣量會不足。再由於使用者的呼出的空氣含有二氧化碳、水蒸氣、細菌和少量的氧氣。載著口罩呼吸,隨著呼吸的
次數增加,口罩內的二氧化碳、水蒸氣、細菌便愈來愈多。若較長時間、配載透氣性差的N95口罩,反而對我們的身體、吸收系統都會形成一定傷害;另外,由於靜電集塵的功能會隨著長期使用的情況下,靜電會逐漸消失,同時使過濾效率下降,且功能性會越來越差,因此N95口罩的有效使用時間,最長僅能維持8小時,無法再重複利用,這也是N95口罩的缺點之一。
因此,若能夠製造一用於口罩結構之隔絕層,使口罩結構不需靜電集塵,並同時能達到95%以上的過濾效果,由於不會因靜電消失而無法長期使用,同時因組成結構壓差較小不會造成使用者呼吸困難,如此應為一最佳解決方案。
本發明即在於提供一種用於口罩之隔絕結構的製造方法,係用以製造一用於口罩結構之隔絕層,以使口罩結構不需靜電集塵並能達到高過濾效率、且能夠長期舒適戴用與沒有使用期限。
可達成上述用於口罩之隔絕結構的製造方法,其步驟為:1.將第一基材、第二基材及第三基材依上中下順序同時往一第一滾壓裝置之輸入端運送,並由該第一滾壓裝置進行加溫以將第一基材、第二基材及第三基材疊合輸出為一隔絕材料;2.再將第四基材、隔絕材料及第五基材依上中下順序同時往一第二滾壓裝置之輸入端運送,並由該第二滾壓裝置進行加溫並進以壓折,以將第四基材、隔絕材料及第五基材疊合輸出為一具有非平面表面之隔絕材料;
3.最後,再將該具有非平面表面之隔絕材料的上表面的第四基材與下表面的第五基材剝除,以形成僅有第一基材、第二基材及第三基材之具有非平面表面的隔絕材料。
更具體的說,所述第一基材係為一不織布材料。
更具體的說,所述第三基材係為一不織布材料。
更具體的說,所述第二基材係為一薄膜材料,該薄膜材料係為聚四氟乙烯(PTEE)、聚氟化二乙烯(PVDF)、聚丙烯(PP)、聚氟化二乙烯聚醚碸(PES)、聚氨酯(PU)或meltblown材料。
更具體的說,所述第四基材係為棉布、紙或是不織布。
更具體的說,所述第五基材係為棉布、紙或是不織布。
更具體的說,所述第一滾壓裝置進行加溫之溫度必須低於該第一基材與第三基材之熔點。
更具體的說,所述第二滾壓裝置進行加溫之溫度必須低於該第一基材與第三基材之熔點。
更具體的說,所述第二滾壓裝置係為一具有齒狀結構的滾壓裝置。
更具體的說,所述具有非平面表面之隔絕材料的非平面表面係為波浪狀結構、連續褶痕結構、不連續褶痕結構或是鋸齒狀結構。
1‧‧‧第一基材
2‧‧‧第二基材
3‧‧‧第三基材
4‧‧‧第一滾壓裝置
51‧‧‧隔絕材料
52‧‧‧隔絕材料
53‧‧‧隔絕結構
531‧‧‧非平面表面
6‧‧‧第四基材
7‧‧‧第五基材
8‧‧‧第二滾壓裝置
81‧‧‧齒狀結構
第1圖係本發明用於口罩之隔絕結構的製造方法之製造流程示意圖。
第2A圖係本發明用於口罩之隔絕結構的製造方法之實施示意圖。
第2B圖係本發明用於口罩之隔絕結構的製造方法之實施示意圖。
第2C圖係本發明用於口罩之隔絕結構的製造方法之實施示意圖。
第3圖係本發明用於口罩之隔絕結構的製造方法之隔絕結構立體圖。
有關於本發明之前述及其他技術內容、特點與功效,在以下配合參考圖式之較佳實施例的詳細說明中,將可清楚的呈現。
請參閱第1圖,為本發明用於口罩之隔絕結構的製造方法之製造流程示意圖,由圖中可知,其製造步驟為:1.將第一基材、第二基材及第三基材依上中下順序同時往一第一滾壓裝置之輸入端運送,並由該第一滾壓裝置進行加溫以將第一基材、第二基材及第三基材疊合輸出為一隔絕材料101;2.再將第四基材、隔絕材料及第五基材依上中下順序同時往一第二滾壓裝置之輸入端運送,並由該第二滾壓裝置進行加溫並進以壓折,以將第四基材、隔絕材料及第五基材疊合輸出為一具有非平面表面之隔絕材料102;3.最後,再將該具有非平面表面之隔絕材料的上表面的第四基材與下表面的第五基材剝除,以形成僅有第一基材、第二基材及第三基材之具有非平面表面的隔絕材料103。
由第2A圖、第2B圖及第2C圖所示,係為隔絕結構的製造實施示意圖,其中由第2A圖中可知,先將第一基材1、第二基材2及第三基材3依上中下順序同時往一第一滾壓裝置4之輸入端運送,其中第一基材1及第三基材3為一不織布材料,而第二基材2係為一薄膜材料,該
薄膜材料係為聚四氟乙烯(PTEE)、聚氟化二乙烯(PVDF)、聚丙烯(PP)、聚氟化二乙烯聚醚碸(PES)、聚氨酯(PU)或meltblown材料;因此當第一滾壓裝置4將第一基材1、第二基材2及第三基材3向第一滾壓裝置4的輸入端捲入後,由該第一滾壓裝置4進行加溫(其加溫溫度必須低於該第一基材1與第三基材3之熔點),由於第一基材1、第二基材2及第三基材3係上下順序排列,因此當進行加溫後,能將第一基材1、第二基材2及第三基材3疊合輸出為一隔絕材料51,該隔絕材料51係由第二基材2夾設於第一基材1與第三基材3之間。
而之後如第2B圖所示,再由第二滾壓裝置2將第四基材6、隔絕材料51及第五基材7向第二滾壓裝置8的輸入端捲入後,由於第二滾壓裝置8係為一具有齒狀結構81的滾壓裝置8,因此當第四基材6、隔絕材料51及第五基材7依上中下順序同時往一第二滾壓裝置8之輸入端運送,並由該第二滾壓裝置8進行加溫(其加溫溫度必須低於該第一基材1與第三基材3之熔點)並進以壓折,如此將能夠使第四基材6、隔絕材料51及第五基材7疊合輸出為一具有非平面表面(例如波浪狀結構、連續褶痕結構、不連續褶痕結構或是鋸齒狀結構)之隔絕材料52,其中該第四基材6與第五基材7係為棉布、紙或是不織布。
最後,如第2C圖所示,由於第四基材6與第五基材7主要目的是為了保護第一基材1與第三基材3受到第二滾壓裝置8壓折時,其表面不會被破壞,因此當壓折過程後,則再將該具有非平面表面之隔絕材料52的上表面的第四基材6與下表面的第五基材7剝除,以形成僅有第一基材1、第二基材2及第三基材3之具有非平面表面的隔絕結構53,如此
則能夠形成如第3圖所示的具有非平面表面531之隔絕結構53。
本發明所提供之用於口罩之隔絕結構的製造方法,與其他習用技術相互比較時,其優點如下:
1.本發明所製作之隔絕材料(隔絕層)使口罩不需結合靜電濾網層等一類做為靜電集塵之網層,亦能達到99%以上的高過濾效率,另外由於不會因為靜電消失而導致使用效率下降且無法長期使用的問題。
2.本發明所製作之隔絕材料能夠應用於各種形式與種類的口罩。
藉由以上較佳具體實施例之詳述,係希望能更加清楚描述本發明之特徵與精神,而並非以上述所揭露的較佳具體實施例來對本發明之範疇加以限制。相反地,其目的是希望能涵蓋各種改變及具相等性的安排於本發明所欲申請之專利範圍的範疇內。
Claims (10)
- 一種用於口罩之隔絕結構的製造方法,其步驟為:將第一基材、第二基材及第三基材依上中下順序同時往一第一滾壓裝置之輸入端運送,並由該第一滾壓裝置進行加溫以將第一基材、第二基材及第三基材疊合輸出為一隔絕材料;再將第四基材、隔絕材料及第五基材依上中下順序同時往一第二滾壓裝置之輸入端運送,並由該第二滾壓裝置進行加溫並進以壓折,以將第四基材、隔絕材料及第五基材疊合輸出為一具有非平面表面之隔絕材料;最後,再將該具有非平面表面之隔絕材料的上表面的第四基材與下表面的第五基材剝除,以形成僅有第一基材、第二基材及第三基材之具有非平面表面的隔絕結構。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於口罩之隔絕結構的製造方法,其中該第一基材係為一不織布材料。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於口罩之隔絕結構的製造方法,其中該第三基材係為一不織布材料。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於口罩之隔絕結構的製造方法,其中第二基材係為一薄膜材料,該薄膜材料係為聚四氟乙烯(PTEE)、聚氟化二乙烯(PVDF)、聚丙烯(PP)、聚氟化二乙烯聚醚碸(PES)、聚氨酯(PU)或meltblown材料。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於口罩之隔絕結構的製造方法,其中該第四基材係為棉布、紙或是不織布。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於口罩之隔絕結構的製造方法,其中該 第五基材係為棉布、紙或是不織布。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於口罩之隔絕結構的製造方法,其中該第一滾壓裝置進行加溫之溫度必須低於該第一基材與第三基材之熔點。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於口罩之隔絕結構的製造方法,其中該第二滾壓裝置進行加溫之溫度必須低於該第一基材與第三基材之熔點。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於口罩之隔絕結構的製造方法,其中該第二滾壓裝置係為一具有齒狀結構的滾壓裝置。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於口罩之隔絕結構的製造方法,其中該具有非平面表面之隔絕材料的非平面表面係為波浪狀結構、連續褶痕結構、不連續褶痕結構或是鋸齒狀結構。
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