TW201329021A - 胺硫化物清除劑、其使用方法及其製造方法 - Google Patents

胺硫化物清除劑、其使用方法及其製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明提供製造硫化物清除組合物之方法。該等組合物係二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑，其中包含少於約40 wt% N-甲基二級胺。該等方法包括使二級胺與甲醛反應。本發明亦提供自流體流去除硫化物之方法。該等方法包括向流體流中添加二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑。本發明亦揭示包含少於SAFA清除劑總重量之約40 wt%之N-甲基二級胺之SAFA清除劑。

Description

胺硫化物清除劑、其使用方法及其製造方法
本發明係關於用於與硫化物反應、且更具體而言用於自水及烴流清除硫化物之方法及化學組合物。
硫化氫或H2S係有惡臭味之澄清有毒氣體。其亦高度易燃。環境保護署(Environmental Protection Agency)及世界各地之其他監管機構均嚴格控制H2S至環境中之釋放。H2S通常存於井水、廢水及其他水性系統中。H2S通常存於原油及天然氣儲量中，且在商業使用該等儲量之前必須加以去除。該等儲量中之H2S濃度在處理之前通常隨位置而變化，且天然氣中之H2S濃度通常高於原油儲量中之H2S濃度。舉例而言，天然氣儲量中之H2S可自少於100 ppm至3000 ppm變化。所允許H2S含量亦將隨位置而變化。美國將天然氣管線中之H2S限制為4 ppm/100標準立方呎(0.3 gr/100 scf)。
通常，藉由使用將與硫化物反應之化學品處理烴流以去除硫化物，包括有機硫化物、硫醇(mercaptan)、硫醇(thiol)、COS及H2S。該等化學品稱為清除劑或脫硫劑(sweetening agent)。該等化學清除劑包括藉助二級胺與甲醛之反應產生之加成物。該等二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑包括三嗪、噁唑啶、希夫鹼(Schiff base)、二胺、羥甲基加成物及亞甲基橋材料。
大多數烴儲量係在井口附近進行連續處理，但在其他地 方分批或以類似應用處理烴並不罕見。井口附近之連續處理設施將清除劑(包括SAFA清除劑)直接注入至烴管線中。注入系統通常包括化學注入幫浦及管道三通或霧化噴嘴以將清除劑引入至管線中。所需清除劑之量將端視各種因素變化，包括所用清除劑類型、井中之H2S之量、允許之H2S限值及井流速。因此，經添加以處理烴管線之清除劑之量通常以體積計在烴流之大約10 ppm至約100,000 ppm範圍內。提供一定長度之管線以使清除劑與硫化物之間接觸。
已驚奇地發現，一些二級胺-甲醛加成物(即，N-甲基二級胺)對H2S具有惰性。該等有害之N-甲基二級胺具有甲基且缺少醚或聚醚基團，此使得其對於H2S為惰性。N-甲基二級胺通常存於SAFA清除劑中。N-甲基二級胺可具有如式I或II所述之結構： 其中R1及R2可相同或不同且係具有1個至20個碳原子之烷基、經羥基取代之烷基及經烷氧基取代之烷基；烷基可係直鏈或具支鏈烷基，包括(但不限於)甲基、乙基、丙基、丁基、羥乙基及甲氧基丙基；且環烷基環具有選自由碳、氧、氮(包括NH(六氫吡嗪、六氫吡啶、嗎啉))及硫組成之 群之原子Z。
N-甲基二級胺包括環烷基甲胺、二烷基甲胺及三級胺。N-甲基二級胺之實例包括(但不限於)二乙基甲胺、二丙基甲胺、二丁基甲胺、N-甲基六氫吡嗪、N-甲基六氫吡啶、N-甲基嗎啉及N,N-二甲基甲胺。
亦已驚奇地發現，可藉由控制試劑之莫耳比來控制N-甲基二級胺之產生。因此，第一實施例揭示製造二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑之方法，其中N-甲基二級胺之產量少於所產生總(SAFA)清除劑之約40 wt%。該方法包含提供裝填有甲醛之反應容器及使甲醛與至少一種二級胺反應。在另一實施例中，所用二級胺中之至少一者包括二烷基胺，包括(但不限於)二正丙胺、二正丁胺或二正戊胺。在另一實施例中，二級胺對甲醛之莫耳比在約1.0對1.95至約1.0對1.0範圍內。在另一實施例中，二級胺對甲醛之莫耳比在約1.0對1.75至約1.0對1.25範圍內。在再一實施例中，二級胺對甲醛之莫耳比在約1.0對1.60至約1.0對1.40範圍內。
在其他實施例中，所產生SAFA清除劑可具有如式III、IV或V所述之結構：
其中n可係1至100；其中R1、R2、R3及R4可相同或不同且係具有1個至20個碳原子之烷基、經羥基取代之烷基及經烷氧基取代之烷基；烷基可係直鏈或具支鏈烷基，包括(但不限於)甲基、乙基、丙基、丁基、羥乙基及甲氧基丙基；且環烷基環具有選自由碳、氧、氮(包括NH(六氫吡嗪、六氫吡啶、嗎啉))及硫組成之群之原子Z。
在又一些實施例中，所產生SAFA清除劑可具有如式VI或VII所述之結構： 其中n可係1至100。
亦已驚奇地發現，N-甲基二級胺之沸點比適於硫化物清除之二級胺-甲醛加成物低。許多N-甲基二級胺(包括二丁基甲胺)於760 mmHg下之沸點在約160℃至約170℃範圍內。因此，另一實施例揭示藉助蒸餾減少所產生SAFA清除劑之N-甲基二級胺之方法。
在再一實施例中，揭示製造SAFA清除劑之方法，其中N-甲基二級胺之產量係約20 wt%。在再一實施例中，N-甲 基二級胺包含二丁基甲胺。
另一實施例揭示減少流體流之硫化物之方法，其中所用二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑具有降低含量之N-甲基二級胺。該方法包含提供流體流及使流體流中之硫化物與SAFA清除劑接觸。N-甲基二級胺佔SAFA清除劑總重量之少於約40 wt%。經減少之硫化物包括有機硫化物、硫醇、硫醇、COS及H2S。
在另一實施例中，流體流係烴流。在另一實施例中，流體流係水性流。
在另一實施例中，SAFA清除劑包含少於約20 wt% N-甲基二級胺。在再一實施例中，SAFA清除劑包含少於約5 wt% N-甲基二級胺。在另一實施例中，N-甲基二級胺係二丁基甲胺。
在另一方法中，以體積計以流體流之約10 ppm至約100,000 ppm範圍內之量向流體流中添加具有少於40 wt% N-甲基二級胺之SAFA清除劑。在另一方法中，以體積計以流體流之約100 ppm至約50,000 ppm範圍內之量向流體流中添加SAFA清除劑。在再一方法中，以體積計以流體流之約600 ppm至約3,000 ppm範圍內之量向流體流中添加SAFA清除劑。
在另一實施例中，揭示包含少於約40 wt% N-甲基二級胺之二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑。在又一些實施例中，SAFA清除劑可具有如式VI或VII所述之結構： 其中n可係1至100。
在另一實施例中，SAFA清除劑包含少於約20 wt% N-甲基二級胺。在再一實施例中，SAFA清除劑包含少於約5 wt% N-甲基二級胺。
適用於硫化物清除之二級胺-甲醛加成物包括三嗪、噁唑啶、希夫鹼、二胺、羥甲基加成物及亞甲基橋材料。通常，其係藉由使二級胺與甲醛或聚甲醛製得。適宜二級胺包括(但不限於)二烷基胺、二甲胺、二乙胺、二丙胺、二戊胺、二乙醇胺、嗎啉、六氫吡嗪及六氫吡啶。該等二級胺具有如式VIII或IX所述之結構： 其中R1及R2可相同或不同且係具有1個至20個碳原子之烷基、經羥基取代之烷基及經烷氧基取代之烷基；烷基可係 直鏈或具支鏈烷基，包括(但不限於)甲基、乙基、丙基、丁基、羥乙基及甲氧基丙基；且環烷基環具有選自由碳、氧、氮(包括NH(六氫吡嗪、六氫吡啶、嗎啉))及硫組成之群之原子Z。
當與甲醛反應時，上述二級胺形成具有如式III、IV或V所述之結構之二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑： 其中n可係1至100；其中R1、R2、R3及R4可相同或不同且係具有1個至20個碳原子之烷基、經羥基取代之烷基及經烷氧基取代之烷基；烷基可係直鏈或具支鏈烷基，包括(但不限於)甲基、乙基、丙基、丁基、羥乙基及甲氧基丙基；且環烷基環具有選自由碳、氧、氮(包括NH(六氫吡嗪、六氫吡啶、嗎啉))及硫組成之群之原子Z。n之替代範圍包括1至20；1至10；或1至4。
已驚奇地發現，一些二級胺-甲醛加成物(即，N-甲基二級胺)對H2S具有惰性。該等有害N-甲基二級胺具有甲基且 缺少醚或聚醚基團，此使得其對於H2S為惰性。N-甲基二級胺通常存於SAFA清除劑中。N-甲基二級胺可具有如式I或II所述之結構： 其中R1及R2可相同或不同且係具有1個至20個碳原子之烷基、經羥基取代之烷基及經烷氧基取代之烷基；烷基可係直鏈或具支鏈烷基，包括(但不限於)甲基、乙基、丙基、丁基、羥乙基及甲氧基丙基；且環烷基環具有選自由碳、氧、氮(包括NH(六氫吡嗪、六氫吡啶、嗎啉))及硫組成之群之原子Z。
N-甲基二級胺包括環烷基甲胺、二烷基甲胺及三級胺。N-甲基二級胺之實例包括(但不限於)二乙基甲胺、二丙基甲胺、二丁基甲胺、N-甲基六氫吡嗪、N-甲基六氫吡啶、N-甲基嗎啉及N,N-二甲基甲胺。
其他有效SAFA清除劑係二正丁胺與甲醛之產物。二正丁胺與甲醛之最有效清除加成物具有如VI或VII所述之結構：
其中n可係1至100。n之替代範圍包括1至20；1至10；或1至4。
二正丁胺與甲醛反應之不期望副產物係二丁基甲胺(DBMA)。此副產物亦稱為甲基二丁胺、N-甲基-二正丁胺或N-丁基-N-甲基丁-1-胺。如同其他類型之有害N-甲基二級胺一樣，DBMA具有甲基且缺少醚或聚醚基團，此使得其對於H2S為惰性。DBMA具有式X之結構：
DBMA不僅對於H2S為惰性；而且其易燃。此外，DBMA可溶於烴中，且由此可負面地影響下游烴應用。負面效應包括增加氮含量以及增加處理設備之腐蝕及污垢之可能性。然而，DBMA於許多H2S清除劑中之濃度可高達H2S清除劑總重量之55 wt%。該等清除劑中高DBMA濃度不僅具有以上所提及之負面影響，且亦增加所需清除劑之體積，從而增加處理成本。此亦降低清除劑閃點，從而導致儲存及運輸成本增加。因此，在H2S清除應用中，具有低DBMA濃度之二正丁胺-甲醛加成物較佳。
亦已驚奇地發現，可藉由控制試劑之莫耳比來控制N-甲基二級胺之產生。因此，第一實施例揭示製造二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑之方法，其中N-甲基二級胺之產量 少於所產生總(SAFA)清除劑之約40 wt%。該方法包含提供裝填有甲醛之反應容器及使甲醛與至少一種二級胺反應。所產生之二級胺-甲醛加成物包括(但不限於)三嗪、噁唑啶、希夫鹼、二胺、羥甲基加成物及亞甲基橋材料。在另一實施例中，所用兩種二級胺中之至少一者包括二烷基胺，包括(但不限於)二正丙胺、二正丁胺或二正戊胺。在另一實施例中，所用二級胺中之至少一者包括二烷基胺，包括(但不限於)二正丙胺、二正丁胺或二正戊胺。在另一實施例中，二級胺對甲醛之莫耳比在約1.0對1.95至約1.0對1.0範圍內。在另一實施例中，二級胺對甲醛之莫耳比在約1.0對1.75至約1.0對1.25範圍內。在再一實施例中，二級胺對甲醛之莫耳比在約1.0對1.60至約1.0對1.40範圍內。
在其他實施例中，所產生SAFA清除劑可具有如式III、IV或V所述之結構： 其中n可係1至100；其中R1、R2、R3及R4可相同或不同且 係具有1個至20個碳原子之烷基、經羥基取代之烷基及經烷氧基取代之烷基；烷基可係直鏈或具支鏈烷基，包括(但不限於)甲基、乙基、丙基、丁基、羥乙基及甲氧基丙基；且環烷基環具有選自由碳、氧、氮(包括NH(六氫吡嗪、六氫吡啶、嗎啉))及硫組成之群之原子Z。n之替代範圍包括1至20；1至10；或1至4。
在又一些實施例中，所產生SAFA清除劑可具有如式VI或VII所述之結構： 其中n可係1至100。n之替代範圍包括1至20；1至10；或1至4。
在再一實施例中，揭示製造SAFA清除劑之方法，其中N-甲基二級胺之產量係約20 wt%。在再一實施例中，N-甲基二級胺包含二丁基甲胺。
亦已驚奇地發現，N-甲基二級胺之沸點比適用於硫化物清除之二級胺-甲醛加成物低。許多N-甲基二級胺(包括二丁基甲胺)於760 mmHg下之沸點在約160℃至約170℃範圍內。因此，另一實施例揭示藉助蒸餾減少先前方法中所產生SAFA清除劑之N-甲基二級胺之方法。此實施例中所用SAFA清除劑包括(但不限於)三嗪、噁唑啶、希夫鹼、二 胺、羥甲基加成物及亞甲基橋材料。可使用水分離器或膜或彼等熟習此項技術者所習知之任一其他方法分離存於SAFA清除劑中之任何水。然後使用彼等熟習此項技術者所習知之適宜蒸餾製程蒸餾SAFA清除劑，其包括(但不限於)連續蒸餾、單級蒸餾、分級蒸餾、分批蒸餾或真空蒸餾。蒸餾裝置裝填有SAFA清除劑。蒸餾SAFA清除劑以產生包含N-甲基二級胺之蒸氣流作為餾出物及液態流作為底部餾出物。去除蒸氣流。保留底部餾出物作為包含總底部餾出物重量之少於約40 wt% N-甲基二級胺之經純化SAFA清除劑。
另一實施例揭示自烴流去除硫化物(包括有機硫化物、硫醇、硫醇、COS及H2S)之方法。該方法包含提供液體、氣態或混合相烴流及使烴流中之硫化物與二級胺-甲醛加成物接觸。該等二級胺-甲醛加成物包含少於約40 wt% N-甲基二級胺。在另一實施例中，二級胺-甲醛加成物包含少於約20 wt% N-甲基二級胺。在再一實施例中，二級胺-甲醛加成物包含少於約5 wt% N-甲基二級胺。在另一實施例中，N-甲基二級胺包含二丁基甲胺。
視情況，將SAFA清除劑真空蒸餾。將壓力維持於約0.1 mm Hg至約760 mm Hg下。在另一實施例中，將溫度維持於約45℃至約170℃下。在再一實施例中，將壓力維持於約10 mm Hg至約15 mm Hg下，並將溫度維持於約50℃至約80℃下。在蒸餾掉大多數N-甲基二級胺之後停止蒸餾。底部餾份經保留且含有經純化SAFA清除劑。
另一實施例揭示減少流體流之硫化物之方法，其中所用二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑具有降低含量之N-甲基二級胺。該方法包含提供流體流及使流體流中之硫化物與SAFA清除劑接觸。N-甲基二級胺佔SAFA清除劑總重量之少於約40 wt%。適宜SAFA清除劑包括(但不限於)三嗪、噁唑啶、希夫鹼、二胺、羥甲基加成物及亞甲基橋材料。經減少之硫化物包括有機硫化物、硫醇、硫醇、COS及H2S。
在另一實施例中，流體流係烴流。在另一實施例中，流體流係水性流。
在另一實施例中，用以清除硫化物之SAFA清除劑包含少於約20 wt% N-甲基二級胺。在再一實施例中，SAFA清除劑包含少於約5 wt% N-甲基二級胺。在另一實施例中，N-甲基二級胺係二丁基甲胺。
在其他實施例中，揭示自流體流減少硫化物之方法，其中所用SAFA清除劑包含二丁胺-甲醛加成物清除劑。該等清除劑具有如式III或IV所述之結構： 其中n可係1至100。n之替代範圍包括1至20；1至10；或1 至4。
所添加二級胺-甲醛加成物之量將取決於需要清除硫化物之應用及量。在另一方法中，以體積計以流體流之約10 ppm至約100,000 ppm範圍內之量向流體流中添加具有少於40 wt% N-甲基二級胺之SAFA清除劑。在另一方法中，以體積計以流體流之約100 ppm至約50,000 ppm範圍內之量向流體流中添加SAFA清除劑。在再一方法中，以體積計以流體流之約600 ppm至約3,000 ppm範圍內之量向流體流中添加SAFA清除劑。
在其他態樣中，所處理流體流可包含流體烴流或水性流體流。舉例而言，該等流體流可包含來自油田製程、管線、油罐、油輪、精煉廠及化工廠之氣體/液體混合物。另外，流體流可包含農場排放物、城市用水等等。其他額外流體流包括含H2S之水、廢水及製程用水。
在另一實施例中，揭示包含少於約40 wt% N-甲基二級胺之二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑。在又一些實施例中，SAFA清除劑可具有如式VI或VII所述之結構： 其中n可係1至100。n之替代範圍包括1至20；1至10；或1 至4。
在另一實施例中，SAFA清除劑包含少於約20 wt% N-甲基二級胺。在再一實施例中，SAFA清除劑包含少於約5 wt% N-甲基二級胺。
實例
比較實例1. 使用莫耳比為1.0對2.5之二正丁胺對甲醛製造二級胺-甲醛加成物。反應容器係配備有機械攪拌器、具有控制器之熱電偶及回流冷凝器之300 mL四頸圓底燒瓶。在氮下將1.67莫耳甲醛(50.19克聚甲醛)置於燒瓶中。經1.5小時將0.67莫耳(86.41克)二正丁胺添加至燒瓶中。將反應混合物加熱至85℃並保持2小時。然後，使混合物溫度增加至95℃並再保持2小時。然後，冷卻混合物，並將有機層與水層分離。用水洗滌有機層並再次分離水層。然後，過濾有機層並獲得77克澄清無色的二級胺-甲醛加成物。GC-MS及核磁共振分析展示，二級胺-甲醛加成物包含86%二丁基甲胺(DBMA)及14%二正丁胺-甲醛加成物。
比較實例2. 使用莫耳比為1.0對2.0之二正丁胺對甲醛製造二級胺-甲醛加成物。使用比較實例1中之反應容器。在氮下將1.5莫耳甲醛(45.03克聚甲醛)置於燒瓶中。經1.5小時將0.75莫耳(96.93克)二正丁胺添加至燒瓶中。應用與比較實例1相同之混合、洗滌及分離技術，獲得114克澄清無色的二級胺-甲醛加成物。GC-MS及核磁共振分析展示，二級胺-甲醛加成物包含45%二丁基甲胺(DBMA)及55%二正丁胺-甲醛加成物。
實例1. 使用莫耳比為1.0對1.75之二正丁胺對甲醛製造二級胺-甲醛加成物。使用比較實例1中之反應容器。在氮下將1.56莫耳甲醛(46.74克聚甲醛)置於燒瓶中。經1.5小時將0.89莫耳(115.19克)二正丁胺添加至燒瓶中。應用與比較實例1相同之混合、洗滌及分離技術，獲得120克澄清無色的二級胺-甲醛加成物。GC-MS及核磁共振分析展示，二級胺-甲醛包含36%二丁基甲胺(DBMA)及64%二正丁胺-甲醛加成物。
實例2. 使用莫耳比為1.0對1.50之二正丁胺對甲醛製造二級胺-甲醛加成物。使用比較實例1中之反應容器。在氮下將1.34莫耳甲醛(40.20克聚甲醛)置於燒瓶中。經1.5小時將0.89莫耳(115.20克)二正丁胺添加至燒瓶中。應用與比較實例1相同之混合、洗滌及分離技術，獲得131.4克澄清無色的二級胺-甲醛加成物。GC-MS及核磁共振分析展示，二級胺-甲醛加成物包含20%二丁基甲胺(DBMA)及80%二正丁胺-甲醛加成物。
此書面說明使用實例來揭示本發明(包括最佳模式)，且亦使得任一熟習此項技術者能夠實踐本發明，包括製造及使用任何裝置或系統及實施任何所納入之製程。該等實例僅係說明性的且並不以任何方式限制本發明。舉例而言，儘管揭示諸如溫度及時間等特定反應條件，但亦可在替代反應條件下發生期望反應。本發明之專利範圍係由申請專利範圍界定，且可包括彼等熟習此項技術者所知之其他實例。若該等其他實例具有與該等申請專利範圍之文字語言 並無不同之結構要素，或若其包括與該等申請專利範圍之文字語言具有非實質性差異之等效結構要素，則該等其他實例皆意欲在申請專利範圍之範圍內。

Claims (29)

  1. 一種製造二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑之方法，其中N-甲基二級胺之產量少於約40 wt%，該方法包含：(a)提供裝填有甲醛或聚甲醛之反應容器；及(b)使該甲醛或聚甲醛與至少一種二級胺反應。
  2. 如請求項1之方法，其中該等二級胺中之至少一者包括二烷基胺。
  3. 如請求項1之方法，其中該等二級胺中之至少一者包括二正丙胺、二正丁胺或二正戊胺。
  4. 如請求項1之方法，其中該等二級胺中之至少一者包括二正丁胺。
  5. 如請求項1之方法，其中該等二級胺對該甲醛或聚甲醛之莫耳比在約1.0對1.95至約1.0對1.0範圍內。
  6. 如請求項1之方法，其中該等二級胺對該甲醛或聚甲醛之莫耳比在約1.0對1.75至約1.0對1.25範圍內。
  7. 如請求項1之方法，其中該等二級胺對該甲醛或聚甲醛之莫耳比在約1.0對1.60至約1.0對1.40範圍內。
  8. 如請求項1之方法，其中該等二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑包含具有下式之SAFA清除劑： 其中n可係1至100；R1及R2可相同或不同且係具有1個至20個碳原子之烷基、經羥基取代之烷基及經烷氧基取代之烷基；且該等烷基係直鏈或具支鏈烷基，包括(但不限 於)甲基、乙基、丙基、丁基、羥乙基及甲氧基丙基。
  9. 如請求項1之方法，其中該等二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑包含具有下式之SAFA清除劑： 其中n可係1至100；R1、R2、R3及R4可相同或不同且係具有1個至20個碳原子之烷基、經羥基取代之烷基及經烷氧基取代之烷基；且該等烷基係直鏈或具支鏈烷基，包括(但不限於)甲基、乙基、丙基、丁基、羥乙基及甲氧基丙基。
  10. 如請求項1之方法，其中該等二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑包含具有下式之SAFA清除劑： 其中n可係1至100；且環烷基環具有選自由碳、氧、氮(包括NH(六氫吡嗪、六氫吡啶、嗎啉))及硫組成之群之原子Z。
  11. 如請求項1之方法，其中該等二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑包含具有下式之SAFA清除劑： 其中n可係1至100。
  12. 如請求項1之方法，其中該等二級胺-甲醛加成物(SAFA) 清除劑包含具有下式之SAFA清除劑： 其中n可係1至100。
  13. 如請求項1之方法，其進一步包含蒸餾該等二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑。
  14. 如請求項1之方法，其中該等N-甲基二級胺包含二丁基甲胺。
  15. 一種減少流體流之硫化物之方法，其包含：(g)提供流體流；及(h)使該流體流中之該等硫化物與至少一種二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑接觸，其中該SAFA清除劑於其中包含少於約40 wt% N-甲基二級胺。
  16. 如請求項15之方法，其中該等硫化物包含一或多種選自由以下組成之群之成員：有機硫化物、硫醇(mercaptan)、硫醇(thiol)、COS及H2S。
  17. 如請求項15之方法，其中該等硫化物係H2S。
  18. 如請求項15之方法，其中該流體流係烴流。
  19. 如請求項15之方法，其中該流體流係水性流。
  20. 如請求項15之方法，其中該二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑於其中包含少於約20 wt% N-甲基二級胺。
  21. 如請求項15之方法，其中該二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑於其中包含少於約5 wt% N-甲基二級胺。
  22. 如請求項15之方法，其中以體積計以該流體流之約10 ppm至約100,000 ppm範圍內之量向該流體流中添加該二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑。
  23. 如請求項15之方法，其中以體積計以該流體流之約100 ppm至約50,000 ppm範圍內之量向該流體流中添加該二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑。
  24. 如請求項15之方法，其中以體積計以該流體流之約600 ppm至約3,000 ppm範圍內之量向該流體流中添加該二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑。
  25. 一種二級胺-甲醛加成物(SAFA)清除劑，其於其中包含少於約40 wt% N-甲基二級胺。
  26. 如請求項25之SAFA清除劑，其中該等SAFA清除劑包含具有下式之二丁胺-甲醛加成物清除劑： 其中n可係1至100。
  27. 如請求項25之SAFA清除劑，其中該等SAFA清除劑包含具有下式之二丁胺-甲醛加成物清除劑： 其中n可係1至100。
  28. 如請求項25之SAFA清除劑，其中該等SAFA清除劑於其中包含少於約20 wt% N-甲基二級胺。
  29. 如請求項25之SAFA清除劑，其中該等SAFA清除劑於其中包含少於約5 wt% N-甲基二級胺。
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