TW201142017A - Biomass production - Google Patents

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TW201142017A
TW201142017A TW100117390A TW100117390A TW201142017A TW 201142017 A TW201142017 A TW 201142017A TW 100117390 A TW100117390 A TW 100117390A TW 100117390 A TW100117390 A TW 100117390A TW 201142017 A TW201142017 A TW 201142017A
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TW
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reaction zone
supply
biomass
carbon dioxide
exhaust gas
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TW100117390A
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Gonzalez Jaime A
Max Kolesnik
Martin Steven C
Pietro Tony Di
Pietro Emidio Di
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Pond Biofuels Inc
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    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01GHORTICULTURE; CULTIVATION OF VEGETABLES, FLOWERS, RICE, FRUIT, VINES, HOPS OR SEAWEED; FORESTRY; WATERING
    • A01G33/00Cultivation of seaweed or algae
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C12BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12NMICROORGANISMS OR ENZYMES; COMPOSITIONS THEREOF; PROPAGATING, PRESERVING, OR MAINTAINING MICROORGANISMS; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING; CULTURE MEDIA
    • C12N1/00Microorganisms, e.g. protozoa; Compositions thereof; Processes of propagating, maintaining or preserving microorganisms or compositions thereof; Processes of preparing or isolating a composition containing a microorganism; Culture media therefor
    • C12N1/12Unicellular algae; Culture media therefor
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Description

201142017 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係與一種生物質的製造技術有關。 【先前技術】 已廣泛栽培光養生物作為生產燃料來源的用途。來自工業生產中 排放的廢氣亦已藉由供應光養生物於光合作用中所消耗的二氧化碳被 用於促進光養生㈣生長。藉由提供胁此細途的廢氣,可降低對 環境的衝擊並且可產生可能的有賴料來源。細,促使現存工廠能 更經濟地利用此方法的誘因上仍存在極大的挑戰。 【發明内容】 在-態樣中,提供-種於反應區内生長—光養生物質的製程。該 反應區包含在絲於光合触統之下進行絲作帛的—反應混合 物’其中該反應混合物包含於反躯内用於生長的光養生物質。當該 反應混合物在暴祕光合触絲之下於反舰内生長該光養生物 質’其中社長包括藉由光合侧進行生長以及當—光養生物質生長 指標(growth indicator)不同於該光養生物質生長指標的目標值時從 該反應區排放光養生物質,調節從該反應區所排放光養生物質的莫耳 分率’其巾該光養生物質生長指標的目標值絲據被置於反應區之反 應混合物⑽絲露於光合關統下之該光養生物f的預測莫耳生 長分率。 、 在另一態樣中,提供另一種於反應區内生長一光養生物質的製 程。該反應區包含在絲於光合_射光狀下進行光合侧的一生產 201142017 用途反應混合物,其中該生產用途反應混合物包括於反應區内進行生 長的生產用途光養生物質。當該反應混合物在暴露於光合輻射光源之 下於反應區内產生該生產用途光養生物質,其中該生長包括藉由光合 作用進行生長以及當一光養生物質生長指標不同於該光養生物質生長 指標的目標值時從該反應區排放生產用途光養生物質,調節從該反應 區所排放生產用途光養生物質的莫耳分率,其中該光養生物質生長指 標的目標健根驗置於反躯之反應混合_以及暴露於光合輕射 光源下之該生產贿光養生物質的酬莫耳生長分率。該目標值的預 測包括供應代表該生產用途反應混合物的—評制途反應混合物以及 在暴露於光合_光源之下進行光合侧而使該評個途反應混合物 的光養生物質成為-種代表該生制途光養生物_評侧途光養生 物質。當置人反舰_該評制途反應混合物被暴露於光合輕射光 源之下以及在評側敍應混合物内進行該評侧途光養生物質的生 長時,至少錢地細愤光養生师的生長指敎提供已被偵測一孩 時間之絲纽物質生長指標的-複數個細值,以及根據該光養生 物質生長指標的複數個偵測值計算該評估用途光養生物質的莫耳生長 ^率而可於該段時_定出該評侧途光養生物質的複數個莫耳生長 分率。當置於反舰__制途聽混合物縣露於光合輕射光 以關始在該評估_反應混合物时長時,至少定期軸測 生物質的生長指標以提供已被_—段時間之該光養生物質生 複__值,以及根據該光養生物質生長指標的複數低 、“异途光養生物質的料生長分率而可於該段時間孰 201142017 疋心亥賴騎·生㈣賴油料生長鲜。根_於計算莫 耳为率之該先私物質生長指標的計得莫耳生長分率和測得值建立节 =估用途光纽㈣之料线鲜_光#生㈣生長指標之間的 關係’而使該評侧途光養生物質之莫耳生長分率和該光養生物質生 長指標之間所建立的_可代表反應_該生產用途光養生物質之莫 耳生長分率與該光養生物f生長指標之間_係,以及_可確認反 應區内該生產用途光養生物f之莫耳生長分率與該光養生物質生長指 標之間_係。選擇該生制途光養生物f_設莫耳生長分率;以 及該光養生物質生長指標的目標值被定義為根據反應_該生產用途 光養生物3之莫耳生長分率與該光養生物質生長指標之騎確認關係 之該預設料生長鲜的光概姆生長指標,_獲得該光養生物 質生長指標目標值與該預設莫耳生長分率之_關聯性。 在另一態樣中,提供另一種於反應區内生長一光養生物質的製 私。獻應區包含在暴露於光合輕射光源之下進行光合作用的一反應 混合物’其中該反應混合物包含於反應區内用於生長的光養生物質。 當置於反應區内的該反應混合物暴露於光合轄射光源之下而於反應混 合物内有效地生長該光養生物質時,以反應區内有效地生長光養生物 質之莫耳分率的10%以内莫耳分率從該反應區排放該光養生物質。被 置於反應區内及暴露於光合輻射光源下之反應混合物内的光養生物質 以最高生長分率的至少90%莫耳分率有效地生長該光養生物質。 在另一態樣中,提供另一種於反應區内生長一光養生物質的製 程。该反應區包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應 201142017 混合物,其中該反應混合物包含於反應區内用於生長的光養生物質。 將該反應混合物暴露於光合輻射光源之下以及在置於反應區之反應混 合物内有效地生長該光養生物質,其中藉由光合作用進行該光養生物 質的生長,從反應區排放光養生物質而使所排放光養生物質的莫耳分 率在有效地生長該光養生物質的10%以内莫耳分率。 在另一態樣中,提供一種於反應區内生長一光養生物質的製程, 其中該反應區包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應 混合物,其中該反應混合物包含於反應區内用於生長的光養生物質, 其中該光養生物質的生長係藉由光合作用,包括:藉由廢氣原料製程 排放廢氣,其中被供應至該反應區的任何廢氣定義一廢氣反應區的供 應源,根據偵測至少一種二氧化碳處理量指標調節供應至該反應區之 廢氣反應區供應源的供應。 在另一態樣中,提供一種於反應區内生長一光養生物質的製程, 其中該反應區包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應 混合物,其中該反應混合物包含於反應區内用於生長的光養生物質, 其中該光養生物質的生長係藉由光合作用,包括:藉由廢氣原料製程 排放廢氣以及至少一部分的廢氣被供應至該反應區,其中被供應至反 應區的該至少一部分廢氣定義一廢氣反應區供應源以及有效地降低該 廢氣反應區供應源的莫耳分率或終止該供應,此方法進一步包括開始 供應一含補充氣體原料或增加補充氣體原料供應的莫耳分率至該反麻 區0 在另一態樣中,提供一種於反應區内生長一光養生物質的製程, 201142017 其中該反應區包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應 混合物,其中該反應混合物包含於反應區内用於生長的光養生物質, 其中該光養生物質的生長健由光合制,包括:將該廢氣原料反應 區供應源供應至反應區,其中藉由廢氣原料製程所產生的至少一部分 廢氣定義一廢氣反應區供應源,其中該廢氣原料反應區供應源包含二 氧化碳以及從一容器供應補充水性原料供應源至該反應區,其中該補 充水性原料供應源包含已從廢氣原料反應區供應源被冷凝及收集於容 器内的水性原料,其中於被供應至反應區之前藉由冷卻廢氣反應區供 應源進行該水性原料的冷凝作用。 在另一態樣中,提供一種於反應區内生長一光養生物質的製程, 其中該反應區包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應 混合物,其中該光養生物質的生長係藉由光合作用,包括:藉由廢氣 原料製私排放一氧化碳以及將至少一部分的排放二氧化碳供應至該反 應區,其中被供應至反應區的該至少一部分經排放二氧化碳定義一排 放二氧化碳反應區供應源,至少根據供應至反應區之排放二氧化碳反 應區供應源的莫耳分率調節輸入至該反應區的至少一種原料。 在另一態樣中,提供一種於反應區内生長一光養生物質的製程, 其中該反應區包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應 混合物,其中該反應混合物包含於反應區内用於生長的光養生物質, 其中該光養生物質的生長储由光合侧,包括:藉由廢氣原料製程 排放二氧化碳以及將至少一部分的排放二氧化碳供應至該反應區,其 中被供應至反應區的該至少一部分經排放三氧化碳定義一排放二氧化 201142017 破反應區供應源,至少根據供應至反應區之排放二氧化碳反應區供應 源的莫耳分率指標調節輸入至該反應區的至少一種原料。 在另一態樣中,提供一種於反應區内生長一光養生物質的製程, 其中該反應區包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應 混合物,其中該反應混合物包含於反應區内用於生長的光養生物質, 其中该綠生物質的生長係藉由光合侧,包括:藉由廢氣原料製程 排放一氧化^及駐少—部分的減二氧化碳鶴反應區,其 中被供應至反應區的該至少—部分經排放二氧化碳定義—排放二氧化 礙反應區供麟,當伽j到被供應至反應區之該經職二氧化碳反應 區供應源的莫耳分率指標變化時,調節輸人至該反應區的至少一種原 料。 在另一態樣中喷供一種於反應區内生長一光養生物質的製程, 其中該反應區包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合侧的一反應 ’此合物’其巾姐應混合物包含於反舰内用於生長的光養生物質, 其中該光養生物質的生钱勤光合_,包括:藉由銳原料製程 排放二氧化碳以及將至少—部分_放二氧化碳供應·反應區,其 中被供應至反應區的該至少—部分經排放二氧化碳定義一排放二氧化 石反絲區倾H細㈣供應祕職二氧化碳反應區供應源至反 應區的莫耳”率降低,或當偵酬供應該經排放二氧化碳反應區供應 源至反應區的莫耳分率指標降低時,增加供應至反舰之補充二氧化 礙供應源的莫耳鳄,或開始供應充二氧化碳健社反應區。 在另1樣中,提供—種於反應區内生長―光養生物質的製程, 201142017 其中該反舰包含在暴露於光合铺光源之τ進行光合_的一反應 混合物,其巾該反應混合物包含於反舰㈣於生長的光養生物質, 其中該光養生物質的生長储由光合作用,包括:在供應反應區二氧 化碳供應駐反颜之^•藉由使該反舰二氧化碳健騎經一抽射 态(eductor)或一引射泵(jet pump)以增加該反應區二氧化碳供應源 的壓力而產生足以使該反應區二氧化碳供應源流經至少叶反應區 深度的壓力。 在另-態樣中’提供-種於反應區内生長一光養生物質的製程, 其中該反舰包含在絲於光純射絲之下進行光合作用的一反應 混合物,其巾該反應混合物包含於反舰_於生長的光養生物質, 其中該光養生物質的生長储由光合侧,包括:在供應反應區二氧 化碳供應源至反應區之由足以使反舰二氧化碳供絲流經至少 70忖反應區深度的壓力_文丘里(ventuH)效應從—驅動液體流轉 移壓能至該反應區二氧化碳供應源。 在另-態樣中,提供-種於反應區内生長一光養生物質的製程, 其中該反舰包含在暴露於光合健杨之下進行光合侧的一反應 混合物,其找反應混合物包含於反舰内用於生長触養生物質, 其中該光養生物質的生長储由光合個,包括:#反艇饋料被供 應至該反應區時,_統__供應該反應_料,其中該補充 氣體稀釋綱二氧化韻耳濃度魏讀供應至反應區侧之廢氣反 應區供應源的二氧化碳莫耳濃度。 在另-態樣中,提供一種於反應區内生長一光養生物質的製程, 11 201142017 其中該反舰包含在暴露於光合輻就源之下進行光合仙的一反應 混合物,其巾該反應混合物包含於反應區_於生長的光養生物質, 其中該光養生物質的生長储由光合侧,包括:於供縣縮二氧化 碳供應源時’摻合該濃縮二氧化碳供觸觸絲體稀咖以產生經 稀釋二氧化碳供應源’其巾該經稀釋二氧化碳供應_二氧化碳莫耳 濃度係低於該濃縮二·碳供麟的二氧化韻耳濃度,以及供應至 少一部分該經稀釋二氧化碳反應區供應源至反應區。 【實施方式】 專利說明書的全文中’當提及••一些具體實施例”時意指所描述與 些具體實知例有關的一特定特徵、構造或特性並非必然指該一此具 體實施例。此外,可依任何適當的方式相互組合該特定特徵、構造或 特性。 請參照第1圖所示’係為-種生物質的製造技術,該製造技術係 於一反應區10内進行,該反應區10係包括在暴露於光合輻射光源之 下進行光合作用的-反應混合物,該反應混合物係包含光養生物質原 料、二氧化碳和水。在一些具體實施例中,該反應區包含置於水性介 質内的光養生物質和二氧化碳。反應區内’該光養生物質被置於與二 氧化碳和水連通的質量傳遞系統内。在一些具體實施例中,該反應混 合物包含置於水性介質内的光養生物質,以及當光養生物質接收二氧 化碳時提供富含二氧化碳的光養生物質。 "光養生物”係一種於水性介質内當接收光能時能藉由光營養生長 的生物,例如植物細胞和微生物。該光養生物可為單細胞或多細胞。 12 201142017 在-些具體實施财’該光養生物係—種經人基因改造的生 物。在-些具體實施财,該光養生物係—種藻類。在_些具體實施 例中’ S亥蕩類係微藻類(micr〇algae)。 ”光養生物質"係至少一種光養生物。在—些具體實施例中,該光 養生物質包括多於一種以上的光養生物品種。 "反應區ΗΓ定義生長該光養生物質的空間。在_些具體實施例 中’於-光生物反應器12内提供該反應區1()。在—些具體實施例中, 該反應區内的壓力為大氣壓力。 光生物反應器12"可為任何構造、配置、平整土地或可提供用於 生長光養生物質之適當環境的一區域。提供作為光生物反應器12以利 用光能生長光養生物質之特定構造的實例包括,但不侷限於桶、池塘、 槽、渠、池、管、管道、渠道和水道。此類光生物反應器可為開放式、 封閉式、半封閉式、覆蓋式或部分覆蓋式。在一些具體實施例中,該 光生物反應器12係一開放式池塘’此時該池塘可從週遭環境無限制地 接收原料和光能。在其他具體施例中,該光生物反應器12係一覆蓋或 部分覆蓋池塘,此時至少部分阻礙從週遭接收原料。該光生物反應器 12包括含有反應混合物的反應區1〇。在一些具體實施例中,該光生物 反應器12被配置成可接收光養試劑(及在某些具體實施例中可補充任 選養分)的供應,以及亦被配置成玎排放生長於反應區10内光養生物 質的構造。依此’在一些具體實施例中,該光生物反應器12包括用於 接收光養試劑和補充養分供應的一或多個入口,以及亦包括回收或收 獲生長於反應區1〇内生物質的一或多個出口。在一些具體實施例中, 201142017 該-或多個人π被配置成可錢或斷續間隔時間的暫時封閉。在一些 具财施例中,該-或多個出口被配置成可定期或斷續間隔時間的暫 時或貫質上封閉。該光生物反應器12被配置成含有在暴露於光合輕射 光源之下進行光合作關-反應混合物。該献物反應器12亦被配置 成具有於該光生物聽n 12 _於照_光養生㈣的光合輕射光 源(例如發射自太陽或其他光源波長介於約働〜彻⑽的光源)。該反 應混合物經光合輻射統的照射可使該縫生物f產生光合作用及生 長。在-些具體實關巾,藉由置於光生物反顧12内的人工光源 14提供‘射光。適當人工光源包括,例如沈人式光纖、光導、發光二 極體(LED)、LED帶和蘇。技術巾已知的任何LED帶翻於該光生物 反應益12内。在使用沈入式LEDs的-些具體實施例中,供應該LEDs 的能源包括替代能源例如風、光伏電池、燃料電池等。光生物反應器 12的外部或内部可使用榮光作為備用系統。在一些具體實施例中,該 光源係來自已被傳送至魅物反絲12外部並且通過傳遞構件的自 然光源16。在-些具體實施例中,該傳遞構件係至少能透過部分光合 輕射光源並且能傳_光駐反舰1()而被光独物質接收的一部 刀"亥光生物反應裔12外殼結構。在—些具體實施例中,自然光經選擇 性波長濾光器的過濾而被太陽能集熱器接收,然後經光纖材料或光導 傳遞至该反應區10。在-些具體實施例中,藉由自然和人工光源提供 該光生物反應器12内的光合輻射光源。 ”水性介質"係一種包括水的環境。在一些具體實施例中,該水性 )丨質亦包括有助於光養生物質存活和生長的足夠養分。在一些具體實 14 201142017 施例中,補充營養包括例如NOx和SOx中其一或二者。適當水性介質 已詳述於Rogers,L.J.和Gallon J.R. ”藻類和藍藻細菌 (Cyanobacteria)的生物化學π ’ 牛津 Clarendon 出版社 1988;Burlew,
John S."藻類培養:從實驗室至先導工廠”Carnegie學院華盛頓出版 社,華盛頓特州1961(爾後稱為"Buries 196Γ);和R〇und,F E,藻 類生物學,紐約聖瑪丁出版社·;分別藉由引述併入於此。稱為 "Bold基礎培養基"的一種適當補充營養成分已詳述於此η匸 1941’衣藻屬 chlamydogama(Chlamydoinonas)的形態學,如 N〇v Bull
Torr. Bot. Club. 76 : 101-8(^^ Bischoff, H.W.#〇Bold, H. C. ⑽3 ’海藻研究IV·來自著魔岩(Enchanted R〇ck)和相關藻類的丄些 土壤藻’德州大學出版社,6318 :卜95和stein,τ (編輯)海藻法、 培養法和生長測定手冊,劍橋大學出版社第7〜24頁)。 就-製程魏而言,例如—輸人或輸出的"調節"意指任何一種開 始、、、止、增加、降低或者改變例如一輸入或輸出的製程參數。 在-些具體實施例中,該製程包括以二氧化碳供應該反應區1〇。 具體實施财,供應至反㈣該二氧化碳絲自含有二氧化 碳的廢氣原料18。依此,在—些具體實施财,藉由廢氣原料製程 供應該二氧化碳’而該供應因此可來自廢氣原料製㈣所排放的廢氣 疆18。在—些具體實施例中,該廢氣原料製程20所排放的二氧化 反至/彳刀被供應至反應區1〇 ’其中該被供應至反應㊣⑺的至少 -部分經排放二氧化碳定義—_放二氧化碳反應區供應源。在一些 具體實施例中,該廢氣原料製㈣所排放的廢氣· 18至少—料 15 201142017 被供應至反應區l〇,其中該被供應至反應區丨〇的至少一部分廢氣原 料18疋義一廢氣原料反應區供應源24,而使被供應至反應區1〇的經 排放一氧化碳反應區供應源成為一部分的該廢氣原料反應區供應源 24(連同其他來自廢氣原料μ的非二氧化碳原料)。這些具體實施例 中,當廢氣原料反應區供應源24被供應至反應區1〇時置於反應區 内被暴露於光合輻射光源的該光養生物質開始生效。 在一些具體實施例中,該廢氣原料18含有根據廢氣原料18之總 谷積至少2容積%的二氧化碳濃度。依此,在一些具體實施例中,該廢 氣原料反應區供應源24含有根據廢氣原料反應區供應源24之總容積 至少2容積%的二氧化碳濃度。一些具體實施例中,該廢氣原料18含 有根據廢氣原料18之總容積至少4容積%的二氧化碳濃度。依此,在 一些具體實施例中,該廢氣原料反應區供應源24含有根據廢氣原料反 應區供應源24之總容積至少4容積%的二氧化碳濃度。在一些具體實 施例中,該廢氣原料反應區供應源24亦含有Ν〇χ和s〇x中其一或二者。 在一些具體實施例中,供應至反應區10的該至少一部分廢氣原料 18於供應至該反應區10之前已被處理,因而可有效地移除廢氣原料 18的不合格成分而使被供應至反應區1〇之該至少一部分廢氣原料18 的原料組成不同於從廢氣原料製程2〇中被排放之廢氣原料18的原料 組成。 該廢氣原料製程20包括有效地產生和排放廢氣原料18的任何製 程。在一些具體實施例中,廢氣原料製程20所排放的至少一部分廢氣 原料18被供應至該反應區10。被廢氣原料製程2〇所排放以及供應至 201142017 反應區10的該至少一部分廢氣原料18含有來自廢氣原料製程2〇的二 氧化碳。一些具體實施例中,該廢氣原料製程2〇係一種燃燒過程。在 一些具體貫施例中,在一燃燒設備内進行該燃燒過程。這些具體實施 例中’使用石化燃料例如煤炭、石油或天然氣進行該燃燒過程。例如, 該燃燒設備係任何一種石化燃料電廠、工業焚燒設備、工業爐、工業 用加熱器或工業燃燒機。在一些具體實施例中,該燃燒設備係一水泥 窯。 反應區饋料22被供應至該反應區10而使反應區1〇内接收該反應 區饋料22的二氧化碳。反應區饋料22的至少一部分二氧化碳係來自 該廢氣原料18。製程的至少一些作業期間排放自廢氣原料製程2〇的 廢氣原料18能供應至少一部分的反應區饋料22。如上所述,供應至 反應區10的任何廢氣原料18被視為廢氣原料反應區供應源24。這些 具體實施例中,當該廢氣原料反應區供應源24被供應至反應區1〇時 置於反應區10内被暴露於光合輻射光源的該光養生物質開始生效。在 某些具體實施例中,當然並非全部廢氣原料18必需從廢氣原料反應區 供應源24被供應至該反應區1〇,因而該反應區饋料22包括廢氣原料 反應區供應源24。在一些具體實施例中,亦據瞭解該製程的全部作業 期間並非廢氣原料18或其至少一部分必需從廢氣原料反應區供應源 24被供應至該反應區1〇。該廢氣原料反應區供應源24含有二氧化碳。 這些具體實施例中,該廢氣原料反應區供應源24的至少一部分廢氣原 料18係被排放自廢氣原料製程2〇。一些實例中,排放自廢氣原料製 程20的全部廢氣原料18被供應至該廢氣原料反應區供應源24。 17 201142017 就該反應區饋料22而言,該反應區饋料22係一種液體。在一些 具體實施例中,該反應區饋料22係一種氣體。在一些具體實施例中, 該反應區饋料22含有置於液料内的氣體。在一些具體實施例中,該液 料係一種水性原料。這些具體實施例中,至少一部分的氣體被溶解於 該液料内。這些具體實施例中,至少一部分的氣體係分散於該液料内 的氣體。這些具體實施例中,該反應區饋料22的氣體於製程的至少一 些作業期間含有供應自廢氣原料反應區饋料源24的二氧化碳。這些具 體實施例中,該反應區饋料22以氣流方式被供應至反應區10。在一 些具體實施例中,一反應區饋料22流包括廢氣原料反應區饋料源24 流。在一些具體實施例中,一反應區饋料22流係一種廢氣原料反應區 饋料源+24流。 在一些具體實施例中,該反應區饋料22以一或多種反應區饋料流 被供應至反應區10。例如,該一或多種反應區饋料流分別流經各自的 反應區饋料液體通道。這些具體實施例中,當多於一種反應區饋料流 時,該反應區饋料流之間具有不同的原料組成。一些具體實施例中, 於供應至反應區10之前冷卻該反應區饋料22而使該反應區饋料22 的溫度趨近光養生物質能生長的適當溫度。在一些具體實施例中,供 應至反應區饋料22的該廢氣原料反應區供應源24被設定於11 〇至150 °C之間。在一些具體實施例中,該廢氣原料反應區供應源24的溫度為 約132°C。在一些具體實施例中,放置廢氣原料反應區供應源24的溫 度遠高於此,並且在一些具體實施例中,來自煉鋼廠之廢氣原料反應 區供應源24的溫度係超過500°C。在一些具體實施例中,含有廢氣原 201142017 料反應區供應源24的該反應區饋料22被冷卻至20至50。(:之間(例如 約30°C)。在一些具體實施例中,該反應區饋料22被廢氣原料反應區 供應源24所定義。供應較高溫度的反應區饋料22將阻礙或甚至殺死 反應區10内的光養生物質。這些具體實施例中,在一換熱器沈(例如 一冷凝器)内冷凝至少一部分廢氣原料反應區供應源24的任何水蒸汽 以冷卻反應區馈料22,以及從該反應區饋料22分離出水性原料7〇。 在一些具體實施例中,形成的水性原料70被供應至用於供應至反應區 10之補充水性原料供應源44的一容器.28(如下述)。在一些具體實施 例中’該冷凝作用產生從反應區饋料22至傳熱介質30的熱傳遞,因 此傳熱介質30的溫度上升而產生經加熱傳熱介質30,然後該經加熱 傳熱介質30(例如氣流)被供應至一乾燥機(如下述),以及進行從該經 加熱傳熱介質30至中間濃縮反應區產物34的熱傳遞以乾燥該中間濃 縮反應區產物34因而產生終反應區產物36。在一些具體實施例中, 從乾燥機32排放之後該傳熱介質30被再循環至該換熱器26。適當傳 熱介質30的實例包括導熱油和甘油溶液。 在一些具體實施例中,從反應區饋料22供應至反應區10可攪動 反應區10内至少一部分的光養生物質。依此,在一些具體實施例中, 該反應區饋料22被引入至反應區1〇的底層。在一些具體實施例中, 該反應區饋料22被引自反應區10的下方因而可有效地混合反應區1〇 的内容物。這些具體實施例中,有效地的混合(或攪動)可使反應區1〇 内任何兩點之間的光養生物質莫耳濃度低於2〇%。在一些具體實施例 中,反應區10内任何兩點之間的光養生物質莫耳濃度低於10%。這些 19 201142017 具體貫施例中,有效地混合可使反應區ίο内產生均質懸浮液。這些使 用光生物反應器12的具體實施例中’於供應該反應區饋料22時可協 同光生物反應器12共同操作而使置於反應區内的至少一部分光養 生物質獲得所需的攪動。 進步針對供應反應區饋料22至該反應區1〇時有效地擾動置於 反應區10内至少一部分光養生物質的具體實施例,這些具體實施例 中’該反應區饋料22被引入該反應d 1〇之前驗一&氣機構如喷頭 (sparger)40。這些具體實施例中,該喷頭4〇使供應至反應區1〇的反 應區饋料22形成含有夾帶微氣泡於一液相内的氣_液混合物,而使光 養生物質與反應區饋料22的二氧化碳(以及在一些具體實施例中為 SOx和Nox的其一或兩者)之間形成最大的介面接觸面積。此有助於該 光養生物貝有效地吸收用於光合作用所需的二氧化碳(以及在一些具 體貫施例中的.其他氣體成分),因而可最佳化該光養生物質的生長速 率。同樣地,在一些具體實施例中,該喷頭4〇使反應區饋料22形成 反應區10内獅光養生物質的較大氣泡而有助於反應1 1〇内成分的 混合。適當喷_實例為供應自明尼蘇達州哥倫布市Envkr·— Dynamics公司的EDI FlexAiP τ—系列91χι〇〇3型號的喷管。在一些 具體實施例巾’此喷頭被置於具有6_升容積的反舰1Q、每升海 藻濃度介於〇. 8至1. 5克、反應區綱22為每分鐘流率介於1〇至2〇 立方呎之間的氣液流以及水壓為約68吋的光生物反應器12内。 就該喷頭40的-些具體實施例而言,該噴頭4()的料著重於使 供應至反應區10的反應區饋料22能促進生物質達到最佳化二氧 201142017 化碳吸收的反應區10流體壓頭。依此,調節氣泡細度使來自反應區饋 料的光養生物質達到最適合吸收二氧化碳的大小。伴隨地,在反應區 饋料22的阻力減緩而未被光養生物質吸收之下”穿過"反應區1〇的至 少一部分氣泡上升通過反應區1〇的全部高度。在一些具體實施中,該 喷頭40的上游利用一壓力調節器控制反應區饋料22的壓力以達到最 適的氣泡大小。就反應區1〇置於光生物反應器12内的具體實施例而 言,這些具體實施例中,該喷頭4〇被置於光生物反應$ 12的外部。 在其他具體實施例中’該喷頭4〇被置於歧物反應器12内。這些具 體實施例中,該_ 4G係延伸自該光生物反應n 12的底部(並且在光 生物反應器12内)。 在一態樣中,二氧化;ε炭被供應至反應區,以及該被供應的二氧 化碳疋義-反應區二氧化碳供應源2搬。該反應區二氧化碳供應源 2402以使反應區二氧化碳供應源流經至少7G忖反應區深度的壓力被 供應至反應區10。在-些具體實酬中,該深度為至少1()吸。在一 些具體實關巾’該深度為至少2G 。在—些具體實施射,該深度 為至少30%。在-些具體實施财,於被供應至反舰1()之前增加 該反應區二氧化碳供應源24〇2的壓力。在一些具體實施例中,當廢氣 原料裝私20 |生廢氣原料時增加該反應區二氧化碳供應源24〇2 的壓力。-祕體實施例巾,當反躯二氧化碳供應馳供應至反應 區ίο時增加該反應區二氧化碳供應源2402的壓力。在一些具體實施 例中’當反應區二氧化碳供應源24〇2被供應至反應區1〇時將置於反 應區10内的該光養生物質暴露於光合輻射光源之下。 21 201142017 在些具體實施例中,至少部分利用原動機38增加該壓力。就這 些具體實施例而言該壓力至少部分歸@於該原動機38。就該反應區二 化碳供應源_係—部分反舰麟22以及該反舰綱22包括 液料而言’適當原動機38 #實例為一泵浦。就藉由氣流增加該壓力的 具體實施例而言,適當原動機38的實例包括-鼓風機、-壓縮機和一 工氣泵浦。在其他具體實施例巾,藉由—引射泵或抽能增加該壓力。 菖藉由引射泉或抽射器增加該壓力時,這些具體實施例中,該 反應區二氧化碳供絲2搬被供應至⑽泵或抽㈣,織壓力能利 用文丘里效應從另-流驗體(即"原液流")傳遞至該反舰二氧化碳 ί、應源而〜力σ反應區二氧化碳供應源内的壓力。依此,在—些具體實 施例中參考提供於第3圖的原液流7〇〇,其中該原液流糊的原料 /、有原液壓ΡΜ卜依此亦提供具有壓力ρΕ的較低壓反應區二氧化碳供 應源2魏’其中該低壓態二氧化碳供應源24包括反應區二氧化 碳供應源續。在-祕體實施财,該碰反應區二氧化碳供應源 2搬Α被反應區二氧化碳供應源2搬所定義。原液流的簡較高於低 壓態二氧化碳供應源2繼的PE。原液流·齡使原液流從上 游液道部分702流至中間下游液道部分7()4而使其壓力從舰降低至 PM2 ’因而PM2低於PE。該中間下游液道部分稱的特徵為相對上游 液道部分702具有較小的戴面積。藉由使原液流則從上游液道部分 7〇2流至中間下游液道部分_,使靜壓能被轉變成動能。當原液流 7〇〇的壓力降低至時PM2,帶動原液流與低壓態二氧化碳供應源 2402A之間的液體相通’為因應低麼態二氧化碳供應源繼八與原液 22 201142017 流700之間的壓差,降低低壓態二氧化碳供應源24〇2八的壓力以便於 中間下游液道部分704内混合該原液流700,因而產生包括該反應區 二氧化碳供應源2402之含混合物的反應區二氧化碳供應源24〇/^至 少一部分的該含混合物-反應區二氧化碳供應源24〇4被供應至反應區 10。該包括反應區二氧化碳供應源2402之含混合物-反應區二氧化碳 供應源2404的壓力被升高至PM3,而使該反應區二氧化碳供應源24〇2 的壓力亦被升高至PM3。PM3高於PE並且亦足夠供應反應區二氧化碳 供應源2404至反應區1〇以及,當供應反應區二氧化碳供應源2404 至反應區10時,可使該反應區二氧化碳供應源2404流經至少7〇吋的 反應區10深度。在一些具體實施例中,PM3係高於pe並且亦足以使 §玄反應區二氧化碳供應源2402供應至反應區1〇以及,當供應反應區 一氧化石反供應源2404至反應區1〇時,可使該反應區二氧化碳供應源 2404流經至少1〇呎的反應區10深度。在一些具體實施例中,pM3係 高於PE並且亦足以使該反應區二氧化碳供應源24〇2供應至反應區1〇 以及,當供應反應區二氧化碳供應源2404至反應區1〇時,可使該反 應區二氧化碳供應源2404流經至少20呎的反應區1〇深度。在一些具 體實施例中’PM3係咼於PE並且亦足以使該反應區二氧化破供應源 2402供應至反應區1〇以及,當供應反應區二氧化碳供應源2404至反 應區10時’可使該反應區二氧化碳供應源2404流經至少30呎的反應 區10深度。在任何這些具體實施例中,該壓力的升高可克服反應區 10内的流體高差。藉由使含混合物-反應區二氧化碳供應源2404從中 間下游液道部分704流至”動能至靜壓能轉換"的下游液道部分706可 23 201142017 升问壓力。動能至靜壓能轉換„之下游液道部分的截面積大於該 中間下游液道部分賊面積,而當借祕該含混合物_反應區二氧 化炭供應源2404已藉由較大截面積流至一液道部分的事實該含混合 物反應區二氧化碳供應源24〇4已置於”動能至靜壓能轉換"之下游液 逼部分706時,致使置於中間下游液道部分7〇4内該含混合物—反應區 -氧化兔供應源24G4的動能被轉變成靜壓能^在—些具體實施例中, 液道的-收縮喷嘴部分定義該上游液道部分7〇2以及液道的—観喷 嘴部分定義該"動能至靜壓能轉換”之下游液道部分權,以及該中間 下游液道部分704被置於該收縮和擴張噴嘴部分的中間。在一些具體 具軛例中,該上游液道部分7〇2和該”動能至靜壓能轉換"之下游液道 部分7G6的組合為-文氏喷嘴(職她随⑷所定義。在—些具體 貫施例中’該上游液道部分702和該”動能至靜壓能轉換"之下游液道 邛分706的組合被置於抽射器或引射泵内。這些具體實施例中,該原 液流700包含液體水性原料以及,依此,該含混合物_反應區二氧化碳 供應源2404包含液體和氣體原料的組合。依此,在一些具體實施例 中°亥3 /tb合物-反應區二氧化碳供應源2404包含一液料内的分散氣 體,其中該分散氣體包括反應區二氧化碳供應源。或者,這些具體實 施例中,該原液流700係另-種如空氣流的氣體流,以及該含混合物— 反應區二氧化碳供應源係氣體。至少一部分該含混合物_反應區二氧化 碳供應源2404被供應至反應區鑛料22而可供應至少一部分該含混合 物-反應區二氧化碳供應源至反應區1〇。依此,該反應區饋料泣的二 氧化%i包含至少-部分的反舰二氧化碳供應源。在—些具體實施例 24 201142017 中,該反應區饋料22的二氧化碳被至少—部纽應區二氧化碳供應源 2402所定義。 ^、 这些具體實酬巾,飯躯二氧化碳供麟讀驗應係藉由 該廢氣原觀程20排放至少—部分廢氣原料18,以及在該廢氣原料 製程20排放廢氣原料和在該反應區二氧化碳供應源24〇2被供應至反 應區10時藉由該廢氣原料製程2〇排放至少一部分廢氣原料18開始供 應該反應區一氧化奴供應源2402。依此,在一些具體實施例中,該反 應區一氧化碳供應源2402的供應係藉由該廢氣原料製程2〇排放至少 一部分二氧化碳,以及在該廢氣原料製程2〇排放二氧化碳和在該反應 區-氧化碳供麟24G2被供絲反舰1Q時藉自該廢氣原料製程2〇 排放至4 -部分二氧化碳開始供賴反舰二氧化碳供應源24〇2。在 -些具體實_中’該反躯二氧化碳供應源續被經排放二氧化碳 反應區供應源所定義。 在-些具體實施例中’該光生物反應器12或複數個光光物反應器 12被配置,而最佳化光養生物_二氧化碳吸收度以及降低能量需 求。依此’該光生物反應器被配置成可延長二氧化碳於反應區1〇内的 駐邊日t間。同樣’最小H氧化碳在水平距離的移動而可降低能量 消耗。為此目的,該一或多個光生物反應器被置於相對較高位置並且 縮小覆蓋面積,因而可延長二氧化碳的駐留時間同時可節省能源。 在些具體實把例中’利用供應至該反應區的一補充營養供應 源42。這些具體實施例巾,當該補充營養供應源42被供應至反應區 1〇時該置於反應區10的光養生物質被暴露於光合輻射光源之下。在 25 201142017 一些具體實施例中’藉由如計量泵的泵浦運轉該補充營養供應源42。 在其他具體實施例中’該補充營養供應源42藉由人工被供應至反應區 10。反應區10内的營養物被光養生物質所處理或消耗,以及在一些情 況下較佳為再補充該經處理或已消耗營養物。一種適當營養組成物為 "Bold氏基礎培養基”’其已述於B〇id,H c. 1941,衣藻屬 chlamydogama(Chlamy-domonas)的形態學,Sp. Nov. Bull. Torr. Bot. □此.76:1〇1〜8(亦請看別3〇11〇^,〇.和%1(1,11.(:.1963,海藻 研九IV.來自者魔石和相關藻類的一些土壤藻,德州大學出版社, 6318 :卜95和Stein,J.(編輯)海藻法、培養法和生長測定手冊,劍 橋大學出版社第7〜24頁)。該補充營養供應源42用於補充反應區内的 營養物如"Bold氏基礎培養基",或其一或多種液化成分。依此,在一 些具體實施例中,該補充營養供應源42包括"Bold氏基礎培養基"。 在些具體貫施例中,該補充營養供應源42包括一或多種"氏基 礎培養基的液化成分例如NaN03、CaC12、MgS04、KH2P04、NaCl,或 液化成分中的一種其他組成。這些具體實施例中,配合反應區1〇内光 養生物質的所欲生長速率控制該補充營養供應源42至該反應區10的 供應速率。在一些具體實施例中,藉由監控反應區10内的pH、N〇3 濃度和導電性的測量組合調節加入的營養物。 在—些具體實施例中’該補充水性原料供應源44被供應至反應區 補充反應區1〇内§亥光養生物質的水分。在一些具體實施例中, 如下文中進—步所述’腳充水性原料供應源44的供應使產物從該光 生物反應1 12被排丨。砂,賴充水性細絲源44以溢流方式 26 201142017 從光生物反應器12排放產物。 在一些具體實施例中’該補充水性原料係水。 在另一態樣中,該補充水性原料供應源44包含至少一種:(a)供 應至反應區10之前已被冷凝之反應區饋料22的水性原料7〇;以及(b) 分離自含光養生物質產物500的水性原料。在一些具體實施例中,該 補充水性原料供應源44係來自一獨立來源(即,該製程外的來源),例 如都市飲用水。 在些具體貫施例中’藉由泵浦281供應該補充水性原料供應源 44。這些具體實施例中,該補充水性原料供應源44係持續被供應至反 應區10。 在一些具體實施例中’至少一部分該補充水性原料供應源44被供 應自一容器28,其將進一步說明於下文。回收至少一部分排放自該製 私的水性原料以及供應至該容器28以提供該容器28内補充水性原料。 參照第2圖,在一些具體實施例中,該補充營養供應源42及該補 充水性原料供應源44於供應至反應區10之前通過該喷頭4〇被供應至 反應區饋料22。在反應區10被置於該光生物反應器12内的具體實施 例中’該喷頭40被置於該光生物反應器12的外部。在一些具體實施 例中’較佳為在該喷頭40内混合該反應區饋料22、補充營養供應源 42和補充水性原料供應源44而使這些成分能比分開供應該反應區饋 料22、補充營養供應源42和補充水性原料供應源44獲得較佳的混合 政果。另一方面,借助於複合混合物内該反應區饋料22氣體的飽和極 限限制該反應區饋料22至反應區10的供應速率。由於此折衷方法, 27 201142017 當非即刻需要觸二氧化雜應城顧w所㈣反射間並且依 綱使収紅_生4_日_頻實補更為合適。 、、 、樣中至^部分補充營養供應源42被與該容器28内 的補充=_料混合以提供—富含營養物—補充水性補供應源私, 、〜田s呂養物補充水性原料供應源44被直接供應至反應區 或與喷頭40内的反應區饋料22相混合。在一些具體實施例中,藉由 泵浦直接或_供_富含營養物_補充水性願供應源。 ^在一些具體實施例中,當該廢氣原料製程20排放二氧化碳,以及 田至>、邛刀經排放一氧化碳被供應至反應區1〇時,其中被供應至反 應區10 _至少—部分_放二氧化碳定義—經微二氧化碳反應 區t、應源至少根據被供應至反應區1G之該經排放二氧化碳反應區供 應源的莫耳分糊節至少—饋人至反應區10 _料。這些具體實施例 中,當至少一種饋料被完成調節時,將置於反應區10内的該光養生物 質暴露於光合輻射光源之下。 如上述建議,饋入原料的調節係任何一種開始、終止、增加、減 少或者改變該原料的饋入。饋入至反應區1〇的原料係反應區1〇内有 助於光養生物質生長速率之供應至該反應區10的饋入原料。饋入反應 區10的饋料範例包括將一特徵強度的光合輻射光源供應至該反應 區’以及將補充營養供應源42供應至該反應區10。 依此’調節供應至反應區10的光合輻射光源強度係任何一種的: 啟動光合輻射光源至該反應區10的供應、終止光合輻射光源至該反應 區的供應、增加供應至該反應區的光合輻射光源強度,以及降低供應 28 201142017 至該反應區ίο的光合輻射光源強度。在一些具體實施例中,調節供應 至δ亥反應區的光合輕射光源強度包括調節至少一部分富含二氧化碳光 養生物質所暴露之光合輻射光源的強度。 調節供應至反應區的補充營養供應源42莫耳分率係任何一種啟 動供應至反應區的補充營養供應源42、終止供應至反應區的補充營養 供應源42、增加供應至該反應區的補充營養供應源42莫耳分率,以 及降低供應至該反應區的補充營養供應源42莫耳分率。 在一些具體實施例中’該調節係至少根據被供應至反應區1〇之經 排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率指標。依此,在一些具體實施 例中,二氧化碳係被排放自該廢氣原料製程2〇 ’以及當至少一部分該 經排放二氧化碳被供應至反應區1〇,其中被供應至反應區1〇的該至 少一部分經排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳反應區供應源,根據 被供應至反應區10之經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率指標 調節饋入反應區10的至少一種原料。這些具體實施例中,於完成至少 一種饋料的調節時將置於反應區10内的光養生物質暴露於光合輕射 光源之下。 在一些具體實施例中’供應至反應區10之經排放二氧化碳反應區 供應源的莫耳分率指標係指排放自該廢氣原料製程20之廢氣原料18 的莫耳分率,因而該調節係至少根據被排放自該廢氣原料製程2 〇的廢 氣原料18莫耳分率,其中該廢氣原料包括該排放二氧化碳反應區供應 源。依此,在一些具體實施例中’提供用於偵測排放自該廢氣原料製 程20之廢氣原料18莫耳流率的流量計78,以及將代表該排放自廢氣 29 201142017 原料製私20之廢氣原料ι8莫耳流率的制信號傳遞至該控制器。當 該k制②接收來自流量計之代表該廢氣補Μ莫耳流率的信號時,該 控制制盗根據排放自廢氣原料製程2〇之廢氣原料18測得的莫耳流率 調ip饋入反應區1G的至少—種補。在—些具體實施射,該至少一 麵料的㈣包括至少其巾—m開始供應光合輻射光源至該反應 區1〇 ;或(ii)增加被供應至反應區1〇的光合輻射光源強度。在一些 具體實施例中,該至少-種饋料的調節包括:⑴啟動至該反應區之 補充營養供絲42的供應;或⑴)增加供應至飯颜1()之補充營 養供應源42的莫耳分率。在—些具體實施例中,該至少—種饋料的調 節包括:⑴終止供應至該反應區1〇的光合轄射光源供應;或(⑴降 低被供應至反舰10的光合鋪光源強度。在—些具體實施例中,該 至少-種饋·調節包括至少其卜:⑴終止供應至該反應區之補 充營養供麟42的供應;或(π)降低供應至該反舰1()之補充營養 供應源42的莫耳分率。 在-些具雜施射紐舰1G之轉放二碳反應區 供應源的莫耳分率指標係指排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣原料Μ 的二氧化碳莫耳濃度,因而細節係至少根據被排放自該廢氣原料製 程20之廢氣原料18的二氧化碳莫耳濃度’其中該廢氣原料18包括該 排放二氧化碳反應區供應源。依此,在一些具體實施例中,提供用於 偵測排放自該廢氣原料製程20之廢氣原料18中二氧化碳莫耳噥产的 二氧化碳感應器781 ’以及將代表該排放自廢氣原料製程2〇之廢氣原 料18中所測得二氧化碳莫耳濃度的信號傳遞至該控制器。當該控3 201142017 接收來自二氧化碳感癉哭7〇1 4781之代表該廢氣原料18中二氧化碳偵測莫 耳:度的L#u時’ δ亥控制制器根據該廢氣原料财二氧化碳偵測莫耳 調_饋入10的至少—種原料。在—些具體實施射,該至少一 種饋料的如包括至少其巾< ⑴開始供應光合輻射光源至該反應 區10 ;或(i i)增加被供庙s c p , /、…至反應區1〇的光合輻射光源強度。在一些 具體實施例中,該至少—種饋料的調節包括:⑴啟動至該反應區之 補充營養供應源42的供廂.十广..、, 應’或(11)增加供應至該反應區10之補充營 2供應源42的莫耳分率。在—些具體實施财,該至少—種饋料的調 即i括至〃其巾·⑴終止供應至該反舰W的光合騎光源供 應;或⑴)降低被供應至反應區1〇的光合輕射光源強度。在一些具 體實施例中,該至少-種饋料的調節包括至少其中—:⑴終止供應 至該反顏之補絲養供應源42的供應;或⑹降低供應至該反應、 區10之補充營養供應源42的莫耳分率。
在-些具體實施射’供紅反祕1G之轉放二氧化碳反應區 供應源的莫耳分率指標係指排放自該廢氣原料製程2g的二氧化碳莫 耳分率,因而該調節係至少根據被排放自該廢氣原料製程2q的二氧化 碳莫耳分率,其中該廢氣原料18包括該排放二氧化碳反應區供應源。 在-些具體實施例中’根據排放自該廢氣原料製程2()測得之廢氣 18莫耳流率以及該排放自該廢氣原料製程2()測得之廢氣原料a 化碳莫耳濃度的組合計算該排放自該廢氣原料· 2()的二氧化碳莫 耳分率。該⑴排放自該廢氣原料製程2〇測得之廢氣原料Μ莫:沪 心以及(ii)該排放自該廢氣原料製程2G测得之廢氣原料^氧Z 201142017 碳莫耳濃度的組合提供計算排放自該廢氣原料製程2〇之二氧化碳莫 耳分率的基礎。依此’提供用於偵測排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣 原料18莫耳流率的流量計78,以及將代表該排放自廢氣原料製程2〇 之廢氣原料18莫耳流率的偵測信號傳遞至該控制器。依此亦提供用於 偵測排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣原料π中二氧化碳莫耳濃度的 二氧化碳感應器781,以及將代表該排放自廢氣原料製程2〇之廢氣原 料18中所測得二氧化碳莫耳濃度的信號傳遞至該控制器。當該控制器 從流量計78接收代表排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣原料18莫耳流 率的-流量感測信號’以及亦從二氧化碳感應器781接收代表排放自 邊廢氣原料製程2G之廢氣原料18中二氧化碳莫耳濃度的二氧化碳感 測仏唬b^·,其中該流量感測信號所依據排放自該廢氣原料製程罚之廢 氣原料18巾—氧化奴莫耳濃度與廢氣原料π莫耳流率係同時或實質 上同時被制’以及根據雜收流量感雕號和該魏二氧化碳感測 信號計算排放自廢氣原料縣20的二氧化絲耳分率,該控制器根據 排放自廢氣原㈣程2Q巾計算獲得的二氧化碳莫耳分率調節饋入反 * #至>、種原料。在一些具體實施例中,該至少一種饋料的調 節包括至少其中—:⑴開始供應光合轄射光源至該反應區10;或(ii) :曰加被(、應至反應g 的光合輕射光源強度。在—些具體實施例中, 該至少-種饋料_節包括啟動至該反舰之補充營養供應源 /的供應,或(u)增加供應至該反應區10之補充營養供應源犯的 莫耳刀率。在—些具體實施例巾,該至少_種綱的調節包括至少其 中終止供應至該反應區10的光合輻射光源供應;或(ii)降 32 201142017 低被ί、應至反應區1Q的光合_射光源強度。在—些具體實施例中,該 至少包括至少其巾—:⑴終止供應錢反應區之補 充呂養t、應源42的供應;或(⑴降低供應至該反應區1〇之補充營養 供應源42的莫耳分率。 在另禮、樣中,二氧化碳係被排放自該廢氣原料製程20,以及當 b 4刀4轉放二氧化碳被供應至反祕lQ,其中被供應至反應 區10的該至少一部分經排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳反應區 ί、應源田偵測到被供應至反應區1〇之經排放二氧化碳反應區供應源 喊耳分錢化時,爾饋人反應區1Q的至少―種補。依此,該調 節饋入反應區1〇的至少―種原料係回應偵測自被供應至反應區1〇之 經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率變化指標。這些具體實施例 中’當完歧少-種綱_節時,將置於反躯1()内麟光養生物 質暴露於光合輻射光源之下。 在另態樣中’一氧化碳係被排放自該廢氣原料製程,以及當 至少一部分該經排放二氧化碳被供應至反應區1〇,其中被供應至反應 區10的該至少一部分經排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳反應區 供應源’當_到被供應至反舰1Q之經排放二氧化碳反應區供應源 的莫耳分率變化時’調節饋入反應區1〇的至少一種原料。依此,該調 即饋入反應區1〇的至少一種原料係回應偵測自被供應至反應區1〇之 經排放一氧化碳反應區供應源的莫耳分率變化指標。這些具體實施例 中,當完成至少一種饋料的調節時,將置於反應區1〇内的該光養生物 質暴露於光合輕射光源之下。 33 201142017 如上所述,饋入原料的調節係任何一種開始、終止、增加或減少 該原料的饋入。饋入反應區ίο的饋料範例包括將一特徵強度的光合輻 射光源供應至該反應區10,以及將一莫耳分率的補充營養供應源42 供應至該反應區10。 亦如上所述’調節供應至反應區10的光合輕射光源強度係任何一 種的:啟動光合輻射光源至該反應區10的供應、終止光合輻射光源至 該反應區的供應、增加供應至該反應區的光合輻射光源強度,以及降 低供應至該反應區10的光合韓射光源強度。在一些具體實施例中,調 郎供應至该反應區的光合輻射光源強度包括調節至少一部分富含二氧 化碳光養生物質所暴露之光合輻射光源的強度。 亦如上所述,調節供應至反應區的補充營養供應源42莫耳分率係 任何一種啟動供應至反應區的補充營養供應源42、終止供應至反應區 的補充營養供應源42、增加供應至該反應區的補充營養供應源42莫 耳分率,或降低供應至該反應區的補充營養供應源42莫耳分率。 在一些具體實施例中,及亦如上所述,藉由一控制器調節該光合 輻射光源的強度。在一些具體實施例中,控制器從電源供應器改變輸 出至該光源的功率以增強或減弱該光源的強度,以及此控制可藉由電 壓或電流的改變。同樣,在一些具體實施例中,亦藉由控制器調節該 補充營養供應源42供應的莫耳分率。為調節該補充營養供應源42供 應的莫耳分率,該控制器可控制一計量泵421以提供該補充營養供應 源42—預設的莫耳流率。 在一些具體實施例中,二氧化碳係被排放自該廢氣原料製程2〇, 34 201142017 X及田至:>、邛分5亥經排放二氧化碳被供應至反應區ι〇,其中被供應 至反應區1G _至少一部分經排放二氧化碳絲一經排放二氧化碳 反應區供應源’當_職供應至反舰之_放二氧化碳反應區 供應源莫耳分率的增加時,該至少—種饋料的調節包括至少其中一: ⑴開始供應光合輻射光源至該反應g 1〇 ;或⑴)增加被供應至反 應區10的光合輻射統強度。依此’賴節細應被供應至反應區 10之經排放二氧化碳反應區供應源之莫耳分率供應增加的偵測。在一 些具體實施增,被供獻反· 1G之誠合歸統強度的增加與 被供應至反應區10之該經排放二氧化碳反應區供應源莫耳分率的增 加成比例。 在一些具體實施例中,二氧化碳係被排放自該廢氣原料製程2〇, 以及當至少一部分該經排放二氧化碳被供應至反應區1〇,其中被供應 至反應區10的該至少一部分經排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳 反應區供應源’當偵測到被供應至反應區10之經排放二氧化碳反應區 供應源的莫耳分率增加指標時,該至少一種饋料的調節包括至少其中 一 :(i)開始供應光合輻射光源至該反應區10 ;或(ii)增加被供應 至反應區10的光合輻射光源強度。依此,該調節係回應偵測自被供應 至反應區10之經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率增加指標。在 一些具體實施例中’被供應至反應區10之該光合輻射光源強度的增加 與被供應至反應區10之該經排放二氧化碳反應區供應源莫耳分率的 增加成比例。 在一些具體實施例中,當啟動至該反應區之光合輻射光源的供 35 201142017 應,或增加供應至§亥反應區的光合輻射光源時,增加置於反應區1〇 内及供應該光合傭絲錢應區之光源的冷卻速率。當該光源係供 應至反應區的光合_統時’藉由冷卻崎減舰_散自該光 源的任何熱能。加熱該反應區10以增加該反應區的溫度。在一些具體 貫%例中,反應區10内溫度過高時將損害該光養生物質。在一些具體 實施例中,該絲被置於-㈣光纖師導驗被置於該液態光纖 内’以及藉由增加液態光纖内該導熱液的熱交換速率而提高冷卻速率。 在一些具體貫施例中,二氧化碳係被排放自該廢氣原料製程2〇, 以及當至少一部分該經排放二氧化碳被供應至反應區1〇,其中被供應 至反應區10的該至少一部分經排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳 反應區供應源’當偵測到被供應至反應區10之經排放二氧化碳反應區 供應源莫耳分率的增加時,該至少一種饋料的調節包括至少其中一: (i)啟動至該反應區10的補充營養供應源42供應;或(ϋ)增加被供 應至反應區10之該補充營養供應源42的莫耳分率。依此,該調節係 回應該經排放二氧化碳反應區供應源被供應至反應區10之莫耳分率 供應增加的偵測。 在一些具體實施例中,二氧化碳係被排放自該廢氣原料製程20, 以及當至少一部分該經排放二氧化碳被供應至反應區10,其中被供應 至反應區10的該至少一部分經排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳 反應區供應源,當偵測到被供應至反應區10之經排放二氧化碳反應區 供應源的莫耳分率增加指標時,該至少一種饋料的調節包括至少其中 一 :(i)啟動至該反應區10的補充營養供應源42供應;或(ϋ)增加 36 201142017 被供應至反應區1G之該補充營養供應源42的莫耳分率。依此,該調 節係回應該輯放二氧化獻舰供麟被供絲反躯iq之莫耳 分率供應增加_卜依此,該細應_自被供應至反應㈣ 之經排放二氧化碳反舰供應源的莫耳分率增加指標。 在一些具體實施例中,偵測出供應至反應區1〇之經排放二氧化碳 反應區供應源的莫耳鲜增加指標係指增加排放自該廢氣原料製程 2山0之廢氣原料18的莫耳分率,其中該廢氣原料18包括該排放二氧化 碳反應區供顧。依此’在—些具體實_巾,提侧於侧排放自 該廢氣原料製程20之廢氣原料18莫耳流率的流量計78,以及將代表 該廢氣原料18之莫耳流率的偵測信號傳遞至該控繼。#該控制器比 較代表排放自該廢氣原料製程2G之廢氣原料18莫耳流率的一來自流 量計78接收信號與代表排放自該廢氣原料製錢之測得廢氣原料18 莫耳流率触前接收信號,以及確認該排放自廢氣原料製程⑼之廢氣 原料18莫耳流率的增加之後,該控制器執行至少—:⑷壯供應光 合輕射光齡該反應區10 ’或增加被供應至反舰1Q的光合輕射光 源強度;以及⑹啟動至該反應g 1Q之補充營養供應源42的供應, 或增加供應至該反應區10之補充營養供應源42的莫耳分率。 在-些具體實施例中’侧出供應至反應區10之經排放二氧化碳 反應區供應源的莫耳分率增加供應指標係指增加排放自該廢氣原料製 程20之廢氣原料18中二氧化碳的莫耳濃度,其中該廢氣原料18包括 該排放二氧化碳反應區供應源。依此,在一些具體實施例中,提供用 於偵測排放自該廢氣原料製程20之廢氣原料18中二氧化碳莫耳濃度 37 201142017 的二氧化碳感應器781 ’以及將代表該排放自廢氣原料製程2G之廢氣 原料18中所測得二氧化碳莫耳濃度的信號傳遞至該控制器。當該控制 器比較代表排放自該廢氣原料製程20之廢氣原料18中所測得二氧化 碳莫耳漢度的-來自二氧化碳感應器781接收信號與代表排放自該廢 乱原料製程20之測得廢氣原料18中二氧化碳莫耳濃度的先前接收信 號,以及確認該廢氣原料18中二氧化碳莫耳濃度的增加之後,該控制 器執行至夕.(a)開始供應光合輕射光源至該反應區,或增加被 供應至反躯10的光合骑絲強度;以及(b)啟動反應區1〇 之補充營養供絲42的供應,或增加供應至該反舰1()之補充營養 供應源42的莫耳分率。 在二具體貫%例中,該供應至反應區1〇之排二氧化碳反應區供 應源的莫耳分率增加指標係指增加被排放自該廢氣原料製程之二 氧化碳的莫耳分率。依此,在—些具__巾,增加漏放自該廢 氣原料20之—氧化碳的莫耳分率係根據比較:⑴被排放自該廢 亂原料20之二氧化碳莫耳分率的計算,其中該計算係根據排放自 該廢氣原料製程20之廢氣原料18中測得莫耳流率以及排放自該廢氣 原料製程20之廢氣原料18中所測得二氧化碳莫耳濃度的組合;以及 (⑴先前排放自該廢氣原料製程2Q之二氧化碳莫耳分率的計算,其 中該計算係根據先前排放自該廢氣原料製程2〇之先前測得的廢氣原 料18莫耳w率以及先前排放自該廢氣原料製程⑼之先前測得的廢氣 原料18巾二氧化韻耳濃度。依此,提供_細緣自該廢氣原料 製程之廢氣原料18莫耳流率的流量計?8,以及將代表該排放自廢 38 201142017 氣原料製程20之廢氣原料18莫耳流率的偵測信號傳遞至該控制器。 依此亦提供用於偵測排放自該廢氣原料製程20之廢氣原料18中二氧 化碳莫耳濃度的二氧化碳感應器781,以及將代表該排放自廢氣原料 製程20之廢氣原料18中所測得二氧化碳莫耳濃度的信號傳遞至該控 制器。當該控制器從流量計78接收代表排放自該廢氣原料製程2〇之 廢氣原料18莫耳流率的一流量感測信號,以及亦從二氧化碳感應器 781接收代表排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣原料18中二氧化碳莫 耳濃度的二氧化碳感測信號時,其中該流量感測信號所依據排放自該 廢氣原料製程20之廢氣補18巾二氧化碳莫耳濃度與廢氣原料18 莫耳流率侧時或實f上㈣被及根_減流量感測信號 和該接收二氧化碳感測信號計算排放自廢氣原料製程2〇的二氧化碳 莫耳分率,以及比較該計算自排放自該廢氣原料製程2〇之二氧化碳的 莫耳分率與計算自先前被排放自該廢氣原料製程2〇之二氧化碳的莫 耳分率。其中計算自先前被排放自廢氣原料製程20之二氧化碳的莫耳 分率係根據先前接收自代表先前排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣原 料18 .莫耳鱗之流量感測信號以及先前接收自代表先前排放自該廢 氣原料製程20之廢氣原料18中二氧化碳莫耳濃度之二氧化碳感測信 號的組合,其巾該先_得之二氧化碳莫耳濃度與該先前廢氣原料18 之測得莫耳醉的先前紐流量_傾制喊實質上同時被偵 測,以及確認該排放自廢氣原料製程2〇之二氧化碳莫耳分率的增加之 後’該控·執行至少-:⑷_供應光合骑錢至該反應區 1〇,或增加被供應至反舰1G的絲輕射光源強度;以及⑹啟動至 39 201142017 該反應區10之補充營養供應源42的供應,或增加供應至該反應區1〇 之補充營養供應源42的莫耳分率。 在一些具體實施例中,任何一種:(a)排放自該廢氣原料製程2〇 之廢氣原料18中測得莫耳流率的增加;(b)排放自該廢氣原料製程 20之廢氣原料18中所測得二氧化碳莫耳濃度的增加;或(c)排放自 該廢氣原料製程20之測得二氧化碳的莫耳分率供應增加係一種增加 供應至反應區10之經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率指標。當 增加至反應區10之該經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率供應 時,該供應的莫耳分率可增加光養生物質至少一種生長條件(即,增加 供應二氧化碳的莫耳分率),以及相對地啟動或增加與此類生長有關之 其他饋料的供應速率以預期反應區10内該光養生物質的生長。 在些具體貫施例中,當該廢氣原料製程2〇排放二氧化碳,以及 當至少一部分經排放二氧化碳被供應至反應區1〇時,其中被供應至反 應區10的該至少一部分經排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳反應 區供應源’當彳貞剩供應至聽區1G之轉放二氧化碳反舰供應源 降低莫耳分率的供應時,該至少一種饋料的調節包括至少其中一 :(i) 、、’;止供應至邊反應區的光合輻射光源供應;或(丨丨)降彳氏被供應至 反應區10的光合輻射光源強度。依此,該調節係回應被供應至反應區 1〇之經排放二氧化碳反應區供應源莫耳分率供應增加的偵測。在一些 具體實施例中,被供應至反應區之該光合轄射光源強度的降低與被供 應至反應區10之該經排放二氧化碳反應區供應源莫耳分率的降低成 比例。 201142017 在一些具體實施例中,二氧化碳係被排放自該廢氣原料製程2〇, 以及當至少一部分該經排放二氡化碳被供應至反應區10,其中被供應 至反應區ίο的該至少一部分經排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳 反應區供應源’當偵測到被供應至反應區10之經排放二氧化碳反廣區 供應源的莫耳分率增加指標時,該至少一種饋料的調節包括至少其中 一 :(i)終止供應至該反應區10的光合輻射光源供應;或(ii)降低 被供應至反應區10的光合輻射光源強度。依此,該調節係回應偵測自 被供應至反應區10之經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率供應 降低指標。在一些具體實施例中’被供應至反應區之該光合轄射光源 強度的降低與被供應至反應區10之該經排放二氧化碳反應區供應源 莫耳分率的降低成比例。 在一些具體實施例中,二氧化碳係被排放自該廢氣原料製程20, 以及當至少一部分該經排放二氧化碳被供應至反應區丨〇,其中被供應 至反應區10的該至少一部分經排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳 反應區供應源’當偵測到被供應至反應區1〇之經排放二氧化碳反應區 供應源莫耳分率的供應降低時,該至少一種饋料的調節包括至少其中 一 :(i)終止供應至該反應區之補充營養供應源42的供應;或(ii)降 低供應至該反應區1〇之補充營養供應源42的莫耳分率。依此,該調 節係回應偵測自被供應至反應區10之經排放二氧化碳反應區供應源 的莫耳分率供應降低。 在一些具體實施例中,二氧化碳係被排放自該廢氣原料製程20, 以及當至少一部分該經排放二氧化碳被供應至反應區1〇,其中被供應 201142017 至反應區10的該至少一部分經排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳 反應區供應源’當偵測到被供應至反應區10之經排放二氧化碳反應區 供應源的莫耳分率供應降低指標時,該至少一種饋料的調節包括至少 其中一 :(i)終止供應至該反應區之補充營養供應源42的供應;或(ii) 降低供應至該反應區1〇之補充營養供應源42的莫耳分率供應。依此, 該調節係回應偵測自被供應至反應區10之經排放二氧化碳反應區供 應源的莫耳分率供應降低指標。 在一些具體實施例中’偵測出供應至反應區1〇之經排放二氧化碳 反應區供應源的莫耳分率供應降低指標係指降低排放自該廢氣原料製 粒20之廢氣原料18的莫耳分率。依此,在一些具體實施例中,提供 用於偵測排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣原料18莫耳流率的流量計 78’以及將代表該廢氣補18之莫耳流率的侧信號傳遞至該控制 器。當該控制器比較代表排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣原料18莫 耳流率的-來自流量計78接收信號與代表排放自該廢氣原料製程2〇 之測得廢氣原料18莫耳流率的絲接收信號,以及確認該排放自廢氣 原料製程20之廢氣原料18莫耳流率的降低之後,該控制器執行至少 - :(a)降低供應至反應區1Q之光合韓射光源的強度,或終止供應; 以及⑹降低供應至反應區1Q之補充營養供應源42的莫耳分率供 應,或終止供應。 在一些具體實闕巾出供應至反舰10之轉放二氧化碳 反應區供麟的莫耳分率降低指標係指降低排放自該廢氣原料製程 20之廢氣原料18的二氧化碳莫耳漢度。依此,在一些具體實施例中, 42 201142017 k供用於偵測排放自s亥廢氣原料製程2〇之廢氣原料π中二氧化碳莫 耳》辰度的二氧化碳感應器781,以及將代表該排放自廢氣原料製程2〇 之廢氣原料18中所測得二氧化碳莫耳濃度的信號傳遞至該控制器。當 該控制器比較代表排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣原料18中所測得 二氧化碳莫耳濃度的-來自二氧化碳感應器781接收信號與代表排放 自該廢氣祕餘20之測得廢氣顧18巾二氧化碳莫耳濃度的先前 接收信號,以及確認該廢氣原料18中二氧化碳莫耳濃度的降低之後, 該控制器執行至少-:(a)降低供應至反舰1G之光合輻射光源的強 度’或終止供應;以及⑹降低供應至反應區1()之補充營養供應源 42的莫耳分率供應,或終止供應。 在一些具體實施例中,該供應至反應區1〇之經排放二氧化碳反應 區供應源的莫耳分率供應降健標係指降低簡放自該廢氣原料製程 20之二氧化碳的莫耳分率。依此,在一些具體實施例中,降低被排放 自該廢氣原料製程20之二氧化碳的莫耳分率係根據比較:⑴被排放 自該廢氣原料製程20之二氧化碳莫耳分率的計算,其中該計算係根據 排放㈣廢氣原料製程20之廢氣顧18中測得莫耳流率以及排放自 ^廢乱原料$程2G之廢氣補18中所測得二氧化碳莫耳濃度的組 合,以及(11)先前排放自該廢氣原料製程2〇之二氧化碳莫耳分率的 十算/、中η亥片算係根據先前排放自該廢氣原料製程卯之先前測得的 廢耽原料18莫耳流率以及先前排放自該廢氣原料製程2〇之先前測得 祕氣原料18中二氧化碳莫耳濃度。依此’提供驗偵測排放自該廢 氣原料lUi 2G之廢氣原料μ莫耳流率的流量計78,以及將代表該排 43 201142017 放自廢氣原料製程2〇之廢氣原料18莫耳流率的偵測信號傳遞至該控 制益。依此亦提供用於偵測排放自該廢氣原料製程20之廢氣原料18 中二氧化碳莫耳濃度的二氧化碳感應器781,以及將代表該排放自廢 氣原料製程20之廢氣原料18中所測得二氧化碳莫耳濃度的信號傳遞 至該控制器。當該控制器從流量計78接收代表排放自該廢氣原料製程 20之廢氣原料18莫耳流率的一流量感測信號,以及亦從二氧化碳感 應器781接收代表排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣原料18中二氧化 奴莫耳/辰度的一氧化碳感測信號時,其中該流量感測信號所依據排放 自該廢氣原料製程20之廢氣原料18中二氧化碳莫耳濃度與排放自該 製程20之廢氣原料18莫耳流率係同時或實質上同時被偵測,以及根 據該接收流量感測信號和該接收二氧化碳感測信號計算排放自廢氣原 料製程20的二氧化碳莫耳分率,以及比較該計算自排放自該廢氣原料 製程20之二氧化碳的莫耳分率與計算自先前被排放自該廢氣原料製 程20之二氧化碳的莫耳分率。其中計算自先前被排放自廢氣原料製程 20之二氧化碳的莫耳分率係根據先前接收自代表先前排放自該廢氣 原料製程20之廢氣原料18莫耳流率之流量感測信號以及先前接收自 代表先前排放自該廢氣原料製程20之廢氣原料18中二氧化碳莫耳濃 度之'一乳化$反感測k號的組合’其中該先前測得之二氧化碳莫耳濃产 與該先前廢氣原料18之測得莫耳流率的先前接收流量感測信號係同 時或實質上同時被偵測,以及確認該排放自廢氣原料製程2〇之二氧化 碳莫耳分率的增加之後,該控制器執行至少一 :(a)降低供應至反應 區10之光合輻射光源的強度’或終止供應;以及(b)降低供應至反應 201142017 區ίο之補充營養供應源42的莫耳分率供應,或終止供應。 在一些具體實施例中,在一些具體實施例中,任何一種:(a)排 放自該廢氣原料製程20之廢氣原料18的莫耳流率降低;⑹排放自 該廢氣原料製程2〇之廢氣原料18二氧化碳莫耳濃度的降低;或(c)排 放自該廢氣原料製程20之二氧化碳莫耳分率的降低係—種供應至反 應區10之經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率供應降低指標。由 於降低至反應區1〇之排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率供應,相 對地降低或終止與光養生物質生長有關的一或多種其他饋料之供應速 率而保留該饋入。 在另一態樣中,二氧化碳係被排放自該廢氣原料製程2〇,以及當 至、部分戎經排放二氧化碳被供應至反應區1 〇 ,其中被供應至反應 區10的該至少一部分經排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳反應區 供應源,當價測到被供應至反應區10之經排放二氧化碳反應區供應源 的莫耳分率供應降低,或當偵測到被供應至反應區10之經排放二氧化 石反反應區供應源的莫耳分率供應降低指標時,增加供應至反應區之補 充二氧化碳供應源92的莫耳分率,或啟動供應至反應區之補充二氧化 奴供應源92的供應。依此,增加供應補充二氧化碳供應源92至該反 應區10的莫耳分率,或啟動補充二氧化礙供應源92至該反應區10 的供應以回應供應至反應區1〇之經排放二氧化碳反應區供應源莫耳 分率降低的伯測。在一些具體實施例中,該補充二氧化碳供應源92 的來源係一具二氧化碳氣瓶。在一些具體實施例中,該補充二氧化碳 供應源92的來源係一氣體供應源。在一些具體實施例中,該降低偵測 45 201142017 係供應至反應區10之該排放二氧化碳反應區供應源之莫耳分率供應 的一種偵測終止。在一些具體實施例中,偵測指標的降低係該排放二 氧化碳反應區供應源至反應區1〇之莫耳分率供應終止的偵測指標。在 一些具體實施例中,供應至反應區1〇之該經排放二氧化碳反應區供應 源的莫耳分率降低供應指標係指上述任何的指標。 這些具體實施例中,當增加至反應區丨〇之該補充二氧化碳供應源 92的莫耳分率供應時’將置於反應區1〇内的該光養生物質暴露於光 合輻射光源之下。 在一些具體實施例中,為了維持光養生物質的實質恒定生長速率 提供該補充二氧化碳供應源92以補償供應該廢氣原料製程2〇至反應 區10之二氧化碳莫耳分率供應的降低,而該降低(例如終止)被認為僅 疋暫時性(例如低於兩週)。依此,在一些具體實施例中,該至反應區 10之補充二氧化碳供應源92的供應接續於啟動之後短於兩(2)週,短 於一週,以及一另外實例中,短於五(5)天,以及一另外實例中,短於 二(3)天,以及一另外實例中,短於一(丨)天的一段時間。在一些具體 實施例中,該補充二氧化碳供應源92至反應區1〇的供應於開始之後 持續長達15分鐘,例如長達3〇分鐘,以及一另外實例中,長達一(ο 小時,以及一另外實例中,長達六小時,以及一另外實例中,長達 24小時的一段時間。 这些具體貫施例中,增加或啟動補充二氧化碳供應源92至反應區 10的莫耳分率供應以喊—供應該轉放二氧化碳反舰供應源至 反應區10之莫耳分率供應降低指標的偵測,以及該侧自供應該經排 46 201142017 放二氧化碳反應區供觸至反颜1G的料鲜供鱗低指標係一 種排放自該廢氣原料製程2G之廢氣原料18莫耳流率的降低,這些具 體實施例巾’提供用於侧排放自該廢氣補製程20之廢氣原料18 莫耳流率的流量計78,以及將代表該触自魏频製程2()之廢氣 =料18莫耳流率的偵測信號傳遞至該控制器。當該控制器比較來自流 量計78代表目前排放自廢氣原料製㈣之廢氣原料18莫耳流率的一 接收信號與代表賴排放自廢氣原料製程2()之廢氣原料18莫耳流率 的-接收信號,以及確認該排放自廢氣原料製程2{)之廢氣原料Μ莫 耳流率的降低之後’該控制器啟動流量控制元件的開口如一闕門921 而開始從補充二氧化碳供麟92 _二氧化碳至該反應區Μ,或增 加該補充二氧化碳供應源92供應至反應㈣之莫耳分率的供應。 這些具體實施财該莫耳分率的供應,·始供應猶二氧化碳 供應源92至反應區1G以回應—供應該轉放二氧化碳反應區供應源 至反應區1G之莫耳分率供應降低指標的齡以及_測自供應該經 排放二氧化碳反應區供應源至反應區1G的莫耳分率供應降低指標係 -種排放自該廢氣原料製程20之廢氣原料财二氧化碳莫耳濃度的 降低,在-些具體實施辦,提烟於偵曝放自該廢氣原料製程2〇 之廢氣原料18中二氧化碳莫耳濃度的二氧化碳感應謂,以及將代 表該排放自廢氣原料製㈣之廢氣原料18中所測得二氧化碳莫耳、農 度的信號傳遞至該控。當該控制器比較代表排放自該廢氣 程2〇之廢議18中所測得二氧化碳莫耳濃度的-來自二氧化韻 應謂接收信號與代表排放自該廢氣原料製㈣之測 = 201142017 18中一氧化碳莫耳濃度的先前接收信號,以及確認該排放自廢氣原料 製矛王20之廢氣原料μ中一氧化碳莫耳濃度的降低之後,該控制器啟 動流量控制元件的開口如一閥門921而開始從補充二氧化碳供應源92 供應二氧化碳至該反應區1Q,或增加該補充二氧化碳供應源92供應 至反應區10之莫耳分率的供應。 4这些具體實施例中增加一補充二氧化碳供應源92至反應區10的 莫耳为率供應’或’供應—槪二氧化碳供麟92至該反應區 以回應供應遠經排放二氧化碳反應區供應源至反應區⑺之莫耳分 率供應降低指標的躺,以及該躺自供舰經排放二氧化碳反應區 供應源至反顧H)的莫耳鲜供餅储縣—種排放自該廢氣原 料製程20中二氧化碳莫耳分率的降低’這些具體實施例中,增加被排 放自雜讀料製程2Q之二氧化碳的莫耳分率係根據比較:⑴被排 放自雜氣原料製& 2G之二氧化碳莫耳分率的計算,其巾該計算係根 據排放㈣廢氣原料製程2Q之廢氣原料18中測得莫耳流率以及排放 ^亥廢亂原料20之廢氣原料18中所測得二氧化碳莫耳濃度的組 =以及⑻先前概自該舰㈣製程20之二健耳分率的 十# 係根據先前排放自該廢氣原料製程20之先前測得的 廢乳原料18莫耳流率以及先前排放自該麟原料製㈣之先前測得 ,廢孔原料18中二氧化碳莫耳濃度。依此’提供用於侧排放自該廢 乳原料^ 20之廢氣原料18莫耳流率的流量計,以及將代表該排 放口自廢減料製程2G之廢氣原料18莫耳流率的_信號傳遞至該控 制裔。依此亦提供用於_排放自該廢氣原料製程20之廢氣原料18 48 201142017 中二氧化碳莫耳濃度的二氧化碳感應器781,以及將代表該排放自廢 氣原料製程20之廢氣原料18中所測得二氧化碳莫耳濃度的信號傳遞 至该控制器。當該控制器從流量計78接收代表排放自該廢氣原料製程 20之廢氣原料18莫耳流率的一流量感測信號,以及亦從二氧化碳感 應器781接收代表排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣原料18中二氧化 石反莫耳》辰度的二氧化碳感測信號時,其中該流量感測信號所依據排放 自該廢氣原料製程20之廢氣原料18中二氧化碳莫耳濃度與廢氣原料 18莫耳流率係同時或實質上同時被偵測,以及根據該接收流量感測信 唬和忒接收二氧化碳感測信號計算排放自廢氣原料製程2〇的二氧化 碳莫耳分率,以及比較該計算自排放自該廢氣原料製程20之二氧化碳 的莫耳分率與計算自先前被排放自該廢氣原料製程20之二氧化碳的 莫耳分率’其中計算自先前被排放自廢氣原料製程20之二氧化碳的莫 耳分率係根據先前接收自代表先前排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣 原料18莫耳辭之流量感測信號以及先前接收自代表先前排放自該 廢氣原料製程20之廢氣原料18中二氧化碳莫耳濃度之二氧化碳感測 域的組合’其巾該先制得的二氧化碳莫耳濃度與先前接收流量感 測信號所測得自該先前排放自該廢氣原料製程2Q的廢氣原料Μ莫耳 机率係同時或實貝上同時被彳貞測,以及確認該排放自廢氣原料製程卻 之二氧化碳莫耳分率的降低之後,該控啟動流量控制元件的開口 如-閥門921而開始從補充二氧化碳供應源92供應至該反應區ι〇, 或增加該補充二氧化碳供應源92供應至反應區1〇之莫耳分率的供應。 這些具體實施例中,當價測到被供應至反應區之該經排放二氧化 49 201142017 碳反應區供應源的莫耳分率供應降低(或終止),或當制到被供應至 反應區10之經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率供應降低(或終 止)扎私時’增加该補充二氧化碳供應源92至反應區1〇之莫耳分率的 供應’或啟動該補充二氧化碳供應源92至反應區1Q的供應以作為回 應,這些具體實施例f ’該製程糾包括開始供_含補充氣體原料 48,或增加s亥含補充軋體原料48至反應區1〇的莫耳分率供廡。 在-些具體實施例中,儘管開始供應該補充二氧化碳供應源犯 至反應區10或增加補充二氧化碳供應源92至反應區1〇之莫耳分率的 供應’仍然開始該含補充氣體原料48至反應區1〇的供應或增加該含 補充氣體原料48至反應區1〇的莫耳分率供應以回應該經排放二氧化 碳反應區供應、源至反應區10之莫耳鲜供應的降低或終止供應,藉由 經排放二氧化碳反應區供應源至反應區1〇的降低莫耳分率供應戋終 止供應至少可部分補償原料(例如反應區饋料22的原料)至反應區 之莫耳供應率的降低,終止原料供應(例如反應區饋料22的原料)。 在一些具體實施例中,影響原料(反應區饋料22)莫耳供應率降 低,或原料(反應區饋料22)供應終止的補償作用實質上不影響原料 (反應區饋料22)供應至反應區1〇的莫耳分率。 在一些具體實施例中,受降低原料(反應區饋料22)之莫耳供應 率,或終止原料(反應區饋料22)供應至反應區1〇之影響的補償作用 可緩和反應區10攪動減少,否則將造成受該經排放二氧化碳反應區供 應源至反應區10之降低莫耳分率供應,或終止供應影響之該廢氣原料 反應區供應源24至反應區1〇的降低莫耳分率供應,或終止供應。 201142017 在-些具體實施例中,任何廢氣原料反應區供應源24、該補充二 氧化奴供應源92及該含補充氣體賴48的組合定義被供應至反應區 之至:>、部分反應區饋料22的-組合操作原料流,並且該有效地授動 反應區内的原料而使反應區10内任何兩點間之該光養生物質的莫耳 浪度差異低於2G%。在-些具體實施例中,該有效地獅可使反應區 10内任何兩點間之該光養生物質的莫耳濃度差異低於1〇%。依此,供 應该含補充氣體原料48可避免反應區内任何兩點之間的光養生物質 產生高於所欲極限的濃度梯度。 該含補充氣體原料48若存在二氧化碳莫耳濃度時係低於被供應 至反應區1.0之補充二氧化碳供應源92的二氧化碳莫耳濃度。在一些 具體實施例中,根據補充氣體原料48的總莫耳數該補充氣體原料48 的二氧化碳莫耳濃度低於3莫耳%。在一些具體實施例中’根據補充氣 體原料48的總莫耳數遠補充氣體原料48的二氧化碳莫耳濃度低於一 (1)莫耳%。 在一些具體實施例中,該含補充氣體原料48係一種氣體。這些具 體實施例中,該含補充氣體原料48包括一液料内的分散氣體。這些具 體實施例中,該含補充氣體原料48包括空氣。這些具體實施例中,以 流體提供該含補充氣體原料48。該含補充氣體原料48被供應反應區 10作為一部分的反應區饋料22。 在一些具體實施例中,供應該含補充氣體原料48至反應區1〇或 增加該含補充氣體原料48至反應區1〇的莫耳分率供應亦回應該經排 放二氧化碳反應區供應源至反應區10之莫耳分率供應降低(或終止) 51 201142017 或該經排放二氧化碳反應區供應源至反應區10之莫耳分率一供應降 低才曰^示的偵測。適當指標的實例和用於债測此類指標之適當感應哭和 控制計晝已如上述,以及在一些具體實施例中,控制器藉由偶合至該 含補充氣體原料48之液體啟動或增大該流量控制元件(如閥門5〇)的 開口而開始供應該含補充氣體原料48至反應區1〇或增加該含補充氣 體原料48至反應區10的莫耳分率供應。 在一些具體實施例中,開始供應一含補充氣體原料48至反應區 10’或增加該含補充氣體原料至反應區1〇的莫耳分率供應以回應該反 應區饋料22至反應區10之莫耳分率降低或一降低指標的侦測了同時 s亥補充二氧化碳供應源92被供應至反應區1〇。在一些具體實施例中, 提供用於細反應區綱· 22之莫耳鱗的流量計78,以及將代表該 反應區饋料22所測得的莫耳流率信號傳遞至該控制器。备: 較來自流量計代表該反舰侧22之潘料轉^接錄號與 代表該反颜顧22之先_得莫耳流率的—先前接收信號,以及確 認該反應區饋料22之莫耳鱗的降低之後,該控㈣啟動流量控制元 件的開口如-閥門(例如閥門50)而開始從含補充氣體原料48的來源 供應該含補充氣Μ原料48至反應區10,或從該含補充氣體原料48的 來源增加供應該含補錢體原料48至反舰1()的莫耳分率供應。 、在另-態樣中,該廢氣原料18係被排放自廢氣原料製程2〇,其 中被供應至該反應區10的任何廢氣原料18定義一廢氣原料反應區供 應源24,根據至少-種二氧化碳處理量指標的翻調節供應至該反應 區H)之舰反颜絲源24的絲。在—雜體魏财,該廢氣 52 201142017 原料18係以氣流的形式被排放。在一些具體實施例中,該廢氣原料反 應區供應源24係錢流_式概供。在—祕體實施例巾,於調節 廢氣原料反颜供應源24時將置於反舰1() _該光養生物質暴露 於光合輻射光源之下。 當根據至少-種二氧化碳處理量指標調節該廢氣原料反應區供應 源24至反應區10的供應時,在一些具體實施例中,該製程進一步包 括供應該經排放廢氣原料18 —部分分流至另—操作裝置的調節。供應 -部分分流至另-操作t置的該經排放廢氣原料18定義—分流廢氣 原料60。#玄分流廢氣原料6〇包括二氧化碳。該另一操作裝置可轉化 分流廢氣原料60而降低對環境的影響。 如上述建礅,調節該廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇的供 應係任何-種開始、終止、增加、減少或者改變該廢氣原料反應區供 應源24至反應區1〇的供應。同樣,供應該經排放廢氣原料18(即該 分流廢氣原料60)-部分分流至另一操作裝置的調節係任何一種開 始、終止、增加、減少或者改變該分流廢氣原料6〇至另一操作裝置的 供應。 該二氧化碳處理量指標具有用於接收二氧化碳之反應區1〇容量 以及將至少一部分該接收二氧化碳轉變成用於反應區内光養生物質之 光合作用的任何特性。 在一些具體實施例中,該二氧化碳處理量指標具有用於接收二氧 化破之反應區10容量以及將至少一部分該接收二氧化碳轉變成用於 反應區内光養生物質之光合作用而使該光合作用促成反應區10内光 53 201142017 養生物質生長的任何處理特性。依此,該二氧化碳處理量指標的偵測 對判定是否需要調節該廢氣原料反應區供應源24以符合反應區1〇内 該光養生物質生長的預設莫耳分率而言至關重要。 在一些具體實施例中,該二氧化碳處理量指標具有用於接收二氧 化石反之反應區10容量以及將至少一部分該接收二氧化碳轉變成用於 反應區内光養生物質之光合作用而使任何從反應區1G排放的二氧化 石反低於預設莫耳分率的任何處理雜。依此,該二氧化碳處理量指標 的镇測對判定衫需要調節至反舰1G之該廢氣原料反颜供應源 24的供應以符合從反應區1〇内排放二氧化碳的預設莫耳分率而言至 關重要。 在一些具體實施例中’該二氧化碳處理量指標係偵測反應區1〇 内的pH。在一些具體實施例中,該二氧化碳處量指標係偵測反應區1〇 内光養生物質的莫耳濃度。由於被排放自反應區的任何含光養生物 質產物500包括來自反應區1〇内的一部分原料(即以來自反應區1〇 内的原料供應該被排放自反應區1G的含光養生物質產物關),二氧 化石反處理量指標的細(例如反應區内的pH或該反紐内的光養生物 貝莫耳濃度)包括被排放自反應區1〇之該含光養生物質產物5〇Q内該 二氧化碳處理量指標的偵測。 在一些具體實施例中,供應該廢氣原料反應區供應源24至反應區 的凋節係根據反應區10内二或多具二氧化碳處理量指標的偵測。 在些具體貫施例中,該廢氣原料18係被排放自廢氣原料製程 20,其中被供應至反應區1〇的任何廢氣原料18定義一廢氣原料反應 54 201142017 區i、應源24 ’纽應區内二氧化碳處理量指標彳貞_代表麟接收二 氧化故供躺反應區10内莫耳分率增加量時,供賴麟原料反應區 供應源24至反應區H)的調節包括開始供應該廢氣原料反應區供應源 24至反應區1〇或增加供應至反應㈣找廢㈣料反應區供應源24 的莫耳刀率供應。依此’該調節係回應代表用於接收二氧化碳莫耳分 率ί、應之反應區1〇内二氧化碳處理量指標的細。這些具體實施 例中,該廢氣祕製程2G的出D與另—操作裝置合作以供應該分流廢 乳原料60至另-操作裝置,以及當該分流廢氣原料⑼被供應至該另 操作#置’ &些具體實施例中,該製程進—步包括降低該分流廢氣 原料60供應至另-操作裝置的莫耳分率供應,或終止該供應。在一些 ”體實施例巾’據瞭解纽氣原料反應區供舰%被供應至反應區 10 B夺發生代表用於接收反顧1Q魄加二氧化碳莫耳分率供應量指 ‘的偵測。在其他具體實施例巾’亦據瞭解,當廢氣顧反應區供應 源24未被供應至反應㈣時發生代表驗減反麵㈣增加二氧 化碳莫耳分率供應量指標的偵測。 在-些具體實施例中,該廢氣補18係被排放自 廢氣原料製程 20,以及至少-部分該廢㈣料18被供應至反應區ι〇 ,其中被供應 至反應區1G的敍少—部分廢氣原料18定義—廢氣原料反應區供應 源24田於反應區1〇内偵測出代表用於接收降低二氧化碳莫耳分率 供應的二氧化碳處理量指標時,供應該廢氣原料反應區供應源24至反 應區10的調$包括降低該廢氣原料反應區供應源%至反應區的莫 耳刀率ί、應,或終止雜應。依此,該調節係回應代表餘接收二氧 55 201142017 化碳莫耳分率供應降低之反應區1〇内 些具體實施例中,該廢氣原料製程2^量指標的偵測。這 應該分流廢氣原料60至另一摔作^ 知作裝置合作以供 止μ 這些具體實施例中,該製雜 一乂 ι括開始供應該分流廢氣原料6〇至另 廢氣原料60被供㈣-操作裝置的料鲜=裝置,或增加該分流 Η 施例中,該二氧化碳處理量指標係指反應㈣内的 Ρ:Γ高於預設值上限(顯示供應二氧化碳至反應區10 7私率不足)或低於預設值下限(示供應二氧化碳至反躯10的 莫耳分率過量)的ΡΗ操作將導致低於生長職的光養生㈣,甚至造 成該光養生物質的死亡。在一些具體實施例中,藉由pH感應器仙偵 測反應區1G的ρΗ。提侧_板舰_的P_H 46,以及 將代表該反颜_得的pH錢傳遞至控制器。 在-些具體實施例中,該廢氣原料18係被排放自廢氣原料製程 20,其中被供應至該反顧1()的任何廢氣顧18定義—廢氣原料反 應區供應源24,當反應區1〇内_到高於預設的pH值時,供應該廢 氣原料反應區供應源24至反應區1〇的調節包括開始供應該廢氣原料 反應區供麟24至反應區1Q,紐加供應該廢氣祕反應區供應源 24至反應區1G #莫耳分率供應。這些具體實施例中,該廢氣原料製 程20的出口與另—操作I置合作以供應該分流廢氣原料6G至另一操 作裝置,以及當該分流廢氣原料6〇被供應至該另一操作裝置,這些具 體實施例中’該製程進一步包括降低該分流廢氣原料6〇供應至另一操 作裝置的莫耳分率供應,或終止該供應。據瞭解,在一些具體實施例 56 201142017 中’當該廢氣原料反應區供應源24被供應至反應區ι〇時發生高於預 設高限pH的反應區10内pH偵測值。亦據瞭解,在其他具體實施例中, 當廢氣原料反應區供應源24未被供應至反應區1〇時發生高於預設高 限pH的反應區10内pH偵測值。 這些具體實施例中’當反應區内的pH高於一預設高限pH值時, 在一些具體實施例中,該控制器比較從代表測得自反應區1〇内邱之 pH感應器46的接收信號與一目標值(即預設高限pH值),以及確認該 反應區10内測得的pH係高於該預設高限pjj值,該控制器藉由開始供 應該廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇或增加供應該廢氣原料反 應區供應源24至反應區10的莫耳分率供應以作為回應。在一些具體 實把例中’该控制窃藉由啟動該流量控制元件5〇的開口而開始供應該 廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇。在一些具體實施例中,該控 制器藉由啟動§玄流罝控制元件50的開啟而增加該廢氣原料反應區供 應源24供應至反應區10的莫耳供應率。提供及配置該流量控制元件 50以便藉由選擇性地干擾供應該廢氣原料反應區供應源24至反應區 1〇的氣流而選擇性地控制供應該廢氣原料反應區供應源24至反應區 的氣流莫耳分率,包括藉由供應該廢氣原料反應區供應源24至反 應區10之氣流的壓力損失。依此,藉由啟動該流量控制元件5〇開始 該廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇的供應,或增加莫耳分率的 供應。該預設高限pH值視該生物質的光養生物而定。 這些具體實施例中,該廢氣原料製程2〇的出口與另一操作裝置人 作以供應该分流廢氣原料6〇至另一操作裝置,以及當該分流廢氣原料 57 201142017 60被供應至該另一操作展置,這些具體實施例中 ㈣内的PH高於預設高限pH值時,雜制:控·確敬應 廢氣原料60供應至另一操作 I ° 乂猎由降低該分流 回應。在—聽體倾辦,應,^該供應以為 _-操作單位之_:=::=: mr-tirr應’料賴⑽構造_於谓廢氣原料製 评由啟動置銜·通。在—些具體實施财,該控制 程2G與另—操作單位之間閥門的關閉 門=二 至㈣作細梅率供應,其中該闕 構痛於干擾廢氣原料製錢和另-操作裝置之間的液體流 通0 同樣這些具體實施例中,該廢氣原料製程2G的出口盥另一操作裝 置合作以供應該分流廢氣原料6G至另—操作裝置,以及t該分流廢氣 原料_賴至制-操域置,在另—頻細料,當該另 -麵作裝置上游的廢氣原料18壓力低於—預設壓力時,降低該分流廢 乳原料60供應至另i作|置的莫耳分率供應,或終止該供應,其中 壓力的降低細雜應轉氣射极舰供應源%至反躯⑺或增 加該廢氣原瓶舰供_ 24縣至反應㈣之料分率供應的回 應八任係、又雜制益回應確認反應區内所測得邱高於預設高限 pH值的衫響。此類具體實施例中,當該控制器確認反應區内所測得邱 ㈣倾緣pH g ’如上所述,該控制關始供麟廢氣原料反 應區供應源24至反應d 1〇或增減銳補反紐供麟24供應至 58 201142017 反應區ίο的莫耳分率供應。開始供應或增加該廢氣原料反應區供應源 24至反應區1〇的料分率供應域崎傾魏補π的壓力而使 該另-操作裝置上游的廢氣原料18塵力低於預設壓力。當該另一操作 裝置上游的廢氣原料18壓力低於預設壓力時,偏力關閉置於廢氣原料 製程20與另-操作裝置之間用於干擾該廢氣原料製程2〇與另一操作 褒置間之液體流通的關閉元件64,此可使液壓上升而再次開啟該關閉 疋件64。在—些實針,可減小該_元件64的開口,因而降低該 分流廢氣原料60供應至該另一操作元件的莫耳分率供應。在其他實作 中,關閉該關閉元件64,因而終止該分流廢氣原料6〇供應至另一操 作裝置的供應。 同樣這些具體實施财,該廢氣原㈣程2q的出口與另—操作裝 置合作以供應該分流廢氣原料6〇至另一操作裝置,以及當該分流賴 原料60被供應至該另一操作裝置,在另一這些具體實施例中,當降低 另-操作裝㈣的梅補18壓力時,_議廢氣原㈣ 供應麵-操倾置的料分率供應,其巾該廢氣細_力的降 低係回應該廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇的供應開始,或該 廢氣原料反舰供應源24至反應㈣之莫耳分率供應的增加,且任 -係受該控制II回應確認反應期所測得pH高於職高限邱值的影 響。該降低另一操作裝詈卜被, 上游之廢C原料18的壓力將降低該分流廢 原料60供應至另-操作裳置的莫耳分率供應。 卜 在一些具體實施例中,該廢氣原㈣錄排放自廢氣原料製程 〇,以及至少-部分該廢氣原料1δ被供應至反應區1〇,其中被供應 59 201142017 至反應區10的該至少-部分廢氣顧18定義—廢氣原料反應區供應 源24 ’當反應區10内所測得pH低於預設低限pH值時,供應該廢氣 原料反應區供應源24至反應區1G的調節包括降低該廢氣原料反應區 供應源24至反舰1〇的莫耳分率供應,祕止該供^這些具體實 施例中,該廢氣原·程2〇的一與另—操倾置合伽供應該分流 廢氣原料60至另-操作妓,這些頻實關巾,該製錢一步包括 開始供應該分流廢氣原制至另-操作裝置,或增加該分_氣原料 60被供應另一操作裝置的莫耳分率供應。 這些具體實施例中,當反應區内的邱低於一預設低限邱值時, 在-些具體實關巾,該鋪H味從錄測得自反躯1Q内邱之 pH感應器46的接收信號與一目標值(即預設低限邱值),以及確認該 反應區10内測得的pH係低於該預設低限pH值,該控制器藉由降低該 廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇的莫耳分率供應,或終止該供 應以作為回應。在-些具體實施例中,該控繼藉由啟動該流量控制 兀件50(例如一閥門)的減小開口而降低該廢氣原料反應區供應源24 至反應區10的莫耳分率供應。在一些具體實施例中,該控制器藉由啟 動該流量控制元件5〇(例如一閥門)的關閉而終止該廢氣原料反應區 供應源24至反應區1〇的供應。該預設低限pH值視該生物質的光養生 物而定。在一些具體實施例中’該預設低限pH值可低至4.0。 這些具體實施例中,該廢氣原料製程20的出口與另一操作裝置合 作以供應該分流廢氣原料60至另一操作裝置,這些具體實施例中,當 控制器確認反應區1〇内的Ph低於預設低限PH值時,該控制器進一步 201142017 稭由開始供應該分流廢氣原料⑼至另—操作 廢氣原料60至另一操作裝置的莫耳分率供錄、增加供應該分流 施例中,該控制器藉由啟動置於該 :,、、、回應。在-些具體實 間的閥門而開始供應該分流廢氣原料即、至另^與另—操作裝置之 該分流廢氣原料6〇至另—操作裝置的莫耳^裝置’或增加供應 造係用於干擾該製程2G和另-操作裝置之^、’其中該間門的構 中’該控制器藉由啟動置於該廢氣原料製㈣與;=^些實作 門的開啟而開始供應該分流廢氣原料6〇至 #作裝置之間閥 中,該控制器藉由啟動置於該廢氣原料 同樣這些具體實施射,該廢氣原料製程2Q的.料— 置合作以供應該分流廢氣原料6〇至另—操作裝置,在另一這此且、 施例中’當該另-職置上游之該廢氣原料18的壓力高於:触壓 力時,開始供應該分流廢氣原料6G至另—操翁置或增加該分流廢氣 原料60至另-操作裝置的料分率供應,其巾該另—操倾置上游之 廢氣原料18的壓力增加至高於預設壓力㈣卿低該聽原料反應 區供應源24至反應區1〇的莫耳分率供應,或終止該供應,其任一係 X遠控制㈣應輕反舰崎爾pH低於預設低限pH值的影響。 此類具體實關巾’當馳制ϋ確認域翻藉由pH感絲46測得 的pH係低於預設佩pH餅’如上所述,該控制將健廢氣原料 反應區供應源24至反應區10的莫耳分率供應,或終止該供應。該降 201142017 低廢氣原料反應區供應源24至反颜Η)的莫耳鲜供應或終止該供 應,對應地增加該另-操作裝置上游之廢氣原/料18的愿力而使該另一 操作裝置上游之廢氣原料18的壓力高於預設的勤。當該另一操作裝 置上游之廢氣原料18的麗力高於預設壓力時,偏力關閉置於廢^原料 製程20與另-操作裝置之間用於干擾該廢氣原料製程2q與另一操作 裝置間之㈣流通的_元件64 ’此可使賴上升而再胡啟該關閉 元件64。在-些實作巾,開始供應該分流魏補⑽至另一操作裝 置可開始該_元件64關啟以回應該㈣勤的增加。在其他實作 中,增加該分流顧祕6G 操作裝置的莫耳分率供射增大該 關閉兀件64關cr朗應誠縣力的增加。 同樣這些具體實施例中’該廢氣原料製程20的出口與另一操作裳 置合作以供應該分流廢氣補6G至另—操倾置,在另—這些具體實 施例中’增加該分流廢氣原料⑼至另—操倾置的莫耳分率供應以回 =加該另-操作裝置上游之該廢氣· 18 _力,其係喊該廢氣 =反應區供聽24至反舰1G之莫耳分率供應,祕止該供應的 爷低’、任-係受該控制器回麟認反應區内所測得pH低於預設低限 ^值的衫響。此類具體實施例中,當該控制器確認反應區内藉由邱 將的pH係低於預設低限pH值時,如上所述,該控制器降 二Γ原料反應區供應源24至反應區1G的莫耳分率供應,或終止 。該降低廢氣原料反應區供應源24至反應區 =止該供應’對應地增加該另一操作裝置上游之廢氣原料二 _加另-操作裝置上游之廢氣原料18的壓力可增加該分流廢氣 62 201142017 置的莫耳分率供應。 原料60被供應至另一操作穿· ―、體實關巾,該二氧化碳處理1:指標係指反應區1〇内光 養生物質的料濃度。在—些賜實關巾,當反舰㈣該光養生 物質_耳|__—預設濃度細繼範_時,該反應區 1〇内的光養錢料被控财,例城該敝獲光養生物質且有 較高總產制料濃度。在—麵财_巾,藉由細麟數器47 測疋反舰10㈣養生㈣的莫耳濃度。例如,—種適當細麟數器 係供應自美國威斯康辛州翻城之_k— D咖W公司的廳單 通道吸收探針。_败光養生㈣之料濃度的其他適當裝置包括 其他光散㈣應n ’修一分光歧計。囉,可人調定該光養生 質的莫耳度然後將§綠手動輸人至該控制如獲得所欲的反應。 ,』依此’在-些具體實施例中,該廢氣原料18係被排放自廢氣原料 裝矛20以及至)一部分的廢氣原料18被供應至該反應區1〇,其中 «亥至J -部分被供應至該反應區1G的廢氣原料丨8定義—廢氣原料反 細聽源24,當反颜1G㈣測出高於光養生㈣之預設高限濃 度(指"預設高標濃度值”)的—光養生物f濃度時,供應該廢氣原料反 應區仏應源24至反應區1G賴節包括降傾廢氣原料反應區供應源 24至反應區1()的莫耳分率供應,或終止該供應。這些具體實施例中, 當該廢氣原料製程2G的出口與另―操作裝置合作以供應該分流廢氣 原料60至$ #倾置時’該製程進—步包括壯供應該分流廢氣原 料60至另-操作褒置’或增加該分流廢氣原料6〇至另一操作裝置的 莫耳分率供應。 63 201142017 這些具體實施例中’該反應區内的光養生物質濃度係高於預設高 限濃度目標值,這些具體實施例中,當該控制器比較來自該細胞計數 器47代表反應區10内光養生物質之測得莫耳濃度的接收信號與該預 設高限濃度目標值’以及確認反應區10内該光養生物質的莫耳濃度高 於預設高限濃度目標值時’該控制器藉由降低供應該廢氣原料反應區 供應源24至反應區10的莫耳分率供應作為回應。在一些實作中, 藉由控制器啟動該流量控制元件50的開口減小可降低該廢氣原 料反應區供應源24至反應區10的莫耳分率供應。在一些實作 中,藉由控制器啟動該流量控制元件50的關閉可終止該廢氣原 料反應區供應源24至反應區10的供應。 這些具體實施例中,該廢氣原料製程2〇 V tM 六刀 Ί7^ Ί ^ 作以供應該分流廢氣原料6G至另-操作t置,這些具體實施例中,當 該控制器比較來自該細胞計數器47代表反顧1()内光養生物質之莫 耳濃度的接收信號與該預設高限濃度目標值,以及確認反應區1〇内該 光養生物㈣莫耳濃度高於賊高限濃度目標鱗,該㈣$進一步 藉由開始供應該分流廢氣補6〇以—操倾置,或增加該分流廢氣 原料⑼至另-操作裝置的莫耳分率供應作為回應。在—些具 中’該控制器藉由啟動置於該廢氣原料製㈣與另—操作裝置之間的 閥門而開始供應該分流廢氣原料6Q至另 e ., cn 钿作裝置’或增加供應該分 4乳騎6G至另-操作裝置的莫耳分率供應,其中 用於干擾該製程2G和另-操作裳置之間 、冓心、 ]的液體流通。在一些實作中, 〜制器藉由啟動置於該廢氣原料製 — 興另一刼作襞置之間閥門 201142017 的開啟而開始供應該分流廢氣原料6〇至另一 中,該控制ϋ藉由啟動置於該廢氣原料製2裝置。在—些實作 ^ ν 0與另一操作裝置之間閥 門机大開口而增加該分流廢氣原料 供應。 至另—知作裝置的莫耳分率 同樣這些具體實施例中,該廢氣原料製程2G的出口料一操 置合作以供應該分流廢氣原料60至另—操作裝置,在另且實 施例中,當該另-操作裝置上游之該廢氣原料18的勤高於:預設壓 2 7供應該分流純補⑼㈣—操倾置或增加該分流廢氣 原則0至另-操作震置的莫耳分率供應,其中該另一操作裝置上游之 廢亂原料18 _力增加至高於預設壓力咖應降低該廢氣原料反應 區供應源24纽應區10的莫耳分率供應或終止該供應,其任一係受 該控制II喃相反赫岐養生物質所爾料濃度高於預設高限 濃度目標值的影響。此類具體實施例中,當該控制器藉由細胞計數器 47確認反舰岐養生物⑽測得料濃賴高於觸設高限濃度 目標值時’如上所述,該控·降倾舰·反應區供應源%至反 應區10的莫耳分率供應,或終止該供應。降傾廢氣顯反應區供應 源24至反舰1G的莫耳分率供應或終止雜射相應地增加該另一 操作4置上游之廢氣原料18的壓力而使該廢氣原料18的壓力高於預 設壓力。當該廢氣原料18的壓力高於預設壓力時,偏力關閉置於廢氣 原料製程20與另-操作裳置之間用於干擾該廢氣原料製程2〇與另一 操作裝置間之液體流通的關閉元件64(例如一閥門),此可使液壓上升 而再次開啟该關閉元件64。在一些實作中,可開啟該關閉元件64的 65 201142017 =因而開始該分流廢氣原料60至該另-操作元件的供應。在一此 貫作中,增大該關閉元件64的開口, 二 另-操作細粮率終 私加峨魏原料60至 同樣這些具體實施射,該廢氣原料製程2()的出口與另一操作裝 置合作以供應該分流廢氣原料6G至另—操作裝置,在另—這些且體實 施例中,增加該分流舰補6G至另—操作裝置喊耳分率供應係回 應该另—祕裝置上游之廢氣原料18的壓力增加,其細應降低該廢 氣原料反颜供應源24至反舰1G的料鲜供應,或終止該供库, 其任-係受該控制ϋ喃確認反祕崎測得光養生物質莫耳濃度高 於預設高限濃度目標值的影響。此體實施财,當該控制器確認 錢區内藉由細胞雜器47測得的光養生_料濃度係高於預設 高限濃度目標值時’如上所述’該控㈣降低該廢氣原料反應區供應 源24至反應區Η)的莫耳分率供應,或終止該供應。降低該廢氣原料 反應區供應源24至反舰1〇的莫耳分率供應或終止該供應相對地增 加該另-操作裝置上游之廢氣補18的壓力。增加該另—裝置上游之 廢氣原料18的壓力將增加被供應至另—操贿置之該分流廢氣原料 60的莫耳分率供應。 在一些具體實施例中,戎廢氣原料π係被排放自廢氣原料製程 20 ’其中被供應至該反應區1〇的任何廢氣原料π定義一廢氣原料反 應區供應源24,當反應區10内偵測到低於光養生物質預設低限莫耳 濃度(一”預設低限濃度目標值π)的光養生物質莫耳濃度時,供應該廢 氣原料反應區供應源24至反應區1〇的調節包括開始該廢氣原料反應 66 201142017 區供應源24至反應區10的供應,或增加該廢氣原料反應區供應源24 至反舰10喊耳分率供應。_具體實關巾,該魏原料製程 2〇的出口與另一操作裝置合作以供應該分流廢氣原料60至另-操作 裝置’以及當該分流廢氣原料6〇被供應至該另一操作裝置,以及當該 分流廢氣原料60被供應至另-操作裝置時,這些具體實施例中,該製 程進-步包括降低該分流廢氣原料6Q至另—操作裝置的莫耳分率供 應,或終止該供應。 攻些具體實施例中’該反應區内的光養生物質莫耳濃度係低於該 預設低限濃度目標值,這些具體實施财,#該控㈣比較來自該細 胞計數益47代表反應區1〇内光養生物質之測得莫耳濃度的接收信號 與該預設低限濃度目標值,以及確認反應區1〇内該光養生物質的莫耳 激度低於預魏限濃度目標值時,該控制器藉由開始該廢氣原料反應 區供應源24至反應區1〇的供應,或增加該廢氣原料反應區供應源% 至反應區10的莫耳分率供應作為回應。在一些具體實施例中,可藉由 控制器啟動該流量控制元件50而達到此目的。在一些實作中,藉由控 制器啟動該流量控制元件50的開口開始該廢氣原料反應區供應源24 至反應區10的供應。在一些實作中,藉由控制器啟動該流量控制元件 50的增大開口增加該廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇的莫耳供 應率。 這些具體實施例中,該廢氣原料製程2G的出口與另-操作裝置合 作以供應該分流廢氣原料6〇至另-操作裝置,以及當該分流廢氣原料 60被供應至該另-操作裝置,這些具體實關巾,當該控制器比較來 67 201142017 自細胞伽47鄉嫩丨…她f物度的接收作 號,以及確賴反舰H)光養生㈣的財濃度魏於 ㈣ 度目標值時,該控制器進—步以降低該分流廢氣原·至另一摔料 置的莫耳鲜供應’或終止該供麟為_。在—些具體實施例中, 該控制器藉触繼_嶋% 而增加該分流氣原料6_—操條置的莫耳分率供應,巧該閱門 的構造可干擾該廢氣原料製㈣與另—操作裝置之間的液體流通。在 一些實作中’該控制賴由啟動置於廢氣原料製程20與另—操作裝置 之間的減小開π而降低該分流廢氣原料6()至另—操作裝置的莫耳分 率供應。在-些實作中,該控制器藉由啟動置於廢氣原料製程融另 -操作裝置之間閥⑽關閉而終止該分流廢氣原料6()至另一操 置的供應。 〜 同樣這些具體實施财,該廢氣原料製㈣的出口與另一操作裝 置合作以供應該分流廢氣補6G至另—操作裝置,以及當該分流廢氣 原料60被供應至該另-操作裝置,以及當該分流廢氣補6Q被供應 至另-操作裝置時,在另—這些具體實施例中,降低該分流廢氣原料 60至另操作裝置的莫耳分率供應或終止該供應,以回應該降低另— 操作裝置上游之廢氣原料18 _力,其中壓力的降低係開始供應該廢 孔原料反舰供麟24至反舰1G或增加該廢氣原料反颜供應源 24供應至反舰1G之莫耳鲜供應_應,其任—係受該控制器回 …確抑反應11崎斯光養生物質莫耳濃度低於預錄限濃度目標值 的影響。該壓力降紐使郎—卿裝置上游之廢氣原料 18的壓力低 68 201142017 於預設最小壓力,以及偏力關置於廢氣原料製程2G與另-操作裝置 之間用於干__製程2G料—操作_之液體流通的關 閉元件64(例如一閥門),超過該廢氣 &巩原枓18的液壓而開啟該關閉元 件64。在一些實作中,減小該關閉 關閉το件64的開口可降低該分流廢氣 原料60至另一操作裝置的莫耳分率 ' 夫开刀丰供應以回應該降低另一操作裝置 上游之廢氣原料18的壓力。在1仙眘从丄 在具他實作中’關該關閉元件可終止該 分流廢氣原料60至另一操作奘署沾也危 ㈣衷置的供應以回應該降低另-操作裝置 上游之廢氣原料18的壓力。 同樣這些具體實施财,該聽製程20的出口與另-操作裝 置合作以供應該分流廢氣原㈣至另—操作裝置,以及當該分流廢氣 原料⑼被供應至該另-操作裝置,在另—這些具體實施射,降低該 ^流廢氣原料60至另-操作裝置的莫耳分率供應以回應該降低另— 操作裝置上蚊廢乳原料18的壓力,其中壓力的降低係開始供應該廢 氣原料反舰供顧24至域區H)或增加該麟捕反舰供應源 24 t、應至反應區1G之莫耳分率供應的回應,其任—係受該控制器回 應確認反崎測得光魅物㈣耳濃度低於該似低喊度目標 值的影響。該降低另-操作裝置上游之廢氣原料18的壓力將降低該分 流廢氣原料⑼供應至另—操作裝置的莫耳分率供應。 在一些具體貫施例中’調節該分流廢氣原料6〇至另一操作裝置係 開始於該廢氣原料反應區供應源24至反應區1()的調節。依此,在— 些具體實施例中,當降低該廢氣原料反颜供應源24至反應區1〇的 莫耳分率供應或終止該供應時,開始供應該分流廢氣原料⑼至另一操 69 201142017 作裝置,或增加該分廢氣原料60至另-操作裝置的莫耳分率供應。 亦依此,當開始供應該廢氣原料反應區供應源24至反應區,或‘增 加該廢氣原料反舰供麟24至反應㈣哺耳分率供應時,降: 該分流廢氣原料6G至另-操作的莫耳分率供應或終止該供應9 " 在-些具體實施例中,該流量控制元件5〇係一種流量控制閥門。 在-些具體實施射,紐量㈣元件5G係—種如下所述亦可調節該 含補充氣體原料48供應的三通閥門。 在-些具體實施例中,該關閉元件64係任何一種間門、節氣闊或 煙囪帽(stack cap)。 在-些具體實施例中,當該廢氣原料反應區供應源24以氣流的方 式被供應至反應區料,該廢氣原料反應區供應源24的流動至少部 分藉由-原動機38。就此類具體實施_言,適#職機洲的實例 包括-鼓風機…壓縮機、-泵浦(驗含廢氣原料反颜供應源% 的加壓液體)和-空氣泵浦。在一些具體實施例中,該原動機38係一 種變速鼓顺,以及該縣機38亦可作為糊线^綱反應區饋料 22之μ率及定義此類流率的流量控制元件5〇。 在一些具體實施例中,該另一操作裝置係一麵筒筒62。雜筒 62的構造可接受㈣自該純祕製程2()之出_分流廢氣原料 60。操作時’该分流廢氣原料6〇被設定在可流經該煙筒㈤的足夠高 壓力。這些具體實施例中,流經該煙筒62之分流廢氣原料的氣流 被引導至位於雜氣原料製程之丨口的遠端。同樣這些具體實施例 中,當該廢氣補18 _力超過―預設最大壓力時,從融口供應該 201142017 分流廢氣麟60。在賴频實_巾,料觀· Μ的壓力超 過預設最大壓力時可賴_元件64 _此進行該錯廢氣原料 60的供應。 在-些具體實施例中,該煙筒62可從該出口將分流部分的廢氣原 料18引導至遠離排放自廢氣原料製程2〇之廢氣原料18的空間,以回 應代表該反應區1G鎌從該廢氣原料反應區供應源%接收降低二氧 化碳莫耳分率供應之測得的二氧化碳處理量指標,而可避免無法接受 的二氧化碳濃度被排放至環境。 、在-些具體實施例中,該煙筒62係一種經修飾可適應產生自該分 流廢氣原料60之低氣流通量的現存煙筒62。依此,在—些具體實施 例中,煙筒62内插入一内襯以適應該較低通量。 在-些具體#施射,刻—操作裝置係―種可從該分流廢氣原 料60中移除二氧化碳的分離器。在—些具體實施例中,該分離器係一 種氣體吸收器。 在-些具體實施例中,該廢氣原料18係被排放自廢氣原料製程 20以及至>、部分该廢氣原料a被供應至反應區,其中被供應 至反應區10的該至少-部分廢氣原料18定義一廢氣原料反應區供應 源24 ’當於反應區10内债測出代表用於接收降低二氧化碳莫耳分率 供應之反應區1G容量的二氧化碳處理量指標⑽如侧出反應區内的 pH低於-預設低限pH值’麵測出反麟⑽光養生㈣莫耳漢度 南於一光養生物質的預設高限莫耳濃度),以及調節該廢氣原料反應區 供應源24以回應代表用於接收降低二氧化碳莫耳分率供應之反應區 71 201142017 10谷罝,包括降低供應該廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇之莫 耳分率供應或終止該供應的該二氧化碳處理量指標之偵測時,該製程 進一步包括開始供應一含補充氣體原料48至該反應區10,或增加被 供應至反應區10之含補充氣體原料48的莫耳分率供應。 該含補充氣體原料48若存在二氧化碳莫耳濃度時係低於從該廢 氣原料製程20被供應至反應區1〇之該至少一部分廢氣原料18的二氧 化碳莫耳濃度。在一些具體實施例中,根據該補充氣體原料48的總莫 耳量該補充氣體原料48的二氧化碳莫耳濃度係低於3莫耳%。在—些 具體實施例中,根據該補充氣體原料48的總莫耳量該補充氣體原料 48的二氧化碳莫耳濃度係低於一(1)莫耳%。在一些具體實施例中,該 含補充氣體原料48係以一部分該反應區饋料22被供應至該反應區 10。在一些具體實施例中,該反應區饋料22係一種氣體。在一些具體 實施例中,該反應區饋料22包括分散於該液料内的氣體。 在一些具體實施例中’藉由調節該廢氣原料反應區供應源24至反 應區的供應以降低該廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇的莫耳分 率’或終止該供應’協同供應該含補充氣體原料48至反應區1〇以降 低供應至該反應區10之二氧化碳的莫耳分率供應,或終止該供應。在 一些具體實施例中,當降低該廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇 的莫耳分率供應或終止該供應,以及當開始供應該含補充氣體原料48 至反應區10,或增加該含補充氣體原料48供應至反應區1〇的莫耳分 率供應時’開始該分流廢氣原料60至另一操作裝置的供應,或增加該 莫耳分率的供應。 72 201142017 這些具體實施例中,及如上所述,該流量控制元件5Q係一種三通 闕門,並且可調節該含補充氣體原料48至反應區的供應,協同該廢氣 原料反應區供赫24至反應㈣的,以_該二氧化碳處理量 指標。依此,當反應區10内_到代表用於接收一降低二氧化碳莫耳 分率供應(例如侧出反應區内的pH低於一預設低限邱值,或偵測出 反應區_光養生歸料敍締光養生㈣的驗練莫耳濃度) 之反應區容量的二氧化碳處理量指標時,該控制器藉由啟動該間門5〇 以開始該含補絲體㈣48至反應㈣供應,或增加該含補充氣體原 料48至反應區1〇的莫耳分率供應作為回應。 在另-樣中,該廢氣原料18係排放自該廢氣原料製程2〇,以 及至少-部分該廢氣原料18被供應至反應區1()時,其中被供應至反 應區1G的該至少-部分廢氣補18定義—廢氣補反應區供應源 24以及致使5亥供應至反應區1〇的廢氣原料反應區供應源、^降低莫 耳分率的供應’或終止該供應,該製程進一步包括開始供應一含補充 氣體原料48,或增加含補充氣體原料48至該反應區1〇的莫耳分率供 應。 在-些具體實施例中,開始供應一含補充氣體原料48至該反應區 10,或增加被供應至反應區1〇之含補充氣體原料48的莫耳分率供應 以回應該廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇之莫耳分率供應的降 低或終止該供應,或降低該廢氣原料反應區供應源24至反應區ι〇之 莫耳分率供應或終止該供應的指標。例如,如上述,降低該廢氣原料 反應區供應源24至反應區1〇的莫耳分率供應或終止該供應以回應代 73 201142017 表用於接收二氧化碳莫耳分率供應降低之反應區ίο容量之該二氧化 碳處理量指標的偵測。在一些具體實施例中,提供用於偵測該廢氣原 料反應區供應源24之莫耳流率的流量計,以及將代表該廢氣原料反應 區供應源24之測得莫耳流率的信號傳遞至該控制器。當該控制器比較 來自該流量計代表該廢氣原料反應供應源24之目前測得莫耳流率的 一接收信號與代表先前測得自該廢氣原料反應區供應源24之莫耳流 率的先前接收信號’以及確認已降低該廢氣原料反應區供應源24的莫 耳流率時,該控制器啟動一流量控制元件的開口,例如一閥門(例如閥 門50)以開始從該含補充氣體原料48的來源供應該含補充氣體原料48 至反應區10 ’或增加該含補充氣體原料48來源至反應區1〇之該含補 充氣體原料48的莫耳分率供應。 在另這些具體實施例中,藉由降低排放自該廢氣原料製程2〇 之廢氣原料18的莫耳分率降低該廢氣原料反應區供應源24至反應區 的莫耳77率供應’或終止該供應。這些具體實施例巾,相對地開始 含補充氣體原料48至該反應區1Q的供應,或相對地增加含補充氣體 原料48雜反應區1G的莫耳分率供應朗應排放自該廢氣原料製程 2尸〇之廢乳原料18莫耳分率降低,或被排放自該廢氣原料製程洲之廢 氣原料18莫耳分率降低指標的侧。在一些具體實施例中,提供用於 偵測該廢氣原料18之莫 、 其耳抓皁的一流夏計,以及將代表該廢氣原料 旦卞率的信號傳遞至該控制器。當該控制器比較來自該流 料18目前測得莫耳流率的接收信號與代表該廢氣 …、耳鲜的—先前躲錢,以及輕已降低該廢氣 74 201142017 原料18❸莫耳流率時,該控制器啟動一流量控制元件的開口,例如_ 閥門(例如閥門50)以開始從該含補充氣體原料48的來源供應該含補 充氣體原料48至反應區1〇,或增加該含補充氣體原料48來源至反應 區10之該含補充氣體原料48的莫耳分率供應。 在一些具體實施例中,當開始供應該含補充氣體原料48至反應區 10,或增加該含補充氣體原料48至反應區1〇的莫耳分率供應時,將 置於反應區10的光養生物質暴露於光合輻射光源之下。在一些具體實 把例中,藉由例如以控制器啟動的流量控制元件50調節該含補充氣體 原料48至反應區10的供應。在一些具體實施例中,當比較排放自該 廢乳原料製程20之廢氣原料18的測得莫耳流率與先前排放自廢氣原 料製程20之廢氣原料ι8的一先前測得的莫耳流率,以及確認已降低 邊排放自廢氣原料製程2〇之廢氣原料18的莫耳流率時,啟動該控制 器。 就製程中降低該廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇之莫耳分 率供應或終止供應,以及開始供應該含補充氣體原料48至反應區10, 或增加該含氣體原料48至反舰10之莫耳分率供應的任何上述 具體實施_言,這些具體實關巾,開始供應該含補充氣體原料48 至反應區10,或增加供應該含補充氣體原料48至反應區10的莫耳分 率供應可至少部分補償導因於降低該廢氣原料反應區供應源24至反 應區10之莫耳分率供應或終止供應之供應反應區10原料(例如該反應 饋料泣的原料)的莫耳供應率降低,或原料(例如該反應饋料泣的原 料)的供應終止。在一些具體實施例中,藉由實質上不影響該原料莫耳 75 201142017 分率供應之開始供應該含補充氣體原料48或增加莫耳分率供應以降 低該廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇的莫耳分率供應或終止該 供應而達到降低原料(例如該反應饋料22的原料)之莫耳供應率或終 止供應原料(例如該反應饋料22的原料)的補償作用。 在一些具體實施例中,組合(a)降低該廢氣原料反應區供應源24 至反應區10的莫耳分率供應,或終止該供應;以及(b)開始供應該含 補充氣體原料48至反應區10的供應,或增加該莫耳分率的供應可緩 和由於降低s亥廢氣原料反應區供應源24至反應區1〇的莫耳分率供應 或終止該供應所導致的反應區1〇授動減少。在一些具體實施例中,組 合被供應至反應區的該含補充氣體原料及任何該該廢氣原料反應區供 應源24作為至少一部分的該反應區饋料22,以及將該反應區饋料22 供應至反應區10並且攪拌反應區内的原料而使反應區1〇内任何兩點 之間光養生物質的莫耳濃度差異低於20%。在一些具體實施例中,該 擾拌可使反應區10内任何兩點之間光養生物質的莫耳濃度差異低於 10%。供應該含補充氣體原料48的目的係避免反應區内任何兩點之間 產生高於所欲最大的光養生物質濃度梯度。 在一些具體實施例中,該含補充氣體原料48係一種氣體。這些具 體實施例中,該含補充氣體原料48包括一液料内的分散氣體。這些具 體實施例中,該含補充氣體原料48包括空氣。這些具體實施例中,以 流體提供該含補充氣體原料48。 某些情況下’較佳為利用被排放自該廢氣原料製程2〇之廢氣原料 18的二乳化碳生長光養生物質,但是該排放廢氣原料a内的_氧化 76 201142017 碳莫耳濃度超過該光養生物質所欲的生長速率。依此,當一反應區饋 料22被供應至該反應區10,以及該供應自廢氣原料反應區供應源24 的反應區饋料22係排放自該廢氣原料製程2〇,而使該廢氣原料反應 區供應源24定義至少一部分的該反應區饋料22,該反應區饋料22的 二氧化碳濃度若過量時則暴露於該反應區饋料22的光養生物質可能 產生有害反應,此類二氧化碳的濃度至少部分歸因於被供應至廢氣原 料反應區供應源24之該廢氣原料18的二氧化碳莫耳濃度。 其他情況下,當一反應區饋料22被供應至該反應區10,以及該 反應區饋料22係供應自該補充二氧化碳供應源犯,而使該補充二氧 化碳供應源92定義至少-部分的該反應區㈣22,該補充二氧化碳 供應源92可能含有-極高濃度的二氧化碳(例如根據補充二氧化碳供 應源92的總莫耳數高於90莫耳%二氧化碳),而使暴露於該反應區饋 料22的光養生物質產生有害反應。 依此,在另一態樣中,二氧化碳被供應至該反應區1〇,以及該供 應二氧化奴義該反舰二氧化碳供應源。提供L氧化碳供應 源25A其中该濃縮二氧化碳供應源25A包含該反應區二氧化碳供應 源。遠濃縮二氧化碳供應源25A係摻混一補充氣體稀釋劑9〇。該滲混 可產生一經稀釋二氧化碳供應源25B,其中該經稀釋二氧化碳供應源 25B的一氧化碳莫耳濃度係低於該濃縮二氧化碳供應源的二氧化 奴莫耳展度。至少一部分該經稀釋二氧化碳供應源25β被供應至反應 區。違補充氣體稀釋劑9〇的二氧化碳莫耳濃度係低於該濃縮二氧 化碳供的二氧化碳莫耳濃度。在—些具體實施例中,該反應 77 201142017 區二氧化碳供應源包含排放自該廢氣原料製程2〇或其所定義的一氧 ,碳。在-些具體實施例中,該反應區二氧化碳供應源二該補』 氧化碳供應源92,或被其所定義。 另一態樣中,該廢氣原料18係排放自該廢氣原料製程罚,一濃 縮二氧化碳供應源25A被摻混以該補充氣體稀釋劑9〇,其中該濃縮二 氧化碳供應源25A包含-廢氣原料源性供應源24A,其中該廢氣原料 源性供應源24A被至少-部分排放自該廢氣補製程2q之廢氣原料 18所定義。該摻合產生一經稀釋二氧化碳供應源咖,其中該經稀釋 二氧化碳供應源25B的二氧化碳莫耳濃度係低於該濃縮二氧化碳供應 源25六的二氧化碳莫耳濃度。至少一部分該經稀釋二氧化碳供應源娜 被供應至反應區1G。該補統體稀侧9Q的二氧化韻耳濃度係低 於該濃縮二氧化碳供應源25A的二氧化碳莫耳濃度。這些具體實施例 中’當完成魏縮二氧化碳供應源25A與該補充氣體稀釋劑9〇的換合 之後’將置肢舰1〇 _光養生物縣級光合铋統之下。在 4*具體貝關中’該濃縮二氧化碳供應源25A被該廢氣原料源性供 應源24A所定義。在一些具體實施例中,該濃縮二氧化碳供應源a 包含该補充二氧化碳供應源92。這些具體實細巾,當觀完成之後 將該補充二氧化碳供絲92供應至該濃縮二氧化碳供應源25a。 在-些具體實施例中’該經稀釋二氧化碳供應源25β含有低於一 預設最大二氧化碳料濃度的二氧化碳莫耳濃度。在—些具體實施例 中,根據該經稀釋二氧化碳供應源25B的總莫耳數該預設最大二氧化 碳莫耳濃度係至少30莫耳%。在一些具體實施例中,根據該經稀釋二 78 201142017 氧化碳供應源25B的總莫耳數該預設最大二氧化碳莫耳濃度係至少加 莫耳%。在-些具體實施例中,根據該經轉二氧化碳供應源25β的總 莫耳數該預設最大一氧化碳莫耳濃度係至少10莫耳%。 在-些具體實施例中’摻合該補充氣體稀釋劑90與該濃縮二氧化 碳供應源25A以回應排放自該二氧化碳製程2〇之廢氣原料18内二氧 化碳莫耳濃度大於-賊最大二氧化碳莫耳濃度的_。在—些具體 實施例中’根據該廢氣原料18的總莫耳數該預設最大二氧化碳莫耳濃 度係至少1G莫耳%。在-些具體實施例中’根據該廢氣原料丨8的總莫 耳數該預設最大二氧化碳莫耳濃度係至少2〇莫耳%。在一些具體實施 例中,根據該廢氣原料18的總莫耳數該預設最大二氧化碳莫耳濃度係 至少30莫耳%。依此,在一些具體實施例中,提供用於侧該經排放 廢氣原料18之二氧化碳莫耳濃度的一具二氧化碳感應器781,以及將 代表該排放自廢氣原料製程2〇之廢氣原料18的二氧化碳莫耳濃度信 號傳遞至該控制器。當該控制器比較來自該二氧化碳感應器781代表 該廢氣原料18之測得二氧化碳莫耳濃度的—接收信號與—預設最大 氧化碳莫耳展度’以及確認該廢氣原料18的二氧化碳莫耳濃度大於 該預叹最大二氧化碳莫耳濃度時,該控制器啟動用於摻混該濃縮二氧 化碳供應源25A之該補充氣體稀釋劑9〇供應的一控制閥門9〇1或增大 其開口。 在-些具體實施例中’當二氧化碳被排放自該廢氣原料製程2〇, 、^至:>、邠刀3亥經排放一氧化碳被供應至反應區1〇,其中被供應 w區10的”亥至少一部分經排放二氧化碳定義一排放二氧化碳反 79 201142017 應區供應源,當_臟至反應㈣之經排放二氧化碳反應區供應 源莫耳分轉低的指標時,增加被供應至反舰W之補充二氧化碳 供應源92的莫耳分報應,或開始鶴賴充二氧化碳供應源犯至 反應區10。該補充二氧化碳供應源92被供應至該濃縮二氧化碳供應 源25A以回應該經排放二氧化碳反應區供應源至反應㈣之莫耳分率 供^氏指標的偵測,而使至少一部分該濃縮二氧化碳供應源脱被 魏縮二氧化碳供應源25A所定義,以及#至少—部分該濃縮二氧化 碳供應源25A被供應至反應區1G時,該濃縮二氧化碳供應源25a被推 混該補充氣體稀釋劑90以產生該經稀釋二氧化碳供應源25β。在一些 具體實施财,充二氧化碳供雜92絲源係—具二氧化碳氣 瓶。在-些具體實施例中,該補充二氧化碳供應源92的來源係一氣體 供應源。這些具體實施例中,當該濃縮二氧化碳供應源25A被換混該 補充二氧化碳供應源92而產生該經稀釋二氧化碳供應源25B,以及當 至少-部分該經稀釋二氧化碳供應源25B被供應至反應區1()時,將置 於反應區1G _該光養生物#絲於光合触締之下。在-些具體 實施例中,該濃縮二氧化雜麟B赫混賴充二氧化碳供應源 92以產生該經稀釋二氧化碳供應源25β而使該經稀釋二氧化碳供應源 25B含有低於該預設最大二氧化碳濃度的二氧化碳莫耳濃度。在一些 具體實施例巾’摻混_作係喊該濃縮二氧化碳供觸、25A(其包含 該補充二氧化碳供應源92)内之二氧化碳莫耳濃度高於預設最大二氧 化礙莫耳濃度_測。在-些具體實酬巾’降低趣減二氧化碳 反應區供麟至反應H 1G之莫耳分報應的指標餘何-種上述的 201142017 指標。在-些具體實施射,當姆低被認為僅是—種短暫現象(例如 短於兩週)時為維持該光養生物質恒定的生長速率,提供用於補償該廢 氣原料反應區供應源24至反應區10之莫耳分率供應降低的補充二氧 化碳供應源92 〇 這些具體實施例中,該濃縮二氧化碳供應源25A包含補充二氧化 碳供應源92,以及該濃縮二氧化碳供應源25A被摻混該補充氣體稀釋 劑90以產生該經稀釋二氧化碳供應源25B,以及至少一部分該經稀釋 二氧化碳供應源25B被供應至反應區,摻合該濃縮二氧化碳供應源25八 與s亥補充氣體稀釋劑90係用於產生含有一預設二氧化碳莫耳濃度的 該經稀釋二氧化碳供應源25B。 在一些具體實施例中,該補充氣體稀釋劑90係氣體。在一些具體 實施例中,該補充氣體稀釋劑90係以氣流方式被供應至該濃縮二氧化 碳供應源25A。 置於反應區10内的該反應混合物被暴露於光合輻射光源之下而 可進行有效的光合作用。該光合作用可使光養生物質獲得生長。在一 些具體實施例中,提供置於水性介質内富含二氧化碳的光養生物質, 以及將該置於水性介質内富含二氧化碳的光養生物質暴露於光合輻射 光源之下以進行光合作用。 在一些具體實施例中’該光輻射的波長係介於4〇〇〜700 nm之間。 在一些具體實施例中,該光輻射係自然光線。在一些具體實施例中, 藉由人工光源14提供該光輻射。在一些具體實施例中,該光輻射包括 自然光線和人工光源。 201142017 在-些具體實施例中,控制該光線的強度以符合反應區1〇内該光 養生物質所欲的生長速率。在一些具體實施射,根據反應㊄1〇内該 光養生物質生長速率的測定調節該光線的強度。在一些具體實施例 中’根據至該反應區饋料22的二氧化碳莫耳分率供應調節該光線的強 度。 在一些具體實施例中,視反應區1〇的條件提供在預設波長的光 線。但是該光線通常為1 : 4的藍色光源和紅色光源。此比例視所使用 的光養生物而不同。同樣’當需要模仿每曰循環模式時可改變該比例。 例如^模仿丙昏或暮色時提供更多的紅色光,以及當模仿中午狀況 時提供更多的藍色光。此外’藉由提供更多藍細仿人工回收循環時 可改變此比例。 已發現藍光模仿在一段快速生長之後被破壞再重建内部構造的海 藻細胞’而紅光則可促進海藻的生長。同樣,已發現祇要提供足夠的 二氧化碳以及,在-些具體實施例巾,提供其他營養素,從光譜中排 除綠光可在甚至超過先前已被鑑定為水中的"飽和點"仍使海藻於反應 區10内持續地生長。 就人工光源而言,適當人工光源14包括沈入式光纖、發光二極 體、LED帶和螢光。技術中已知的任何㈣帶可被用於此製程。在沈 入式LEDs的例子中,其設計包括使用太陽能電池供應電力 。該沈入式 LEDs例子的一些具體實施例中,能源包括另類能源例如風力、光伏電 池、燃料電池等以供應LEDs的電力。 就该反應區10被置於包括桶子之光生物反應器12内的具體實施 82 201142017 例而言,這些具體實施例中,從下列的組合光源提供該光能。從陽光 捕捉自然光源16通過太陽能集熱器及以及利用能通過所欲光波長的 習知透鏡過濾至該反應區1〇。然後從太陽能集熱器將經過濾光通過光 導管或光纖材料傳遞入分散於反應區丨〇内的該光生物反應器12。在 一些具體實施例中,除了陽光之外在黑暗期間(例如夜間)視需要亦能 在光生物反應器12内反應區1〇提供具有特定波長或完全光源之高功 率LED陣列的燈管。在一些具體實施例中,就光導管而言,利用傳熱 介質(例如乙二醇溶液)包圍該光生物反應器12内的光導管而可調節 光導管内的溫度以及’在-些情況下,耗散該光導管的麵而進入該 反應區10内。在一些具體實施例中,預測該LED的所需功率,因此可 控制根據廢氣原料18的排放趨勢而有助於預測該光養生物質的進一 步生長速率。 在一些具體實施例中,當開始供應該反應區饋料22時將該反應混 合物暴露於光合輕射光源之下。 在一些具體實施例中,該光養生物質的生長速率取決於可用的廢 氣原料反應區供應源24(定義排放自該廢氣原料製程2〇的至少一部分 廢氣原料18以及供應至反應區1〇)。其繼而定義最大化光養生物質生 長速率所需的營養素、水和光強度。在一些具體實施例中,提供用於 監視和控制此處揭示製程之各種操作元件包括光線、波長、感應器、 鼓風機、風扇、阻尼器、泵浦等的控制器,例如一電腦系統。 反應區產物500係排放自該反應區。該反應區產物5⑽包括光養 生物質58。在一些具體實施例中,該反應區產物5〇〇包含至少一部分 83 201142017 該反應區ίο的内容物。依此,可從該排放反應區產物5〇〇收集光養生 物質。在-些具體實施例中,一反應區廢氣產物8〇亦排放自該反應區 10。 另一態樣中,提供反應區10内用於光養生物質生長的製程包括根 據光養生物質生長指標的偵測調節排放該光養生物質的莫耳分率。 暴露於光合輻射光源之下用於進行光合作用之生產用途反應混合 物係置於該反應區10内。該生產用途反應混合物包括可於反應區1〇 内生長之用於生產用途的光養生物質。依此,在反應區1〇内提供生產 用途光養生物質的反應H濃度。置於反舰1G⑽該反應混合物被暴 露於光合輻射光源之下及在反應區内進行生產用途光養生物質的生 長’以及從反應區10排放出該生產用途光養生物質,當偵測到反應區 1〇内光養生物質生長指標與預設光養生物質生長指標目標值之間的 差異時’該製程包括調節反應區10内該生產用途光養生物質的排出莫 耳分率’其中以置於反應區10内及已暴露於光合輻射光源之下的該該 生產用途光養生物質反應混合物之預設莫耳生長分率校正該預設光養 生物質的生長指標目標值。該生產用途光養生物質的有效生長包括藉 由光合作用進行的生長。在一些具體實施例中,該生長包括藉由消耗 置於反應混合物内補充營養素的代謝過程。 該預設光養生物質生長指標目標值相當於置於反應區10内及已 暴路於光合轄射光源之下該反應混合物之光養生物質生長指標目標值 的生產用途光養生物質莫耳生長分率,其係預設的莫耳生長分率。 在一些具體實施例中,以置於反應區1〇内及已暴露於光合輻射光 84 201142017 源之下該反應混合物之生產用祕養生物_設生長速率的⑽進行 該生產用途光養生师的生長。在—些具體實關巾,以置於反應區 10内及已暴露於光合触光狀下減應混合物之生脑途光養生 物質預設生長速率的5%進行該生產用途光養生物質的生長。在一些具 體實施例巾,以置於反舰1G内及6暴露於光絲縣源之下該反應 混合物之生翻it光養生㈣預設生長速率的職行該生產用途光 養生物質的生長。 在-些具體實關中,賴節係喃—測得光養生物質生長指標 與該預設光養生物質生長指標目標值的比較。 在-些具體實施例中,該製程進—步包括偵測—光養生易質的生 長指標以產生該測得光養生物質生長指標。 在-些具體實施财’該光養生㈣生長指觀置於該反應區10 内反應混合物的光養生物質莫耳濃度。 在-些具體實施例中,該測得光養生物質生長指標係代表置於該 反應區1G内反應混合物之生產用途光養生物_莫耳濃I依此,這 些具體實施例中’該測得光養生物質生長指標係反應區1〇内反應混合 物之生產職光養生物質的莫耳濃度。在其—這些频實施例中,= 測得光養生物質生長指標係反應區產物_内該生顏絲養生物質 的莫耳漠度。在-些具體實施例中,藉由細胞計數器47偵測該濃度。 例如,-種適當細胞雜H雜應自美__辛職賊之晌卜 Danulat公司的AS-撤單通道吸收探針。用於歌光養生物質指標之 莫耳濃度的其他適當裝置包括其他光散射感應器,例如一分光光度 85 201142017 計。同樣’可人卫測定該光養生物f的莫耳濃度,紐_值手動輸 入至該控制器以獲得所欲的反應。 在一些具體實施例中,對該光養生物質生長的影響包括供應二氧 化碳至該反應區10以及將該生產用途反應混合物暴露於光合輻射光 源之下。在一些具體實施例中,該被供應的二氧化碳係供應自該廢氣 原料製程20的廢氣原料18。在一些具體實施例中,該被供應的二氧 化碳係供應自該廢氣原料製程2〇的廢氣原料18,其係於廢氣原料18 被排放自該廢氣原料製程2〇時,以及至少一部分廢氣原料18被供應 至反應區饋料22(作為廢氣原料反應區供應源24)時,以及該反應區饋 料22被供應至反應區1〇時。依此,在一些具體實施例中,當開始生 長時將二氧化碳供應至該反應區1〇,其中當該廢氣原料18被排放自 一廢氣原料製程20時至少一部分被供應至反應區1〇的二氧化碳係供 應自廢氣原料18。 在一些具體實施例中,該生產用途反應混合物進一步含有水和二 氧化碳。 這些具體實施例中,該光養生物質生長的預設莫耳分率,如上所 述,係根據被置於反應區10内反應混合物以及被暴露於光合輻射光源 下之該光養生物質生長的最大莫耳分率。 在一些具體實施例中,該生產用途光養生物質的預設莫耳生長分 率係置於反應區10内及被暴露於光合輻射光源之下該反應混合物之 生產用途光養生物質最大莫耳生長分率的至少90%。在一些具體實施 例中,該生產用途光養生物質的預設莫耳生長分率係置於反應區1〇 86 201142017 内及被暴露於光合姉絲之下該反應混合物之生剌途光養生物質 最大莫耳生長分率的至少95%。在一些具體實施例中,該生產用途光 養生物質的預設莫耳生長分率係置於反應區10内及被暴露於光合輻 射光源之下該反應混合物之生產用途光養生物質最大莫耳生長分率的 至少99%。在一些具體實施例中,該預設莫耳生長分率相當於置於反 應區10内及被暴露於光合輻射光源之下該反應混合物之生產用途光 養生物質的最大莫耳生長分率。 在一些具體實施例中,當調節來自反應區10所排放之該生產用途 光養生物質的莫耳分率時,將置於反應區1〇内該反應混合物的體積維 持在至少一(1)小時之恒定或實質上恒定的一段時間。在一些具體實施 例中,該一段時間係至少六(6)小時。在一些具體實施例中,該一段時 間係至少24小時。在一些具體實施例中,該一段時間係至少七(7)天。 在一些具體實施例中,當完成該調節時,就達到該製程的最佳經濟效 盈而§,置於反應區内的該反應混合物體積被維持恒定或實質上恒定 的一段時間而使該預設光養生物質生長指標值,以及該光養生物質生 長之預設莫耳分率於該段時間内被維持在恒定或實質上恒定。 在一些具體實施例中,該反應區10被置於光生物反應器12内, 以及該生產用途光養生物質藉由供應水性饋料4至該反應區1〇的置換 方式被排放自該光生物反應器12(和反應區丨〇)。換言之,供應水性饋 料4至該反應區1〇以從光生物反應器i2(和反應區1〇)置換該生產用 途光養生物質,因而從該光生物反應器丨2(和反應區10)排放該生產用 途光養生物質。在一些具體實施例中,該生產用途光養生物質係藉由 87 201142017 光生物反應器12的溢流置換方式被排出該 在-些具體實施例中,該水性饋料4實質上不含物質。 在其他具體實酬巾’該雜綱対赌反舰ig岐航合物之 光養生物質的莫耳濃度。 在-些具體實施射’該水性綱4係供應自水性频4供應源 6的流液。例如’該流液的動力係來自原動機,例如泵浦。在一些具 體實施射’該水性騎包含該极顧供麟44。如上所= 在-些具體實施例中’至少-部分該補充水性原料供應源44被供應自 -容器28。依此’在水性饋料4内含有該補充水性原料供應源44的 具體實施例中’該容器係作為該水性饋料4的供應源6。 在-些具體實施例中’該水性饋料4包括補充營養供應源42和補 充水性原料供麟44。這些具體實關巾,該水性騎4被供應至該 反應區10上游的反應區饋料22。依此,如上所述及參照第2圖,這 些具體實施射,棚絲频_ 42和觀樣補鋪源M通 過反應區10上游的喷頭40被供應至反應區饋料22。 在-些具體實施财,當刻得光養生物f的生長指標係置於反 應區10内反應混合物之光養生物質的莫耳濃度,以及該置於反應區 10内反應混合物的光養生物質莫耳濃度低於預設光養生物質莫耳濃 度目標值時’該調節包括降低排放自反應區10之生產用途光養生物質 所排放的莫耳分率。這些具體實施例中,藉由供應水丨續料4至反應 區10的置換方式從反應區1〇排放該生產用途光養生物質,以及藉由 降低該水性饋料4至反應區1〇的莫耳分率供應或終止該供應以降低從 88 201142017 反應區ίο排放該生產用途光養生物質的莫耳分率◊依此,當藉由此類 置換方式排放該生產用途光養生物質時,在一些具體實施例中,該測 得光養生物質生長指標係置於反應區10内反應混合物的光養生物質 莫耳濃度,當比較該置於反應區10内反應混合物之光養生物質藉由細 胞計數ϋ 47制得的莫耳濃度無設光養生物體耳濃度目標值,以 及確認該測得莫耳冑度係i於該預設光養生物質的莫耳濃度目標值 時’該控制器藉由降低該水性饋料4至反應區1〇的莫耳分率供應或終 止該供應作為回應’因而降低或終止該生產職生物倾反應區 10排放的莫耳分率。在—些具體實施射,該控制器藉由啟動置於可 幫助從供應源6供應該水性饋料4流液至反應11()之液道内一控制閱 441的開口減小而降低該水性饋料4供應至反應區1〇的莫耳分率。在 一些具體實施例巾,該控㈣藉由啟動置於可伽從供應源6供應該 水性饋料4流液至反應區1Q之液道内一控制閥441的關閉而終止該水 性鎖料4至反舰1〇的供應。在—些具體實施例中,該水性饋料4 机液的動力係來自—原動機,例如泵浦281。在—些具體實施例中, 該水性饋料4流液_力係㈣重力。在—些具體實施例巾,該水性 饋料4包括供應自容器、28的補充水性原料供應源44。在一些具體實 關中,該水性饋料4係供應自容器28的補充水性原料供應源仏。 k些具體實施例中’該補充水性原料供應源44係藉由泵浦28丨被供應 谷器28以及在另-這些具體實施例中,該補充水性原料供應源仏 係藉由重力被供應自抑28。在—些具體實施例中,當提供原動機(例 如粟浦281)作為該水性饋料4至反舰1()的流動力時,控制器藉由 89 201142017 啟動該原動機38(例如泵浦281)供應至水性饋料4的電力降低,例如 藉由降低3亥原動機38的速度可降低供應該水性饋料4至反應區的 莫耳分率。在一些具體實施例中,當提供原動機(例如泵浦281)作為 該水性饋料4至反應H 10的流動力時,控制器藉由啟動該原動機38 的停止可終止該水性饋料4至反應區1〇的供應。 在-些具體實施例巾’當該測得光養生物質的生長指標係置於反 應區1G喊應混合物之光養生物質的莫耳濃度,以及該置於反應區 10内反應齡物的光養生㈣翁莫耳濃度高於預設光養生物質莫 耳濃度目標值時’該調節包括增加排放自反應區1〇之生產用途光養生 物質所排放的莫耳分率。這些具體實施_中,這些具體實施例中, 藉由i、應水[生饋料4至反應n 1〇的置換方式從反應㊣1〇排放該生產 用途光養生物f,以及藉蝴始供應該雜綱4至反舰1()或增加 莫耳分率供應明加從反舰1G排放該生產職光養生物質的莫耳 分率。依此,當藉由此類置換方式排放該生錢途光養生物質時,在 -些具體實施例巾’該測得光養生物質生長指標係反躯内光養生 物貝的莫耳濃度,當比較該置於反舰1()内反應混合物之光養生物質 藉由、·、田U數器47所#将的莫耳濃度與預設光養生物質莫耳濃度目 標值,以及確職測得料濃度絲於該預設光養生物質的莫耳濃度 目標值時,該控制器藉由開始供應該水性饋料4至反應區丨Q或增加莫 耳分率供應作如應’因㈣域生產舰光養生物反應區1〇 排放的莫耳分率。在-些具财施例巾,該控継齡啟動置於可幫 助攸供應源6供應該水性饋料4流液至反麵iQ之液勒一控制間 201142017 441的開啟而開始供應該水性饋料4至反應區10。在-些具體實施例 中,雜制器II由啟動置於可幫助從供舰6供應該水賴料4流液 ’心品〇之液道内一控制閥441的開口增大而增加該水性饋料4 至反應區10的莫耳分率供應。在一些具體實施例中,該水性饋料4 流液的動力係來自—原動機,例如泵浦281。在—些具體實施例中, U玄水!·生饋料4 I液的動力係藉由重力。在—些具體實施例巾,該水性 饋料包括供應自容器28的補充水性原料供應源44。在一些具體實施 例中《亥水生館料係供應自容器28的補充水性原料供應源料。這些 具體實施例中,該補充水性原料供應源44係藉由泵浦28丨被供應自容 器28,以及在另一這些具體實施例中,該補充水性原料供應源44係 藉由重力被供應自容H 28。在—些碰實施射,#提供原動機(例 泵# 281)作為„亥水性饋料4至反應區1〇的流動力時,控制器藉由 啟動該原動機而開始供應該水性饋料4至反應區1〇。在一些具體實施 例中,當提供原動機(例㈣浦281)作為該水性饋料4至反應區1〇的 流動力時’控制器藉由啟_職機至水性饋料4關始增加電力供 應而增加該水性饋料4供應至反應區1〇的莫耳分率。 在一些具體實施例中,藉由流暢地偶合至反應區1〇的一原動機從 反應區1〇排放出該光養生物質58。依此,在一些具體實施例中,從 反應區排放該光養生物f之莫耳分率賴節包括·· ⑴調節供應至該縣機的電力而使其從反應區1()排出光養生 物質以回應差異存在於測得光養生物質生長指標(置於反應區内的反 應混合物)與預設光養生师生長指標目標值的伽,其中藉由置於該 91 201142017 反應區ίο内反應混合物中光養生物質生長之預設莫耳分率及暴露於 光合輻射光源之下校正該預設光養生物質生長指標目標值;以及 (ii)當完成調節供應至該原動機的電力時,調節供應該補充水 性原料供應源44至反應區1〇的莫耳分率以回應差異存在於反應區内 反應混合物之測得體積指標與預設反應混合物體積指標值之間的偵 測,其中該預設反應混合物體積指標值係代表當反應混合物内該光養 生物質生長指標係生長於預設光養生物質生長指標目標值時,反應混 合物内光養生物質生長於預設莫耳分率之該反應區1〇内反應混合物 的體積。 在一些具體實施例中,該反應區1〇内反應混合物體積指標(或簡 稱為”反應混合物體積指標")係指反應區10内反應混合物的上液位。 在一些具體實施例中,藉由一液位計測定此上液位。依此,在一些具 體實施例中,提供偵測反應區1〇内反應混合物之液位的液位計,以及 將代表該測得液位的信號傳遞至一控制器。該控制器比較該接收信號 與一預設液位值(代表預設反應混合物的體積指標值)。若接收信號低 於預設液位值時,該控制器以例如藉由用於干擾該含補充氣體原料48 至反應區10之閥門的開啟(供應開始時)或增大開口(增加莫耳分率供 應時)而開始該含補充氣體原料48至反應區10的供應,或增加莫耳分 率供應作為回應。若該接收信號高於預設液位值時,該控制器以例如 藉由用於干擾該含補充氣體原料48至反應區10之閥門的減小開口(降 低莫耳分率供應時)或關閉(終止該供應時)而降低該含補充氣體原料 48至反應區1〇的莫耳分率供應,或終止該供應作為回應。藉由調節 92 201142017 該含補充氣體原料48至反應區10的供應可使反應區1〇内維持在所欲 液位,為了最佳化反應區10内該光養生物質的生長莫耳分率,供應補 充水至反應區10以代替與光養生物質從反應區1〇被排出的水,以及 因而可最佳化從反應區10被排出之光養生物質的莫耳分率。 在一些具體實施例中,當完成該光養生物質從反應區10排出之莫 耳分率的調節時,該製程進一步包括調節供應該補充營養供應源至反 應區的莫耳分率以回應反應區10内一或多種營養素(如N〇3)之測得濃 度與一對應預設目標濃度值之間差異的偵測。 在一些具體實施例中,當完成該光養生物質從反應區10排出之莫 耳分率的調節時,該製程進一步包括調節供應二氧化碳至反應區的莫 耳为率以回應至少'一種一氧化碳處理重指標的摘測。在一些具體實施 例中,在反應區10内完成該至少一種二氧化碳處理量指標的偵測。該 測得的二氧化碳處理量指標係代表用於接收二氧化碳之反應區10容 量以及將至少一部分該接收二氧化碳轉變成用於反應區内光養生物質 之光合作用的任何特性。在一些具體實施例中,該測得的二氧化碳處 理量指標係反應區10内的pH。在一些具體實施例中,該測得的二氧 化碳處量指標係反應區10内光養生物質的莫耳濃度。 在一些具體實施例中,當完成從反應區1〇排放該光養生物質之莫 耳分率的調節時’該製程進一步包括調節該反應混合物暴露於光合輕 射光源的強度以回應供應二氧化碳至反應區1〇之莫耳分率變化的偵 測。 另一態樣中’該製程進一步包括設定該預設光養生物質生長指標 93 201142017 的目心值依此’提供代表該生產用途反應混合物及暴露於光合輕射 光源之下可進行光。侧的評侧途反應混合物,因而該評估用途反 應混合物的祕生物質係—種代表該生產用途光養生物f的評估用途 光養生物質。在-些具體實施例中,該生錢途反應混合物進—步含 有水和二氧化碳’以及該評估用途反應混合物進—步含有水和二氧化 碳。當置於反躯1〇 _該評估騎反應混合物被暴露於光合輕射光 源,以及在評侧途反應混合物__評侧絲養生㈣的生長 時’該製程進一步包括: ⑴至少定騎_該光養生物f的生長指標以提供於一段時 間内("至少定期地"意指在相同或不關隔日_被斷續地或連續地 摘測)被_之光養生物質生長指標的複數個侦測值; 、(ii)根據絲養生物質生長指標的複數個_值計算該評估用 途光養生刪跑綱,目評估用途光 養生物質的複數個莫耳生長分率;以及 (m)根_光養生物質生長指標計算得到的料生長分率和 測得值所粒断侧絲養生物質辦博自財线 莫耳生長分率_ ’因而該評估用途光她質 、長Μ與絲養生物質生長指標之間所建立的關係係代表反 ::觸生產贱光養生婦之莫耳生長分率與該光養生物質生 長純之__,因此可提供反·丨Q内該生相途光養生物質斑 絲養生物質生長指標間之莫耳生長分率的關係。 ^ 從該計算得麵莫耳生長分轉擇—财財生長鲜。該光養 94 201142017 生物質生長指標目標值被定義為根據反舰㈣生產崎光養生物質 之莫耳生長鲜與絲養生㈣生長指標之間關棚係,而以該預 設莫耳生長分柄設定的光纽物質生紐標。紐,耻亦可獲得 該光養生物質生長指標目標值與該預設莫耳生長分率之_相關性。 在-些具體實施财,#反·被定性在至少—餅估用途生長 條件時’進行反應區10内該評估用途光養生物質的生長,其中每一該 至少-種評_途的生絲件代表反應區1G嶋生產騎光養生物 質之該反舰1G所定性的-齡產用途生絲件。在—些具體實施例 中’該生產用途生長條件係複數種生產用途生長條件中的任何一種包 括反應混合物的組成、反應區溫度、反應區pH、反應區光強度、反應 區光照計晝(例如強度變化)、反應區光照週期(例>光照週期開/關期 間)’以及反應區溫度。在一些具體實施例中,提供一或多種評估用途 生長條件’其每一種均代表反應區1〇内生產用途反應混合物暴露於可 促進隶佳化I造3玄生產用途光養生物質之生長的一種生產用途生長條 件。 另一悲樣中’當该光養生物質生長於或極接近反應區1〇内該最大 莫耳生長分率時,該光養生物質可排放反應區内至少接近該光養生物 質之莫耳生長分率的莫耳分率。 當暴露於光合輻射光源之下可進行光合作用之生產用途反應混合 物形式的反應混合物被置於反應區10内。該生產用途反應混合物包含 反應區10内用於生長之生產用途光養生物質形式的光養生物質。當置 於反應區10内的該反應混合物被暴露於光合輻射光源之下以及該生 95 201142017 產用途光養生物質開始於反應混合物内生長時,以反應區1〇内可開始 生長該生產用途光養生物質的10%以内莫耳分率從反應區1〇排出該生 產用途光養生物質。以反應混合物内被置於反應區1〇内並且暴露於光 合輻射光源下之該生產用途光養生物質至少90%最大生長速率的莫耳 分率進行反應區10内該生產用途光養生物質的生長。在一些具體實施 例中,該生產用途光養生物質的排放莫耳分率為反應區10内該生產用 途光養生物質之莫耳生長分率的5%以内。在一些具體實施例中,該生 產用途光養生物質的排放莫耳分率為反應區10内該生產用途光養生 物質之莫耳生長分率的1%以内。在一些具體實施例中,以被置於反應 區10内並且暴露於光合輻射光源下之該生產用途光養生物質至少95% 最大生長速率的生長莫耳分率進行反應區1〇内該生產用途光養生物 質的生長’以及這些具體實施例中,以反應區10内該生產用途光養生 物質5%以内,例如1%以内的莫耳生長分率提供該生產用途光養生物質 的排放莫耳分率。在一些具體實施例中,以被置於反應區1〇内並且暴 露於光合輻射光源下之該反應混合物内生產用途光養生物質的至少 99%最大生長速率進行反應區10内該生產用途光養生物質的生長,以 及這些具體實施例中,以反應區1〇内該生產用途光養生物質5%以内, 例如1%以内的莫耳生長分率提供該生產用途光養生物質的排放莫耳 分率。 在一些具體實施例中,使該生產用途光養生物質生長的因素包括 供應二氧化碳至該反應區10以及暴露該生產用途反應混合物於光合 輕射光源之下。在一些具體實施例中,該被供應二氧化碳係供應自廢 96 201142017 氣原料製程20的廢氣原料18。在一些具體實施例中,當該廢氣原料 製紅20排放出廢氣原料18以及當至少一部分該廢氣原料π被供應至 反應區饋料22(成為廢氣原料反應區供應源24),以及當該反應區饋料 22被供應至反應區1〇時,該二氧化碳被供應自該廢氣原料製程2〇的 廢氣原料18。依此,在一些具體實施例中,當開始生長時將二氧化碳 供應至該反應區10,其中當該廢氣原料被排放自廢氣原料製程時該供 應至反應區的至少一部分二氧化碳係供應自一廢氣原料。 在一些具體實施例中,該反應區1〇被置於一光生物反應器12内, 以及藉由回應水性饋料4供應至該反應區10的置換方式從該光生物反 應器12(和該反應區1〇)排放出生產用途光養生物質。換言之,藉由供 應水性饋料4至該反應區1〇可置換從該光生物反應器12(和該反應區 10)排出的生產用途光養生物質,因而使該生產用途光養生物質從光生 物反應益12(和該反應區1〇)被排出。在一些具體實施例中,該生產用 途光養生物質產物以溢流方式從光生物反應器被排出。 在一些具體實施例中,該水性饋料4被供應至反應區1〇並且從反 應區10置換該生產用途光養生物質’因而使該生產用途光養生物質從 反應區10被排出。這些具體實施例中,該水性饋料4包含實質上無生 產用途的光養生物質。其一這些具體實施例中,該水性饋料4包含濃 度低於反應區内該生產用途光養生物質濃度之生產用途光養生物質的 濃度。 在一些具體實施例中,就該水性饋料4而言,該水性饋料4係以 流液方式被供應自水性饋料4的供應源6。例如,該流液的動力係來 97 201142017 自原動機,例如泵浦。在一些具體實施例中,該水性饋料包含該補充 水性原料供應源44。如上所述,在一些具體實施例中,至少一部分該 補充水性原料供應源44被供應自一容器28。依此,在水性饋料4内 含有该補充水性原料供應源44的具體實施例中,該容器係作為該水性 饋料4的供應源6。 在一些具體實施例中,該水性饋料4包括補充營養供應源42和補 充水性原料供應源44。這些具體實施例中,該水性饋料4被供應至該 反應區10上游的反應區饋料22。依此,如上所述及參照第2圖,這 些具體實施例中,該補充營養供應源42和補充水性原料供應源44通 過反應區10上游的喷頭4〇被供應至反應區饋料22。 這些具體實施例中,如上所述,藉由流暢地偶合至反應區1〇的一 原動機從反應區10排放出該光養生物質。在一些具體實施例中, 該補充水性原料供應源44被供應至反應區10因而,如上所述,可使 反應區10内的反應混合物維持在一預設體積。 另一態樣中,以符合反應區10内該光養生物質的莫耳生長分率排 放出該光養生物質。在一些具體實施例中,此可減緩反應區1〇内該光 養生物質的衝擊。就—些具體實施例而言,經由該補充水性原料供應 源44的莫耳分率供應控制該光養生物質的排放,其影響來自光生物反 應器12之含光養生物質產物500從該光生物反應器12的置換。例如, 以溢流方式排放該包含光養生物質的產物5〇〇。這些具體實施例中, 溢流於光生物反應器12的光養生物質上部分懸浮於反應區1〇内(例如 該光養生物質經由光生物反應器12的溢流部分被排出)而獲得該含光 98 201142017 養生物質產物500。在其他具體實施例中,利用與該光生物反應器a 出口流暢地相通之置於液道内的閥門控制該被排放的產物5〇〇。 在一些具體實施例中,連續地排放該產物5〇〇。在其他具體實施 例中,定期地排放該產物。在一些具體實施例中,該含光養生物質產 物500内的生物質莫耳濃度被設計成維持在極低濃度之下排放該產 物。έ亥光養生物質包含海藻的具體實施例中,就一些具體實施例而言 較佳為於較低莫耳濃度之下排放該產物5QQ喊_絲之莫耳生長 分率於反舰1G内魏地改變。钱地改變可能造成縣細衝擊, 其因而長期導致較低的產量。在-些具體實施例中,#該光養生物質 係海藻以及,更明確而言係斜生_(s· QbUquus)時,此海藻於該含 光養生物質產物5GG内的濃度為每升Q. 5至3克之間。被排放海藻產 物500的所欲濃度視株而定,_其濃度範隱化視該海藻 株而定。依此’在-些具體實施财,較佳為於反應翻維持一預設 水含量以促進該光養生物質喊適生長,从錢由㈣賴充水性 原料供應源44的供給亦可被影響。 該含光養生物質產物5〇〇由人p . 匕3水。在一些具體貫施例中,該含光 養生物貝產物5GG被供應至—分離器52以有效地從該含光養生物質產 物500移除至少-部分的水而形成中間濃度之含光養生物質產物料 及回收水性原料72(在一此且+ ―一體貝轭例中為實質水)。在一些具體實施 例中,該分離器52係一種高速 门雜〜分離α 52。分離ϋ 52的其他適當 貫例包括一傾析、一沈降管或外 次池、一备、凝裝置,或一漂浮裝置。在一 些具體實施例中,該回收水性 生原枓72被供應至一容器28,例如被製 99 201142017 程再利用的容器。 在一些具體實補巾’於排出物㈣之後以及供應至該分離 器52之前,該含光養生物質產物5〇〇被供應至收集池%。該收集池 54具有作為光生物反應器12和分離器52間之緩衝,以及於該收集池 54從多個光生物反應器接收不同株生物質時作為混合容器的功能。後 者,藉由裁製產自該混合物之燃料類型或等級的一套預設特性可產生 客製化生物質混合株。 如上所述,該容器28提供用於反應區1〇之補充水性原料供應源 44的來源,及於補充水性原料供應源44被供應至反應區1〇之前具有 谷納该補充水性原料供應源44的功能。降低含光養生物質終產物36 的濕度,以及經由乾燥機32内的蒸發而造成一些具體實施例中的失 水。為收集自製程之谷器28内的補充水性原料可被供應至反應區1〇 作為補充水性原料供應源44。在一些具體實施例中,該補充水性原料 供應源44精由果浦281被供應至反應區1〇。其他具體實施例中,若 製程系統的製程設備配置容許之下可藉由重力進行該供應。如上所 述’該收集自製程的補充水性原料包含至少一種:(a)反應區饋料22 供應至反應區10之前已被冷凝之反應區饋料22的水性原料70 ;以及 (b)分離自含光養生物質產物5〇〇的水性原料72。在一些具體實施例 中’該補充水性原料供應源44被供應至反應區10而從反應區置換該 產物500。在一些具體實施例中,該產物500以溢流方式從光生物反 應器12被置換。在一些具體實施例中,該補充水性原料供應源44被 供應至反應區10而藉由稀釋置於反應區内的反應混合物使反應區内 100 201142017 光養生物質達到所欲的預設濃度。 可被用作為容納收集自該製程之水性原料之特定構造容器28的 實例,如上所述,包括但不侷限於桶、池塘、槽、渠、池、管、管道、 渠道和水道。 在-些具體實施例中,當廢氣原料製程2G排放出該廢氣原料18, 以及當該純祕反躯供絲24被供應至奴應_料22時,開 始將該補充水性原料供應源44供應至反應區10。在一些具體實施例 中’當完成該補充水性原料供應源至反應區1〇的供應時,將該置於水 性介質内富含二氧化碳的光養生物質暴露於光合輻射光源之下。 在-些具體實施射’根據綠生物f生長指標值娜一製程參 數預設目標值的偵測調節該供應至反應區1G的補充水性原料供應源 44 ’其中該光養生物質生長指標的預設目標值係根據該反舰内光養 生物質的預設莫耳生長分率。該光養生物質生長指標偏離光養生物質 生長指標之目標值的偵測’以及回應該_之供應該補充水性原料供 應源44至反應區10的調節已述於上文。 在一些具體實施例中,供應該補充水性原料供應源44至反應區 10取決於光養生物質的莫耳濃度。依此,藉由細胞計數器,例如上述 的細胞计數器,偵測反應區10内該光養生物質的莫耳濃度或反應區 10内3亥光養生物質的莫耳濃度指標。該光養生物質的測得莫耳濃度, 或該光養生物質莫耳濃度的測得指標被傳遞至控制器,以及當該控制 器確認該測得莫耳濃度超過一預設高限莫耳濃度值時,該控制器開始 供應該補充水性原料供應源44至反應器10,或增加該莫耳分率的供 101 201142017 w作為回應、在—些具體實施例中,該開始供應補充水性原料供應源 44至反應^ 1〇,或增加該莫耳分率的供應包括啟動—原動機,例如系 浦281 ’以開始供應該補充水性原料供應源44至反應區1〇,或增加該 莫耳分率的供應。在—些具體實施例中,供麟補充水性原料絲源 44至反應區1Q,或增加該莫耳分率的供應包括開啟驗干擾該補充水 性原料供應源44從容器28供應至反應區10之閥門的開口,或增大該 開口。 在一些具體實施例中,當該光生物反應器12内反應區1〇内容物 的上液位低於-預設最餘㈣,開始供應關充水性原料供應源 44(已被回收自該製程)至反應區1(),或增加該莫耳分率的供應。這些 具體實施例中’提供用於彳貞測該光生物反應器内反應區1()内容物上液 位之位置的液位計76,以及將代表該反舰1Q内容物上液位的信號 傳遞至雜彻。當該控制II比較來自液位計76代表反舰内容 物上液位的接收彳遺與—預設低限液位值,以及確認該反應區内容物 的測知上液位低於該預設低限液位值時,該控制關始供應該補充水 性原料供應源44,或增加該莫耳分率的供應。當藉㈣浦281供麟 補充水性原料供應源44至反應區1()時,該控制器啟動該泵浦281而 開始供應侧充水性補供麟44至反舰1G,或增加其供應速率。 田藉由重力供應該補充水性原料供應源44至反應區1〇時,該控制器 啟動的開始供應該補充水性原料供應源44至反應區 10,或增加該莫耳分率的供應。例如,控制反應區10内容物上液位的 位置攸關,如上所述,從反應區10較低部分自反應區10排放該光養 102 201142017 生物質58,例如當藉由流暢地偶合至反應區1〇之原動機從該反應區 10排放該光養生物質58的這些具體實施例之操作。在藉由從反應區 10溢流排放該光養生物質58的具體實施例中,控制反應區1〇内容物 的上液位位置與該光生物反應器12之”播種期"的操作過程有關。 在一些具體實施例中,當利用置於流暢地與光生物反應器12出口 流通之液道的閥門控制該產物5卯的排放時,可藉由一細胞計數器 47,例如上述的細胞計數器,偵測反應區内光養生物質的莫耳濃度。 該測得的光養生物質莫耳濃度被傳遞至控制器,以及當該控制器確認 該測得光養生物質莫耳濃度超過該光養生物質的預設高限莫耳濃度值 時,該控制器回應以開啟該閥門的開口或增大該開口而增加該產物 500從反應區1〇排出的莫耳分率。 在一些具體實施例中’提供額外補充水68的來源以減緩該補充水 性原料供應源44彌補製程操作期間水分喪失的不足。依此,在一些具 體實施例中,該補充水性原料供應源44於喷頭4〇内與反應區饋料22 相混合。反之,在一些具體實施例中,提供用於該容器28排放的排水 溝66以減緩從該製程回收超過彌補所需量的水性原料。 在一些具體實施例中,從該反應區10排放反應區廢氣產物8〇。 口收至少°卩为的該反應區廢氣產物80並且將其供應至燃燒程序操 作設備100的一反應區110。反應區10内光合作用的結果,相對該廢 氣原料反應區供應源24該反應區廢氣產物80富含氧氣。該反應區廢 氣產物80被供應至燃燒程序操作設備100的反應區11〇(例如置於反 應瓶内的一燃燒區110),以及因而其具有於燃燒程序操作設備1〇〇内 103 201142017 進行有效燃燒的功能。該反應區廢氣產物80接觸燃燒程序操作設備 100内可燃燒物料(例如含碳物質)以及進行反應程序而燃燒該可燃燒 物料。適當燃燒程序操作設備1〇〇的實例包括一石化燃料電廠、一工 業焚燒設備、一工業爐、一工業用加熱器、一工業燃燒機,及一水泥 窒。 *»、、 在一些具體實施例中,當廢氣原料製程20排放該廢氣原料18以 及當該廢氣原料反應區供應源24被供應至反應區饋料22時,使該回 收反應區廢氣產物80接觸可燃燒物料。在一些具體實施例中,當該廢 氣原料反應區供應源24被供應至反應區饋料22時,使該回收反應區 廢氣產物接觸可燃燒物料。在一些具體實施例中,當該反應區饋料被 供應至反應區時’使該回收反應區廢氣產物接觸可燃燒物料。在一些 具體實施例中’當該回收反應區廢氣接觸可燃燒物料時,使水性介質 内該富含二氧化碳光養生物質暴露於光合輻射光源之下。 該含光養生物質中間濃縮產物34被供應至能施熱於該含光養生 物質中間濃縮產物34而蒸發至少一部分該含光養生物質中間濃縮產 物34之水的乾燥機32,以及因而產生含光養生物質終產物36。如上 所述,在一些具體實施例中,藉由被用於冷卻先前供應該反應區饋料 22至反應區1〇之反應區饋料22的傳熱介質30將熱供應至該含光養 生物質中間濃縮產物34。藉由此冷卻,可將熱從該反應區饋料22傳 遞至傳熱介質30 ’因而升高該傳熱介質30的溫度。此類具體實施例 中’該含光養生物質中間濃縮產物34係處於相對暖和溫度,以及從該 含光養生物質中間濃縮產物34蒸發水分所需熱量仍嫌不足,因而使用 104 201142017 傳熱;丨貝30作為熱源以便乾燥該含光養生物質中間濃縮產物34。如 上所述,在加熱該含光養生物質中間濃縮產物34之後,由於失去一些 熱能而處嫌低溫度的蘭齡質3G賴環至換鮮26而可冷卻該 反應區鎖料22。雜無機32的所需熱能係根據供應該含光養生物質 中間農縮產物34至她機32的速率。藉由控制||調整(該換熱器26 的)冷卻4求和(s亥乾燥機32的)加熱需求以便藉由監控反應區饋料22 之各別流率和溫度以及誠物_麵從光生物反應而出產物5〇〇 之製造速率平衡該兩種作業。 在一些具體實_中’當從可改變該廢氣補反舰供應24至反 應區饋料22之供應速率開始的一段間隔時間(例如某些情況為超過三 ⑶J夺及有時更長時間)之後可藉由改變該廢氣原料反應供應源% 至反應區饋料22的供應速率而改魏光養生物質的生長速率。比較之 下,根據該魏原料反應供應源24至反應區饋料22之供應速率變化 ^變該傳熱介質3〇的熱值更倾實現。依此,在—些具體實施例中, =供用於儲存任何過量熱能(以傳熱介質3〇形式)的一熱緩衝器以及 §燥機32對廢氣原料反應供應源24變化之熱傳遞性能的一段 …在些具體貫施例中,該熱缓衝器係一種傳熱介質貯存槽。 或者’在供應該廢氣原料反應供應源24至反應區饋料22 W-段短暫 1可彳<外。卩_、補絲乾雜32所需的熱能。為適應該光養生物 胃±長速_變化’鱗適麟製程的啟賊關可能需要使用熱緩 衝器或領外熱源。例如’若該光養生物質的生長降低或停止,該乾燥 機32可藉由_存於緩衝器内的熱能繼續作業直至其被消耗或,在一 105 201142017 些具體實施例中,使用第二熱源時為止。 現在將參考下列非限制性實例進一步詳細說明其他具體實施例。 實例1 現在將根據偏離目標值的製程參數測得值舉例說明確定光養生物 質生長指標(例如一光生物反應器内反應區的海藻濃度)的一目標值以 及上述製程操作的一具體實施例,包括調節從該反應區排放含光養生 物質產物之莫耳分率的一預示性實例。 最初,於光生物反應器的反應區内提供一水性介質内含適量營養 素的初海藻濃度。將氣態二氧化碳供應至反應區,以及該反應區被暴 露於來自一光源(例如LEDs)的光以便於海藻的生長。當反應區内的海 藻濃度達到每升0.5克時,將水引入該光生物反應器的反應區内以便 藉由反應區内谷物的溢流收集該海藻,以及將海藻最初目標濃度設定 在每升0. 5克。最初,以相對中度和恒定的速率引入該供應水而使其 每天能更換該光生物反應器的一半(丨/2)體積,已發現以潔淨水定期地 更換反應區内的水量有助於海藻的生長並且可在短時間内達到目標 值。若海藻的生長速率較低於稀釋速率,以及測得海藻濃度於此測定 作業期間從海藻濃度設定點下落至少2%時,該控制系統將停止或降低 稀釋速率以避免進一步稀釋反應區内的海藻濃度。若海藻生長速率較 高於該稀釋速率時,將增加該海藻濃度使其高於該最初海藻濃度設定 點,以及5亥控制糸統將增加該海藻濃度設定點而使其與增加的海藻濃 度同步同時維持相同的稀釋速率。例如,該海藻濃度可增加至每升 0· 52克,此時該控制系統將使該海藻濃度設定點增加至〇. 51。該控制 106 201142017 系統持續監控該海藻濃度的增加以及,同時增加該目標海藻濃度。當 已測得海藻生長速率的最大變辦,賴絲目標濃度狱於現存值 而成為其目標值,以及調節其稀釋速率以利於該海藻濃度在目標值時 能以與光生物反應器内海藻相同的生長速率收集該海藻。 海藻的生長速率與絲的濃度相—致。#測得該絲生長速率的 大幅變化時,此麵反舰⑽賴正以,或接近其最大速率進行生 長以及此生長速率相當於其目標值的海藻濃度。依此,藉由控制稀 釋速率將反應區⑽海藻濃度維持在目標值,可使海_生長維持 在,或接近最大值,从其結果必財長日機佳傾賴的排放速 β為了幫輯本發明揭示的全盤瞭解,用於解釋目的的上述說明中 二I h的、’然而’抑本技藝之人士將瞭解這些特定細節在 ^仃本發賴嘛一。軸咖 ==Γ和材料,但是亦可使用在此揭示範圍内的其他適: 尺寸及/或材料。全部此類修飾和 適當變化仍屬於本發輸的=谢目純未來的全部 入全部提及__。鞠1咖。在嶋編整地併 107 201142017 【圖式簡單說明】 第1圖係本發明之一具體實施例之流程圖。 第2圖係本發明之另一具體實施例之流程圖。 第3圖係本發明之一具體實施例中之燃料通道之局部放大圖。 【主要元件符號說明】 4 水性饋料 6 供應源 10 反應區 12 光生物反應器 14 人工光源 16 自然光源 18 廢氣原料 20 廢氣原料製程 22 反應區饋料 24 廢氣原料反應區供應源 24A 廢氣原料源性供應源 25A 濃一氧化碳供應源 25B 經稀釋一氧化碳供應源 26 換熱器 28 容器 30 傳熱介質 32 乾燥機 34 中間激縮產物 36 終反應區產物 38 原動機 40 喷頭 42 補充營養供應源 44 補充水性原料供應源 .46 PH感應器 47 細胞計數器 48 含補充氣體原料 50 流量控制元件 52 分離器 54 收集池 58 光養生物質 59 分流廢氣原料 60 62 煙筒 108 201142017 64 關閉元件 66 排水溝 68 額外補充水 70 水性原料 72 水性原料 76 液位計 78 流量計 80 反應區廢氣產物 90 補充氣體稀釋劑 92 補充二氧化碳供應源 100 燃燒程序操作設備 110 燃燒區 281 泵浦 421 計量泵 441 控制閥 500 光養生物質產物 700 原液流 702 上游液道 704 下游液道 706 下游液道 781 二氧化碳感應器 901 控制閥門 921 闊門 2402 反應區二氧化碳供應源 2402A低壓態二氧化碳供應源 2404含混合物的反應區二氧化碳供應源 109

Claims (1)

  1. 201142017 七、申請專利範圍: 1、 一種生物質的製造技術,係於一反應區内進行,且該反應區係 包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應混合物,該反 應混合物係包含於反應區内用於生長的光養生物質,其中,該製造技 術係包含有: 當§亥反應混合物在暴露於光合輻射光源之下於反應區内生長該光 養生物質’I中该生長包括藉由光合作用進行生長以及當一光養生物 質生長Μ不同於缺養生物質生長指標的目標值時從該反應區排放 光養生物質’調節從該反舰所排放光養生物質的莫耳分率,其中該 光養生物質生長指標的目標值係根據被置於反應區之反應混合物内以 及暴露於光合姉光源下之該光養生㈣的侧莫耳生長分率。 2、 依據申請專利範圍第1項所述之-種生物質的製造技術,其 中乂光養生物負的預设莫耳生長分率校正該光養生物質生長指標的 目標值。 3、 依據中請專利範圍第丨項所述之—種生物質的製造技術,其 中’該調節細應光養生物#生長指標與該光養生㈣生長指標目標 值之間差異的偵測。 4、 依據中請專利範圍第3項所述之—種生物質的製造技術,其 中進乂包3债測-光養生物質生長指標以提供一測得光養生物質 生長指標。 遞申明專利範圍第4項所述之一種生物質的製造技術,其 中,該測得缝生物質生餘標魏表反麟合物_光養生物質^ 110 201142017 莫耳濃度。 ^、依獅請專利朗第4項所述之-種生物質的製造技術,其 中》亥測4^•光養生物質生長指標係反應混合物内該光養生物質的莫耳 濃度。 、、 7、 依據申請專利範圍第4項所述之—種生物質的製造技術,其 中’該測得光養生物質的生長指標係排放自該反應區之反應區產物内 光養生物質的莫耳濃度’其中該反應區產物進—步含有水。 8、 依據巾請專概圍第1項所述之-種生物質的製造技術,其 中’預設該光養生物質生長指標的目標值。 9依據巾#專利範圍第1項所述之—種生物質的製造技術,其 中以《亥預.又莫耳生長分率的1〇%以内生長莫耳分率進行該光養生物 質的生長。 10依據中μ專利範圍第1項所述之__種生物質的製造技術,其 中’以該預設莫耳生長分率的5%以内生長莫耳分率進行該光養生物質 的生長。 Π依據ΐ 4專利$〖圍第1項所述之—種生物質的製造技術,其 中’以該預5又莫耳生長分率的1%以内生長莫耳分率進行該光養生物質 的生長。 12、依據申請專利範圍第丨項所述之_種生物f的製造技術,其 中,該反應區被置於一光生物反應器内,以及其中該經排放光養生物 質被包含於排放自該光生物反應H的溢流内,以及藉由供應水性饋料 至反應區以獲得該溢流。 111 201142017 13、 依據申請專利範圍第12項所述之一種生物質的製造技術,其 中’藉由調節供應該水性饋料至反應區的莫耳分率調節排放自該反應 區之光養生物質的莫耳分率。 14、 依據帽專利範圍第4項所述之—種生物質的製造技術,其 中田則光養生物吳生長指標低於該光養生物質生長指標目標值 時,該調節包括降低排放自反應區之該光養生物f的莫耳分率。 15、 依據申請專利範圍第14項所述之一種生物質的製造技術,其 中該反應區被置於一光生物反應器内,以及其中該經排放光養生物 質被包含於嫩自該光生物反㈣的溢糾,以及藉由供應水性饋料 至反應區以獲得該溢流。 16、 依據中請專利範圍第15項所述之—種生物質的製造技術,其 中’該調節係藉由降低供應水性饋料至該反應區的莫耳分率。八 Π、依據中請專利範圍第丨項所述之—種生物質的製造技術,其 中’當光養生物質生標A於該光養生㈣生長締的目標值時, 該调節包括增加排放自反應區之該光養生物質的莫耳分率。 18、 依據中請專利範圍帛17項所述之-種生物質的製造技術,其 中’該反應區被置於—杜物反應器内,以及其中該經排放光養生物 貝被包含於排放自該光生物反應㈣溢額,以及藉由供應水性饋料 至反應區以獲得該溢流。 19、 依據申請專利範圍第18項所述之—種生物f的製造技術,其 中,該調節係藉由增加供應水性饋料至該反應區的速率。 20、 依據申請專利範圍第12項所述之一種生物質的製造技術,其 112 201142017 中,該水性饋料實質上不含有光養生物質。 .依射請專利顧第丨項所述之—種生物f的製造技術,其 中,該生產用途光養生物質的生長包括供應二氧化碳至該反應區以及 將S亥生產用途反應混合物暴露於光合輕射光源之下。 22、 依據申請專利範圍第21項所述之一種生物質的製造技術,其 中’當開始生長時供應該二氧化碳。 23、 依據申料利範圍第22項所述之一種生物質的製造技術,其 中’被供應至反應區的至少-部分二氧化碳係供應自廢氣原料,該廢 氣原料係排放自一廢氣原料製程。 24、 依據帽專利範圍第丨項所狀—種生物f的製造技術,其 中,該生產用途反應混合物進一步含有水和二氧化碳。 25、 依據申請專利範圍第丨項所述之一種生物質的製造技術,其 中’該生賴途光養生物質的預設莫耳生長分率係反應混合物内被置 於反應區以及暴露於光合輻射光源下之該生產用途光養生物質最大莫 耳生長分率的至少90%。 26、 一種生物質的製造技術,係於一反應區内進行,且該反應區 係包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應混合物,該 反應混合物係包含於反應區内用於生長的生產用途光養生物質,其 中,該製造技術係包含有: 將該反應混合物暴露於光合輻射光源之下以及於反應區内生長該 生產用途光養生物質’其中該生長包括藉由光合作用的生長,以及從 反應區排放出該生產用途光養生物質; 113 201142017 當一光養生物質生長指標不同於該光養生物質生長指標的預設目 標值時,調節排放自反應區之該生產用途光養生物質的莫耳分率,其 中該光養生物質生長指標的目標值係根據置於反應區内以及暴露於光 合輻射光源下之反應混合物内該生產用途光養生物質的預設莫耳生長 分率; 其中預設該目標值包括: 供應代表該生產用途反應混合物的一評估用途反應混合物,以及 將其暴露於光合輻射光源之下進行光合作用,而使該評估用途反應混 合物的光養生物質成為代表該生產用途光養生物質的一種評估用途光 養生物質; 將置於反應區内的該評估用途反應混合物暴露於光合輻射光源, 以及於该評估用途反應混合物内生長該評估用途光養生物質; 至少定期地偵測該光養生物質的生長指標以提供於一段期間内測 得該光養生物質生長指標的複數個偵測值;以及 根據該光養生物質生錢標的複數個_值計算該評估用途光養 生物質的莫耳生長分率,因而確認該評估用途光養生物質於該段期間 内的複數個莫耳生長分率; , 根據, 用於轉莫耳分率之該光養生物質生長指標的計得莫耳生長 分率和測得值建立該評侧途光養生物質之莫耳生長分率與該光養生 物質生長指標之__,而使該評侧途光養生物質之莫耳生長分 率和該光養生物質生長指標之間所建立_係可代表反應區内該生: 用途光養生物質之莫耳生長分率與就養生物質生長指標之間的關 114 201142017 係’以及_可確認反舰浦生錢途光養生㈣之莫耳生長分率 與該光養生物質生長指標之間的關係。 選擇該生產用途光養生物質的預設莫耳生長分率;以及 該光養生物質生長指標的目標值被絲為根據反舰㈣生產用 途光養生物質之料生長分率與該光養生㈣生長储之間所確認關 係之該預設莫耳生長分率的綠生㈣线触,目崎得該光養生 物質生長指標目標值與該預設莫耳生長分率之間的關聯性。 27依據申π專利範圍第%項所述之—種生物質的製造技術,其 中,當反舰被定性在至少—種評估麟生絲件時進行該評估用途 光養生物質的生長,其中每—該至少—種評估騎的生長條件代表反 應區10 _生錢途光養生物質之該反應區所定性的—種生產用途 生長條件。 28、 依據申請專利範圍帛27項所述之一種生物質的製造技術,其 中’該生產用途生長條件係複數種生產用途生長條件中的任何一種包 括反應混合物的組成、反應區溫度、反舰ρΗ、反躯光強度、反應 區光照計畫、反應區絲聊,以及反應區溫度。 29、 依據申請專利範圍第26項所述之一種生物質的製造技術,其 中二該生產崎光養生物質的預設莫耳生長分+係置於反應區内及被 暴路於光合1¾射光源之下該反應混合物之生朗途光養生物質最大莫 耳生長分率的至少90%。 30、 依據申請專利範圍第26項所述之一種生物質的製造技術,其 中’該生產用途光養生物質的預設料生長分耗置於反應區内及被 115 201142017 暴露於光合輪歧之下該反應混合物之生錢途光養生物質最大莫 耳生長分率的至少99%。 31、依據申請專利範圍第26項所述之-種生物質的製造技術,其 中’该生脑途反歧合物進—步含有水和二氧化碳;以及其中該評 估用途反應混合物進—步含有水和二氧化碳。 / 32、-種生物質的製造技術,係於—反躯喊行,域反應區 係包含在絲於光合輻縣狀τ進行光合_的—反航合物,該 反應混合物係包含於反舰_於生長的光養生物f,其中,該製造 技術係包含有: 將置於反應區内的§級應混合物暴露於光合輕射光源之下以及於 »亥反應此。物内生長销養生物質,以反應區財效地生長該光養生 物質之莫耳分率的1_内莫耳分率從該反應區排放該光養生物質; 其中被置於反應區内及暴露於光合触光源下之反應混合物内的 光養生物質以最高生長鲜的至少9嶋耳分村效地生長該光養生 物質。 33依據申明專利範圍第32項所述之一種生物質的製造技術,其 中》亥反應區被置於-光生物反應器内,以及其中該經排放光養生物 質被包含於排放自該光生物反應器的溢流内。 34依據申明專利範圍第32項所述之一種生物質的製造技術,其 中’该生產驗光養生物質的生長包括供應二氧化碳至該反應區以及 將該生產用途反應混合物暴露於光合輻射光源之下。 35、依據申請專利範_ 32項所述之一種生物質的製造技術,其 116 201142017 中,以被置於反應區内並且暴露於光合輻射光源下之該反應混合物内 光養生物質至少·最大生長速率的莫耳分率進行反應區内該光養生 物質的生長。 36、 依射料利$〖11第32項所述之-種生物質的製造技術,其 中,以被置於反應區内並縣露於光合輕射光源下之該反應混合物内 光養生物質至少霞最大生長速率的莫耳分率進行反應區内該光養生 物質的生長。 37、 依據巾凊專利範圍第32項所述之-種生物質的製造技術,其 中’其中以置於反應區内生長該光養生物質之莫耳分率的5%以内莫耳 分率從反應區排放該光養生物質。 38、 依據申請專利範圍第32項所述之一種生物質的製造技術,其 中,以置於反應區内生長該光養生物質之莫耳分率的1%以内莫耳分率 從反應區排放該光養生物質。 39、 -種生物質的製造技術,係於—反應區内進行,雌反應區 係包含在暴祕光合光狀下進行光合侧的—反舰合物,該 反應混合物係包含於反應區_於生長的光養生物f,其巾,要的特 徵係在於: 將献應混合物絲於光合H射絲之下以及在置於反應區之反 應混合物内有效地生長該光養生㈣,其中藉由絲侧進行該光養 生物質的生長,從反應區排放光養生物料使所排放光養生物質的莫 耳分率在有效地生長該光養生物f的⑽朗莫耳分率。 40、依據申請專利顧第39項所述之—種生物質的製造技術,其 117 201142017 中,排放該光養生物質的莫耳分率為有效地生長該光養生物質⑽以内 的莫耳分率。 ' 4卜依據申請專利範圍第39項所述之一種生物質的製造技術,其 中,排放該光養生物質的莫耳分率為有效地生長該光養生物質以以内 的莫耳分率。 42、 依據申請專利範m第39項所述之—種生物f的製造技術,其 中’排放該光養生物質的莫耳分率相當於有效地生長該光養生物質的 莫耳分率。 43、 依據申請專利範圍第39項所述之一種生物質的製造技術,其 中’生長該光養生物質的莫耳分率相當於置於反應區内及被暴露於光 合輕射光源之下該反應混合物之光養生㈣的最大莫耳生長分率。 44種生物負的製造技術,係於一反應區内進行,且該反應區 係包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應混合物,該 反應混合物係包含於反應區_於生長的光養生物f,該光養生物質 係藉由光合個進行生長,其中,職造技術係包含有: ▲該廢氣原料係排放自廢氣原料製程,其中被供應至反應區的任何 該=原料定義-廢氣原料反舰供應源,根據至少—種二氧化碳處 里心心的偵刺_供應至反應區之該廢氣原料反應區供應源的供 應。 ,45、依據申請專利範圍第44項所述之一種生物質的製造技術,其 ;反應區内細敍少—種二氧化碳處理量傭的至少—觀測。 46、依據申請專利範圍第44項所述之一種生物質的製造技術,其 118 201142017 中,進-步包括調節該經排放廢氣原料分流至另一操作裝置的供應, 其中供應-部分分流至另-雜裝置_轉放賴原料定義:流 廢氣原料。 f依據申請專利範圍第46項所述之一種生物質的製造技術,其 中,當完祕麟賴紐反舰供贿缝舰的調㈣,調節至 另一操作裝置的該分流廢氣原料。 48、 依據申請專利範圍第46項所述之一種生物質的製造技術,其 中,該另-操作裝置能轉化該分流廢氣原料而減少其對環境的衝擊。 49、 依據申請專利範圍第48項所述之一種生物質的製造技術,其 中’該另-操倾置係-種可從該分流廢氣補中移除二氧化碳的分 離器。 50、 依據申請專利範圍第48項所述之一種生物質的製造技術,其 中,該另一操作裝置係一種煙筒。 5卜依據中請專利範圍第44項所述之—種生物f的製造技術,其 中汶測知—氧化碳處理量指標具有用於接收二氧化碳之反應區容量 以及將至少-部分該接收二氧化碳轉變成祕反應區内光養生物質之 光合作用的任何特性。 52依據申δ月專利範圍第項所述之一種生物質的製造技術,其 中’該測得二氧化碳處理量指標具有代表用於接收二^匕碳之反應區 谷罝的製程以及將至少—部分雜收二氧化碳觀朗於反應區内該 反應混合軸光養生㈣之光合作用,而使該光合作用影響反應區内 該光養生物質之預設莫耳生長分率的任何特性。 119 201142017 53、 依據申請專利範圍第44項所述之一種生物質的製造技術,其 中,s亥測得二氧化碳處理量指標具有代表用於接收二氧化碳之反應區 谷里的製程以及將至少-部分該接收二氧化碳轉變成用於反應區内該 光養生物質之光合作用,而使從反應區排放之任何二氧化碳低於一可 接受莫耳分率的任何特性。 54、 依據申請專利範圍第44項所述之一種生物質的製造技術,其 中,该測得二氧化碳處理量指標係至少一 pH以及光養生物質的莫耳濃 度。 55、 依據申請專利範圍第44項所述之一種生物質的製造技術,其 中,該廢氣原料係排放自廢氣原料製程’其中被供應至反應區的任何 該廢氣原料定義-廢氣原料反應區供應源,當於反應區_得代表用 於接收增加二氧化碳供應莫耳分率之反舰容量的反應區内二氧化碳 處理量指標時,供應該廢氣原料反應區供應源至反舰的調節包括開 始供應該廢氣反舰供應源至反舰,或增加被供應至反應區之 該廢氣原料反應區供應源供應的莫耳分率。 56、 依據申請補翻帛55項所述之—種生物f的製造技術,其 中’當該廢氣原料製程與另-操作裝置合作以供應該分流廢氣原料至 另-操作裝置,以及當該分流廢氣原料被供應至該另—操作農置時, 該製程進-步包括_該分流廢氣原料供應至另—操作 率供應,祕止雜應。 57、 依據申請專利範圍第44項所述之一種生物質的製造技術,其 中’當補·氣補被排放自廢氣原料製程,以及當至少—部分該廢氣 120 201142017 原料被供應至反應區,其愤供應至反應區的該至少—部分廢氣原料 定義一廢氣原料反應區供應源,當該反應區内测得代表用於接收降低 7乳,碳供應莫耳分率之反應區容量的二氧化碳處理量指標時,供應 該廢氣原料反應區供應源至反應區的調節包括降低該廢氣原料反應區 供應源供應至反應區的莫耳分率供應,或終止該供應。 58、依據申請專利細第57項所述之—種生物f的製造技術,盆 中,當該廢氣原料製程與另一操作裝置合作以供應該分流廢氣原料至 另一#作裳置’該製程進一步包括開始供應該分流廢氣原料至另一操 作裝置’或增加該分流廢氣原料供應至另一操作襄置的莫耳分率供應。 .依據申請專利範圍第44項所述之一種生物質的製造技術,其 中,其中當該反應區内測得代表用於接收降低二氧化碳供應莫耳分率 之反應區容量的二氧化碳處理量指標,以及調節該廢氣原料反應區供 應源以回應代表祕接收降低二氧化碳供應莫耳分率之反應區容量的 該測得二氧化碳處理量指標,包括降低該廢氣原料反應區供應源供應 至反應區的莫耳分率供應,或終止該供應,該做進—步包括開始供 應3補充乱體原料至反應區,或增加含補充氣體原料供應至反應區 的莫耳分率供應。 60依據申π專利範圍第59項所述之—種生物質的製造技術,其 中X 3補充氣體原料右存在二氧化碳莫耳濃度時係低於從該廢氣原 料製程被供應至反應區之至少一部分該廢氣原料的二氧化碳莫耳濃 度。 61依據申μ專利顔第6Q項所述之—種生物質的製造技術,其 121 201142017 中’精由調節該廢氣原料反應區供應源至反應區的供應,並且配合降 低该含補絲體顧供應至反舰的莫耳分率供應或終止供應至反應 品、氧化厌供應而降低供應至反應區之該廢氣原料反應區供應源的 莫耳分率供應,或終止該供應。 62、 依據申請專利範圍第59項所述之一種生物質的製造技術,其 中’開始供編含補充氣體騎至反顏,或增加供應該含補充氣體 原至反舰的莫耳分率供應可至少部分補償導因於降低該廢氣原料 反應區供應源至反應區之莫耳分率供應或終止供應所導致供應至反應 區的原料莫耳供應率降低,或終止供應原料。 63、 依據申凊專利範圍第62項所述之一種生物質的製造技術,其 中,組合(a)降低該廢氣原料反應區供應源至反應區的莫耳分率供 應,或終止該供應;以及(b)開始供應該含補充氣體原料至反應區的 供應,或增加該莫耳分率的供應可緩和由於降低該廢氣原料反應區供 應源至反應區的莫耳分率供應或終止該供應所導致的反應區攪動減 少。 64、 依據申請專利範圍第63項所述之一種生物質的製造技術,其 中,組合被供應至反應區的該含補充氣體原料及任何該該廢氣原料反 應區供應源作為至少一部分的該反應區饋料,以及將該反應區饋料供 應至反應區並且授拌反應區内的原料而使反應區内任何兩點之間光養 生物質的莫耳濃度差異低於20〇/〇。 65、 依據申請專利範圍第44項所述之一種生物質的製造技術,其 中,當完成供應該廢氣原料反應區供應源至反應區的調節時,將置於 122 201142017 反應區内的該反應混合物暴露於光合輻射光源之^。 66、一種生物質的製造技術,係於一反應區内進行,且該反應區 係包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應混合物,該 反應混合物係包含於反應區内用於生長的光養生物質,該光養生物質 係藉由光合作用進行生長,其中,該製造技術係包含有: 當S亥廢氣原料被排放自廢氣原料製程,以及當至少一部分該廢氣 原料被供絲反應區’其巾被供應至反應區的魅少—部分廢氣原料 疋義-廢氣原料反舰供絲,以及降低供應該廢獅料反應區供應 源至反應區的供應,或終止該供應時,該製程進—步包括開始供應一 含補充氣體補’或增加含補絲觀料至反舰的莫耳分率供應。 67、 依據申請專利範圍第66項所述之一種生物質的製造技術,其 中’該開始供應—含補紐體補至反顧,或增加含氣體原料 至反應_莫耳分率供應細麟健應鶴氣補反躯供應源至 反應區的莫耳$率供應或終止該供應的翻,或降低供應該廢氣原料 反應區供麟域舰之莫耳分率供應或終止雜應的指標。 68、 依據申請專利範圍第67項所述之一種生物質的製造技術,其 中,該含補充氣體原料若存在二氧化碳莫耳濃度時係低於從該廢氣原 料製程被供應域舰之至少—部分該廢氣原_二氧化碳莫耳遭 度。 、辰 69、 依據申請專利範圍第68項所述之一種生物質的製造技術,其 中藉由《周即δ亥廢氣原料反應區供應源至反應區的供應,並且配合降 低該含補錢H補供應錢舰的莫耳分率供應或終止供應韻應 123 201142017 區的-氧化碳供應叫低供應至反舰之該廢氣補反舰供應源的 莫耳分率供應,或終止該供應。 7〇、依據申請專利範圍第66項所述之-種生物質的製造技術,其 中’開始供應該含補充氣體原料至反應區,或增加供應該含補充氣體 原料至反魅的莫耳分率供應可至少部分補償導因於降低該廢氣原料 反應區供應源至反舰之莫耳分率供應或終止供應所導致供應至反應 區的原料莫耳供應率降低,或終止供應原料。 71依據申明專利範圍第7〇項所述之一種生物質的製造技術,其 中,組合(a)降低該廢氣原料反應區供應源至反應區的莫耳分率供 應,或終止該供應;以及⑹開始供應該含補統體補至反應區的 供應’或增加該莫耳分率的供射緩和由於降低該廢氣原料反應區供 應源至反絲的莫耳分率供應或終止該供應所導致的反應_動減 少。 72依據申凊專利範圍弟70項所述之一種生物質的製造技術,其 中,組合被供應至反應區的該含補充氣體原料及任何該該廢氣原料反 應區供應源作為至少-部分的該反應區饋料,以及將該反應區饋料供 應至反應區並且攪拌反應區内的原料而使反應區内任何兩點之間光養 生物質的莫耳濃度差異低於20%。 73、依據申請專利範圍第66項所述之一種生物質的製造技術,其 中^開始供應一含補充氣體原料至反應區,或增加含補充氣體原料 的莫耳分率供應時,將置於反應區内的該反應混合物暴露於光合輻射 光源之下。 124 201142017 74、 一種生物質的製造技術’係於一反應區内進行,且該反應區 係包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應混合物,該 反應混合物係包含於反應區内用於生長的光養生物質,該光養生物質 係藉由光合作用進行生長,其中,該製造技術係包含有: 將該廢氣原料反應區供應源供應至反應區,其中藉由廢氣原料製 程所產生的至少一部分廢氣定義一廢氣反應區供應源,其中該廢氣原 料反應區供應源包含二氧化碳;以及 從一容器供應補充水性原料供應源至該反應區,其中該補充水性 原料供應源包含已攸廢氣原料反應區供應源被冷凝及收集於容器内的 水性原料,其中於被供應至反應區之前藉由冷卻廢氣反應區供應源進 行該水性原料的冷凝作用。 75、 依據申请專利範圍第74項所述之一種生物質的製造技術,其 中’該被冷凝水性原料係水。 76、 依據申睛專利範圍第74項所述之一種生物質的製造技術,其 中’ s亥補充水性原料供應源進一步包含水性原料。 77、 依據申請專利範圍第74項所述之一種生物質的製造技術,其 中,該廢氣原料反應區供應源的冷卻係從大於11〇。〇被冷卻至低於即 °〇的溫度。 78、 依據申請專利範圍第77項所述之一種生物質的製造技術,其 中,係於換熱器内進行該廢氣原料反應區供應源的冷卻。 79、 依據申請專利範圍第78項所述之一種生物質的製造技術,其 中,藉由從該廢氣原料反應區供應源至傳熱介質的熱傳遞進行冷凝作 125 201142017 用而產生經加熱傳熱介質,以及該經加熱傳熱介質被供應至一乾燥機 而蒸發排放自該反應區之生物質產物的水分。 80、 依據申請專利範圍第79項所述之一種生物質的製造技術,其 中’該蒸發係藉由從該經加熱傳熱介質熱傳遞至乾燥機内的生物質產 物而產生經冷卻傳熱介質,以及該經冷卻傳熱介質再循環至該換熱器 而完成該冷凝過程。 81、 依據申請專利範圍第74項所述之一種生物質的製造技術,其 中,當該廢氣原料反應區供應源被供應至反應區時進行該補充水性原 料的供應。 82、 依據申請專利範圍第81項所述之一種生物質的製造技術,其 中,當該廢氣補製程產生該廢氣補反舰供應源時開始供應該補 充水性原料。 83、 依據申請專利範圍第82項所述之一種生物質的製造技術,其 中’當開始供應賴充水性原料時將置於反應_的該反應區混合物 暴露於光合輻射光源之下。 ^、依據申請專利範圍第79項所述之一種生物質的製造技術,其 中/稭由改變該廢氣補反麵供絲至反舰的莫耳分率供應以回 應攸铺氣原料反舰供應縣轉齡f的傳熱鱗變化,提供一 …、緩衝糾延緩改變該廢氣原料反應區供應源至反應區之莫耳分率供 =從該經加熱傳熱介質至乾賴内該生物懸物之傳熱速率的影 奶、依據申請專利範圍第79項所述之一種生物質的製造技術,其 126 201142017 中’藉由降_廢氣雜反親供顧至反躯的莫耳分率供應以回 應降低從該魏補反颜供躺至該傳齡質的傳鱗率,於乾燥 機内提供與生㈣產物熱連通的—餐錢以從魏加熱傳熱介 質至乾燥機内該生物質產物的傳熱速率。 86 種生物質的製造技術,係於一反應區内進行,且該反應區 係包含在暴露於光純射光狀下進·合侧的—反應混合物,該 反應混合物係包含於反應區内驗生長的光養生物質,該光養生物質 係藉由光合作崎行线,其巾,該製造肋係包含有: 當二氧化碳係排放自該廢氣原料製程,以及當至少一部分經排放 二氧化碳被供應至反應區時,其中被供應至反應區的該至少一部分經 排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳反應區供應源,至少根據被供應 至反應區之該經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率調節至少一饋 入至反應區的原料。 87依據申凊專利範圍第86項所述之一種生物質的製造技術,其 中,當完成至少一種饋料的調節時,將置於反應區内的該光養生物質 暴路於光合輕射光源之下。 88、 依據申請專利範圍第86項所述之一種生物質的製造技術,其 中母種饋入反應區的至少一原料係對反應區内該光養生物質生長 莫耳分率極為重要之供應至該反應區的饋料。 89、 依據申請專利範圍第86項所述之一種生物質的製造技術,其 中’該至少—種饋料包括至少其-:⑴供應-特徵強度的光合輻射 光源;以及(ii)供應一補充營養素供應源。 127 201142017 90、 依據申請專利範圍第89項所述之一種生物質的製造技術,其 中’當至少一種饋料的調節包括開始供應光合輻射光源至該反應區, 或增加被供應至反應區的光合輻射光源強度,於開始供應光合輻射光 源至該反應區或增加被供應至反應區的光合輻射光源強度時增加反應 區内所提供及供應光合輻射光源至反應區之光源的冷卻速率。 91、 一種生物質的製造技術,係於一反應區内進行,且該反應區 係包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應混合物,該 反應混合物係包含於反應區内用於生長的光養生物質,該光養生物質 係藉由光合作用進行生長,其中,該製造技術係包含有: 當二氧化碳被排放自該廢氣原料製程,以及當至少一部分該經排 放二氧化碳被供應至反應區,其中被供應至反應區的該至少一部分經 排放二氧化碳定義一排放二氧化碳反應區供應源,至少根據供應至反 應區之排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率指標調節輸入至該反應 區的至少一種原料。 92、 依據申請專利範圍第91項所述之一種生物質的製造技術,其 中,當完成至少一種饋料的調節時,將置於反應區内的該光養生物質 暴路於光合輕射光源之下。 93依據申明專利範圍第91項所述之一種生物質的製造技術,其 中’每-麵人反應區的至少—顧制反舰_光養生物質生長 分率極為重要之供應至該反應區的饋料。 94、依據申請翻細第91項所述之一種生物_製造技術,盆 中,該至少-_料包括至少其_ :⑴供應—特㈣度的光合_ 128 201142017 光源;以及(ii)供應一補充營養素供應源。 95、 依據申明專利範圍苐91項所述之一種生物質的製造技術,盆 中,供應至反應區之該經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率指標 係指排放自該廢氣原料製程之廢氣原料的莫耳分率,因而該調節係至 少根據被排放自該廢氣原料製程的廢氣原料莫耳分率,其中該廢氣原 料包括該排放二氧化碳反應區供應源。 96、 依據申請專利範圍第91項所述之一種生物質的製造技術,其 中,供應至反應區之該經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率指標 係指排放自該廢氣原料製程之廢氣原料的二氧化碳莫耳濃度,因而該 調節係至少根據被排放自該廢氣原料製程之廢氣原料的二氧化碳莫耳 濃度’其中該廢氣原料包括該排放二氧化碳反應區供應源。 97、 依據中睛專概圍第91項所述之-種生物質的製造技術,其 中,供應至反舰之該轉放二氧化碳反祕縣源的莫耳分率指標 係指排放自該廢氣原料製程的二氧化碳莫耳濃度,因而該調節係至^ 根據被排放自該廢氣原料製程的二氧化碳莫耳濃度,其中該廢氣原料 包括該經排放二氧化碳反應區供應源。 98依據申5月專利範圍第97項所述之一種生物質的製造技術,其 中,根據排放自該廢氣原料製程之廢氣原制得莫耳流率以及排放自 該廢氣原料製程之廢氣原料二氧化碳測得莫耳濃度的組合計算排放自 該廢氣原料製程之二氧化碳的莫耳分率。 99、依據申請專利範圍第94項所述之一種生物質的製造技術,其 中,當至少-種饋料的調節包括開始供應光合輕射光源至該反應區, 129 201142017 或增加被供應至反應n的光合輻射光麵度,於開始健光合轄射光 源至該反舰或增加被供應至反舰的光合輻射賴顧時增加反應 區内所提供及供應光合輻射光源至反應區之光源的冷卻速率。 100、 一種生物質的製造技術,係於一反應區内進行,且該反應區 係包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應混合物,該 反應混合物係包含於反應區内用於生長的光養生物質,該光養生物質 係藉由光合作用進行生長,其中,該製造技術係包含有: 當二氧化碳係排放自該廢氣原料製程,以及當至少一部分經排放 二氧化碳被供應至反應區時,其中被供應至反應區的該至少一部分經 排放二氧化碳定義一經排放二氧化碳反應區供應源,當偵測到被供應 至反應區之該經排放二氧化碳反應區供應源的莫耳分率指標變化時, 調節輸入至該反應區的至少一種原料。 101、 依據申請專利範圍第100項所述之一種生物質的製造技術, 其中,當元成至少一種饋料的調節時,將置於反應區内的該光養生物 質暴露於光合輻射光源之下。 102、 依據申請專利範圍第1〇〇項所述之一種生物質的製造技術, 其中,每一種饋入反應區的至少一原料係對反應區内該光養生物質生 長莫耳分率極為重要之供應至該反應區的饋料。 103、 依據申請專利範圍第1〇〇項所述之一種生物質的製造技術, 其中,該至少一種饋料包括至少其一 :(i)供應一特徵強度的光合輻 射光源;以及(ii)供應一補充營養素供應源。 104、 依據申請專利範圍第1〇3項所述之一種生物質的製造技術, 130 201142017 其中’當至少一種饋料的調節包括開始供應光合輻射光源至該反應 區’或增加被供應至反應區的光合輻射光源強度,於開始供應光合輕 射光源至a亥反應區或增加被供應至反應區的光合輕射光源強度時增加 反應區内所提供及供應光合輻射光源至反應區之光源的冷卻速率。 105、一種生物質的製造技術,係於一反應區内進行,且該反應區 係包含在暴露於光合輻射光源之下進行光合作用的一反應混合物,該 反應混合物係包含於反應區内用於生長的光養生物質,該光養生物質 係藉由光合作用進行生長,其中,該製造技術係包含有: 當二氧化碳被排放自該廢氣原料製程,以及當至少一部分該經排 放二氧化碳被供應至反應區,其中被供應至反應區的該至少一部分經 排放二氧化碳定義-排放二氧化碳反應區供應源,當偵測到供應該經 排放二氧化碳反舰供應源至反舰的莫耳分率降低,或當侧到供 應該經排放二氧化碳反舰供舰至反應區的莫耳鲜縣降低時, 增加供應至反舰之觀二氧化碳供應源的莫耳分率,或開始供應該 補充一氧化碳供應源至反應區。 ⑽、依據申請專利範圍第105項所述之一種生物質的製造技術, 其中’當開始供應_充二氧化碳供觸至該反應區以回應莫耳分率 供應降低’或驗減二氧化碳反舰供應祕紅反應區之莫=八 率供應降低指標的_時,該補充二氧化碳供應源至供二 開始之後持續錢3〇钱。 的供應於 ⑽、依射請補第1G5項所述之—種生物質的製造技術, ,、中’進—步包括開始供應—含補充氣體原料至該反顧,或增加被 131 201142017 供應至反應區之含補充氣體原料的莫耳分率供應,其令該含補充氣體 原料若存在二氧化碳莫耳濃度時係低於被供應至反應區之補充二氧化 碳供應源的二氧化碳莫耳濃度。 108、 依據申請專利範圍第107項所述之一種生物質的製造技術, 其中,該任何_放二氧化碳反麵供麟、_充二氧化碳供應源 及該含補充氣體原料的組合定義被供應至反應區之至少一部分反應區 饋料的-組合操作原料流’並且將該反應區饋料供應至反應區以及有 效地擾動反應區_原料而使反應區内任何兩點間之該光養生物質的 莫耳濃度差異低於20%。 109、 依據申請專利範圍第搬項所述之—種生物質的製造技術, 其中,該開始供應-含補充氣體原料至反應區,或增加一含補充氣體 原料供應至反應區的莫耳鲜供應_應降低該反舰饋料供應至反 應區之莫耳分率供應,或一降低指標的偵測。 110、 依據申請專利範圍第⑽項所述之一種生物質的製造技術, 其中’當該補充二氧化碳供應源被供應至反應區時,開始供應一含補 充氣體原料至反躯,或增加—含補充氣體補供應至反應區的莫耳 分率供應。 11卜依據申請專利範圍第1G7項所述之—種生物質的製造技術, 其中,開始供應該含·氣體原料錢舰,或增域賊含補充氣 體原料至反應區的莫耳分率供應可至少部分補償導因於降低該經排放 二氧化碳反颜供應源至反應區之莫耳分率供應或終止供應所導致供 應至反·的原料莫耳供解降低,或終止供應原料。 132 201142017 112、 依據申請專利範圍第iQ5項所述之一種生物質的製造技術, 其中,當增加至反應區之該補充二氧化碳供應源的莫耳分率供應時, 將置於反應區内的該光養生物質暴露於光合輻射光源之下。 113、 依據申请專利範圍第1〇7項所述之一種生物質的製造技術, 其中,g開始供應一含補充氣體原料至反應區,或增加含補充氣體原 料的莫耳分率供應時’將置於反應區内的光養生物質暴露於光合輕射 光源之下。 114、 種生物質的製造技術,係於一反應區内進行,且該反應區 係包含在暴露於光合_光狀下進行光合個的—反應混合物該 反應混合難包含於反舰_於生長的光養生㈣,該光養生物質 係藉由光合侧進行生長,其巾,該製造技術係包含有: 在供應反應區二氧化碳供應源至反應區之前藉由使該反應區二氧 化碳供應源流經-抽射器或增加該反舰二氧化碳供應源 的聖力而產生足以使5亥反應區—氧化碳供應源流經至少Μ叶反應區 深度的壓力。 115、 依據申請翻範圍第114項所述之—種生㈣的製造技術, /、中該[力足以使δ亥反應區二氧化碳供應源流經至少十(⑻叹的反 應區深度。 116、 依射請專利範圍第114項所述之—種生㈣的製造技術, 其中,該壓力足叹飢應區二魏碳供麟流經至少 20呎的反應區 深度。 m、依據申請專利範圍第114項所述之一種生物質的製造技術, 133 201142017 其中,供應遠反應區一氧化碳供應源至反應區可有效地授動至少一部 分該反應區的内容物而使反應區内任何兩點間之該光養生物質的莫耳 濃度差異低於20%。 118、 依據申請專利範圍第114項所述之一種生物質的製造技術, 其中藉由產生自廢氣原料製程的廢氣原料供應該反應區二氧化碳供 應源。 119、 依據申請專利範圍第118項所述之一種生物質的製造技術, 其中,當该廢氣原料製程有效地供應該反應區二氧化碳供應源至反應 區時,壓力被增加。 120、 依據申請專利範圍第114項所述之一種生物質的製造技術, /、中¥元成5亥反應區一乳化碳供應源至反應區的供應時,將置於反 應區内的該反應混合物暴露於光合輻射光源之下。 121、 一種生物質的製造技術,係於一反應區内進行,且該反應區 係包含在暴露於光合_絲之下進行光合個的—反應混合物,該 反應混合物係包含於反舰_於生長絲養生㈣,該光養生物質 係藉由光合作用進行生長,其中,該製造技術係包含有: 在供應反應區二氧化碳供應源至反應區之前藉由足以使該反應區 -氧化碳供觸赫至彡K反應區深度賴力,利敎丘里效應從 一驅動液體流轉移壓能至該反應區二氧化碳供應源。 122、 依據申請專利範圍第121項所述之一種生物質的製造技術, 其中,該壓力足以使該反颜二氧化碳供應源驗至少十⑽)叹的反 應區深度。 134 201142017 123、 依據申請專利範圍第121項所述之一種生物質的製造技術, ,、中謂力足以使献舰二氧化碳供應騎經至少2㈣的反應區 深度。 124、 依射請專利細第123項所述之—種生物_製造技術, 其中,供應該反應區二氧化碳供應源至反應區可有效地獅至少一部 分該反應區_容物而使反應區内任何兩關之該光養生物質的莫耳 濃度差異低於20%。 125依據申5月專利範圍帛121項所述之一種生物質的製造技術, 其中,藉由產生自廢氣祕製程的廢氣原料供應該反應區二氧化碳供 應源。 126、 依據申請專利範圍第125項所述之一種生物質的製造技術, 其中,當該廢氣原料製程有效地供應該反應區二氧化碳供應源至反應 區時,壓力被增加。 127、 依據申請專利範圍第121項所述之一種生物質的製造技術, 中^元成δ亥反應區一氧化碳供應源至反應區的供應時,將置於反 應區内的該反應混合物暴露於光合輻射光源之下。 128、 一種生物質的製造技術,係於一反應區内進行,且該反應區 係Ο 3在暴疼於光合輕射光源之下進行光合作用的一反應混合物,該 反應混合物係包含於反應區内用於生長的光養生物質,該光養生物質 係藉由光合作用進行生長,其中,該製造技術係包含有: §反應區饋料被供應至該反應區時,以補充氣體稀釋劑供應該反 應區饋料,其中該補充氣體稀釋劑的二氧化碳莫耳濃度係低於被供應 135 201142017 至反應區饋料之廢氣反應區供應源的二氧化碳莫耳濃度。 129依據申明專利範圍帛128項所述之一種生物質的製造技術, 其中,該補充氣體稀釋劑至反應_料的供應影響被供應至反應區低 於二氧化碳-預設最大莫耳濃度之該反應區饋料内的二氧化破莫耳濃 度。 130、依據申請專利範圍帛128 ,員所述之一種生物質的製造技術, 其中’該減氣體稀湖至反舰饋料的供應影響該反躯饋料有關 二氧化碳莫耳濃度的稀釋程度。 13卜依據申請專利範圍帛128項所述之一種生物質的製造技術, 其中,該補統體稀釋劑至反應區騎的供應影響該反躯綱内二 氧化碳莫耳濃度的降低。 132、 依據申睛專利範圍第128項所述之一種生物質的製造技術, 其中’該反舰綱包含廢氣補反舰供應源,射該廢氣原料反 應區供應雜減自-廢氣原料製程的至少—科該純原料所定 義。 133、 依據申請專利範圍帛132項所述之一種生物質的製造技術, 其中,當該廢氣原料反應區供應源被供應至該反應區饋料,以及當該 廢氣原料製程排放該廢氣原料反應區供應源時,該反應區饋料被供應 至該反應區。 134、 依據申請專利範圍第133項所述之一種生物質的製造技術, 其中,供應S亥補充氣體稀釋劑至該反應區饋料以回應排放自該二氧化 碳製程大於二氧化碳一預設最大莫耳濃度之廢氣原料内二氧化碳莫耳 136 201142017 濃度的偵測。 135、 依據申請專利範圍第134項所述之—種生物質的製造技術, 其中,根據該廢氣騎的總莫耳數該二氧化碳咖設最大莫耳濃度係 至少10莫耳%。 、'又 136、 依射請專利範圍第128項所述之—種生物f的製造技術, 其中’當置於反躯内的該反應混合物被暴露於光合細光源時,將 該補充氣體稀釋劑供應至該反應區饋料。 137、 -種生物質的製造技術,係於—反應翻進彳亍,且該反應區 係包含在絲於光合輻射光狀下進行光合作㈣—反應混合物,該 反應混合物係包含於反舰_於生長的光養生物f,該光養生物質 係藉由光合作用進行生長,其中,該製造技術係包含有: 、 於供應濃縮二氧化碳供麟時,摻合該濃縮二氧化碳供 充氣體稀㈣处生_釋二氧化碳供聽,財贿騎統碳 供應源的二氧化碳料濃度雜_濃縮二氧化碳供應_二氧化= 莫耳濃度,以及 供應至少-部分該經稀釋二氧化碳反應區供應源至反應區。 138、 依據申請專利範圍第137項所述之一種生物質的 射該摻合影織至反舰餘二氧化碳—驗最大莫耳激度 之°亥、屋稀釋—氧化碳反應區供應源内的二氧化碳莫耳丨農度。 139^據申請專利範圍第138項所述之一種生物質^製造技術, -’泰農縮二氧化碳供應源包含反應區二氧化碳供應源,且中該反 應區二氧化碳供應職產生自廢氣補製簡至少—部分該廢^料 137 201142017 義x及田姐應區二氧化碳供應源被供應至該濃縮二氧化碳供 ⑽刚繼細 枓製程。 刚、依據申請專利範_ 139項所述之—種生物質的製造技術, :中,該摻合係喃排放自該觀顯製程大於二氧化碳—預設最大 莫耳濃度之廢氣内二氧化韻耳濃度的偵測。 14卜依據申請專利範圍第UG項所述之一種生物⑽製造技術, 其中,根據該廢氣補_莫耳數該二氧化·預設最大莫耳濃度係 至少10莫耳〇/〇。 142、依據申請專利範圍第137項所述之一種生物質的製造技術, 其中’當置於反舰_該反應混合物被㈣於光合触光源時開始 6亥才參合。 138
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