TW201003058A - A corrosion rack and method of monitoring corrosive elements - Google Patents

Description

201003058 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於-器械，該器械係被使用以支撐檢驗試 片’該等檢驗試片係被使用以監控在—工業部位⑻⑷中於 各種材料上劣化的影響。本發明顯示用於—致且長期資料 收集之方法以及器#’該等透過試片的使用以協助監控以 及調整化學性質而減少在一設施中材料的劣化。 【先前技術】 在此描述的本發明包含-機架，該機架係輕易地被整 合至一設施，該設施允許用於監控在 ^ 隹衣蜓中材料的劣化以 及較佳的允許工業註記在材料以及設備上劣化的問題。用 於本方法之使用原則係、本發明允許在㈣位準以及位_ 該等腐蝕試片的一致佈置，以允許右 兀斤在％境中用於腐蝕性 分的精確量測。 數年來許多方法已經被發展以提供在工業應用中材料 量測。用於評估材料劣化的直接方法可被分類為兩 〆 『技術。—侵入性技#f 係將檢驗試樣暴露於所關注的環境之 订 尺π。成片，或代矣 性材料的樣本，諸如金屬或塑膠，係使用於評估劣 典型檢驗試樣之一。試片係用於、 梦“ 々 于用於皿控另化最老及最簡單的 裝置之-，以及許多用於特殊應用的標準係已經被發展。 根據所關注的應用，試片係被製造成許多形式 該類型包含矩形、圓盤形、圓柱形， 形官。用於試 201003058 :暴露的最佳實施需要一檢驗機架之使用，該檢驗機架一 般由支撐結構以及扣件組成，該支撐結構附接該機架至 在糸統中的一組件以及該扣件固持該試片至該支撐物。該 機：目的係可再現地於環境中所關注的位置以及以—適當 的疋向懸掛該試片。數個需求可藉由一適當的機架被滿 ί3 ·足夠堅固以支撐該試片試樣，對環境之抵抗結 構材料，肖測試環境適當的暴露該 該機架電絕緣的金屬試片(以避免電一 用）以及避免名化產物從一試片到另一試片之相互作用。 常見的試片機架已經被使用於工業應用 架，捲轴機架’用於管線的插入機架，以及 -:機 樑 ’其允許用於試片的直角安裝（GrthGg_lm。则★) 或可=!。本發明係具進步性在於其包含-心樓 【發明内容】 版權磬明_ 本專利文件之揭示内容之一部 權所保護的資料。著作權擁有人對於任：：二 1含著作 或專利之揭示内容已出現於專利暨商標 及貝枓之完全相同形式的影 月,j 之外之任何的所有著作權。 ，、，、異儀’但保留除此 本發明被發展用於在大氣環境争 大氣腐蝕檢驗使用之試月一般俜使用平 片。軚準 爷妯估田认丄 便用平坦嵌板試片。最瘩 y ''氣腐蝕檢驗之嵌板試樣係4英4 f 、 1 丁' —夬吋乘以6英吋 201003058 (〜100毫米乘以150毫米）之尺寸。在大部分大氣的劣化腐 蝕中，許多嵌板係使用絕緣球形突出物鎖固在一大、堅固 框架上。然而，許多工業應用不會具有可使用的空間以裝 設一大框架結構在所關注的環境中。本發明的該相對地小 尺寸允許用於懸掛許多腐蝕試片在一環境中，在該環境中 可使用的空間係一問題。機架的設計亦允許用於在工業裝 置中使用之典型設備的簡單設置。 本發明敘述以下關鍵的態樣： 本發明的一優點係提供在該試片的位 定向以及位準之穩定性。 支化的 本發明的-優點係本發明的使用需要不多的空間。 本發明的一優點係提供該器械簡單的裝設至工業設 備 提供一用於不間斷以及一致結果之方法。 【實施方式】 本發明關於一

5 201003058 的，允許器械的運動以配合多個位置。該器械進一步具有 一试片附接構件10，其具有一或更多試片附接部位11。 本發明具有一較佳的具體實施例，其中該試片附接構 牛〇係方形，允§午§亥试片以一直角圖案（〇rth〇g〇nai pattern) 之佈置。 本發明進一步包含一方法，用於在一製造設施中抽 休 :材料上劣化的影響’《中該器械係被放置在一設施中以 〆更多。式片被附接至3亥试片附接部位1 1，該等試片係被 允許與該環境反應以及於一預定的期間幫助收集樣本，然 ^以新試片取代。本發明係與試片使用，該試片係意欲從 錢的暴露量測劣化成分。該方法進—步允許用於多個檢 驗忒片被附接至該試片附接構件i 〇之使用。 該檢驗試片係被放置在該試片_構们0上，在不同 位準以及角度允許用於環境完整 兄凡i的檢驗。一旦用於檢驗的 听間之設定期間係完成，該等 寺忒片係被移除以及在該相同 中以新的試片取代，而允畔具至日^私 兀f長期榀驗。該方法使用一 武片附接構件丨i係一方形 案的佈置。 允⑽個試片以-直角圖 應了解的係，對於目 之多數的變化以及改良對 變化以及改良可被完成而 以及不會縮減其預期的優 欲由附加的申請專利範圍 月'J在此所描述較佳的具體實施例 热習該項技藝者係明顯的。此種 不會偏離本發明的精神以及範圍 點。因此此種變化以及改良係意 所涵蓋。 ’ 201003058 【圖式簡單說明】 圖1 :托架的一前視圖。 圖2 :托架的一側視圖。 圖3 :托架的一俯視圖。 【主要元件符號說明】 4 托架附接構件 5 連接構件 6 托架調整構件 7 托架穩定器 10 試片附接構件 11 試片附接構件/試片附接部位 12 試片附接部位

Claims (1)

1. 201003058 七、申請專利範圍： 更多在單種:::片之佈置的器械，用於在材料上使用-或 更夕在早一或變化定向 夂 ⑷一托架附接構件 片對％境進行評估，包含： (b)—連接構件， (c) 一托架調整構件， (d) —托架穩定器， (e)一或更多試片附接構件，以及 ⑺一試片附接部位（sit〇。 2.如申請專利範圍第 係u形棒。 1項之器械，其中該托架 附接構件 飘，关中該試片附接構件 戈口甲請專利範圍第 包含一或更多試片附接部位。 4.如申請專利範圍第丨項之器械，其 係以該連接構件被附接至該托架附接構件。1 構件 調整5的如申請專利範圍第1項之器械，其中該連接構件係可 附接構件 附接構件 6·如申請專利範圍第丨項之器械，其中該試片 具有一或更多試片附接部位。 7·如申請專利範圍第丨項之器械，其中該試片 係方形。 直 8·如申請專利範圍第7項之器械’其中該試片係以 角圖案（orthog〇nai pattern)被附接至該器械。 9. 一種用於抽樣在一製造設施中材料劣化的影響之方 201003058 法，在其中申請專利範圍第丨項的該器械係被放置在一設 施中以一或更多試片被附接至該試片附接部位，該試片係 被允許與該環境反應以及幫助收集樣本，在一預定的暴露 期間之後接著以新試片取代。 10.如申請專利範圍第9項之方法，其中該材料試片從 蒸氣的暴露量測劣化成分。 11·如申請專利範圍第9項之方法，其中有多個檢驗試 片。 12·如申請專利範圍第u項之方法，其中該多個檢驗試 片係被放置在不同位準以及角度。 13. 如申請專利範圍第9項之方法，其中該檢驗試片係 在—設定期I後被收集g及新試片係'被放置在相同位置 中用於長期檢驗。 14. 如申請專利範圍帛9項之方法，其中該試片附 件係一方形棒。 15. 如中請專利範圍第㈣之方法，其中該方形托架附 冓件允許該多個試片以一直角圖案的佈置。 八、圖式： (如次頁） 9