TW200921148A - Lens and light source device using the same - Google Patents

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TW200921148A TW96143213A TW96143213A TW200921148A TW 200921148 A TW200921148 A TW 200921148A TW 96143213 A TW96143213 A TW 96143213A TW 96143213 A TW96143213 A TW 96143213A TW 200921148 A TW200921148 A TW 200921148A
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200921148 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種透鏡及 ^ a 夂具有該透鏡的光源裝置, 特別疋指一種可使發光二極體發 丄 赞出的先線在一出光面之光 強度刀佈均勻的透鏡以及具有該透鏡的光 【先前技術】 習知的直下式背光模組是以冷 〜陰極螢光燈(Cold Cathode Fluorescent Lamp » CCFL)^ A # ^ 马先源,然而,由於冷陰極螢 光燈需佔據較多體積、較為耗 代电且含有水銀而不環保,所
以改以體積小、發光效率其H I人E 尤政羊同且哥命長的發光二極體作為光 源已成為趨勢。 但是,因為發光二極體發光時如同―點㈣,參閱圖】 =就是在與出光面之法線夹°度的方向上的光強度最大 ,愈偏離法線的方向上的光強度遞減,因此’在出光面上 會明减看到-絲而無法提供光強度分佈均㈣照明。 【發明内容】 本發明之目的,是在提供一種可使發光半導體元件發 出的光線在—出光面之光強度分佈均勻的透鏡。 本發明之另一目的,是在提供一種在一出光面的光強 X刀佈均勻之具有透鏡的光源裝置。 ;疋本發明透鏡用於接收一發光半導體元件所發出 的光線,該透鏡包含一底面、一頂面,以及一側面。^ $底面面對该發光半導體元件以接收光線。頂面相反於 該底面’該頂面包括一使穿過該底面且入射該頂面的部分 200921148 光線偏折而不朝該頂面之正上 万仃進的不平整表面結構。 側面由該頂面周緣往該底面周 &囟周緣延伸,則穿過該底面且入 射该側面的光線射出該透鏡 _ 見及透鏡外形由該頂面及該側 面乂界處往該底面方向逐漸辦女 炎θ 啊項大’且該透鏡上部截面的投 衫疋落在該透鏡下部截面的範圍内。 於疋’本發明#有透鏡的光源裝置包含一基座、一發 光半導體元件,以及一透鏡。 發光半導體元件設於該基座上。透鏡設於該基座上 用於接收該發光半導體元件所發出的光線,該透鏡包含 底面、一頂面,以及一側面。 底面面對«光半導體元件以接收光線。頂面相反於 該底面’該頂面包括一使穿過該底面且入射該頂面的部分 光線偏折而不朝该頂面之正上方行進的不平整表面結構。 側面由該頂面周緣往該底面周緣延伸,則穿過該底面且入 射該側面的光線射出該透鏡;該透鏡外形由該頂面及該側 面父界處往該底面方向逐漸增大,且該透鏡上部截面的投 影是落在該透鏡下部截面的範圍内。 本發明的一個較佳實施例中,透鏡的頂面包括多數個 形成忒不平整表面結構的凸面段,該等凸面段呈階梯狀連 續延伸且排列成同心圓;而且,定義一通過該透鏡的中心 轴於該透鏡沿该中心軸的縱向斷面中,該頂面可為凹陷 概呈ν形、開口朝上的弧形、喇D八開口狀或底部呈尖錐狀 的碗形等等。 本發明的一個較佳實施例中,透鏡的底面與出光面平 6 200921148 行。 本心月之功效在於透鏡的頂面包括一不平整表面結構 則當發光半導體元件發出的光線穿過底面且人射頂面時 一線被不平整表面結構偏折而不朝頂面之正上方行 進’所以’在與出光面之法線夾〇度的方向上的光強度會 降低而非最大,使在大角度之出光方向上的光強度增加, 口此在出光面上可獲得光強度分佈均勻的光場 【實施方式】 有關本發明之前述及其他技術内容、特點與功效,在 以下配合參考圖式之一個較佳實施例的詳細說明中,將可 清楚的呈現。 >閱圖2、圖3及圖4,本發明的較佳實施例揭示一個 具有透鏡4的光源裝置2〇〇,該光源裝置2〇〇包含一基座2 、一發光半導體元件3,以及一透鏡4。定義一垂直通過透 鏡的中〜ϋ 19’發光半導體元件3與透鏡4皆對稱或接近 對稱於中心轴19。 基座2為一般習知的封裝發光半導體元件所用的基座 ,可以是塑膠包覆金屬支架、直立式支架、平面式支架或 是食人魚支架,當然不以此為限。發光半導體元件3設於 基座2上,並經固晶打線封裝,由於此為在此技術領域具 有通常知識者所知悉之技術,故不贅述。在本實施例中, 發光半導體元件3為發光二極體(LED)。 透鏡4亦設於基座2上且封閉發光半導體元件3,用於 接收發光半導體元件3所發出的光線,透鏡4可為一般透 200921148 光的熱塑型高分子材料射出成型,例如:聚甲基丙稀酸甲 醋(PMMA)、聚碳酸醋(PC),5戈為可透光的熱固型塑勝灌朦 而成,例如··環氧樹脂(epoxy)或矽膠(silic〇ne)等,也可以 是透光的玻璃以模具成型;折射率介於12〜18尤佳。 透鏡4包含-底φ 41、一頂面42,以及一側面43。底 面41與基座2 $面接冑且面對發光半導體幻牛3以接收光 線。頂面42相反於底面4卜並包括多數個形成一不平整表 面結構421的凸面段422,該等凸面段似呈階梯狀連續延 伸且排列成同心圓。側面43由頂面42周緣往底面41周緣 延伸而為一曲面;透鏡4外形由頂面42及側面43交界處 往底面41方向逐漸增大,,亦即側面43到中心軸19的距離 是由上而下漸增,且透鏡4上部截面的投影是落在透鏡4 下部截面的範圍内。頂面42概呈—越趨中央越往下凹陷的 凹陷面。在本實施例中,於該透鏡4沿該中心軸19的縱向 斷面中,該頂面42凹陷概呈乂形,但實際上並不以此為限 ,在其他的實施態樣中,如圖12所示,在沿中心軸19的 縱向斷面中,頂面42,也可以是凹陷概呈開口朝上的弧形, 或如圖13所示,頂面42”也可以凹陷概呈喇叭開口狀,或 如圖14所不,頂面42,,,也可以凹陷概呈底部呈尖錐狀的碗 形。本實施例中,中心軸19通過V形凹陷的中央,且底面 41平行於一由頂面42周緣所形成的出光面423,出光面 423垂直於中心軸19。 本實施例透鏡4的具體尺寸如下所述,但並不以此為 限,透鏡4的底面41與出光面423平行,且頂、底面42、 8 200921148 41均為圓形,頂面42周緣的直徑D2等於3 〇4麵底面 41的直徑m等於4.97 mm,透鏡4的高度h等於工5 _ ’側面43為半捏算於1 寺於丨.95 mm之球面的一部份,凸面段 422之上下端間的距離^等於請^凸面段极之兩 相鄰上端間的距離等於…。呈v字型面之頂面42的其中— 斜面與水平的出光面423間之夾角A可以等於例如3 79度 二7·=度、11.16度等任意角度。但上述之透鏡4的尺寸(直 徑、高度、凸面段422之上下端間的距離、)並不以此為 限’當改變透鏡4的規格時,可依需求改變光強度分佈的 均勻度;或是當基座2或發光半導體元件3的尺寸改變時 ’抑或選用的發光半導體元件3不同時,可依據本發明對 透鏡4的尺寸做調整以得到均勻的光強度分佈。 當發光半導體元件3發出的光線穿過透鏡4的底面41 後,部分光線人射透鏡4的頂面42,另—部分的光線則入 射透鏡4的侧面43而射出透鏡4;因為頂面42有不平整的 表面結構421,所以入射頂面42的光線中有—部分會㈣ 折而不朝頂面42之正上方行進,因此,參閱圖2及圖5, 在與中心軸19平行的方向上(亦即與出光面似的法線之夹 角Θ等於0度的方向上)的光強度會變小,光強度會隨著出 光方向與法線之夾角Θ的增加而增加,一直到出光角度(失 角Θ)大約等於正、負45度時的光強度才是最大,然後光強 度便隨著出光角度(爽角的增加而遞減。參閱6,當改 由極座標圖來看光強度分佈時,就可看出在出光面423上 的光強度分佈是大致均勻的。在本實施例中,出光角度(夾 200921148 :θ)大約等於正、負45度時的光強度最大但並不以此為 來說明本實施2、圖7及圖8,並依據前述的構件 ° 也歹α有透鏡4的光源裝置200的製造方法。 上,1 =步驟61,將發光半導體元件3安裝至基座2 上其中包括固晶打線等動作。 面不=進行步驟62 ’提供一模具7,模具7包含-内壁 面不平整的頂壁7— 土 、 自頂壁71周緣傾斜向下延伸的側壁 、’以及一由頂壁71與側壁72共同界定出的模穴73,模 2 73 截面的投影是落在模穴73下部截面的範圍内(在 带:’、、倒置)’亦即模穴73的形狀是對應上述透鏡4的外 然後進行步驟63,將可透光的膠狀物質灌注至模穴73 内’其中’膠狀物質可為熱固型樹脂(epoxy或孤叫等, 但並不以此為限。 *再進行步驟64’將基座2連同發光半導體元件3置於 一、^ 7上而對位,也就是說,將基座2倒置使發光半導體 元件3浸入膠狀物質中。 之後進打步驟65 ’烘烤使可透光膠狀物質固化。 最後疋步驟66,脫模,將已固化的膠狀物質脫離模具 7其中’固化的膠狀物質即形成上述之外形上小下大的透 鏡4 ’且由於透鏡4外形為上小下大,故脫模容易。 特別注意步驟63及步驟64,上述步驟雖是先灌膝而後 再對位’但熟習該項技藝者當知,亦可為先對位後,再灌 10 200921148 勝’不應以此為限,且步驟 不限於如_ 8所干之;中料7與基座2的關係亦 y、之倒置,也就是說,亦可使模具7在上 而基座2在下。 需注意的是, 方法除了利用模具 說明如下: 上述具有透鏡4的光源裝置 7達成外’也可不利用模具 200的製造 7完成,其 ,閱圖9及圖1〇,首先進行步驟81,置備一透鏡套蓋 鏡套蓋5包含-外壁面不平整的頂壁51、一自頂壁 ::周緣傾斜向下延伸的側壁52,以及-由頂壁51與侧壁 —共同界定出的容t 53,容室53上部截面的投影是落在 Ί 53下部截面的範圍内’亦即透鏡套蓋5的外形是對應 上述透鏡4的外形。 接著進仃步驟82,置備發光半導體元件3及基座之, 其中,、發光半導體元件3是經固晶打線在基座2上。 然後進仃步驟83,將基座2與透鏡套蓋5對位接a, 使得發光半導體元件3位於透鏡透蓋5下方,也就是發光 半導體元件3位於透鏡套蓋5與基座2間。 再進行步驟84,灌注可透光膠狀物質至透鏡套蓋 容室53内。 最後進行步驟85,烘烤使可透光膠狀物質固化。 一此外,本發明更提供先行完成透鏡4製作然後再與發 光半導體元件3及基座2組合的具有透鏡4的光源裝置2〇〇 的製造方法。 參閱圖11,首先進行步驟91,置備如上述具上小下大 11 200921148 外形的實心透鏡4,透鏡4的材質可為透光的熱塑性高分子 材料、熱固型塑膠或玻璃,但並不以此為限。 接著進行步驟92,置備一發光半導體元件3及一基座 2其中,發光半導體元件3是經固晶打線而固定於基座2 上0 热俊進行步驟93,將基座 /、〜,凡1 囬兮1対 位接合,使得發光半導體元件3位於透鏡4下方,也就是 發光半導體元件3位於透鏡4與基座2間,透鏡4與基座2 間可用膠黏合以固定。 此方法與前述方法不同之處在於,前述方法是置備中 空的透鏡套蓋5使用,而此方法則是使用實心的透鏡4。 歸納上述,本發明透鏡4及具有該透鏡4的光源裝置 扇藉由使透鏡4的頂面42形成—不平整表面結構421, 例如形成多數個呈階梯狀連續延伸且排列成同心圓的凸面 段似,則當發光半導體元件3發出的光線入射項面“時 ’會有部分光線被不平整表面結# 421偏折而不朝頂面42 的正上方行進;所以,在與出光φ 423的法線之夹角^等 :二的正方向上的光強度會降低,使得在出光角度(夹角㈠ 、負45度時的光強度增加為最大,因此,在出 ^ 7上可獲得μ度分佈均勾的光場以提供均句的照 明,故確實能達成本發明的目的。 &惟以上所述者,僅為本發明之較佳實施例而已,當不 :以此限定本發明實施之範圍’即大凡依本發明 靶圍及發明說明内容所作之簡 〕早的寺效變化與修飾,皆仍 12 200921148 ' 屬本發明專利涵蓋之範圍内。 • 【圖式簡單說明】 圖1是一光強度的極座標圖,說明習知發光二極體發 光時如同一點光源; 圖2是一側視剖面圖,說明本發明透鏡及具有該透鏡 的光源裝置之較佳實施例; 圖3是一俯視圖,說明該較佳實施例的透鏡; 圖4是一示意圖,說明該較佳實施例的透鏡之凸面段 / · 9 圖5是一光強度的直角座標圖,說明該較佳實施例的 射出透鏡之光線在各出光方向上的光強度; 圖6是一光強度的極座標圖,說明該較佳實施例的射 出透鏡之光線在出光面上的光強度分佈大致均勻; 圖7是一流程圖,說明該較佳實施例的製造方法; 圖8是一示意圖,說明該較佳實施例的製造方法之模 具; ' 圖9是一流程圖,說明該較佳實施例的另一製造方法 9 圖10是一側視剖面圖,說明該較佳實施例的製造方法 之透鏡套蓋; 圖11疋程圖,說明該較佳實施例的又一製造方法 9 圖1 2疋示思圖,說明該較佳實施例的頂面凹陷呈開 口朝上之弧形的輪廓態樣; 13 200921148 圖13是一示意圖,說明該較佳實施例的頂面凹陷呈喇 口八開口狀之輪廓態樣;及 圖14是一示意圖,說明該較佳實施例的頂面凹陷呈底 部呈尖錐狀之碗形的輪廓態樣。 14 200921148 【主要元件符號說明】 19.........中心軸 200 .......光源裝置 2 ..........基座 3 ..........發光半導體元件 4 ..........透鏡 41 .........底面 42 .........頂面 42,、42” ' 43”, ............頂Φ 421 .......不平整表面結構 422 .......凸面段 423 .......出光面 43 .........4則面 5 ..........透鏡套蓋 51 .........頂壁 52 .........側壁 53.........容室 61〜6 6 —步驟 7 ..........模具 71 .........頂壁 72 .........側壁 73 .........模穴 81〜85····步驟 91〜93 ·…步驟 A..........夾角 D1 ........直徑 D2........直徑 Η..........南度 hi.........距離 Θ .........夾角 15

Claims (1)

  1. 200921148 十、申請專利範圍··
    一種透鏡,用於接收一發光半導體 該透鏡包含: 元件所發出的光線 一底面,面對該發光半導 _ 一 ε 等體兀•件以接收光線; 一頂面,相反於該底面, 面曰λ s 頂面包括一使穿過該底 面且入射该頂面的部分光線 —、杜认 冰艰折而不朝該頂面之正上方 订進的不平整表面結構;及 一側面’由該頂面周緣往該底面周緣延伸,則穿過 該底面且人射該側面的光線射出該透鏡;該透鏡外形由 該頂面及該侧面交界處往該底面方向逐漸增大且該透 鏡上部截面的投影是落在該透鏡下部截面的範圍内。 2.依據中請專利範圍第丨項所述之透鏡,其中該頂面包 括多數個形成該表面結構的凸面段,該等凸面段呈階梯 狀連續延伸。 3_依據申請專利範圍第2項所述之透鏡,其中,該等凸面 段排列成同心圓。 4_依據申請專利範圍第丨〜3其中任_項所述之透鏡,其中 ’定義一通過該透鏡的中心軸’該頂面概呈一越趨中央 越往下凹陷的凹陷面。 5·依據申請專利範圍第4項所遂之透鏡,其中,於該透鏡 沿該中心軸的縱向斷面中,該頂面凹陷概呈V形。 6·依據申請專利範圍第*項所述之透鏡,其中,於該透鏡 沿該中心軸的縱向斷面中,該頂面凹陷概呈開口朝上的 孤^形。 16 200921148 7.依據申請專利範圍第4項所述之透鏡,其中,於該透鏡 - 沿該中心軸的縱向斷面中,該頂面凹陷概呈喇叭開口狀 8·依據申請專利範圍第4項所述之透鏡,其中,於該透鏡 石§亥中心軸的縱向斷面中,該頂面凹陷概呈底部呈尖錐 狀的碗形。 9. 依據申請專利範圍第5項所述之透鏡,其中,該側面為 一曲面。 10. 依據申請專利範圍第5項所述之透鏡,其中,該側面為 一球面的一部份。 11. 依據申請專利範圍第5項所述之透鏡,其中,該底面平 行於一由該頂面周緣所形成的出光面。 12. —種具有透鏡的光源裝置,包含: 一基座; 發光半導體元件’設於該基座上;及 一透鏡,設於該基座上,用於接收該發光半導體元 件所發出的光線,該透鏡包含·· 一底面,面對該發光半導體元件以接收光線; -頂面’相反於該底面’該頂面包括一使穿過 該底面且人射該頂面的部分光線偏折而不朝該頂面之正 上方行進的不平整表面結構;及 面周緣延伸,則 透鏡;該透鏡外 向逐漸增大,且 一側面,由該頂面周緣往該底 穿過該底面且入射該侧面的光線射出該 形由該頂面及該侧面交界處往該底面方 17 200921148 該透鏡上部截面的投影是落在 該透鏡下部截面的範
    13·依據中請專利範圍第12項所述之光源裝置,其中, 座為直立式支架、平面式支架或食人魚支架。 A Η.依據中請專利範圍第12項所述之光源裝置纟中該基 座頂面與該透鏡的底面接觸。 15·依據中請專利範圍第12項所述之光源裝置,其中,該頂 面包括夕數個形成該表面結構的凸面段,該等凸面段呈 階梯狀連續延伸。 16.依據申請專利範圍第15項所述之光源裝置,其中,該等 凸面段排列成同心圓。 17·依據申請專利範圍第12〜16其中任一項所述之光源裝置 ,其中’定義一通過該透鏡的中心軸,該頂面概呈一越 趨中央越往下凹陷的凹陷面。 18·依據申請專利範圍第17項所述之光源裝置,其中,於該 透鏡沿該中心軸的縱向斷面中,該頂面凹陷概呈V形。 19.依據申請專利範圍第n項所述之光源裝置,其中,於該 透鏡沿該中心軸的縱向斷面中,該頂面凹陷概呈開口朝 上的弧形。 2〇·依據申請專利範圍第17項所述之光源裝置,其中,於該 透鏡沿該中心軸的縱向斷面中,該頂面凹陷概呈喇叭開 口狀。 21 ·依據申請專利範圍第17項所述之光源裝置,其中,於該 透鏡沿該中心軸的縱向斷面中,該頂面凹陷概呈底部呈 18 200921148 尖錐狀的碗形。 22. 依據申請專利範圍第1 8項所述之光源裝置,其中,該側 面為一曲面。 23. 依據申請專利範圍第18項所述之光源裝置,其中,該側 面為一球面的一部份。 24. 依據申請專利範圍第1 8項所述之光源裝置,其中,該底 面平行於一由該頂面周緣所形成的出光面。 19
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TWI582349B (zh) * 2013-10-28 2017-05-11 鴻海精密工業股份有限公司 複合透鏡及使用該複合透鏡的光源裝置

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