TW200806987A - Test sensor production monitoring using XRF spectrometry - Google Patents

Description

200806987 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明大體而言係關於一種監控檢驗感測器產量之方 法’且更明確地說，係關於一種使用X射線螢光（XRF)光譜 術監控檢驗感測器產量的方法。 【先前技術】

體液中之分析物之定量測定在某些生理異常之診斷及維 護方面極具重要性。舉例而言，在某些個體中應監控乳酸 鹽、膽固醇及膽紅素。詳言之，糖尿病個體頻繁檢查其體 液中之葡萄糖含量以調節其飲食中之葡萄糖攝入量係重要 的。該等檢驗之結果可用於測定需要投與哪種胰島素或其 他藥物（若有的話）。在一種類型之血糖檢驗系統中，檢驗 感測器用於檢驗一血樣。存在兩種常用之檢驗感測器“電 化學檢驗感測器及光學檢驗感測器。 一檢驗感測器含有與分析物（例如，葡萄糖）反應之生物 感測或試劑材料。籍由毛細作用將流體（例如，血）吸入一 在檢驗感測器中自檢驗端延伸至試劑材料之毛細管道中， 以便將待檢驗之足量流體吸入檢驗感測器中。或者，一個 體可將-滴血塗覆至並有—含有能夠與血糖反應之生物感 測或試劑材科之反應區域的檢驗感測器。在一電化學檢驗 感測口.中&加電壓，引起目標分析物接著與檢驗感測 器中之試劑材料化學反應。此產峰一- — G座生知不被檢驗之流體_ 之葡苟糖含里的電信號。此雷彳士 彡7丄^ 电L派此電仏唬經由靠近檢驗感測器之 後方或接觸端定位之接觸區域供雍 ;^供應至一感測器分配儀器或 120087.doc 200806987 儀錶，且變成量測輸出。 為獲得一更準確量測， ^ tl ^ ^ 、必須知道置放於檢驗感測器上之 滅劑的量。換t之，八>， ,^ ^ 〇 刀析物量測取決於置放於檢驗感測p ,..^ 、准濩試劑材料之厚度或沈積之一致

性係重要的。需要星有古 B ，、有网產I之線上監控製程。另外，需 ==㈣非轉不料檢贼祕效能，要 ^里^有的話）樣本製備，且仍提供優良準確度及精確

又。需要提供一具有此等所要特徵之至少一些(若不是大 部分）之監控製程。 【發明內容】 在使用XRF光譜術線上監控檢驗感測器之方法中，提 供-檢驗感測器，驗感測器包含一包括酶及介體之試 劑。該介體包括一ϋ;I a ， 販匕祜至屬7G素。使用XRF光譜術監控檢驗感 測器之該試/劑。 在使用XRF光譜術線上監控檢驗感測器之另一方法中， 提供一電化學檢驗感測器。該電化學檢驗感測器包含一包 括酶及介體之試劑。該介體包括一金屬元素1使用xrf光 邊術監控輪驗感測器之該試劑。 本發明之以上概述並不意欲表示本發明之每一實施例或 每個態樣。本發明之額外特徵及益處自以下陳述之實施方 式及圖式顯而易見。 【貫施方式】 本發明係針對一使用x射線螢光（XRF)光譜術之線上檢驗 感測器產量監控方法。通常在檢驗感測器產量製程期間以 12GG87.doc 200806987 間歇間隔執行該監控，諸如每隔50或100個檢驗感測器薄 片檢驗1個檢驗感測器薄片。然而，期望可以檢驗每一檢 驗感測器薄片之此種方式執行監控。監控方法合意地幫助 獲得一致的高品質檢驗感測器且以一所要水準執行。監控 方法亦可幫助最佳化可在一試劑沈積製程中出現之試劑之 置放。 在一實施例中，待監控之檢驗感測器為電化學檢驗感測 器。檢驗感測器用於測定流體中之至少一分析物之濃度。 可誕ΐ測之分析物包括葡萄糖、脂質概況（例如，膽固 醇、甘油二酸脂、LDL及HDL)、微白蛋‘白、金色素a1c、 果糖、乳酸鹽、膽紅素或酮（keyt〇ne)。期望可測定其他分 析物濃度。分析物可在（例如）整個血樣、血清樣本、血漿 樣本、諸如ISF(間質液）、尿之其他體液及非體液中。如本 申π案内所使用的’術語”濃度"係指一分析物濃度、活性 (例如，酶及電解質）、效價（例如，抗體），或用於量測所 要分析物之任何其他濃度量度。 調適電化學檢驗感測器以將其置放於一提供外加電位且 監控所得電流的感測器分配儀器或儀錶中。電化學檢驗感 測器通常具備—自檢驗感測器之前方或檢驗端延伸至安置 於杈驗感測益中之生物感測或試劑材料之毛細管道。可以 :乾墨形式將試劑儲存於檢驗感測器内，以促進檢驗感測 之ι長存放期。當將檢碑感測器之檢驗端置放於流體 如在刺凡人之手指之後在手指上積聚的血）中時，藉 由毛細作用將流體之—部分吸人毛細管道中。流體接著與 120087.do< 200806987 檢驗感測器,巾之試_料縣且與試劑㈣化學、 便將-指示被檢驗之流體中之分析物(例如，葡萄二: 的電信號供應並隨後傳輪至―感應器分配儀器或儀鎮。: 檢驗葡萄糖情況下，來自反應產 葡萄糖量成比例的電流。“途產生-與樣本中之

圖:描繪-檢驗感測器70’其包括一毛細管道72、儀錶觸 點8 6及複數個電極7 6及8 G。該複數個電極包括—工作 測）電極8〇及-參考電極m學檢驗感測器亦可含: 至少三個電極，諸如一工作電極、一參考電極及一辅助或 ”計數nm等電極可由碳或其他㈣形成。該等電 極可位於一基板上’諸如一聚合基底或基板。毛細管道72 含有試劑，如以下將更詳細加以論述的。毛細管道可形成 於蓋中，或者可與-位於蓋與基底之間的額外層（通常稱 作一間隔片）一起形成。期望諸如一介電層之額外層可用 於電化學檢驗感測器中◊電化學檢驗感測器（包括其操作） 之實例可發現於（例如）讓渡給Bayer corporation之美國專 利第6,5 3 1 ’040號中。期望可使用其他電化學檢驗感測器。 電化學檢驗感測器70亦含有一可選觸發電極84，如圖} 中所展示。觸發電極84係參考電極76之一子元件。當將一 流體樣本置放於檢驗感測器70上時，流體樣本首先接觸觸 發電'極84。根據樣本流流動之方向使工作電極8〇及參考電 極76相對於觸發電極84位於進一步下游。一處理器藉由測 疋由處理益分析之電化學電流時程而追縱流體自觸發電極 120087.doc 200806987 84订進至·工作電極8〇及參考電極乃所花費之時間量。基於 該電流時程，處理器可藉由產生分析物濃度（諸如，存在 於血樣中之葡萄糖之濃度）或藉由產生一指示感測器中所 存在之jk k不足之誤差碼而應答以作出測定。 稱為生物感測器之類型之電化學檢驗感測器包括一生物 化學辨識元件作為感測器試劑。該感測器試劑可影響之項 目例如：所需流體樣本量及與分析物反應所需時間長度， _ 彼等可用以測定分析物濃度。試劑通常包含活性成份及載 體成份。活性成份通常包括一適當選定之酶，其可與所要 :: 一 * 牛 ' ^ 而言，當被檢驗之 分析物為葡萄'糖時，電化學檢驗感測器可利用葡萄糖氧化 酶或葡萄糖脫氫酶與樣本中之葡萄糖反應。期望可使用其 他特定葡萄糖酶。用於檢驗膦固醇濃度中之酶可包括（例 如）膽固醇氧化酶及膽固醇酯酶。期望可在電化學檢驗感 測器中使用其他酶。 〜 • 通常包括於一電化學檢驗感測器中之另一活性成份係一 用於轉移電子之介體。非限制性實例包括（但不限於）鐵氛 化物衍生物（例如，鐵氰化鉀）及二茂鐵衍生物（例如， 二甲基二茂鐵、羥甲基二茂鐵、2_羥乙基二茂鐵及羧酸二 茂鐵期望可使用其他金屬試劑，諸如六胺釕（rmhenium heXa,mine)。在一實例中’一用以量測葡萄糖之檢驗感測 器之試劑係利用鐵氰化鉀作為介體及利用葡萄糖氧化酶與 樣本中之葡萄糖反應。在此實例中，XRF光鳟計量測鐵氛 化鉀中之鐵，此不取決於鐵之狀態v期望其他介體可適於 I2_7.doc -10- 200806987 才驗/、他型之分析物·。亦可將穩定劑添加至檢驗感測器 試劑以促進-較長存放期。 ^ 使用χ射線螢光(XRF)光譜術對檢驗感測器 執灯、線上I才空。提供一包含試劑之檢驗感測器。試劑包括 酶及介體。介體包括_金屬元素。 在方去中’ XRF光譜計量測介體中之金屬，元素、。舉例 σ若’I體為鐵氰化鉀，則XRF光譜計量測鐵之量。藉 由里測i丨體之鐵可測定試劑沈積之一直接量測。xrf光譜

十亨法對於諸如酶（例如，葡萄糖氧化酶）之試劑及任何其 他生物活L成份係非破壞性的。此外，合意地，電化學檢 驗感測器之其他組件（諸如，一聚合基底、碳電極或介電 層）不會干擾金屬元素（例如，鐵）之量測。 XRF光譜計在一實施例中包括允許總試劑區域之不同覆 孤及/或特殊位置處之試劑沈積之複數個準直儀。舉例而 吕，XRF光譜計可監控工作電極之一特殊位置。咸信在準 確度及精確度方面，工作電極上之試劑沈積係檢驗感測器 效能之一極好預測方法。期望XRFi譜計可包括一允許檢 查單一位置處之總試劑區域或一特殊區域的試劑沈積的單 一準直儀。 在貝鈿例，中，XRF光譜計包括一允許複數個檢驗感測 器之快速檢奎之相當大的XY平臺或台。可由諸如金屬及 聚合材料之材料形成χγ平臺。可使用之金屬材料包括（但 不限於）鋁及鳞。期望可使用其他金屬材料形成χγ平臺。 為幫助減少背景雜訊，χγ平臺可形成至少一孔。背景 120087.doc 11 200806987 雜訊之減少幫助改良檢驗感測器之監控。參看圖2，展示 一 XY平臺或台110具有穿過其形成之複數個孔112。該複 數個孔112對應待藉由XRF光譜計監控之所要試劑區域。 該複數個孔通常稍大於待監控之試劑區域。在另一實施例 中，可在缺乏孔的情況下形成XY平臺或台。 可使用之XRF光譜計之一實例為由Helmut Fischer，GmbH +CckKG (Sindelfmgen, Germany)銷售之 FISHERSCOPE® XDLM® -C4 x射線系統。FISHBRSCOPE⑧ XDLM® -C4 x射 線系統包括一微焦x射線管及一具有自0.05x0.05 mm2變化 至2-mm直徑的四個不同尺寸之準直儀之電動準直儀區 塊。FISHERSCOPE㊣XDLM® -C4 X射線系統自動校正不 同量測距離處之螢光光譜之強度差異。期望可在本申請案 之發明方法中使用其他XRF光譜計。 XRF先譜計可量測自總的或整個試劑印刷區域至一特殊 試劑沈積之一定範圍的尺寸。舉例而言，參看圖3a，一電 化學檢驗感測器200包括一計數器電極202、一工作電極 206、——觸發電極210及一乾燥試劑區域220。試劑區域220 為一多邊形形狀，且更具體言之，在圖3a、3b中為一矩形 或正方形。期望試劑區域可為不同於圖3a、3b中所描繪之 形狀的形狀。使投影準直儀光束匹配試劑區域220之寬度 W1 (内部印刷直徑）且產生圖3a、3b中之大體上圓形的區域 230。因此，圖3a、3b中之準直儀量測在電化學檢驗感谢 器200之基底上的試劑區域220之内部印刷直徑。 120087.doc -12- 200806987 麥考另-實施例，圖4a包括圖33之電化學檢驗感測器 2〇〇。然而，在此實施例中使投影準直儀光束匹配整個試 劑區域220且，產生圖4a、4b中之大體上圓形的區域24〇。具 體言之，投影準直儀光束直徑匹配印刷(整個試劑沈積)之 對角線D1。因此’在此方法中，圖4”扑之準直儀量測在 電化學檢驗感測器20Ό之基底上的試劑區域22()之總的試劑 沈積。期望可使用其他以來使用—xrf光譜計量測試劑 區域之金屬含量。 。。期望可使㈣電化學檢驗感測器之外的其他檢驗感測 器。舉例而言，若(例如）試劑含有可經添加作為内部參考 試劑以指示藉由XRF光譜術量測之沈積之金屬組份，則可 使用一光學檢驗感測器。 如實例中將加以論述的，可藉由若干方法校準XRF光譜 計。期望可藉由其他方法校準XRF光譜計。另外，可藉由 (例如）將在下列實例中加以論述之幾何校正而校正^自 XRI7光譜計之結果。 實例

實例I 參看圖5a及5b，檢驗感測器樣本係使用發明的XRF方法 1及比較萃取方法1來檢驗。因為發明的XRF方法對於樣 本係非破壞性的（亦即，不影響檢驗感測器效能），所以最 初使用發明的XRF方法1量測每一檢驗感測器樣本，繼之 使用比較萃取方法i量測。發明的又^^方法i使用包括一 2_ mm直徑準直儀之FISHERSCOPE® XDLM® -C4 x射線系 120087.doc -13- 200806987 統。在發明的XRFMU，使投f彡準直光束匹配試劑寬 $ (或内部印刷直徑p發明的χ R F方法丨量測試劑寬度之鐵 合量。將鐵含量轉換成鐵氰化物，因為試劑中之活性成份 為鐵氰化物。 比較萃取方法i手動量測整個試劑區域。比較萃取方法1 畺測整個试劑區域之鐵含量。比較萃取.方法包括藉由用 K洗滌忒劑而將試劑萃取成溶液。將具有水及試劑之溶液 φ 置放於經校準之光學光譜計之容器中。使用光學光譜計估 計鐵氰化物之量。使用一微量滴定盤讀取器（M〇lecuiar Devlees公司之25〇)認定（e糾“ο光學光譜 叶，其具有在一 405 urn之波長下所量測之吸收率且減去在 6 5 0 nm下所量測之吸收率。 最初參看圖5a，y軸標繪來自發明的xrf方法1之量測（標 兄為nXRF”)，而X軸標繪來自比較萃取方法1之量測（樣記 為"萃取、"）。發明的XRF方法1與比較萃取方法1兩者之量測 # 具有單位uS/mm2。比較發明的XRF方法1之結果與比較萃 取方法1之結果。發明的XRF方法1與比較萃取方法1之比 較展示一斜率，該斜率暗示一偏移存在於該等量(則技術之 間。最佳在圖5b中展示此偏移，在圖5b中分別標，該尊量 測。具體言之，圖5b標繪來自比較萃取方法i (標繪為正方 形）及發明的XRF方法1(標繪為三角形）之量測，其中y軸上 為鐵氰化物之總沈積（單位ug/mm2)且X軸上為樣本數目。 ' , i測之結果偏移，但傾向於彼此接近。 實例2 1200g7.doc -14 200806987 蒼看圖6a及6b ’檢驗，感測器樣本係使用發明的XRF方法 2及比較萃取方法丨來檢驗。因為發明的方法2對於檢 驗感測斋樣本係非破壞性的，所以最初使用發明的XRF方 法2量測每一樣本，繼之使用比較萃取方法〗量測（論述於 上述貫例1中）。除了發明的又^^方法2之投影準直光束匹配 試劑區域（總的試劑沈.積）之對角線而不是内部印刷直徑， 發月的XRF方法2與發明的XRj?方法丨相同。發明的方

法2量測總試劑區域之鐵含量，將鐵含量轉換成鐵氰化 物0 最初參看圖6 a，y軸標繪來自發明的XRF方法2之量測（標 記為"XRF”）’而X軸標繪來自比較萃取方法丨之量測（標記 為"萃取"）。發明的XRF方法2與比較萃取方法丨兩者之量測 具有單位ug/mm2。圖6a之底部曲線（菱形曲線）係在沒有校 正之情況下加以標繪，而圖7之頂部曲線（正方形曲線）係在 幾何校正之情況下加以標繪.將結合圖1〇在下文中更詳細 地論述用於實例2中之幾何校正。 、 比較發明的XRF方法2之結果與比較萃取方法丨之结果 圖6a中之發明的XRF方法2與比料取方法i之未經校正 底部曲線展示-斜率，該斜率暗示—偏移存在於此等量 技術之間。當分別標㈣等量測時，此偏移展示於= 卜具體言之’圖6b標繪來自比較萃取方^(標繪為正 形）、未經校正之發明的XRF方法2(標繪為三角开/ . 正之發明的XRF方法2(標縿為圓形）之量測。比較萃取： I及未經校正之發明的XRF方法2之量測的結果偏移，但 120087.doc -15- 200806987 向於彼此接近。經校正之發明的XRF方法2最小化比較萃 取方法1與未經校正之發明的XRF方法2之間的偏移。如圖 6b中所展示，比較萃取方法！與經校正之發明的XRF方法2 良妤地傾向於彼此。 實例3 參看圖7，使用氣:相沈積標準論述用於實例丨及2中之 XRF光譜計之校準。一比較鐵沈積方法包括將鐵氣祖 沈積於穂定聚合基板上。所使用之聚合基板為聚碳酸酯。 在切成2"x3"矩形之聚碳酸酯基板上沈積一定範圍的鐵沈 積。沈.積於基板上之鐵之量改變，但具有已知重量。隨後 藉由稱、重來驗證基板上之鐵之重量。在發明的方法3 中，使用實例1及2之XRF光譜計量測鐵之量。此產生未經 校正之XRF鐵量測。使用幾何校正將未經校正之xrf鐵量 測轉换成經校正之XRF鐵量測。幾何校正包括使用投影準 直光束之$知區域及試劑區域。使用此係數獲得經校正之 XRF鐵量測。藉由XRF光譜計之軟體執#此校正。 圖7之7軸捍繪發明的XRF方法3之未經校正與經校正之 值，而X軸標繪比較鐵沈積方法之量測。該等值/量測均以 物m2為單位n形標繪相對.比較鐵沈積方*之值的未 經校正之發明的XRF方法3值， ‘- 向以正方形標繪相對比 又鐵沈積方法值的經校正之發明的XRp方法3之值。未婉 =正之發明的XRF方法3的量測偏移比較鐵沈積方法之^ 較鐵:二’經校正之發明的咖^3的值良好地追縱比 孕又鐵沈積量測。 120087.doc -16- 200806987 實例4 實例4及5使用校準"標準”代替實例3中使用之氣相沈積 標準。參看圖8,展示比較萃取方法3之沈積值與使用校準 之發明的XRF方法4之沈積值之間的—相關性。除了在不 考慮試劑區域之情況下量測鐵氰化物之讀數，發明的xRp 方法4(總的試劑沈積、)類似於發明的方法2。在使用發 明的XRF方法4檢驗一樣本之後，接著對同一樣本執行比 # 較萃取方法^除了經萃取之鐵氰化物值以ug/m^單位， 比較萃.取方法3類似於比較萃取方法丨。用於比較萃取方法 3中之體積為l ml。基於投影準直儀區域而將發明的xrf方 法4之讀數轉換成單位ug。因此，在實例4中，發明的 方法4與比較萃取方法3均為與區域無關之量測。展示 同一檢驗之兩個趨勢（run) ’趨勢Ί具有樣繪為正方形之點 且趨勢2具有標繪為三角形之點。趨勢丨之斜率為〇.卯$， 而趨勢2之斜率為〇.98今。 φ 實例5 參看圖9，使用犛明的XRF方法2量測檢驗感測器樣本且 儲存光譜。在使用發明的X R F方法2量測檢驗感測器樣本 之後，接著萃取該等樣本且使用以上所論述之比較萃取方 法1獲得鐵氰化物濃度。 咸信斜率之偏差歸因於計算比較萃取方法1之感測器之 沈積值中的一誤差。萃取沈積值係基於鐵氰化物之濃度且 除以手動量測之試劑區域。 實例ό 120087.doc -17- 200806987 為補償不能狗完全填充投影準直光束之試劑區域，對使 甩總的試劑區域之發明的XRF方法執行一幾何校正。因 此，此幾何校正補償試劑沈積之校正區域，以使得經校正 之試劑區域沈積與填充準直光束之鐵校準相同。區域中之 - 差異展示於圖10中，其中投影準直光束之區域為.12 75 mm2且試劑區域為7,76麵2。所使用之試劑為具有咖之 邊的正方形且投影準直光束具有4.〇29 mm之對角線。投影 φ 準直光束之對角線（4·029 mm)匹配試劑區域之對角線。此 貫例中之試劑區域為投影準直光束之總區域之62.2%。 基於投影準直儀尺寸及經量測之試劑區域，使用直接計 算校正來校正該等區域之間的差異。藉由採用具投影準直 儀尺寸之區域且除以實際試劑區域，獲得一係數，當將該 係數乘以XRF沈積讀數時，該係數給出萃取之一均等沈積 值。獲得經校正之發明的XRF方法與比較萃取方法之間的 一偏移，可校正該偏移以用KXRF光譜計中。

•替代實施例A 一種用於使用XRFi譜術線上監控檢驗感測器之方法， 該方法包含以下動作： > 提供一包含一試劑之檢驗感測器，該試劑包括一酶及一 介體，該介體包括一金屬元素；及 使用XRF光譜術監控該檢驗感測器之該試劑。

替代實施例B 如替代貝施例A之方法，其中該檢驗感測器為一電化風 檢驗感測器。 予 120087.doc -18- 200806987 替代實施例c 如替代實施例A之方法，其中該檢驗感測器為一 驗感測器。 千才双 替代實施例1> 如替代實施例A之方法，其中該介體為一鐵氰化物衍生 物且其中監控該檢驗感測器之該試劑包括.量測鐵。 替代實施例£ φ 如替代實施例A之方法，其中該鐵氰化物衍生物為鐵一 化鉀。 氣

替代實施例F

如替代實施例A之方法，其中該介體為二茂鐵衍生物。 替代實施例G 如替代實施例F之方法，其中二茂鐵衍生物為M，二曱烏 一茂鐵、羥曱基二茂鐵、2-羥乙基二茂鐵或羧酸二茂鐵。& 替代實施例ΙΪ • 如替代實施例A之方法，其中該介體為六胺釘。

替代實施例I 如替代實施例A之方法，其中該酶為特定葡萄糖酶。

替代實施例J 如替代實施例Η之方法，其中該酶為葡萄糖氧化酶。 替代實施例Κ -種用於使用XRF光譜術線上監控電化學檢驗感測器之 方法，該方法包含以下動作： 提供一包含一試劑之電化學檢驗感測器，該試劑包括一 120087.doc -19- 200806987 酶及一介體，該介體包括一金屬元素.；及 使甩XRF光譜術監控該檢驗感測器之該試劑。 替代實施例L. 如替代實施例K之方法，其中該介體為—鐵氰化物衍生 且其中I控该檢驗感測器之該試劑包括量測該鐵。 替代實施例Μ 其中該鐵氰化物衍生物為鐵氰

如替代實施例Κ之方法 化鉀。 替代實施例Ν 如替代實施例Κ之方法 替代實:施例〇 其中該介體為二茂鐵衍生物 〇 管代貫施例Ν之方 基 羥甲基二茂鐵、2_羥乙基二茂鐵或羧酸二: 鐵 鐵。 替代實施例Ρ 如替代實施例Κ之方法，其中該介體為六胺钉。

替代實施例Q 如替代實施例Κ之方法，其中 一 替代實.施例R 每為特疋葡萄糖酶。 t替代實施例Q之方法，其中該酶為葡萄糖氧 辣雖然本發明能容許多種修改及替代形式，但本發明之特 2施例及方法已借助於圖式中之實例加以展示，且在本 文中已詳細加以描逑。鈇 在本 q…、而’應瞭解，不意欲將本發明限 刮於所揭示之特定形式或 &月限 去，而相反，本發明欲涵蓋在 120087.doc *20. 200806987 如藉由附隨的申請 '專利範圍界定之本發明之精神及範疇内 的所有修改、均等物及替代物。 【圖式簡單說明】 圖1為一根據一實施例之電化學檢驗感測器之俯視圖。 圖2為用於一XRF光譜計中之—χγ平臺或台之俯視圖， 該ΧΥ平臺或台令形成有複數個孔。 圖3a為一具有一用於量測試劑之寬度（内部印刷直徑）之 φ 投影準直光束區域的電化學檢驗感測器之放大俯視圖。 圖3b為試劑區域及用於匹配圖3&之試劑之寬度的投影準 直光束區域之放大圖。 圖4a為一具有一用於量測整個試劑區域之投影準直光束 區域之電化學檢驗感測器的放大俯視圖。 圖4b為試劑區域及用於匹配圖4a之整個試劑區域之投影 準直光束區的放大圖。 圖5 a為比較量測内部印刷直徑之發明的χκρ方法與一量 馨 測整個試劑區域之比較萃取方法之曲線。 圖5b為比較量測内部印刷直徑之發明的XRF方法與量測 整個試劑區域之比較萃取方法之另一曲線。 圖6a為比較量測整個試劑區域之發明的XRF方法與量測 整個試劑區域之比較萃取方法之曲線。 圖6b為比較量測整個試劑區域之發明的XRF方法與量測 整個試劑區域之比較萃取方法之另一曲線。 圖7為比較發明的X R F方法之未經校正及經校正之量測 與一比較鐵沈積方法之量測的曲線。 120087.doc -21 - 200806987 圖8為使用發明的XRF方法及比較'萃取方法用於總的沈 積之量測的曲漆。 圖9為比較量测整個試劑區域之發明的XRF方法與量测 整個試劑區域之比較萃取方法之曲線。 圖10為比較量測整個試劑區域的具有未經校正及經校正 之偏移的發明的XRF方法與量測整個試劑區域之比較萃取 方法之曲線。 【主要元件符號說明】

7〇 檢驗感測器 72 毛細管道 76 參考電極 80 工作（量測）電極 84 觸發電極 86 儀錶觸點 110 χγ平臺或台 112 孔 200 電化學檢驗感測器 2〇2 計數器電極 206 工作電極 210 觸發電極 22〇 乾燥試劑區 23 0 區域 240 區域 D1 對角線 W1 寬度 120087.doc -22·

Claims (1)

1. 200806987 十、申請專利範圍： I · 一種使用XRF光譜術線上監控檢驗感測器之方汰 戍，该方 法包含以下動作： 提供一包含一試劑之檢驗感測器，該試劑包一 何一姆及 一介體，該介體·包括一金屬元素；及 使用XRF光譜術監控該檢驗感測器之該試劑。 2.如請求項i之方法，其中該檢驗感測器為一電化風 感測器。 欢驗 3·如，求項1之方法，其中該檢驗感測器為一光學檢驗感 測器。 〜 4·如=求項1之方法，其中該介體為鐵氰化物衍生物且其 4工該4双驗感測器之該試劑包括量浪】鐵。 =:求項1之方法，其中該鐵氰化物衍生物為鐵氛化 ^求項1之方法’其中該介體為二茂鐵衍生物。 7·如δ月求項6之方法，直中續-玆碑妒庫仏从 一 /、宁鑌一/V鐵何生物為l5l，二曱基二 .甲基二茂鐵、2 -經乙灵-玲德七 8.如請求们之方… 基-戊鐵或羧酸二茂鐵。 、之方法，其中該介體為六胺釕。 9 ·如請求項1 、之方法，其中該酶為一特 10·如請求項8之古、土朴 \ 行疋獻苟糖_。 II 一種俊田 、，/、中該酶為一葡萄糖氧化酶。 •種使用XRF光譜術線上 風 法H i… 良现控電化學檢驗感測器之方 々方法包含以下動作： &供一包含_气 一酶及〜抑劑之電化學檢驗感測器1試劑包括 丨體、亥介體包括-金屬元素；及 120087.doc 200806987 其中該介體為鐵氰化物衍生物且其 之該試劑包括量測鐵。 其中該鐵氰化物衍生物為鐵氰化 其中該介體為二茂鐵衍生.物。

   使用XRF光譜術監控該檢驗感測器之該試劑。 12 ·如請求項11之方法， 中、監控該檢驗感測器 13.如請求項11之方法 鉀0 14 ·如凊求項11之方法， 1 5 ·如凊求項14之方法 一戊鐵、經甲基一 鐵。 ’其中該二茂鐵衍生物為1,1，二甲基 茂鐵、2-經乙1 _ μ 土——戊鐵或羧酸二茂 16·如請求項u之方法 17·如請求項11之方法 18·如請求項17之方法 其中該介體為六胺句。 ’其中該酶為 ’其中該酶為 〜特定葡萄糖酶。 〜葡萄糖氧化酶。

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