TARIFNAME CAM YÜZEYLER içiN BIR LOW-E KAPLAMA VE LOW-E KAPLAMA IÇEREN TEKNIK ALAN Bulus, isil islem dayanimi yüksek, isil islem öncesi ve sonrasinda mekanik, geçirgenlik ve renk degerlerinin stabil kaldigi, cam yüzeyler için günes kontrolünü ve isi yalitimini saglayan bir low-e kaplama ve söz konusu low-e kaplamayi içeren bir cam ile ilgilidir. ÖNCEKI TEKNIK Mimari ve otomotiv sektöründe kullanilan camlarin, mekanik, optik ve fiziksel özelliklerini iyilestirmek üzere kaplama malzemeleri ile kaplanmasi söz konusudur. Cam endüstrisinde birçok farkli formda ve fonksiyonalitede cam kaplama malzemeleri yer almakta ve her geçen gün özelliklerini iyilestirmek üzere çalismalar devam etmektedir. Ilgili teknik alanda en çok kullanilan kaplama malzemelerinden biri de low-e (low-emission) kaplama malzemeleridir. Söz konusu low-e kaplama malzemeleri, camlar için günes (UV isinlarin %70 ve üzeri oraninda azaltilmasini saglamakta) ve isi kontrolü saglayarak yakit ve enerji tasarruflari saglamaktadir. Bunun yani sira low-e kaplamalar, cam yüzeyler için seffaflik saglamakta iken ayni zamanda cam yüzeylerinde soguk havadan korunmasini saglamaktadir. Low-e kaplamalar, her biri farkli fonksiyonaliteye sahip ve bünyelerinde metaller, oksitler, nitrürler veya hidrürler içeren tabakalardan olusmaktadir. Metal içeren tabakalarin kendi aralarinda yaratmis olduklari sinerjik etki ile birlikte cam yüzeylerin mekanik, optik ve fiziksel özellikleri iyilestirilmektedir, bu sayede kaplandiklari camlarin iç mekânlarin yazin serin kisin ise sicak kalmasini saglamaktadir. Teknik alanda cam yüzeylerin özelliklerini iyilestirmek üzere low-e kaplamalar, bünyelerinde birçok farkli yapida ve özellikte kizilötesi yansitici tabakalar bulunmaktadir. Bunun yani sira low-e kaplamalar bünyelerinde, istenilen özelliklere patent numarasina sahip bulus, çift kizilötesi yansitici tabaka içeren low-e kaplama malzemesi ve bu kaplama malzemesi ile kaplanmis bir cami tarif etmektedir. Kizilötesi yansitici tabaka olarak gümüs metali içeren iki tabaka yer almaktadir. CN112250322 patent numarali bulus ise tek gümüs kizilötesi katmani içeren low-e kaplamali bir cam ürün ile ilgilidir. Söz konusu bulusta kaplama katmanlari cam yüzeylerine magnetron püskürtme ile gerçeklestirilmektedir. Low-e kaplama ile kaplanmis camlarin günes enerjisi spektrumunun görünür, yakin kizilötesi ve kizilötesi bölgedeki geçirgenlik ve yansitma degerleri hedeflenen seviyelerde elde edilebilmektedir. Geçirgenlik ve yansitma degerleri disinda, kaplamali camlarda seçicilik degeri de önemli bir parametredir. Seçicilik, lSO 9050 (2003) standardinda görünür bölge geçirgenlik degerinin solar faktöre orani olarak tanimlanmaktadir. Kaplamalarin seçicilik degerleri de içerdigi Ag katmani sayisi, kullanilan çekirdeklestirici katman türü, yansimayi düsürücü dielektrik katman kombinasyonlari ve katmanlarin parametrik optimizasyonlari ile hedeflenen seviyelerde tutulabilmektedir. Teknikte mevcut cam ve low-e kaplama malzemelerine isil islemler uygulanmasi sonucunda mekanik, geçirgenlik, renk parametreleri ve delta e degerlerinde isil islem öncesi ve sonrasi degismeler gerçeklesmektedir. Bahsedilen olumsuz durumun giderilmesine yönelik, isil dayanim ve düsük geçirgenlik özelliklerinin saglanmasi için low-e kaplamalarda yer alan bariyer katmanlarin ve/veya kizilötesi yansitici katmanlarin kalinliklarinin arttirilmasi saglanmaktadir. Metalik içerikli katmanlarinin daha kalin oldugu bu durumda görünür bölge yansimalarin artis göstermesinin yani sira isil islem sonrasi optik degerler çok daha fazla degisim göstermektedir. lsil islemler öncesi ve sonrasinda low-e kaplamalarin mekanik, optik ve fiziksel özelliklerinde degismelerin en azindan kabul edilebilir seviyelerde kalmasi veya herhangi bir degismenin gerçeklesmemesi için düzenlemeler yapilmasi zorunluluk haline gelmistir. BULUSUN KISA AÇIKLAMASI Mevcut bulus, ilgili teknik alandaki dezavantajlari kaldirmak ve ilgili teknik alana ilave teknik çözüm ve avantajlar sunmak üzere cam yüzeyler için bir low-e kaplama ile ilgilidir. Bulus bir yönüyle, mekanik, fiziksel, optik özellikleri iyilestirilmis low-e kaplama içeren bir cam ile ilgilidir. Bulusun esas amaci, cam yüzeylerin isil islem uygulamalari öncesi ve sonrasi optik özelliklerinin stabil kalmasini saglayan bir low-e kaplama ortaya koymaktir. Bulusun bir diger amaci, cam yüzeylerin isil islem uygulamalari öncesi ve sonrasi fiziksel ve mekanik özelliklerinin stabil kalmasini saglayan bir low-e kaplama ortaya koymaktir. Elde edilen low-e kaplamanin, cam yüzeylerine kaplanmasi ile birlikte yüksek mekanik ve fiziksel özelliklere sahip camlarin eldesi mümkün olabilmektedir. Bulusun bir diger amaci, orta-düsük seviyelerde isin geçirgenlik degerlerine sahip cam yüzeyler için bir low-e kaplama eldesidir. Bulusun bir diger amaci, nötral mavi renge sahip cam yüzeyleri için bir low-e kaplama eldesidir. Tüm bu faydalari saglamak üzere bulus, cam yüzeyleri için kullanima uygun isil islem dayanimi yüksek, isil islem öncesi ve sonrasi mekanik, fiziksel ve optik özelliklerin stabil kaldigi, cam yüzeyler için günes kontrolünü ve isi yalitimini saglayan bir low-e kaplama ile ilgilidir. Buna göre low-e kaplama bünyesinde camdan atmosfere dogru sirasiyla asagidaki, - SiXNy, SiOXNy, ZnSnOX, TiOX, TiNX, ZrNX'den en az birini içeren bir birinci dielektrik katman, - TiOX katmanini içeren bir yansima düsürücü katman, - SiXNy, TiNX, ZrNX, ZnSnOX, ZnAIOX, SiOXNy, TiOX, ZnOX'den en az birini içeren bir birinci çekirdeklestirici katman - NiCr veya NiCrOX'dan en az birini içeren bir birinci bariyer katman, - Bir birinci kizilötesi yansitici katman, - NiCr veya NiCrOX'dan en az birini içeren bir ikinci bariyer katman, - SiXNy, TiNX, ZrNX, ZnSnOX, ZnAIOX, SiOXNy, TiOX, ZnOX'den en az birini içeren bir ikinci dielektrik katman, - TiOX, ZnAIOX, ZnOX, ZnSnOX'dan en az birini içeren bir ikinci çekirdeklestirici - Bir ikinci kizilötesi yansitici katman, - NiCr veya NiCrOX'dan en az birini içeren bir üçüncü bariyer katman, - SiXNy, TiNX, ZrNX, ZnSnOX, ZnAIOX, SiOXNy, TiOX, ZnOX'den en az birini içeren bir üçüncü dielektrik katman - ZnAIOX, SiOXNy, TiOX'dan en az birini içeren bir dördüncü dielektrik katman, - TiOX katmanini içeren bir üst dielektrik katman, içeriyor olmasi, isil islem öncesi ve sonrasinda low-e kaplamanin mekanik, geçirgenlik ve renk degerlerinin stabil kalmasini saglamak üzere, ikinci dielektrik katman ve ikinci çekirdeklestirici katman arasinda konumlandirilan ve camdan disari dogru sirasiyla, - SiXNy içeren bir birinci isil bariyer katmani - NiCr ve/veya NiCrOX'tan en az birini içeren regüle edici katman - SiXNy içeren bir ikinci isil bariyer katmani içeren bir orta sandviç yapi içermektedir. Bu sayede isil islem uygulamalari öncesi ve sonrasi renk, optik ve mekanik özelliklerinde degismelerin en aza indirilmesinin saglandigi bir cam elde edilebilmektedir. Bulusun mümkün yapilanmasi, low-e kaplamada yer alan birinci kizilötesi yansitici katmanin gümüs ve/veya gümüs oksit ve/veya bakir ve/veya bakir oksit ve/veya altin ve/veya altin oksitler grubundan en az biri olmasidir. En tercih edilen uygulamada low-e kaplamada yer alan birinci kizilötesi yansitici katmanin gümüs ve/veya gümüs oksitlerden biri olmasidir. Bulusun mümkün yapilanmasi, low-e kaplamada yer alan ikinci kizilötesi yansitici katmanin gümüs ve/veya gümüs oksit, bakir ve/veya bakir oksit ve/veya altin ve/veya altin oksitler grubundan en az biri olmasidir. En tercih edilen uygulamada low-e kaplamada yer alan ikinci kizilötesi yansitici katmanin gümüs ve/veya gümüs oksitlerden biri olmasidir. Bulusun mümkün yapilanmasi, low-e kaplamada yer alan orta sandviç yapinin camdan atmosfere dogru sirasiyla, - SiXNy içeren bir birinci isil bariyer katmani - NiCrOX içeren bir regüle edici katman - SiXNy içeren bir ikinci isil bariyer katmani olacak sekilde konfigüre edilmesidir. Bu sayede isil islem uygulamalari öncesi ve sonrasi renk, optik ve mekanik özelliklerinde degismelerin stabil kalmasinin saglandigi bir cam eldesi mümkün olmaktadir. Ayrica bu sayede camin nötral mavi renginde olmasi saglanmaktadir. Bulusun mümkün yapilanmasi, low-e kaplamada orta sandviç yapinin camdan atmosfere dogru sirasiyla, - 20 nm ila 30 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip SiXNy içeren bir birinci isil bariyer katman - 4 nm ila 7 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip NiCrOX içeren bir regüle edici katman - 20 nm ila 30 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip SiXNy içeren bir ikinci isil bariyer katmanina sahip olmasidir. Bulusun mümkün yapilanmasi söz konusu low-e kaplamanin, camdan atmosfere dogru sirasiyla asagidaki, 0 SiXNy veya SiOXNy'den seçilen bir birinci dielektrik katman, o TiOX içeren bir yansima düsürücü katman, ZnOX veya ZnAIOX'den seçilen bir birinci çekirdeklestirici katman, NiCr veya NiCrOX'dan seçilen bir birinci bariyer katman, Ag katmani içeren bir kizilötesi yansitici katman, NiCr veya NiCrOX'dan seçilen bir ikinci bariyer katman, ZnAIOX veya ZnOX'ten seçilen bir ikinci dielektrik katman, SiXNy içeren bir birinci isil bariyer katmani, NiCr veya NiCrOX'tan seçilen bir regüle edici katman, SiXNy içeren bir ikinci isil bariyer katmani, ZnAIOX veya ZnOX'ten seçilen bir ikinci çekirdeklestirici katman, Ag bir ikinci kizilötesi yansitici katman, NiCr veya NiCrOX'dan seçilen bir üçüncü bariyer katman, ZnOX veya ZnAIOX'den seçilen bir üçüncü dielektrik katman, ZnAIOX veya SiOXNy'den seçilen bir dördüncü dielektrik katman, TiOX içeren bir üst dielektrik katman içermesidir. Bulusun mümkün yapilanmasinda söz konusu low-e kaplama, camdan atmosfere dogru sirasiyla asagidaki, SiXNy içeren bir birinci dielektrik katman, TiOX içeren bir yansima düsürücü katman, ZnAIOX içeren bir birinci çekirdeklestirici katman, NiCr içeren bir birinci bariyer katman, Ag içeren bir kizilötesi yansitici katman, NiCrOX içeren bir ikinci bariyer katman, ZnAIOX içeren bir ikinci dielektrik katman, SiXNy içeren bir birinci isil bariyer katman, NiCr ve/veya NiCrOX'ten seçilen bir regüle edici katman, SiXNy içeren bir ikinci isil bariyer katman, ZnAIOX içeren bir ikinci çekirdeklestirici katman, Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman, NiCrOX içeren bir üçüncü bariyer katman, ZnAIOX içeren bir üçüncü dielektrik katman, SiOXNy içeren bir dördüncü dielektrik katman, TiOX içeren bir üst dielektrik katman içermesidir. Bulusun mümkün yapilanmasi söz konusu low-e kaplama, camdan atmosfere dogru sirasiyla asagidaki, nm ila 20 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, SiXNy içeren bir birinci dielektrik katman, 3 nm ila 7 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, TiOX içeren bir yansima düsürücü katman, ila 20 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, ZnAIOX içeren bir birinci çekirdeklestirici katman, 0,5 nm ila 3 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, NiCr içeren bir birinci bariyer katman, ila 20 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, Ag içeren bir birinci kizilötesi yansitici katman, 1 nm ila 3 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, NiCrOX içeren bir ikinci bariyer katman, ila 20 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, ZnAIOX içeren bir ikinci dielektrik katman, nm ila 30 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip SiXNy içeren bir birinci isil bariyeri katman, 4 nm ila 7 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip NiCrOX içeren bir regüle edici katman, nm ila 30 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip SiXNy içeren bir ikinci isil bariyeri katman, ila 20 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, ZnAIOX içeren bir ikinci çekirdeklestirici katman, ila 20 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip bir Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman, 1 nm ila 3 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, NiCrOX içeren bir üçüncü bariyer katman, nm ila 20 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, ZnAIOX içeren bir üçüncü dielektrik katman, nm ila 30 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, SiOXNy içeren bir dördüncü dielektrik katman, o 1 nm ila 5 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, TiOX içeren bir üst Bulusun mümkün yapilanmasi söz konusu low-e kaplama, camdan atmosfere dogru sirasiyla asagidaki, 12 nm ila 18 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, SiXNy içeren bir birinci dieIektrik katman, 4 nm ila 6 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, TiOX içeren bir yansima düsürücü katman, 12 ila 18 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, ZnAIOX içeren bir birinci çekirdeklestirici katman, 0,8 nm ila 1,3 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, NiCr içeren bir birinci bariyer katman, 12 ila 18 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, Ag içeren bir birinci kizilötesi yansitici katman, 1,5 nm ila 2,7 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, NiCrOX içeren bir ikinci bariyer katman, nm ila 20 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, ZnAIOX içeren bir ikinci dieIektrik katman, nm ila 30 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip SiXNy içeren bir birinci isil bariyeri katman, 4 nm ila 7 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip NiCrOX içeren bir regüle edici katman, nm ila 30 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip SiXNy içeren bir ikinci isil bariyeri katman, 11 ila 15 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, ZnAIOX içeren bir ikinci çekirdeklestirici katman, 12 ila 18 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip Ag katmanini içeren bir ikinci kizilötesi yansitici katman, 1,5 nm ila 2,7 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, NiCrOX içeren bir üçüncü bariyer katman, 11 nm ila 15 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, ZnAIOX içeren bir üçüncü dieIektrik katman, o 22 nm ila 25 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, SIOXNy içeren bir dördüncü dieIektrik katman, o 2 nm ila 4 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip, TiOX içeren bir üst SEKILLERIN KISA AÇIKLAMASI Sekil 1'de low-e kaplamanin temsili sematik görünümü verilmistir. REFERANSLARIN KISA AÇIKLAMASI Cam Low-e Kaplama 21 Birinci Dielektrik Katman 22 Yansima Düsürücü Katman 23 Birinci Çekirdeklestirici Katman 24 Birinci Bariyer Katman Birinci Kizilötesi Yansitici Katman 26 Ikinci Bariyer Katman 27 Ikinci Dielektrik Katman 28 Orta Sandviç Yapi 281 Birinci lsil Bariyer Katman 282 Regüle Edici Katman 29 Ikinci Çekirdeklestirici Katman Ikinci Kizilötesi Yansitici Katman 31 Üçüncü Bariyer Katman 32 Üçüncü Dielektrik Katman 33 Dördüncü Dielektrik Katman 34 Üst Dielektrik Katman BU LUSUN DETAYLI AÇIKLAMASI Bu detayli açiklamada bulus konusu, cam (10) yüzeyler için kullanima uygun, isil islemler uygulanabilmesi için yüksek isil dayanima sahip bir low-e kaplama (20) ile ilgili olup, sadece konunun daha iyi anlasilmasina yönelik hiçbir sinirlayici etki olusturmayacak örneklerle açiklanmaktadir. Bu metin içerisindeki "l" isareti, katmanlar arasi ayiraç olarak kullanilmaktadir. Bulus bir diger yönüyle, low-e kaplamali (20) camlarin (10) eldesi ile ilgilidir. Mimari ve otomotive yönelik low-e kaplamali (20) camlarin (10) üretimi siçratma (bundan sonra metinde sputter yöntemi olarak an ilacaktir) yöntemi ile gerçeklestirilmektedir. Bu bulus genel olarak; görünür bölge gün isigi geçirgenligi (bundan sonra %Tvis olarak anilacaktir) orta-düsük seviyede ve isil islem dayanimi yüksek, isi yalitim cami (10) olarak kullanima uygun bir low-e kaplamali (20) cam (10) ve bahsedilen low-e kaplamanin (20) içerigi ve uygulamasi ile ilgilidir. Bulusa konu low-e kaplamadan (20) istenilen fonksiyonalite esas olarak, isil islem uygulama öncesi ve sonrasinda mekanik, fiziksel, optik özellik degerlerinin stabil kalmasidir. Burada sözü edilen isil islemler, temperleme, kismi temperleme, tavlama ve bükme islemlerinden en az biridir. Bu özellikleri saglamak üzere low-e kaplama (20), bünyesinde birden fazla katman içermektedir. Söz konusu katmanlar, low-e kaplama (20) içerisinde belli islevlere sahip olacak sekilde sirayla uygulanmaktadir. Bulusa konu low-e kaplama (20), istenilen özellikleri saglamasi için birden fazla katman içerir ve söz konusu katmanlar sirasi ile birbiri üzerine vakum ortaminda biriktirilmektedir. Low-e kaplama (20) katmanlar, metal, metal oksit, metal nitrür, metal oksinitrür, metal hidrürler olabilmektedir. Tercih edilmesi durumunda katmanlar birden fazla metal içerebilmektedir. Bulusa konu low-e kaplama (20), istenilen fiziksel, mekanik ve optik özellikleri saglamak üzere bünyesinde en az bir kizilötesi yansitici katman içermektedir. Bulusa konu low-e kaplama (20), tercihen birden fazla kizilötesi yansitici katman içermektedir ve burada sözü edilen kizilötesi yansitici katmanin sayisi 2, 3 veya 4 olabilmektedir. Low-e kaplama (20), bünyesinde kizilötesi yansitici katman olarak gümüs ve/veya gümüs esasli bilesik(ler) içermektedir. Tercih edilmesi durumunda low-e kaplama (20), kizilötesi katman olarak gümüs yerine veya birlikte bakir ve/veya bakir oksit ve/veya altin bilesiklerini içerebilmektedir. Low-e kaplamada (20), kizilötesi yansitici katman sayisinin birden fazla olmasi durumunda kizilötesi yansitici katmanlarin hepsi gümüs ve/veya gümüs oksit olabilir. Tercih edilmesi durumunda kizilötesi yansitici katmanlarin hepsi farkli bilesiklerden elde edilebilir ve burada söz konusu kizilötesi yansitici katman olarak gümüs ve/veya gümüs oksit, bakir ve/veya bakir oksit ve/veya altin ve/veya altin oksitler kullanilabilir. Bulusa konu low-e kaplama (20), bünyesinde gümüs (Ag olarak kisaltilabilecektir) ve/veya gümüs oksitlerini (AgOX olarak kisaltilabilecektir) içeren bir birinci kizilötesi yansitici katman (25) ve bir ikinci kizilötesi yansitici katman (30) içermektedir. Bulusa konu low-e kaplama (20), bünyesinde 8 nm ila 22 nm kalinliga sahip bir birinci kizilötesi yansitici katman (25) içermektedir. Tercih edilen bir uygulamada, birinci kizilötesi yansitici katmanin (25) kalinligi, 10 nm ila 19 nm araliginda bir degerdir. En tercih edilen uygulamada, birinci kizilötesi yansitici katmanin (25) kalinligi, 13 nm ila 16 nm araliginda bir degerdir. Bulusa konu low-e kaplama (20), bünyesinde 8 nm ila 23 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip bir ikinci kizilötesi yansitici katman (30) içermektedir. Tercih edilen bir uygulamada ikinci kizilötesi yansitici katmani (30), 10 nm ila 20 nm araliginda bir degerde kalinliga sahiptir. En tercih edilen uygulamada ikinci kizilötesi yansitici katmanin (30) kalinligi, 13 nm ila 17 nm araliginda bir degerdir. Bulusa konu low-e kaplama (20), katmanlarin üretimi için kullanilan proses gazlarindan gümüs içeren birinci kizilötesi yansitici katmaninin (25) etkilenmemesi için en az bir birinci bariyer katmani (24) ve en az bir ikinci bariyer katmani (26) içermektedir. Bulusun mümkün yapilanmasinda low-e kaplama (20), birinci kizilötesi yansitici katmanin (25) alt komsulugunda konumlandirilan bir birinci bariyer katmani (24) ve üst komsulugunda konumlandirilan bir ikinci bariyer katmani (26) içermektedir. Birinci bariyer katmani (24) ve ikinci bariyer katmani (26), birinci kizilötesi yansitici katmanini (25) sandviç yapisi olarak çevrelemektedir. Ayni zamanda birinci bariyer katmani (24) ve ikinci bariyer katmani (26), birinci kizilötesi yansitici katmanindan (25) önce ve sonra gelerek dielektrik katmanlar arasindaki metalik ve dielektrik geçisinde yapisal uyumu saglayarak isil islem öncesi olasi yapisma zayifligini bertaraf etmektedir. Bulusa konu low-e kaplama (20) malzemesi bünyesinde birinci bariyer katmani (24) olarak nikel krom (NiCr olarak kisaltilacaktir), nikel krom oksit (NiCrOX olarak kisaltilacaktir), titanyum oksit (TiOX olarak kisaltilacaktir), çinko alüminyum oksit (ZnAIOX olarak kisaltilacaktir) bilesiklerinden en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci bariyer katmani (24), NiCr içermektedir. Bulusta, birinci bariyer katmanin (24) kalinligi 0,5 nm ila 3 nm araliginda bir degerdir. Tercihen birinci bariyer katman (24) kalinligi 0,6 nm ila 2 nm araliginda bir degerdir. En tercih edilen bir uygulamada birinci bariyer katmanin (24) kalinligi 0,8 nm ila 1,5 nm araliginda bir degerdir. Söz konusu ikinci bariyer katmani (26), NiCr, NiCrOX, TiOX, ZnAIOX'ten en az birini içermektedir. Tercihen ikinci bariyer katmani (26), NiCrOX içermektedir. Bulusta, ikinci bariyer katmanin (26) kalinligi 1 nm ila 3 nm araliginda bir degerdir. Tercihen ikinci bariyer katman (26) kalinligi 1,5 nm ila 2,7 nm araliginda bir degerdir. En tercih edilen uygulamada ikinci bariyer katmanin (26) kalinligi 1,8 nm ila 2,2 nm araliginda bir degerdir. Low-e kaplamada (20) camin (10) üst komsulugunda en az bir birinci dielektrik katman (21) konumlanmaktadir. Söz konusu birinci dielektrik katman (21), difüzyon bariyeri olarak davranarak, yüksek sicaklikta kolaylasan alkali iyon göçünü engellemek üzere low-e kaplamada (20) görev almaktadir. Birinci dielektrik katman (21) SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx'tan en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci dielektrik katman (21) SiXNy ve/veya SiOXNy'tan birini veya ikisini birden içermektedir. En tercih edilen bir uygulamada, birinci dielektrik katman (21) SiXNy içermektedir. Bulusa konu low-e kaplama (20), bahsedilen birinci dielektrik katmanin (21) kalinligi 8 nm ila 22 nm araligindadir. Tercihen birinci dielektrik katmanin (21) kalinligi 10 ila 19 nm araligindadir. En tercih edilen uygulamada birinci dielektrik katmanin (21) kalinligi 13 nm ila 16 nm araliginda bir degerdir. Bulusa konu low-e kaplama (20) bünyesinde, en az bir yansima düsürücü katman (22) içermektedir. Söz konusu yansima düsürücü katman (22), birinci dielektrik katmanin (21) üst komsulugunda konumlanmaktadir. Yansima düsürücü katman (22) TiOX içermektedir. Yansima düsürücü katman (22), low-e kaplamanin (20) görünür bölgede yansima degerini düsürücü etki göstermesini saglamaktadir. Yansima düsürücü katman (22), birinci kizilötesi yansitici katman (25) ile cam (10) arasinda kullanilmasi ile düsük kalinlik degerlerinde dahi bu etkiyi saglayabilmektedir. Bulusa konu low-e kaplama (20), bünyesinde 2 nm ila 10 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip bir yansima düsürücü katman (22) yer almaktadir. Tercihen yansima düsürücü katmanin (22) kalinligi 3 nm ila 8 nm araligindadir. En tercih edilen uygulamada yansima düsürücü katmanin (22) kalinligi 4 nm ila 6 nm araliginda bir degerdir. Bulusa konu low-e kaplama (20), yansima düsürücü katmanin (22) üst komsulugunda konumlandirilan en az bir birinci çekirdeklestirici katman (23) içermektedir. Söz konusu birinci çekirdeklestirici katmanin (23) islevi, üst komsulugunda konumlandirilan birinci kizilötesi yansitici katmanin (25) daha kristalin bir yapiya sahip olmasini saglamaktir. Birinci çekirdeklestirici katman (23) olarak SiOXNy, ZnSnOX, ZnAIOX, ZnAIOX, TiOX'tan en az birini içermektedir. Tercih edilen bir uygulamada birinci çekirdeklestirici katman (23) ZnAIOX içermektedir. Bulusa konu low-e kaplama (20), bünyesinde 8 nm ila 26 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip bir birinci çekirdeklestirici katman (23) içermektedir. Söz konusu birinci çekirdeklestirici katmanin (23) kalinligi tercihen 10 nm ila 22 nm arasinda bir degerdir. En tercihen birinci çekirdeklestirici katman (23) kalinligi 12 nm ila 18 nm araliginda bir degerdir. Bulusa konu low-e kaplama (20), bünyesinde ikinci bariyer katman (26) üst komsulugunda konumlandirilan en az bir ikinci dielektrik katman (27) içermektedir. Ikinci dielektrik katman (27) olarak SiOXNy, ZnSnOX, ZnAIOX, ZnAIOX, TiOX'tan en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada, ikinci dielektrik katman (27) ZnAIOX içermektedir. Ikinci dielektrik katman (27) kalinligi 8 nm ila 25 nm araligindadir. Tercih edilen uygulamada ikinci dielektrik katman (27) kalinligi 10 nm ila 20 nm araliginda bir degerdir. En tercihen ikinci dielektrik katman (27) kalinligi 11 nm ila 15 nm araliginda degerdir. Bulusa konu low-e kaplama (20), ikinci kizilötesi yansitici katmanin (30) üst komsulugunda konumlandirilan en az bir üçüncü bariyer katmani (31) içermektedir. Üçüncü bariyer katmani (31), ikinci kizilötesi yansitici katmani (30) için mekanik dayanim ve söz konusu dielektrik katmanlar arasindaki metalik ve dielektrik geçisinde yapisal uyumu saglayarak isil islem öncesi olasi yapisma zayifligini bertaraf edilmesini saglamaktadir. Söz konusu üçüncü bariyer katmani (31) NiCr, NiCrOX, TiOX, ZnAIOX'tan en az birini içermektedir. Tercih edilen bir uygulamada üçüncü bariyer katmani (31) NiCrOX içermektedir. Üçüncü bariyer katmanin (31) kalinligi, 1 nm ila 3 nm araliginda bir degerdir. Tercihen üçüncü bariyer katman (31) kalinligi, 1,5 nm ila 2,7 nm araliginda bir degerdir. En tercih edilen uygulamada üçüncü bariyer katmanin (31) kalinligi 1,8 nm ila 2,2 nm araliginda bir degerdir. Bulusa konu low-e kaplama (20), en az bir ikinci çekirdeklestirici katman (29) içermektedir. Söz konusu ikinci çekirdeklestirici katman (29), ikinci kizilötesi yansitici katman (30) alt komsulugunda konumlandirilmaktadir. Ikinci çekirdeklestirici katman (29) TiOX, ZnAIOX, ZnOX, ZnSnOX'ten en az birini içermektedir. Ikinci çekirdeklestirici katman (29), birinci çekirdeklestirici katman (23) ile ayni isleve sahip olup ikinci kizilötesi yansitici katmanin (30) daha kristalin bir yapida büyümesini saglamaktadir. Tercihen ikinci çekirdeklestirici katman (29) ZnAIOX içermektedir. Ikinci çekirdeklestirici katman (29) kalinligi 8 nm ila 20 nm araliginda bir degerdir. Söz konusu ikinci çekirdeklestirici katman (29) kalinligi tercihen 11 nm ila 15 nm araliginda bir degerdir. Bulusa konu low-e kaplama (20), üçüncü bariyer katmanin (31) üst komsulugunda konumlandirilan en az bir üçüncü dielektrik katman (32) içermektedir. Söz konusu üçüncü dielektrik katman (32), üçüncü bariyer katmani (31) ile dördüncü dielektrik katmani (34) arasinda mekanik baglanmanin arttirilmasini saglamaktadir. Üçüncü dielektrik katman (32) olarak SiXNy, TiNX, ZrNX, ZnSnOX, ZnAIOX, SiOXNy, TiOX, ZnOX'tan en az birini içermektedir. Bulusa konu low-e kaplama (20), üçüncü dielektrik katman (32) kalinligi 9 nm ila 20 nm araliginda bir degerdir. Tercih edilen bir uygulamada üçüncü dielektrik katman (32) 12 nm ila 15 nm araliginda bir degerdir. Bulusa konu low-e kaplama (20), üçüncü dielektrik katmanin (32) üst komsulugunda konumlandirilan en az bir dördüncü dielektrik katman (33) içermektedir. Söz konusu dördüncü dielektrik katman (33) genel olarak tüm dizilimin agir mekanik etkilere karsi korunmasini saglamaktadir. Dördüncü dielektrik katman (33) ZnAIOX, SiOXNy, TiOX katmanlarindan en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada, dördüncü dielektrik katman (33) SiOXNy içermektedir. Dördüncü dielektrik katman (33) kalinligi 17 nm ila 30 nm araliginda bir degerdir. Tercihen dördüncü dielektrik katman (33) kalinligi 20 nm ila 28 nm araliginda bir degerdir. En tercihen dördüncü dielektrik katman (33) kalinligi 22 nm ila 25 nm araliginda bir degerdir. Bulusa konu low-e kaplama (20), dördüncü dielektrik katmanin (33) üst komsulugunda konumlandirilan en az bir üst dielektrik katman (34) içermektedir. Söz konusu üst dielektrik katman (34) sürtünmeyi azaltici etki göstererek çizilme direncini arttirmaktadir. Üst dielektrik katman (34) TiOX içermektedir. Bulusa konu low-e kaplama (20) bünyesinde 1 nm ila 5 nm araliginda bir degerde kalinliga sahip bir üst dielektrik katman (34) yer almaktadir. Söz konusu üst dielektrik katman (34) kalinligi tercihen 2 nm ila 4 nm araliginda bir degerdir. Bulusa konu low-e kaplama (20), cam (10) yüzeylerin mekanik, fiziksel ve optik özelliklerini gelistirmek üzere uygulanmaktadir. Cam (10) yüzeylerin mekanik, optik ve fiziksel özelliklerinde iyilestirilmeler saglanmasi için teknikte bilindigi üzere isil islemler de uygulanabilmektedir. lsil islemlerin uygulanmasi esnasinda, low-e kaplamalar (20) için olumsuz etkilerin var oldugu ve low-e kaplamalarin (20) optik, mekanik ve fiziksel özelliklerinde degismelerin gerçeklestigi teknikte bilinmektedir. Bu bulusta, isil islemler öncesi ve sonrasinda low-e kaplamalarin (20) mekanik, optik ve fiziksel degerlerin stabil kalmasi için düzenlemeler yer almaktadir. Buna göre bulusta, mevcut teknikteki olumsuzluklarin giderilmesi ve nihai ürün için mekanik, optik ve fiziksel özelliklerin gelistirilmesi için low-e kaplama (20) bir orta sandviç yapi (28) içermektedir. Bahsedilen orta sandviç yapi (28), birinci kizilötesi yansitici katman (25) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (30) arasinda konumlandirilmaktadir. Orta sandviç yapi (28) bünyesinde; camdan (10) atmosfere dogru sirasiyla en az bir birinci isil bariyeri katmani (281) / en az bir regüle edici katmani (282) / en az bir ikinci isil bariyer katmani (283) içermektedir. Birinci isil bariyeri katmani (281), tercihen ikinci dielektrik katmanin (27) üst komsulugunda konumlandirilmaktadir. Birinci isil bariyeri katmani (281) SiXNy içermektedir. Birinci isil bariyer katmanin (281) kalinligi 15 nm ila 35 nm araliginda bir degerdir. Tercih edilen uygulamada birinci isil bariyer katmanin (281) kalinligi 17 nm ila 33 nm araliginda bir degerdir. En tercihen birinci isil bariyer katmanin (281) kalinligi 20 nm ila 30 nm araliginda bir degerdir. Orta sandviç yapi bünyesinde regüle edici katman (282) olarak NiCr ve/veya NiCrOX'tan en az birini içermektedir. Söz konusu regüle edici katmanin (282) kalinligi tercihen 2 nm ila 13 nm araliginda bir degerdir. Tercih edilen uygulamada regüle edici katmanin (282) kalinligi tercihen 2 nm ila 10 nm araliginda bir degerdir. En tercihen regüle edici katmanin (282) kalinligi tercihen 4 nm ila 7 nm araliginda bir degerdir. Orta sandviç yapi (28) bünyesinde bir ikinci isil bariyeri katmani (283) içermektedir. Söz konusu ikinci isil bariyer katmani (283) olarak SiXNy içermektedir. Ikinci isil bariyer katmanin (283) kalinligi 15 nm ila 35 nm araliginda bir degerdir. Tercih edilen uygulamada ikinci isil bariyer katmanin (283) kalinligi 17 nm ila 33 nm araliginda bir degerdir. En tercihen ikinci isil bariyer katmanin (283) kalinligi 20 nm ila 30 nm araliginda bir degerdir. Bulusta orta sandviç yapi (28) bünyesinde içerdigi birinci isil katmani (281) / regüle edici katman (282) / ikinci isil bariyer katmanlari (283) low-e kaplamanin (20) isil dayanim ve optik özelliklerinin gelistirilmesini saglamaktadir. Mevcut teknikte, low-e kaplamalarda (20) isil dayanim ve düsük geçirgenlik saglanmasi için özellikle birinci bariyer katmanin (24), ikinci bariyer katmanin (26) ve üçüncü bariyer katmanin (31) veya gümüs içeren birinci kizilötesi yansitici katman (25) ve ikinci kizilötesi katmanin (30) kalinliklarinin arttirilmasi söz konusuydu. Metalik içerikli katmanlarin daha kalin oldugu bu durumda görünür bölge yansimalarin artis göstermesinin yani sira isil islem sonrasi optik degerler çok daha fazla degisim göstermekteydi. Bulusa konu low-e kaplama (20), bünyesinde içerdigi SiXNy içerikli birinci isil bariyer katmani (281) / NiCr ve/veya NiCrOX içerikli regüle edici katman (282)/ SiXNy içerikli ikinci isil bariyeri katmani (283) sayesinde isil islem sonrasi istenen düsük geçirgenlik seviyesi minimum degisim ile elde edilebilmektedir. Bulusta karakterize edilen orta sandviç yapinin (28) kullanilmasi durumunda geçirgenlik düsüsü büyük oranda SiXNy içeren birinci isil bariyer katmani (281) ve ikinci isil bariyer katmani (283) arasinda yer alan NiCr ve/veya NiCrOX içeren regüle edici katman (282) kalinligi ile saglanmaktadir. Orta sandviç yapinin (28) bünyesinde yer alan NiCr ve/veya NiCrOX içerikli regüle edici katmanin (282) kalinliginin yüksek tutulmasi ile birinci bariyer katmani (24), ikinci bariyer katmani (26) ve üçüncü bariyer katmani (31) kalinliklari ince tutulabilmektedir. Orta sandviç yapinin (28) dizilimine bakildiginda hem simetrik olarak en orta kisimda yer almasi ve SiXNy içeren birinci isil bariyer katmani (281) ve ikinci isil bariyer katmani (283) arasina konumlandirilmis olmasi sebebiyle NiCr ve/veya NiCrOX içeren regüle edici katmanin (282) isil islem maruziyeti minimum seviyede tutulmaktadir. Bu yapinin getirdigi bir diger avantaj da geçirgenlik seviyesinin orta sandviç yapiyla (28) regüle edilebiliyor olmasi sonucunda minimum katman dizilimi degisimi ile farkli geçirgenlik seviyesine ait örnekler elde edilebilmesidir. Bulus sahipleri, bulusa konu low-e kaplama (20) içerdigi orta sandviç yapi (28) sayesinde isil islem öncesi ve sonrasi optik, mekanik ve kimyasal özelliklerindeki degismelerin üretim toleranslari dahilinde stabil kalacak sekilde gerçeklestigi yönünde tespitlerde bulunmuslardir. Bunu kanitlamak üzere bulus sahipleri Tablo 1'de verilen ve orta sandviç yapi (28) içermeyen cam (10) ve low-e kaplamanin (20) isil öncesi ve sonrasi geçirgenlik, renk parametrelerindeki degisimleri ile Tablo 2'de verilen bulusa konu cam (10) ve low-e kaplamanin (20) isil öncesi ve sonrasi geçirgenlik ve renk parametrelerindeki degisimleri karsilastirilmaktadir. Tablo 1. Orta Sandviç Yapi (28) Içermeyen low-e kaplama (20) örnegi Denek Low-e Kaplama (camdan atmosfere dogru Katman Kalinliklari (nm) siralamayla) ZnAIOx 10-20 NiCrOx 1-3 Ag 10-20 NiCrOx 1-3 ZnAIOx 10-20 ZnAIOx 10-20 Ag 10-20 NiCrOx 3-7 ZnAIOx 10-20 SiOxNy 20-30 Tablo 2. Orta Sandviç Yapi (28) Içeren Bulusa Konu Low-e Kaplama (20) Örnegi Bulusa Konu Low-e Kaplama (camdan atmosfere dogru siralamayla) Katman Kalinliklari (nm) ZnAIOx 10-20 Ag 10-20 NiCrOX 1-3 ZnAIOX 10-20 NiCrOX 3-7 ZnAIOX 10-20 Ag 10-20 NiCrOX 2-7 ZnAIOX 10-20 SiOXNy 10-20 Tablo 1'de verilen katmanlari bünyesinde içeren low-e kaplama (20) örneginin isil islemler öncesi ve sonrasi geçirgenlik, renk parametreleri ve delta-E degerleri arasindaki farklar Tablo 3 olarak verilmektedir. Tablo 3. Orta Sandviç Yapi (28) Içermeyen low-e kaplama (20) örneginin isil öncesi ve sonrasi geçirgenlik ve renk parametrelerindeki degisimleri Gün Isigi Günes Enerjisi Renk Parametreleri (L a* b* sistemi) Tablo 3'te paylasilan veriler incelendiginde orta sandviç yapi (28) içermeyen low-e kaplamanin (20) isil islemler öncesi ve sonrasi geçirgenlik, renk parametrelerinde degismelerinin yüksek oldugu tespit edilmistir. Tablo 2'de verilen katmanlari bünyesinde içeren ve bulusa konu low-e kaplamanin isil islemler öncesi ve sonrasi geçirgenlik, renk parametreleri ve delta e degerleri arasindaki farklar Tablo 4 olarak verilmektedir. Tablo 4. Orta Sandviç Yapi (28) Içeren Bulusa Konu Low-e Kaplama (20) Örneginin lsil öncesi ve sonrasi geçirgenlik ve renk parametrelerindeki degisimleri Gün ISIGI Günes Enerjisi Renk Parametreleri (L a* b* sistemi) sem (EN 410) (EN 410) a* b* onrasi Tablo 4'te paylasilan degerler incelendiginde orta sandviç yapi (28) içeren low-e kaplamanin (20) isil islem öncesi ve sonrasi geçirgenlik, renk parametrelerinde degismelerinin üretim toleranslari dahilinde kalacak sekilde (oldukça düsük) oldugu tespit edilmistir. Bu sebeple, bulus konu low-e kaplamanin (20) içerdigi orta sandviç yapi (28) ve diger yer alan katmanlar ile birlikte isil öncesi ve sonrasi durumlari arasinda bahsedilen degisimlerinin minimum degerlerde kalmasi saglanmaktadir. Mevcut bulusa konu low-e kaplama (20) içerdigi orta sandviç yapi (28) ve diger katmanlar sayesinde camin (10) nötral bir renk almasi saglanmaktadir. Bulusa konu low-e kaplamayi (20) içeren cam (10) nötral mavi renge sahip olmaktadir. Bulusun koruma kapsami ekte verilen istemlerde belirtilmis olup kesinlikle bu detayli anlatimda örnekleme amaciyla anlatilanlarla sinirli tutulamaz. Zira teknikte uzman bir kisinin, bulusun ana temasindan ayrilmadan yukarida anlatilanlar isiginda benzer yapilanmalar ortaya koyabilecegi açiktir. TR DESCRIPTION A LOW-E COATING FOR GLASS SURFACES AND TECHNICAL FIELD INCLUDING LOW-E COATING The invention is a low-equipped coating that has high heat treatment resistance, mechanical, permeability and color values remain stable before and after heat treatment, and provides solar control and thermal insulation for glass surfaces. e coating and a glass comprising said low-e coating. BACKGROUND ART Glasses used in the architectural and automotive industry are coated with coating materials to improve their mechanical, optical and physical properties. There are glass coating materials in many different forms and functions in the glass industry, and studies continue to improve their properties every day. One of the most used coating materials in the relevant technical field is low-e (low-emission) coating materials. These low-e coating materials provide fuel and energy savings by providing solar (reducing UV rays by 70% or more) and temperature control for windows. In addition, low-e coatings provide transparency for glass surfaces and also protect glass surfaces from cold air. Low-e coatings consist of layers, each with different functionality and containing metals, oxides, nitrides or hydrides. With the synergistic effect created by metal-containing layers among themselves, the mechanical, optical and physical properties of glass surfaces are improved, thus ensuring that the glass they are coated with keeps the interior spaces cool in summer and warm in winter. In order to improve the properties of glass surfaces in the technical field, low-e coatings contain infrared reflective layers with many different structures and properties. In addition, the invention, which has the patent number and the desired properties within low-e coatings, describes a low-e coating material containing a double infrared reflective layer and a glass coated with this coating material. There are two layers containing silver metal as infrared reflective layers. The invention with patent number CN112250322 relates to a low-e coated glass product containing a single silver infrared layer. In the invention in question, coating layers are made by magnetron sputtering onto glass surfaces. The transmittance and reflection values of glasses coated with Low-e coating in the visible, near infrared and infrared regions of the solar energy spectrum can be achieved at targeted levels. Apart from transmittance and reflection values, selectivity value is also an important parameter in coated glasses. Selectivity is defined in the ISO 9050 (2003) standard as the ratio of the visible region transmittance value to the solar factor. Selectivity values of the coatings can be kept at targeted levels by the number of Network layers they contain, the type of nucleating layer used, dielectric layer combinations that reduce reflection, and parametric optimizations of the layers. As a result of applying heat treatments to glass and low-e coating materials available in the technique, changes occur in the mechanical, permeability, color parameters and delta e values before and after the heat treatment. In order to eliminate the mentioned negative situation, the thickness of the barrier layers and/or infrared reflective layers in low-e coatings is increased to ensure thermal resistance and low permeability properties. In this case, where the metallic layers are thicker, visible region reflections increase and the optical values change much more after heat treatment. It has become necessary to make arrangements to ensure that changes in the mechanical, optical and physical properties of low-e coatings remain at least at acceptable levels before and after thermal treatments, or that no changes occur. BRIEF DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a low-e coating for glass surfaces in order to eliminate the disadvantages in the relevant technical field and to offer additional technical solutions and advantages to the relevant technical field. In one aspect, the invention relates to a glass containing a low-e coating with improved mechanical, physical and optical properties. The main purpose of the invention is to introduce a low-e coating that ensures that the optical properties of glass surfaces remain stable before and after heat treatment applications. Another aim of the invention is to introduce a low-e coating that ensures that the physical and mechanical properties of glass surfaces remain stable before and after heat treatment applications. By coating the resulting low-e coating on glass surfaces, it is possible to obtain glasses with high mechanical and physical properties. Another aim of the invention is to obtain a low-e coating for glass surfaces with medium-low levels of heat transmittance. Another aim of the invention is to obtain a low-e coating for glass surfaces with a neutral blue color. In order to provide all these benefits, the invention relates to a low-e coating that is suitable for use on glass surfaces, has high heat treatment resistance, mechanical, physical and optical properties remain stable before and after heat treatment, and provides solar control and thermal insulation for glass surfaces. Accordingly, within the low-e coating, from the glass to the atmosphere, there are the following, respectively: - a first dielectric layer containing at least one of SiXNy, SiOXNy, ZnSnOX, TiOX, TiNX, ZrNX, - a reflection-reducing layer containing the TiOX layer, - SiXNy, TiNX, a first nucleating layer comprising at least one of ZrNX, ZnSnOX, ZnAlOX, SiOXNy, TiOX, ZnOX, - a first barrier layer containing at least one of NiCr or NiCrOX, - a first infrared reflective layer, - at least one of NiCr or NiCrOX a second barrier layer comprising at least one of SiXNy, TiNX, ZrNX, ZnSnOX, ZnAIOX, SiOXNy, TiOX, ZnOX, - a second dielectric layer comprising at least one of TiOX, ZnAIOX, ZnOX, ZnSnOX second nucleator - a second infrared reflective layer, - a third barrier layer containing at least one of NiCr or NiCrOX, - a third dielectric layer containing at least one of SiXNy, TiNX, ZrNX, ZnSnOX, ZnAlOX, SiOXNy, TiOX, ZnOX - A fourth dielectric layer containing at least one of ZnAlOX, SiOXNy, TiOX, - An upper dielectric layer containing the TiOX layer, to ensure that the mechanical, permeability and color values of the low-e coating remain stable before and after the heat treatment. A middle sandwich structure positioned between the dielectric layer and the second nucleating layer and extending outward from the glass, respectively, comprising: - a first thermal barrier layer containing SiXNy - a regulating layer containing at least one of NiCr and/or NiCrOX - a second thermal barrier layer containing SiXNy Contains. In this way, a glass can be obtained in which changes in color, optical and mechanical properties are minimized before and after heat treatment applications. A possible embodiment of the invention is that the first infrared reflective layer in the low-e coating is silver and/or silver oxide and/or copper and/or copper oxide and/or gold and/or at least one of the group of gold oxides. In the most preferred application, the first infrared reflective layer in the low-e coating is silver and/or one of silver oxides. A possible embodiment of the invention is that the second infrared reflective layer in the low-e coating is silver and/or silver oxide, copper and/or copper oxide and/or gold and/or at least one of the group of gold oxides. In the most preferred application, the second infrared reflective layer in the low-e coating is silver and/or one of silver oxides. The possible embodiment of the invention is to configure the middle sandwich structure in the low-e coating to be, respectively, from the glass to the atmosphere: - a first thermal barrier layer containing SiXNy - a regulating layer containing NiCrOX - a second thermal barrier layer containing SiXNy. In this way, it is possible to obtain a glass in which changes in color, optical and mechanical properties remain stable before and after heat treatment applications. In addition, this ensures that the glass has a neutral blue color. The possible embodiment of the invention is that in the low-e coating the middle sandwich structure is arranged from the glass to the atmosphere, respectively: - a first thermal barrier layer containing SiXNy with a thickness in the range of 20 nm to 30 nm - a regulator containing NiCrOX with a thickness in the range of 4 nm to 7 nm The layer - has a second thermal barrier layer containing SiXNy with a thickness in the range of 20 nm to 30 nm. The possible embodiment of the invention is that the low-e coating in question, from the glass to the atmosphere, consists of a first dielectric layer selected from 0 SiXNy or SiOXNy, o a reflection reducing layer containing TiOX, a first nucleating layer selected from ZnOX or ZnAlOX, NiCr or NiCrOX. a first barrier layer selected from, an infrared reflective layer comprising an Ag layer, a second barrier layer selected from NiCr or NiCrOX, a second dielectric layer selected from ZnAlOX or ZnOX, a first thermal barrier layer comprising SiXNy, NiCr or NiCrOX. a regulatory layer selected from, a second thermal barrier layer selected from SiXNy, a second nucleating layer selected from ZnAlOX or ZnOX, a second infrared reflective layer selected from Ag, a third barrier layer selected from NiCr or NiCrOX, a second nucleator layer selected from ZnOX or ZnAlOX a third dielectric layer, a fourth dielectric layer selected from ZnAlOX or SiOXNy, and an upper dielectric layer comprising TiOX. In the possible embodiment of the invention, the low-e coating in question is a first dielectric layer containing SiXNy, a reflection reducing layer containing TiOX, a first nucleating layer containing ZnAlOX, a first barrier layer containing NiCr, an infrared reflective layer containing Ag, respectively, from the glass to the atmosphere. , a second barrier layer containing NiCrOX, a second dielectric layer containing ZnAlOX, a first thermal barrier layer containing SiXNy, a regulating layer selected from NiCr and/or NiCrOX, a second thermal barrier layer containing SiXNy, a second nucleating layer containing ZnAlOX , a second infrared reflective layer containing Ag, a third barrier layer containing NiCrOX, a third dielectric layer containing ZnAlOX, a fourth dielectric layer containing SiOXNy, and an upper dielectric layer containing TiOX. The possible embodiment of the invention is that the low-e coating in question consists of a first dielectric layer containing SiXNy, having a thickness in the range of nm to 20 nm, from the glass to the atmosphere, respectively, and a reflection-reducing layer containing TiOX, having a thickness in the range of 3 nm to 7 nm. A first nucleating layer containing ZnAlOX having a thickness in the range of 1 to 20 nm, a first barrier layer containing NiCr having a thickness in the range of 0.5 nm to 3 nm, a first containing Ag having a thickness in the range of 0.5 nm to 20 nm. an infrared reflective layer, a second barrier layer containing NiCrOX having a thickness in the range of 1 nm to 3 nm, a second dielectric layer containing ZnAlOX having a thickness in the range of 1 nm to 20 nm, a second barrier layer containing SiXNy having a thickness in the range of 1 nm to 30 nm a first thermal barrier layer containing NiCrOX with a thickness ranging from 4 nm to 7 nm, a second thermal barrier layer comprising SiXNy having a thickness ranging from 4 nm to 30 nm, containing ZnAlOX having a thickness ranging from 4 nm to 20 nm a second nucleating layer, a second infrared reflective layer containing an Ag having a thickness in the range of 1 nm to 20 nm, a third barrier layer containing NiCrOX, ZnAlOX having a thickness in the range of 1 nm to 20 nm A third dielectric layer containing TiOX having a thickness in the range of 1 nm to 30 nm, a fourth dielectric layer containing SiOXNy having a thickness in the range of 1 nm to 5 nm Possible embodiment of the invention is that the low-e coating in question is made of glass. Towards the atmosphere there follows, respectively, a first dielectric layer containing SiXNy, having a thickness in the range of 12 nm to 18 nm, a reducing reflection layer containing TiOX, having a thickness in the range of 12 to 18 nm. a first nucleating layer containing ZnAlOX, a first barrier layer containing NiCr having a thickness in the range of 0.8 nm to 1.3 nm, a first infrared reflective layer containing Ag having a thickness in the range of 12 to 18 nm, 1, A second barrier layer containing NiCrOX having a thickness in the range of 5 nm to 2.7 nm, a second dielectric layer containing ZnAlOX having a thickness in the range of nm to 20 nm, a first containing SiXNy having a thickness in the range of nm to 30 nm thermal barrier layer, a regulatory layer containing NiCrOX with a thickness in the range of 4 nm to 7 nm, a second thermal barrier layer containing SiXNy with a thickness in the range of 11 to 15 nm, containing ZnAlOX a second nucleating layer, a second infrared reflective layer comprising the Ag layer having a thickness in the range of 12 to 18 nm, a third barrier layer containing NiCrOX having a thickness in the range of 1.5 nm to 2.7 nm, a third barrier layer containing NiCrOX having a thickness in the range of 11 nm to 15 nm a third dielectric layer containing ZnAlOX with a thickness in the range o a fourth dielectric layer containing SIOXNy having a thickness in the range 22 nm to 25 nm o a top containing TiOX having a thickness in the range 2 nm to 4 nm BRIEFLY OF THE FIGURES DESCRIPTION A representative schematic view of the low-e coating is given in Figure 1. Short Description of References Cam Low-e Coating 21 First Dielectric Layer 22 Reflection Layer 23 First Nuclei Layer 24 First Barrier Layer First Barrier Layer FIRST KNOTING LAYER 26 Second Barrier Layer 27 Second Dielectric Layer 28 Middle Sandwich Structure 281 First Lsil Layer 282 Regulating Layer 29 Second Nucleating Layer Second Infrared Reflective Layer 31 Third Barrier Layer 32 Third Dielectric Layer 33 Fourth Dielectric Layer 34 Upper Dielectric Layer DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In this detailed description, the subject of the invention is that it is suitable for use on glass (10) surfaces and has high thermal resistance for heat treatments. It is about a low-e coating (20) and is explained only with examples that will not create any limiting effect for a better understanding of the subject. The "l" sign in this text is used as a separator between layers. Another aspect of the invention is related to the production of low-e coated (20) glasses (10). The production of low-e coated (20) glasses (10) for architectural and automotive purposes is carried out by the sputtering method (hereinafter referred to as the sputter method in the text). This invention generally; The visible zone daylight transmittance (hereinafter referred to as %Tvis) is at medium-low level and the heat treatment resistance is high, a low-e coated (20) glass (10) suitable for use as thermal insulation glass (10) and the said low-e coating is used. (20) is related to its content and application. The functionality desired from the low-e coating (20) subject to the invention is essentially that the mechanical, physical and optical property values remain stable before and after the heat treatment application. The heat treatments mentioned here are at least one of tempering, partial tempering, annealing and bending processes. In order to provide these features, the low-e coating (20) contains more than one layer. The layers in question are applied sequentially to have certain functions within the low-e coating (20). The low-e coating (20) subject to the invention contains more than one layer to provide the desired properties, and the layers in question are deposited on top of each other in a vacuum environment. Low-e coating (20) layers can be metal, metal oxide, metal nitride, metal oxynitride, metal hydrides. If preferred, the layers may contain more than one metal. The low-e coating (20) subject to the invention contains at least one infrared reflective layer to provide the desired physical, mechanical and optical properties. The low-e coating (20) subject to the invention preferably contains more than one infrared reflective layer, and the number of said infrared reflective layers here can be 2, 3 or 4. Low-e coating (20) contains silver and/or silver-based compound(s) as an infrared reflective layer. If preferred, the low-e coating (20) may contain copper and/or copper oxide and/or gold compounds instead of or together with silver as the infrared layer. In the low-e coating (20), if the number of infrared reflective layers is more than one, all of the infrared reflective layers may be silver and/or silver oxide. If preferred, the infrared reflective layers can all be obtained from different compounds, and silver and/or silver oxide, copper and/or copper oxide and/or gold and/or gold oxides can be used as said infrared reflective layer. The low-e coating (20) subject to the invention contains a first infrared reflective layer (25) and a second infrared reflective layer (30) containing silver (which may be abbreviated as Ag) and/or silver oxides (which may be abbreviated as AgOX). The low-e coating (20) subject to the invention contains a first infrared reflective layer (25) with a thickness of 8 nm to 22 nm. In a preferred embodiment, the thickness of the first infrared reflective layer (25) is a value in the range of 10 nm to 19 nm. In the most preferred embodiment, the thickness of the first infrared reflective layer 25 is a value in the range of 13 nm to 16 nm. The low-e coating (20) subject to the invention contains a second infrared reflective layer (30) with a thickness between 8 nm and 23 nm. In a preferred embodiment, the second infrared reflective layer (30) has a thickness in the range of 10 nm to 20 nm. In the most preferred embodiment, the thickness of the second infrared reflective layer (30) is a value between 13 nm and 17 nm. The low-e coating (20) subject to the invention includes at least one first barrier layer (24) and at least one second barrier layer (26) to prevent the silver-containing first infrared reflective layer (25) from being affected by the process gases used for the production of the layers. In the possible embodiment of the invention, the low-e coating (20) includes a first barrier layer (24) positioned in the lower neighborhood of the first infrared reflective layer (25) and a second barrier layer (26) positioned in the upper neighborhood. The first barrier layer (24) and the second barrier layer (26) surround the first infrared reflective layer (25) as a sandwich structure. At the same time, the first barrier layer (24) and the second barrier layer (26) come before and after the first infrared reflective layer (25), ensuring structural harmony in the metallic and dielectric transition between the dielectric layers, thus eliminating possible adhesion weakness before heat treatment. Within the low-e coating (20) material subject to the invention, the first barrier layer (24) will be nickel chromium (abbreviated as NiCr), nickel chromium oxide (abbreviated as NiCrOX), titanium oxide (abbreviated as TiOX), zinc aluminum oxide (abbreviated as ZnAlOX). ) contains at least one of its compounds. In the preferred embodiment, the first barrier layer (24) contains NiCr. In the invention, the thickness of the first barrier layer (24) is between 0.5 nm and 3 nm. Preferably, the thickness of the first barrier layer (24) is between 0.6 nm and 2 nm. In a most preferred embodiment, the thickness of the first barrier layer (24) is between 0.8 nm and 1.5 nm. The said second barrier layer (26) contains at least one of NiCr, NiCrOX, TiOX, ZnAlOX. Preferably, the second barrier layer (26) contains NiCrOX. In the invention, the thickness of the second barrier layer (26) is in the range of 1 nm to 3 nm. Preferably, the thickness of the second barrier layer (26) is between 1.5 nm and 2.7 nm. In the most preferred embodiment, the thickness of the second barrier layer (26) is between 1.8 nm and 2.2 nm. In the low-e coating (20), at least one first dielectric layer (21) is positioned in the upper neighborhood of the glass (10). The first dielectric layer (21) in question acts as a diffusion barrier and serves in the low-e coating (20) to prevent alkali ion migration, which becomes easier at high temperatures. The first dielectric layer (21) contains at least one of SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx. In the preferred embodiment, the first dielectric layer (21) contains one or both of SiXNy and/or SiOXNy. In a most preferred embodiment, the first dielectric layer (21) contains SiXNy. The thickness of the said first dielectric layer (21) of the low-e coating (20) subject to the invention is between 8 nm and 22 nm. Preferably, the thickness of the first dielectric layer (21) is in the range of 10 to 19 nm. In the most preferred embodiment, the thickness of the first dielectric layer (21) is between 13 nm and 16 nm. The low-e coating (20) subject to the invention contains at least one reflection-reducing layer (22). The reflection-reducing layer (22) in question is located in the upper neighborhood of the first dielectric layer (21). The anti-reflective layer (22) contains TiOX. The reflection-reducing layer (22) ensures that the low-e coating (20) has a reducing effect on the reflection value in the visible region. The reflection-reducing layer (22) can provide this effect even at low thickness values by being used between the first infrared reflective layer (25) and the glass (10). The low-e coating (20) subject to the invention includes a reflection-reducing layer (22) with a thickness between 2 nm and 10 nm. Preferably, the thickness of the reflection-reducing layer (22) is in the range of 3 nm to 8 nm. In the most preferred application, the thickness of the anti-reflection layer (22) is between 4 nm and 6 nm. The low-e coating (20) subject to the invention contains at least one first nucleating layer (23) positioned in the upper neighborhood of the reflection-reducing layer (22). The function of the first nucleating layer (23) in question is to ensure that the first infrared reflective layer (25) positioned in its upper neighborhood has a more crystalline structure. It contains at least one of SiOXNy, ZnSnOX, ZnAIOX, ZnAIOX, TiOX as the first nucleating layer (23). In a preferred embodiment, the first nucleating layer (23) contains ZnAlOX. The low-e coating (20) subject to the invention contains a first nucleating layer (23) with a thickness between 8 nm and 26 nm. The thickness of said first nucleating layer (23) is preferably between 10 nm and 22 nm. Most preferably, the thickness of the first nucleating layer (23) is in the range of 12 nm to 18 nm. The low-e coating (20) subject to the invention contains at least one second dielectric layer (27) located in the upper neighborhood of the second barrier layer (26). It contains at least one of SiOXNy, ZnSnOX, ZnAIOX, ZnAIOX, TiOX as the second dielectric layer (27). In the preferred embodiment, the second dielectric layer (27) contains ZnAlOX. The thickness of the second dielectric layer (27) is between 8 nm and 25 nm. In the preferred embodiment, the thickness of the second dielectric layer (27) is between 10 nm and 20 nm. Most preferably, the thickness of the second dielectric layer (27) is in the range of 11 nm to 15 nm. The low-e coating (20) subject to the invention includes at least a third barrier layer (31) positioned in the upper neighborhood of the second infrared reflective layer (30). The third barrier layer (31) provides mechanical strength for the second infrared reflective layer (30) and structural harmony in the metallic and dielectric transition between the dielectric layers in question, thus eliminating possible adhesion weakness before heat treatment. The said third barrier layer (31) contains at least one of NiCr, NiCrOX, TiOX, ZnAlOX. In a preferred embodiment, the third barrier layer (31) contains NiCrOX. The thickness of the third barrier layer (31) is in the range of 1 nm to 3 nm. Preferably, the third barrier layer (31) thickness is a value between 1.5 nm and 2.7 nm. In the most preferred embodiment, the thickness of the third barrier layer (31) is between 1.8 nm and 2.2 nm. The low-e coating (20) subject to the invention contains at least one second nucleating layer (29). The second nucleating layer (29) in question is located in the lower neighborhood of the second infrared reflecting layer (30). The second nucleating layer (29) contains at least one of TiOX, ZnAlOX, ZnOX, ZnSnOX. The second nucleating layer (29) has the same function as the first nucleating layer (23) and enables the second infrared reflective layer (30) to grow in a more crystalline structure. Preferably, the second nucleating layer (29) contains ZnAlOX. The thickness of the second nucleating layer (29) is in the range of 8 nm to 20 nm. The thickness of the said second nucleating layer (29) is preferably between 11 nm and 15 nm. The low-e coating (20) subject to the invention contains at least one third dielectric layer (32) positioned in the upper neighborhood of the third barrier layer (31). The third dielectric layer (32) in question ensures increased mechanical bonding between the third barrier layer (31) and the fourth dielectric layer (34). It contains at least one of SiXNy, TiNX, ZrNX, ZnSnOX, ZnAIOX, SiOXNy, TiOX, ZnOX as the third dielectric layer (32). The thickness of the third dielectric layer (32) of the low-e coating (20) subject to the invention is between 9 nm and 20 nm. In a preferred embodiment, the third dielectric layer (32) has a value between 12 nm and 15 nm. The low-e coating (20) subject to the invention contains at least a fourth dielectric layer (33) positioned in the upper neighborhood of the third dielectric layer (32). The fourth dielectric layer (33) in question generally provides protection of the entire array against heavy mechanical effects. The fourth dielectric layer (33) contains at least one of the ZnAlOX, SiOXNy, TiOX layers. In the preferred embodiment, the fourth dielectric layer (33) contains SiOXNy. The thickness of the fourth dielectric layer (33) is between 17 nm and 30 nm. Preferably, the thickness of the fourth dielectric layer (33) is between 20 nm and 28 nm. Most preferably, the thickness of the fourth dielectric layer (33) is between 22 nm and 25 nm. The low-e coating (20) subject to the invention includes at least one upper dielectric layer (34) located in the upper neighborhood of the fourth dielectric layer (33). The upper dielectric layer (34) in question increases the scratch resistance by reducing friction. The upper dielectric layer (34) contains TiOX. The low-e coating (20) subject to the invention includes an upper dielectric layer (34) with a thickness between 1 nm and 5 nm. The thickness of the upper dielectric layer (34) in question is preferably between 2 nm and 4 nm. The low-e coating (20) subject to the invention is applied to improve the mechanical, physical and optical properties of glass (10) surfaces. Heat treatments can also be applied, as known in the art, to provide improvements in the mechanical, optical and physical properties of glass (10) surfaces. It is known in the art that during the application of thermal processes, there are negative effects for low-e coatings (20) and changes occur in the optical, mechanical and physical properties of low-e coatings (20). This invention includes arrangements to ensure that the mechanical, optical and physical values of the low-e coatings (20) remain stable before and after heat treatments. Accordingly, in the invention, the low-e coating (20) includes a middle sandwich structure (28) in order to eliminate the drawbacks of the current technique and to improve the mechanical, optical and physical properties of the final product. The said middle sandwich structure (28) is positioned between the first infrared reflective layer (25) and the second infrared reflective layer (30). Within the middle sandwich structure (28); It contains at least one first thermal barrier layer (281) / at least one regulator layer (282) / at least one second thermal barrier layer (283) from the glass (10) towards the atmosphere, respectively. The first thermal barrier layer (281) is preferably positioned in the upper neighborhood of the second dielectric layer (27). The first thermal barrier layer (281) contains SiXNy. The thickness of the first thermal barrier layer (281) is between 15 nm and 35 nm. In the preferred embodiment, the thickness of the first thermal barrier layer (281) is between 17 nm and 33 nm. Most preferably, the thickness of the first thermal barrier layer (281) is in the range of 20 nm to 30 nm. The middle sandwich structure contains at least one of NiCr and/or NiCrOX as the regulatory layer (282). The thickness of said regulatory layer (282) is preferably between 2 nm and 13 nm. In the preferred embodiment, the thickness of the regulatory layer (282) is preferably between 2 nm and 10 nm. Most preferably, the thickness of the regulatory layer 282 is preferably in the range of 4 nm to 7 nm. The middle sandwich structure (28) contains a second thermal barrier layer (283). The said second thermal barrier layer (283) contains SiXNy. The thickness of the second thermal barrier layer (283) is between 15 nm and 35 nm. In the preferred embodiment, the thickness of the second thermal barrier layer (283) is between 17 nm and 33 nm. Most preferably, the thickness of the second thermal barrier layer (283) is in the range of 20 nm to 30 nm. In the invention, the first thermal layer (281) / regulating layer (282) / second thermal barrier layers (283) contained within the middle sandwich structure (28) enable the thermal resistance and optical properties of the low-e coating (20) to be improved. In the current technique, in order to ensure thermal resistance and low permeability in low-e coatings (20), especially the first barrier layer (24), the second barrier layer (26) and the third barrier layer (31) or the first infrared reflective layer (25) containing silver and the second It was a matter of increasing the thickness of the infrared layer (30). In this case, where the metallic layers were thicker, the visible region reflections increased and the optical values changed much more after heat treatment. The low-e coating (20) subject to the invention has the desired low temperature after heat treatment thanks to the first thermal barrier layer (281) containing SiXNy / regulating layer (282) containing NiCr and/or NiCrOX / second thermal barrier layer (283) containing SiXNy. The permeability level can be achieved with minimal change. If the middle sandwich structure (28) characterized in the invention is used, the permeability decrease is largely achieved by the thickness of the regulating layer (282) containing NiCr and/or NiCrOX located between the first thermal barrier layer (281) containing SiXNy and the second thermal barrier layer (283). . By keeping the thickness of the NiCr and/or NiCrOX-containing regulatory layer (282) within the middle sandwich structure (28) high, the thickness of the first barrier layer (24), second barrier layer (26) and third barrier layer (31) can be kept thin. When looking at the arrangement of the middle sandwich structure (28), it is seen that the regulator layer (282) containing NiCr and/or NiCrOX is located in the middle part symmetrically and between the first thermal barrier layer (281) containing SiXNy and the second thermal barrier layer (283). Heat treatment exposure is kept to a minimum. Another advantage of this structure is that the permeability level can be regulated with the middle sandwich structure (28), and as a result, samples of different permeability levels can be obtained with minimum layer sequence change. The inventors have determined that, thanks to the middle sandwich structure (28) that the low-e coating (20) subject to the invention contains, the changes in its optical, mechanical and chemical properties before and after heat treatment occur in a way that remains stable within production tolerances. To prove this, the inventors showed the changes in permeability and color parameters of the glass (10) and low-e coating (20) given in Table 1, which do not contain the middle sandwich structure (28), before and after heat, and the glass (10) subject to the invention given in Table 2. ) and the changes in the permeability and color parameters of the low-e coating (20) before and after heat are compared. Table 1. Example of low-e coating (20) without Medium Sandwich Structure (28) Subject Low-e Coating (layer thicknesses (nm) from glass to atmosphere) ZnAIOx 10-20 NiCrOx 1-3 Ag 10-20 NiCrOx 1-3 ZnAIOx 10-20 ZnAIOx 10-20 Ag 10-20 NiCrOx 3-7 ZnAIOx 10-20 SiOxNy 20-30 Table 2. Example of Inventive Low-e Coating (20) Including Medium Sandwich Structure (28) Inventive Low-e Coating (in order from glass to atmosphere) Layer Thicknesses (nm) ZnAIOx 10-20 Ag 10-20 NiCrOX 1-3 ZnAIOX 10-20 NiCrOX 3-7 ZnAIOX 10-20 Ag 10-20 NiCrOX 2-7 ZnAIOX 10-20 SiOXNy 10- 20 The differences between the permeability, color parameters and delta-E values of the low-e coating (20) sample, which contains the layers given in Table 1, before and after heat treatments are given in Table 3. Table 3. Changes in transmittance and color parameters of the low-e coating (20) sample without Medium Sandwich Structure (28) before and after heat. Daylight Solar Energy Color Parameters (L a * b * system) When the data shared in Table 3 is examined, the medium sandwich It has been determined that the low-e coating (20) without structure (28) has high changes in permeability and color parameters before and after heat treatments. The differences between the permeability, color parameters and delta e values of the low-e coating subject to the invention, which contains the layers given in Table 2, before and after heat treatment are given in Table 4. Table 4. Changes in transmittance and color parameters of the Low-e Coating (20) Sample, Subject to the Invention, Including Medium Sandwich Structure (28), before and after the thermal. Daylight Solar Energy Color Parameters (L a* b* system) sem (EN 410) (EN 410) After a* b* When the values shared in Table 4 are examined, it has been determined that the changes in permeability and color parameters of the low-e coating (20) containing the middle sandwich structure (28) before and after the heat treatment are (quite low) within the production tolerances. . For this reason, together with the middle sandwich structure (28) and other layers contained in the low-e coating (20), which is the subject of the invention, the mentioned changes between the pre- and post-heat states are ensured to remain at minimum values. Thanks to the low-e coating (20), which is the subject of the present invention, and the middle sandwich structure (28) and other layers, the glass (10) is provided with a neutral color. The glass (10) containing the low-e coating (20) subject to the invention has a neutral blue color. The scope of protection of the invention is specified in the attached claims and cannot be limited to what is explained in this detailed description for exemplary purposes. Because it is clear that a person skilled in the art can produce similar structures in the light of what is explained above, without deviating from the main theme of the invention.