TR2022002765T2 - Hava kökenli̇ ki̇myasali ve bi̇yoloji̇k kontami̇nasyonu muamele etmek üzere proses haznesi̇ - Google Patents

Abstract

Kimyasal ve yaşama bağlı hava kanalı kontaminasyonunu devre dışı bırakmaya ve ayrıştırmaya yönelik kendi kendini temizleyen bir hava kanalı olan bir aparattır. Kanal, kanal içinde yarı UV yansıtıcı yüzeyleri ışınlayan ultraviyole (UV) kaynakları içerir. Söz konusu kanal, ön ve son filtrelerin yolunda pozisyonlandırılır. Kanalın ve bileşenlerin iç yüzeyleri, fotokatalitik kaplamaların yüzey alanını ve yapışmasını maksimuma çıkarmak üzere kimyasal ve veya mekanik araçlar tarafından değiştirilebilir. Kanal içinde birçok kaplanmış panel, hava akışına paralel konfigüre edilebilir ve hava kökenli kontaminasyon ve fotokatalitik üretilmiş serbest radikal ile UV radyasyonunun etkileşimini artırmak üzere pozisyonlandırılabilir. Kanala bağlı mikroişlemciye dayanan elektronikler, hava velositesini, UV radyasyon düzeylerini ve hava kökenli kontaminasyon düzeylerini kontrol etmek ve izlemek üzere gereken önemli iç ve yardımcı bileşenlere yönelik güç sağlar. Ön ve son filtreler, VOC ve devre dışı bırakılmış yaşama bağlı hava kökenli kontaminasyonu ve atıl minerale bağlı kontaminasyonu alıkoyacak şekilde pozisyonlandırılabilir.

Description

TARIFNAME HAVA KÖKENLI KIMYASALI VE BIYOLOJIK KONTAMINASYONU MUAMELE ETMEK ÜZERE PROSES HAZNESI ALTYAPI Birçok teknoloji, diger sorunlar arasinda solunum komplikasyonlari, gida tedarik bozulmasi, kapali alan mahsul tarimi ile ilgili hususlari olusturmadan veya artirmadan sorumlu zararli hava kökenli kontaminasyonu azaltmak üzere uygulanmistir. Teknolojilerin seçimi, kontaminasyonun algilanan kaynagi ve havada süspanse edilen patojenlerin türüne (hava kökenli kirlilik) bagli olarak degiskenlik gösterir. Mevcut tarifname, kanalin iç yüzeylerini kendi kendine temizleyebilen bir hava kanalinin formunda bir hava temizleyiciyi tasarlar. Daha sinirli bir açida kanal, hidrokarbon bazli moleküllere yasam formlarinin ve uçucu organik bilesiklerin (VOC) fotokatalitik bozunumunu artirmak üzere hava kökenli patojenleri ve akiskan dinamikleri sterilize edecek ultraviyole radyasyonu kullanir. SEKILLERIN KISA AÇIKLAMASI Bulus, çesitli bilesenlerde ve bilesenlerin düzenlemesinde ve çesitli adimlarda ve adimlarin düzenlerinde biçim alabilir. Sekiller sadece, tercih edilen düzenlemeleri gösterme amaçlarina yöneliktir ve bulusu sinirlayici olarak yorumlanmamalidir. SEKIL 1, bir birinci örnek niteligindeki düzenlemeye göre bir hava temizleme sisteminin kismen parçali bir görünüsüdür. SEKIL 2, bir titanyum dioksit kaplamaya sahip olan modifiyeli bir panel yüzeyinin büyütülmüs bir görünüsü ile SEKIL 1'in hava temizleme sisteminin bir hücre panelinin izometrik bir görünüsüdür. SEKIL 3, SEKIL 2'nin panelinin yüzeyinde akiskan mekanik hava akisini gösteren bir gösterimdir. SEKIL 4, SEKIL 1'in hava temizleme sisteminin bir elektrik panelinin izometrik bir görünüsüdür. SEKIL 5, düsük, orta ve yüksek hava akislarinda SEKIL 1"in hava temizleme sistemini tarafindan toplam uçucu organik bilesiklerin azaltilmasini gösteren bir gösterimdir. SEKIL 6, bir ikinci örnek niteligindeki düzenleme ile uygun olarak bir hava temizleme sisteminin izometrik bir görünüsüdür. SEKILLERDEKI REFERANSLARIN AÇIKLAMASI 101. Hava temizleme sistemi 102. Dizi paneli 103. Kapali hücre 104. Hava akisi 105. Ultraviyole (UV) lambasi 106. Açiklik 108. Harici elektronik panel 109. UV sensörleri 111. Kontaminasyon sensörleri 113. Ön filtre 115. Sinir katmani 117. Titanyum dioksit kaplamasi 120. Giris 121. Çikis 201. Hücre 202. lzgara yapisi 203. Yan duvar 204. Agrega 205. Ikinci giris 206. Ikinci çikis 207. UV kaynagi 208. UV yansitici uç kapagi G. Paneller Yüzeyinde Akiskan Mekanik Hava Akisi Reynolds Sayisi H. Artan Hava Velositesi l. Laminer hava akisi, Kontamine Hava akimi ile radikallerin az miktarda karismasi vardir J. Geçis, Hava akisi, Radikaller ve patojenler karisimi K. Türbülansli hava velositesi, UVC radyasyonunun dozunu minimuma indirir L. Oksidize Edici Hidroksil Radikalleri M. lCON: Versiyon2 TVOC Azaltma Testi N. Yüksek akis +UV Radyasyonu TERCIH EDILEN DÜZENLEMELERIN DETAYLI AÇIKLAMASI Sekillere bu noktada refere edilerek SEKILLER 1-6, bir hava kanalina yönelik bir hava temizleme sistemini gösterir. (101) ile genel olarak gösterilen hava temizleme sistemi, bir dizi paneli (102) içerir. Belirli düzenlemelerde paneller (102) dizisi, sistemi birçok bitisik kapali hücreye (103) önemli ölçüde böler ve hava akisina (104) direnci minimuma indirmek üzere konfigüre edilir. Belirli düzenlemelerde hava akisi (104), hava temizleme sisteminin bir giris kismi (120) içinden muhafaza içine yönlendirilir ve bir çikis kismi (121) içinden muhafazadan çikar. Belirli düzenlemelerde panelin (102) her biri, bu boyunca bir veya daha fazla UV lambasinin (105) pozisyonlandirildigi en az bir açikliga (106) sahiptir. SEKIL 1'de görülen örnek niteliginde tercih edilen mekanik konfigürasyonda hava kanali (101), hava akisina (104) karsi minimum direnç ile birçok dogrudas kapali hücreyi (103) olusturmak üzere birçok paralel panel (102) tarafindan bölünür. Tercih edilen bir düzenlemede kanal içi duvar ve birçok panelin yüzeyleri, kanal girisi (120) ile kanal çikisi (121) arasinda birçok akiskan yolunu çevreleyen dar hücreleri (103) olusturur. En az bir ultraviyole (UV) lambasi (105), hava akisi yönüne ve hücre duvarlarina dikey hücre duvarlarinin (102) en az bir açikligina (106) girecek sekilde pozisyonlandirilir. UV kaynagindan veya kaynaklarindan (105) radyasyon, hücrenin (103) ve hücre yüzeylerinin (102) hacmini aydinlatmak üzere engellenmemis bir yola sahiptir. Belirli tercih edilen düzenlemelerde panellerin (102) yüzeyleri ve kanalin (101) iç duvarlari, UV radyasyonunun yansitirligi artirmak üzere mekanik olarak veya kimyasal olarak degistirilir. Iç yüzeyin ve kanalin (101) panellerinin (102) degistirilmesinin örnek niteligindeki araçlari bunlar ile sinirli olmaksizin zimparalama veya kimyasal daglamayi içerir. Belirli düzenlemelerde cam, pleksiglas gibi bir saydam veya yari saydam materyal veya diger saydam veya yari saydam polimer materyalden olusturulan paneller (102), UV radyasyonunun bitisik hücreler tarafindan paylasilmasina olanak saglamak üzere kullanilir, bu sekilde UV radyasyonunun verimliligi artirilir. Ayrica belirli düzenlemelerde yandan aydinlatmali yari saydam paneller, UV radyasyonun, fotokatalitik kaplama içinde enerjinin saglanmasi yoluyla UV ile aktif hale getirilmis fotokatalitik yüzeylerin verimliligini artirmak üzere bitisik hücreler tarafindan paylasilmasina olanak saglamak üzere kullanilir. Belirli tercih edilen düzenlemelerde açikliklar (106), iki UV kaynaginin (105) pozisyondirilmasina olanak saglamak üzere tüm paneller boyunca kesilmistir. Örnek niteliginde tercih edilen UV kaynaklari, bunlar ile sinirli olmaksizin UVC lambalar ve UVA lambalari içerir. Belirli düzenlemelerde birçok UV kaynagi dahil edilir. Belirli diger düzenlemelerde birçok UV kaynaginin dahil edilmesi, kendi kendini temizleyen kanal içinde UV maruziyetine yönelik tüm kullanim ömrünü uzatmak üzere bir degisen açma-kapama dizisinde kullanima yönelik olarak konfigüre edilebilir. Alternatif UV kaynaklari, benzer UVC ve UVA dalga uzunluklarina yönelik olarak seçilen diyotlar olabilir. Örnek niteliginde degisen bir açma-kapama dizisinde birinci lamba, 2 yil boyunca çalisir akabinde söner, ikinci lamba, 2 yil boyunca yanar ve iki lamba akabinde ilave bir 2 yil boyunca yanar. Bu tür degisen/kesikli kullanim, 2 yil ila 6 yil arasinda UV kaynaklarini kullanan sistemin beklenen yasam süresini uzatabilir. Mikrop Öldürücü UV Radyasyonu: Yasama uygun hava kaynakli kirletici maddelerin deaktivasyonu, hücre duvarlari (102) ara parçalar interstisyel alan (103) içinde meydana gelir. UV dogrudan ve yansitilmis radyasyonunun, yüksek UV radyasyon yogunluklarinda ve maruziyet süresinde (dozlarda) çogu yaygin hava kökenli organik patojenlerde DNA"ya hasar verdigi (etkisiz hale getirdigi) kanitlanmistir. Tercih edilen bir düzenlemede paneller (102) ve kanal (101), UV kaynaginin yansitici dozunu güçlendirmek ve sistem (100) ve hücreler boyunca hareket eden hava kökenli patojenlerin, birçok yönden birçok kez isinlanmasini saglamak üzere panelin (102) bir veya daha fazla degistirilmis yüzeye (116) (bakiniz SEKIL 2) sahip olan son derece UV yansitici alüminyumdan olusturulur. Çogu UV radyasyon kaybi, giris (120) ve çikis (121) boyunca meydana gelir. Kaybedilmis radyasyon, bir opsiyonel ön filtrenin (113) (bir karbon filtre gibi, örnegin aktif hale getirilmis bir karbon filtre) temizlenmesine yardimci olur. Kaybedilmis UV radyasyonu ayrica, kullanilmasi halinde aktif hale getirilmis bir karbon filtre gibi filtrenin (113) absorpsiyon kabiliyetini artirmak üzere termal enerji saglar. Hava kökenli patojenlere yönelik tercih edilen UV radyasyonu, UVC radyasyonudur. UVA: Belirli düzenlemelerde UVA radyasyonu, paneller (102) üzerinde bir titanyum dioksit kaplama yüzeyi ile kombinasyon halinde kullanilir. Hava kökenli nem, UVA radyasyonu ile aktif hale getirilmis bir Ti02 yüzeyine temas ettiginde bir katalitik reaksiyon, H20'yu C02 ve suya hidrokarbon moleküllerini parçalayan serbest radikallere (115) dönüstürür. Faydali etkilesim, Ti02 yüzeyinin (117) ve ambiyant hava kökenli nemin arayüzünde meydana gelir. Belirli tercih edilen düzenlemelerde bir sivi solüsyon içinde süspanse edilmis bir saydam Ti02, modifiyeli alüminyum yüzeye (107) uygulanir ve kurutulur. Modifiyeli alüminyum yüzey (107), gelismis bir TiOz bagini ve daha fazla yüzey alanini saglar. Belirli düzenlemelerde daha büyük modifiyeli alüminyum alt tabakadan (107) yansitilan UVA, Ti02 katalitik serbest radikal verimini ikiye katlar. Modifiyeli alüminyum yüzey (107) ayrica, daha kalin daha dayanikli fotokatalitik kendi kendini temizleyen bir kaplamaya olanak verir. SEKIL 2, hava akisi (104) ile bir panelin (102) titanyum dioksit kaplamasi (117) arasinda sinir katmanini (115) gösterir. Hava Akim Velositesi: Kirlenmis hava akiminin velositesi, hava dekontaminasyon prosesinde önemli bir rol oynar. Bir patojenin aldigi UVC radyasyon dozu, hava velositesine (kanal içinde kalma süresi) ters orantilidir ve UV kaynaginin yakinligi ile dogru orantilidir. Hava velositesi artikça (yüksege) DNA deaktivasyonu üzerinde UVC radyasyonunun etkisi azalir. Hava velositesinin, kanal içinde azalmasi (düsüge) halinde bir laminer hava akisi gelisecektir, bu durum bir patojenin, akim hatlari olusturarak ve TIOz-Hzo serbest radikal sinir katmani (115) (bakiniz SEKIL 3) ile temas etmeksizin kanal içinden geçerek paneller (102) arasinda takip etmesine olanak saglanir. Fotokatalitik proses, hava akiminin (104) sinir katmani (115) ve Ti02 kaplamasinda (117) meydana gelir. TIOz (117) kaplamasinin yüzeyinde sinir katmani (115), serbest radikallerin en zengin konsantrasyonunu içerecektir. Bu nedenle patojenlerin serbest radikaller ile temas etmesini saglamak üzere 2100"ün üzerinde minimum bir Reynolds Sayisi (Nre) ile bir hava akimi (geçis hava akisi) muhafaza edilmelidir (bakiniz SEKIL 3). Basitlestirilmis bir tasarimda yaklasik olarak 3500 Nre olan bir hedef muhafaza edilebilir. Belirli tercih edilen düzenlemelerde daha düsük bir Nre, düsük bir velositede laminerden türbülansli hava akisina geçis saglanarak gereken velositeyi düsürmek üzere hücrelerin kenarlarinda mekanik türbülans jeneratörleri (118) eklenerek kullanilabilir. Tercih edilen bir düzenlemede hava, bir veya daha fazla jeneratör (118) tarafindan agrasif sekilde dagitilir ve karisik bir akisa geçer. < Nre 2 00 olan düsük hava velositelerinde istikrarsizligi baslatmak üzere kullanilabilir birçok aerodinamik yöntem vardir. Fan kanatlarindan, rüzgarliklardan ve vorteks jeneratörlerinden kaynaklanan hava türbülansi bunlardan birkaçidir. Istikrarsizligi tetikleyen ayni hücre içinde farkli hava velositelerini olusturmak üzere hücre (103) duvarlari içine hava engellerini (118) ekleyen bir konfigürasyon açiklanir. Hava velositesi, en az bir degisken kontrollü fan tarafindan olusturulur ve muhafaza edilir. Hava Akis Istikrarsizligina karsi VOC Azaltma Belirli tercih edilen düzenlemelerde toplam VOC (TVOC) hava kökenli kontaminasyonun azaltilmasi, mekanik stimüle edilmis hava istikrarsizligi ile daha yüksek hava akisi geçis durumlarinda (bakiniz SEKIL 5) tercih edilen kanal konfigürasyonunda saglanir. SEKIL 5, düsük, orta ve yüksek hava akislarinda TVOC'nin örnek niteliginde azaltilmasini gösterir. Tüm üç hava akisi kosulu, türbülans olusturma ile gelistirilen klasik Reynolds Geçis Sayilari (Nre) dahilinde olacak sekilde seçilir. Hava velositesi daha yüksek oldukça TVOC azaltmasinin daha yüksek oldugu bellidir. Bu durum, diger tüm hava temizleme cihazlarinin mantigina aykiridir. Bir Ikinci Kanal Düzenlemesinde Iki saglam karsit UV saydam yan duvar (203) ve iki karsit saglam UV yansitici uç kapagi (208) tarafindan tanimlanan bir kendi kendini temizleyen tek hücre (201) açiklanir. Uç kapak yüzeyleri, yüzey alanini ve UV yansitirligini artirmak üzere mekanik olarak veya kimyasal olarak degistirilebilir. SEKIL 6'da gösterildigi üzere hücrenin (201) üst kismi ve alt kismi, havanin, ikinci giris (205) içinden hücre içine akmasina ve havanin, ikinci çikis (206) içinden hücre disina akmasina olanak veren iki karsit hava geçirgen izgara yapisi (202) tarafindan çevrelenir. Iki karsit hava geçirgen izgara yapisi (202) ayrica, hücreye (201) dolan agregayi alikoyar. Hava geçirgen agrega (204), UV'nin (207) saydam olacagi sekilde seçilir ve takip eden granüler konfigürasyonlardan biri veya daha fazlasi halinde olabilir: küreler, peletler, yongalar ve/veya pullar. Hücreler (201) birlestirildikten sonra hücrenin (201) ve agreganin (204) tüm yüzeyleri, düzenegin (201) ve agreganin (204), TIOz içeren bir sivi içine batirilmasi yoluyla Ti02 Bir fan (gösterilmemistir), havayi saydam yan duvarlarda (203) yönlendirilen UV isiginin en az bir dalga uzunluguna maruz birakarak ikinci giristen (205) ikinci çikisa (206) dogru agrega (204) boyunca havayi hareket ettirir. Saydam agregayi (204) aydinlatmaya yönelik UV kaynagi (207), UV lambalari, UV LED'leri veya ikisini içerebilir. Ikinci düzenlemede UV kaynagi (207) bunlar ile sinirli olmaksizin UVA ve/veya UVC kaynaklari olabilir. Agrega (204) boyunca dagitilmis UVC enerjisi, patojenin replikasyonunu etkisiz hale getirerek hava kökenli patojenlerin DNA'sini bozar. Agrega ( tüm iç yüzeyleri ve Ti02 kapli agreganin (204) tüm yüzeyleri üzerinde bir Fotokatalitik reaksiyonu aktive eder. TiOz, uçucu organik bilesikleri (VOC) parçalayan ve iç hücre (201) ve agrega (204) yüzeyleri üzerinde yerlestirilmis tüm organik birikintileri ayristiran serbest radikalleri olusturarak hava içindeki H20 ile reaksiyona girer. Harici Elektronik Tercih edilen bir düzenlemede harici elektronik panel (108), UV lambalarina (105), UV sensörlerine (109, gösterilmemistir), hava akis sensörlerine ve hava kökenli kontaminasyon sensörlerine (111, gösterilmemistir) güç saglamak üzere kanalin disina siki bir sekilde takilir. Tercih edilen bir düzenlemede elektronik, bir yukari akim yönlü veya asagi akim yönlü fani kontroledebilecektir. Ayrica elektronik, hava temizleme prosesinin gerçek zamanli izlenmesini saglayarak kablo, RFC ve veya internet yoluyla diger elektronik sistemler ile iletisim kabiliyetine sahip olacaktir. Harici Filtreler Kanalin girisinde (120) ve/veya çikisinda (gösterilmemistir) saglanan degistirilebilir aktif hale getirilmis karbon ön filtreler (113), hücreler boyunca hava akisini dagitir. Karbon, hava kökenli uçucu bilesikleri (VOC) giderir ve doymus hale gelmeden önce veya sonra, UV radyasyonunun asagi akim yönlü ve yukari akim yönlü kaçisini önlemek üzere optik bir kalkani saglar. Aktif hale getirilmis karbonu aydinlatan UVC önce ve sonra karbon yüzeylerin temizleyecektir. Bulus, tercih edilen düzenlemeye referans ile açiklanmistir. Modifikasyonlar ve alterasyonlar, önceki ayrintili açiklamanin okunmasi ve anlasilmasi üzerine digerlerine yapilacaktir. Bulusun, bu tür modifikasyonlarin ve alterasyonlarin tamamini içerecegi sekilde yorumlanmasi hedeflenir. TR TR TR

Claims (1)

1.ISTEMLER Bir hava kanali sistemi olup, özelligi akiskan akis ile dogrudas hücreleri olusturan çok yüzeyli dokulu paneller ile kapali bir hava akis yolunu olusturmak üzere bir hava çikisina akiskan sekilde baglanan bir hava girisine sahip bir muhafazayi içermesidir, burada her dokulu hücrenin her yüzeyi, en az bir ultraviyole kaynagina dogrudan bir görüs hattina sahip olan bir UV saydam fotokatalitik katman ile kaplanir. Bir hava kanali olup, özelligi en az bir UV saydam saglam duvara sahip olmasidir ve kanalin hacmi, hücre disindan en az bir ultraviyole kaynagi tarafindan aydinlatilan akiskan akisinin yolunda kesintisiz fotokatalitik kaplanmis UV saydam agregasi ile doldurulur. Istem 2'nin bir hava kanali sistemi olup, özelligi kanalin hacminin, kesintisiz fotoaktinik kaplanmis UV saydam kürelerden olusan bir agrega ile doldurulmasidir. Istem 2'nin bir hava kanali sistemi olup, özelligi kanalin hacminin, kesintisiz fotoaktinik kaplanmis UV saydam peletlerden olusan bir agrega ile doldurulmasidir. Istem 2'nin bir hava kanali sistemi olup, özelligi kanalin hacminin, kesintisiz fotoaktinik kaplanmis UV saydam yongalardan olusan bir agrega ile doldurulmasidir. Istem 2'nin bir hava kanali sistemi olup, özelligi kanalin hacminin, kesintisiz fotoaktinik kaplanmis UV saydam pullardan olusan bir agrega ile doldurulmasidir. Istem 1”in bir sistemi olup, özelligi kanal hücrelerinin hacminin, ultraviyole A (UVA) radyasyonu ile dolup tasirilmasidir. Istem 1”in bir sistemi olup, özelligi kanal hücrelerinin hacminin, ultraviyole C (UVC) radyasyonu dolup tasirilmasidir. Istem 1”deki sistem olup, özelligi tüm iç yüzeylere, yüzey alanini artirmak üzere mekanik veya kimyasal araçlar tarafindan doku verilmesidir. Istem 1'deki sistem olup, özelligi tüm iç yüzeylere, kaplama yapismasini artirmak üzere mekanik veya kimyasal araçlar tarafindan doku verilmesidir. Istem 1”deki sistem olup, özelligi tüm iç yüzeylere, UV yansitirligini artirmak üzere mekanik veya kimyasal araçlar tarafindan doku verilmesidir. Istem 2'deki sistem olup, özelligi uç kapak yüzeylerine, mekanik veya kimyasal araçlar tarafindan doku verilmesidir. Istem 1 veya 2'nin sistemi olup, özelligi tüm hava kökenli patojenlerin, UV radyasyonuna maruz birakilmasidir. Istem 1 veya 2'nin sistemi olup, özelligi dokulu kapli yüzeyin kendi kendini temizlemesidir. Istem 1 veya 2'nin sistemi olup, özelligi kanallar içindeki hava velositesinin, bir bilgisayar kontrollü fan tarafindan muhafaza edilmesidir. Istem 1'in sistemi olup, özelligi hava velositesinin, laminer hava akisinin üzerinde ancak türbülansli hava akisindan daha düsük bir geçis fazinda muhafaza edilmesidir. Istem 1”in sistemi olup, özelligi geçis fazi hava akisinin, hücreler içinde vorteks jeneratörleri tarafindan baslatilmasidir. Istem 2'in sistemi olup, özelligi geçis fazi hava akisinin, boru içindeki agrega tarafindan baslatilmasidir. Istem 2”in bir sistemi olup, özelligi kanal içindeki agrega tarafindan baslatilan hava akisi türbülansinin, agreganin yüzeyini yikamasidir. Istem 1”in bir sistemidir, burada burgaç akimlarinin, bir hücrenin genisligine yayilmasidir. . Istem 1”in bir sistemi olup, özelligi burgaç akimlarinin, fotokatalitik kapli hücre duvarlarinin yüzeyi üzerinde sinir katmanini yikamasidir. Istem 1 veya 2'nin sistemi olup, özelligi burgaç akimlarinin, kontamine hava akimi içine serbest radikalleri tasimasi ve karistirmasidir. Istem 1”in bir sistemi olup, özelligi hücreler arasinda kanal içine giren hava kökenli kirliligin, burgaç akimlari yoluyla hücre duvari sinir katmanina aktarilmasidir. Istem 1'in bir sistemi olup, özelligi hava velositesinin, UVC sterilize edici radyasyonun yüksek bir dozunu saglayarak kalma süresini maksimuma çikarmak üzere türbülansli akisin altinda olmasidir. Istem 1'in bir sistemi olup, özelligi en az iki UV lambasinin, UV radyasyon isleminin miktarini ve/veya bakim süresini uzatacak bir sekilde degisimli olarak çalismak üzere konfigüre edilmesidir. Istem 2'nin sistemi olup, özelligi kanalin yan duvarinin, hava akisina karsi geçirmez olmasidir ve UV radyasyonuna karsi geçirgen olmasidir. Istem 1 veya 2'nin sistemi olup, özelligi UV radyasyonuna maruz birakilan tüm yüzeylerin, UV ayrismasina karsi geçirmez olmasidir. Istem 2”in bir sistemi olup, özelligi kanalin, tüm elektronikleri içermemesidir. TR TR TR