Claims (1)
1.ISTEMLER . Bulus bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx' den seçilen bir birinci dielektrik TiOx, ZrOx, NbOx' den seçilen ikinci dielektrik katman (212); NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnSnOx, ZnOx'den seçilen bir birinci çekirdeklestirici katman (213); Bir birinci kizilötesi yansitici katman (22); NiCr, NiCrOx, Ti, TIOx, ZnAlOx, ZnOx*den seçilen bir birinci bariyer SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen bir üçüncü dielektrik katman (241); SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen bir dördüncü dielektrik katman (242); NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAlOx, ZnOx'den seçilen bir ikinci çekirdeklestirici katman (243); Bir ikinci kizilötesi yansitici katman (25); NiCr, NiCrOx, Ti, TiOx, ZnAIOx, ZnOx”den seçilen bir ikinci bariyer katman (26); ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, ZrOx, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx'den seçilen bir besinci dielektrik katman (271); SiOxNy içeren bir üst dielektrik katman (272) içermesidir. . istem 1ie göre bir lowe kaplamali cam olup özelligi, ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliginin birinci kizilötesi yansitici katman kalinligindan (22) fazla olmasidir. . istem 2'ye göre bir lowe kaplamali cam olup özelligi, ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliginin, birinci kizilötesi yansitici katman (22) kalinligina oraninin 1,0 ile 1,7 arasinda olmasidir. ISTEMLER . Bulus bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx' den seçilen bir birinci dielektrik TiOx, ZrOx, NbOx' den seçilen ikinci dielektrik katman (212); NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnSnOx, ZnOx'den seçilen bir birinci çekirdeklestirici katman (213); Bir birinci kizilötesi yansitici katman (22); NiCr, NiCrOx, Ti, TIOx, ZnAlOx, ZnOx*den seçilen bir birinci bariyer SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen bir üçüncü dielektrik katman (241); SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen bir dördüncü dielektrik katman (242); NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAlOx, ZnOx'den seçilen bir ikinci çekirdeklestirici katman (243); Bir ikinci kizilötesi yansitici katman (25); NiCr, NiCrOx, Ti, TiOx, ZnAIOx, ZnOx”den seçilen bir ikinci bariyer katman (26); ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, ZrOx, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx'den seçilen bir besinci dielektrik katman (271); SiOxNy içeren bir üst dielektrik katman (272) içermesidir. . istem 1ie göre bir lowe kaplamali cam olup özelligi, ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliginin birinci kizilötesi yansitici katman kalinligindan (22) fazla olmasidir. . istem 2'ye göre bir lowe kaplamali cam olup özelligi, ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliginin, birinci kizilötesi yansitici katman (22) kalinligina oraninin 1,0 ile 1,7 arasinda olmasidir. ISTEMLER . Bulus bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx' den seçilen bir birinci dielektrik TiOx, ZrOx, NbOx' den seçilen ikinci dielektrik katman (212); NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnSnOx, ZnOx'den seçilen bir birinci çekirdeklestirici katman (213); Bir birinci kizilötesi yansitici katman (22); NiCr, NiCrOx, Ti, TIOx, ZnAlOx, ZnOx*den seçilen bir birinci bariyer SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen bir üçüncü dielektrik katman (241); SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen bir dördüncü dielektrik katman (242); NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAlOx, ZnOx'den seçilen bir ikinci çekirdeklestirici katman (243); Bir ikinci kizilötesi yansitici katman (25); NiCr, NiCrOx, Ti, TiOx, ZnAIOx, ZnOx”den seçilen bir ikinci bariyer katman (26); ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, ZrOx, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx'den seçilen bir besinci dielektrik katman (271); SiOxNy içeren bir üst dielektrik katman (272) içermesidir. . istem 1ie göre bir lowe kaplamali cam olup özelligi, ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliginin birinci kizilötesi yansitici katman kalinligindan (22) fazla olmasidir. . istem 2'ye göre bir lowe kaplamali cam olup özelligi, ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliginin, birinci kizilötesi yansitici katman (22) kalinligina oraninin 1,0 ile 1,7 arasinda olmasidir. ISTEMLER . Bulus bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx' den seçilen bir birinci dielektrik TiOx, ZrOx, NbOx' den seçilen ikinci dielektrik katman (212); NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnSnOx, ZnOx'den seçilen bir birinci çekirdeklestirici katman (213); Bir birinci kizilötesi yansitici katman (22); NiCr, NiCrOx, Ti, TIOx, ZnAlOx, ZnOx*den seçilen bir birinci bariyer SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen bir üçüncü dielektrik katman (241); SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen bir dördüncü dielektrik katman (242); NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAlOx, ZnOx'den seçilen bir ikinci çekirdeklestirici katman (243); Bir ikinci kizilötesi yansitici katman (25); NiCr, NiCrOx, Ti, TiOx, ZnAIOx, ZnOx”den seçilen bir ikinci bariyer katman (26); ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, ZrOx, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx'den seçilen bir besinci dielektrik katman (271); SiOxNy içeren bir üst dielektrik katman (272) içermesidir. . istem 1ie göre bir lowe kaplamali cam olup özelligi, ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliginin birinci kizilötesi yansitici katman kalinligindan (22) fazla olmasidir. . istem 2'ye göre bir lowe kaplamali cam olup özelligi, ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliginin, birinci kizilötesi yansitici katman (22) kalinligina oraninin 1,0 ile 1,7 arasinda olmasidir. . Istem 1ie göre bir Iowe kaplamali cam clup özelligi, bahsedilen ikinci bariyer katmanin (26) ZnAIOx içermesidir. . Istem 1'e göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, SixNy içeren birinci dielektrik katman (211); TiOx içeren ikinci dielektrik katman (212); ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman (213); Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katman (22); NiCrOx içeren birinci bariyer katman (23); ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katman (241); SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katman (242); ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243); Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman (25); ZnAIOx içeren ikinci bariyer katman (26); ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman (271); SiOxNy içeren üst dielektrik katman (272) içermesidir. . Önceki istemlerden herhangi birine göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy içeren birinci dielektrik katmanin (211) 5 nm - 18 nm kalinlik araliginda; TiOx içeren ikinci dielektrik katmanin (212) 3 nm - 20 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katmanin (213) 3 nm - 25 nm kalinlik araliginda; Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin (22) 6 nm - 20 nm kalinlik araliginda; NiCrOx içeren birinci bariyer katmanin (23) 1,3 nm - 2,5 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katmanin (241) 11 nm - 27 nm kalinlik araliginda; SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katmanin (242) 35 nm - 55 nm kalinlik araliginda; . Istem 1ie göre bir Iowe kaplamali cam clup özelligi, bahsedilen ikinci bariyer katmanin (26) ZnAIOx içermesidir. . Istem 1'e göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, SixNy içeren birinci dielektrik katman (211); TiOx içeren ikinci dielektrik katman (212); ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman (213); Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katman (22); NiCrOx içeren birinci bariyer katman (23); ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katman (241); SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katman (242); ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243); Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman (25); ZnAIOx içeren ikinci bariyer katman (26); ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman (271); SiOxNy içeren üst dielektrik katman (272) içermesidir. . Önceki istemlerden herhangi birine göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy içeren birinci dielektrik katmanin (211) 5 nm - 18 nm kalinlik araliginda; TiOx içeren ikinci dielektrik katmanin (212) 3 nm - 20 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katmanin (213) 3 nm - 25 nm kalinlik araliginda; Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin (22) 6 nm - 20 nm kalinlik araliginda; NiCrOx içeren birinci bariyer katmanin (23) 1,3 nm - 2,5 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katmanin (241) 11 nm - 27 nm kalinlik araliginda; SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katmanin (242) 35 nm - 55 nm kalinlik araliginda; . Istem 1ie göre bir Iowe kaplamali cam clup özelligi, bahsedilen ikinci bariyer katmanin (26) ZnAIOx içermesidir. . Istem 1'e göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, SixNy içeren birinci dielektrik katman (211); TiOx içeren ikinci dielektrik katman (212); ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman (213); Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katman (22); NiCrOx içeren birinci bariyer katman (23); ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katman (241); SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katman (242); ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243); Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman (25); ZnAIOx içeren ikinci bariyer katman (26); ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman (271); SiOxNy içeren üst dielektrik katman (272) içermesidir. . Önceki istemlerden herhangi birine göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy içeren birinci dielektrik katmanin (211) 5 nm - 18 nm kalinlik araliginda; TiOx içeren ikinci dielektrik katmanin (212) 3 nm - 20 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katmanin (213) 3 nm - 25 nm kalinlik araliginda; Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin (22) 6 nm - 20 nm kalinlik araliginda; NiCrOx içeren birinci bariyer katmanin (23) 1,3 nm - 2,5 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katmanin (241) 11 nm - 27 nm kalinlik araliginda; SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katmanin (242) 35 nm - 55 nm kalinlik araliginda; . Istem 1ie göre bir Iowe kaplamali cam clup özelligi, bahsedilen ikinci bariyer katmanin (26) ZnAIOx içermesidir. . Istem 1'e göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, SixNy içeren birinci dielektrik katman (211); TiOx içeren ikinci dielektrik katman (212); ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman (213); Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katman (22); NiCrOx içeren birinci bariyer katman (23); ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katman (241); SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katman (242); ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243); Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman (25); ZnAIOx içeren ikinci bariyer katman (26); ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman (271); SiOxNy içeren üst dielektrik katman (272) içermesidir. . Önceki istemlerden herhangi birine göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy içeren birinci dielektrik katmanin (211) 5 nm - 18 nm kalinlik araliginda; TiOx içeren ikinci dielektrik katmanin (212) 3 nm - 20 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katmanin (213) 3 nm - 25 nm kalinlik araliginda; Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin (22) 6 nm - 20 nm kalinlik araliginda; NiCrOx içeren birinci bariyer katmanin (23) 1,3 nm - 2,5 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katmanin (241) 11 nm - 27 nm kalinlik araliginda; SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katmanin (242) 35 nm - 55 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin (243) 11 nm - 27 nm kalinlik araliginda; Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin (25) 6 nm - 20 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci bariyer katmanin (26) 2,5 nrn - 3,8 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren besinci dielektrik katmanin (271) 11 nm - 28 nm kalinlik araliginda; SiOxNy içeren üst dielektrik katmanin (272) 10 nm - 30 nm kalinlik araliginda olmasidir. . Önceki istemlerden herhangi birine göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy içeren birinci dielektrik katmanin (211) 5 nm - 15 nm kalinlik araliginda; TiOx içeren ikinci dielektrik katmanin (212) 4 nm - 18 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katmanin (213) 4 nm - 23 nm kalinlik araliginda; Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin (22) 7 nm - 19 nm kalinlik araliginda; NiCrOx içeren birinci bariyer katmanin (23) 1,5 nrn - 2,3 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katmanin (241) 15 nm - 20 nm kalinlik araliginda; SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katmanin (242) 40 nm - 52 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin (243) 13 nm - 25 nm kalinlik araliginda; Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin (25) 7 nm - 19 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci bariyer katmanin (26) 2,7 nm - 3,5 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin (243) 11 nm - 27 nm kalinlik araliginda; Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin (25) 6 nm - 20 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci bariyer katmanin (26) 2,5 nrn - 3,8 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren besinci dielektrik katmanin (271) 11 nm - 28 nm kalinlik araliginda; SiOxNy içeren üst dielektrik katmanin (272) 10 nm - 30 nm kalinlik araliginda olmasidir. . Önceki istemlerden herhangi birine göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy içeren birinci dielektrik katmanin (211) 5 nm - 15 nm kalinlik araliginda; TiOx içeren ikinci dielektrik katmanin (212) 4 nm - 18 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katmanin (213) 4 nm - 23 nm kalinlik araliginda; Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin (22) 7 nm - 19 nm kalinlik araliginda; NiCrOx içeren birinci bariyer katmanin (23) 1,5 nrn - 2,3 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katmanin (241) 15 nm - 20 nm kalinlik araliginda; SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katmanin (242) 40 nm - 52 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin (243) 13 nm - 25 nm kalinlik araliginda; Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin (25) 7 nm - 19 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci bariyer katmanin (26) 2,7 nm - 3,5 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin (243) 11 nm - 27 nm kalinlik araliginda; Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin (25) 6 nm - 20 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci bariyer katmanin (26) 2,5 nrn - 3,8 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren besinci dielektrik katmanin (271) 11 nm - 28 nm kalinlik araliginda; SiOxNy içeren üst dielektrik katmanin (272) 10 nm - 30 nm kalinlik araliginda olmasidir. . Önceki istemlerden herhangi birine göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy içeren birinci dielektrik katmanin (211) 5 nm - 15 nm kalinlik araliginda; TiOx içeren ikinci dielektrik katmanin (212) 4 nm - 18 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katmanin (213) 4 nm - 23 nm kalinlik araliginda; Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin (22) 7 nm - 19 nm kalinlik araliginda; NiCrOx içeren birinci bariyer katmanin (23) 1,5 nrn - 2,3 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katmanin (241) 15 nm - 20 nm kalinlik araliginda; SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katmanin (242) 40 nm - 52 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin (243) 13 nm - 25 nm kalinlik araliginda; Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin (25) 7 nm - 19 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci bariyer katmanin (26) 2,7 nm - 3,5 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin (243) 11 nm - 27 nm kalinlik araliginda; Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin (25) 6 nm - 20 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci bariyer katmanin (26) 2,5 nrn - 3,8 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren besinci dielektrik katmanin (271) 11 nm - 28 nm kalinlik araliginda; SiOxNy içeren üst dielektrik katmanin (272) 10 nm - 30 nm kalinlik araliginda olmasidir. . Önceki istemlerden herhangi birine göre bir Iowe kaplamali cam olup özelligi, bahsedilen low-e kaplamanin (20) camdan (10) disari dogru sirasiyla; SixNy içeren birinci dielektrik katmanin (211) 5 nm - 15 nm kalinlik araliginda; TiOx içeren ikinci dielektrik katmanin (212) 4 nm - 18 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katmanin (213) 4 nm - 23 nm kalinlik araliginda; Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmanin (22) 7 nm - 19 nm kalinlik araliginda; NiCrOx içeren birinci bariyer katmanin (23) 1,5 nrn - 2,3 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren bir üçüncü dielektrik katmanin (241) 15 nm - 20 nm kalinlik araliginda; SixNy içeren bir dördüncü dielektrik katmanin (242) 40 nm - 52 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin (243) 13 nm - 25 nm kalinlik araliginda; Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmanin (25) 7 nm - 19 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren ikinci bariyer katmanin (26) 2,7 nm - 3,5 nm kalinlik araliginda; ZnAIOx içeren besinci dielektrik katmanin (271) 13 nm - 25 nm kalinlik araliginda; SiOxNy içeren üst dielektrik katmanin (272) 12 nm - 27 nm kalinlik araliginda olmasidir. ZnAIOx içeren besinci dielektrik katmanin (271) 13 nm - 25 nm kalinlik araliginda; SiOxNy içeren üst dielektrik katmanin (272) 12 nm - 27 nm kalinlik araliginda olmasidir. ZnAIOx içeren besinci dielektrik katmanin (271) 13 nm - 25 nm kalinlik araliginda; SiOxNy içeren üst dielektrik katmanin (272) 12 nm - 27 nm kalinlik araliginda olmasidir. ZnAIOx içeren besinci dielektrik katmanin (271) 13 nm - 25 nm kalinlik araliginda; SiOxNy içeren üst dielektrik katmanin (272) 12 nm - 27 nm kalinlik araliginda olmasidir. TR TR TR 1.CLAIMS. The invention is a low-e coated (20) glass (10) and its feature is; the said low-e coating (20) extending outwards from the glass (10); a first dielectric layer (212) selected from SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx; a second dielectric layer (212) selected from TiOx, ZrOx, NbOx; a first nucleating layer (213) selected from NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnSnOx, ZnOx; A first infrared reflective layer (22); a first barrier selected from NiCr, NiCrOx, Ti, TIOx, ZnAlOx, ZnOx*, a third dielectric layer (241) selected from SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx; a fourth dielectric layer (242) selected from SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx; a second nucleating layer (243) selected from NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAlOx, ZnOx; a second infrared reflective layer (25); a second barrier layer (26) selected from NiCr, NiCrOx, Ti, TiOx, ZnAIOx, ZnOx; a fifth dielectric layer (271) selected from ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, ZrOx, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx; It contains an upper dielectric layer (272) containing SiOxNy. . It is a Lowe coated glass according to claim 1, and its feature is that the thickness of the second infrared reflective layer (25) is greater than the thickness of the first infrared reflective layer (22). . It is a Lowe coated glass according to claim 2, and its feature is that the ratio of the thickness of the second infrared reflective layer (25) to the thickness of the first infrared reflective layer (22) is between 1.0 and 1.7. CLAIMS . The invention is a low-e coated (20) glass (10) and its feature is; the said low-e coating (20) extending outwards from the glass (10); a first dielectric layer (212) selected from SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx; a second dielectric layer (212) selected from TiOx, ZrOx, NbOx; a first nucleating layer (213) selected from NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnSnOx, ZnOx; A first infrared reflective layer (22); a first barrier selected from NiCr, NiCrOx, Ti, TIOx, ZnAlOx, ZnOx*, a third dielectric layer (241) selected from SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx; a fourth dielectric layer (242) selected from SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx; a second nucleating layer (243) selected from NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAlOx, ZnOx; a second infrared reflective layer (25); a second barrier layer (26) selected from NiCr, NiCrOx, Ti, TiOx, ZnAIOx, ZnOx; a fifth dielectric layer (271) selected from ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, ZrOx, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx; It contains an upper dielectric layer (272) containing SiOxNy. . It is a Lowe coated glass according to claim 1, and its feature is that the thickness of the second infrared reflective layer (25) is greater than the thickness of the first infrared reflective layer (22). . It is a Lowe coated glass according to claim 2, and its feature is that the ratio of the thickness of the second infrared reflective layer (25) to the thickness of the first infrared reflective layer (22) is between 1.0 and 1.7. CLAIMS . The invention is a low-e coated (20) glass (10) and its feature is; the said low-e coating (20) extending outwards from the glass (10); a first dielectric layer (212) selected from SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx; a second dielectric layer (212) selected from TiOx, ZrOx, NbOx; a first nucleating layer (213) selected from NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnSnOx, ZnOx; A first infrared reflective layer (22); a first barrier selected from NiCr, NiCrOx, Ti, TIOx, ZnAlOx, ZnOx*, a third dielectric layer (241) selected from SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx; a fourth dielectric layer (242) selected from SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx; a second nucleating layer (243) selected from NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAlOx, ZnOx; a second infrared reflective layer (25); a second barrier layer (26) selected from NiCr, NiCrOx, Ti, TiOx, ZnAIOx, ZnOx; a fifth dielectric layer (271) selected from ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, ZrOx, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx; It contains an upper dielectric layer (272) containing SiOxNy. . It is a Lowe coated glass according to claim 1, and its feature is that the thickness of the second infrared reflective layer (25) is greater than the thickness of the first infrared reflective layer (22). . It is a Lowe coated glass according to claim 2, and its feature is that the ratio of the thickness of the second infrared reflective layer (25) to the thickness of the first infrared reflective layer (22) is between 1.0 and 1.7. CLAIMS . The invention is a low-e coated (20) glass (10) and its feature is; the said low-e coating (20) extending outwards from the glass (10); a first dielectric layer (212) selected from SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx; a second dielectric layer (212) selected from TiOx, ZrOx, NbOx; a first nucleating layer (213) selected from NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnSnOx, ZnOx; A first infrared reflective layer (22); a first barrier selected from NiCr, NiCrOx, Ti, TIOx, ZnAlOx, ZnOx*, a third dielectric layer (241) selected from SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx; a fourth dielectric layer (242) selected from SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx; a second nucleating layer (243) selected from NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAlOx, ZnOx; a second infrared reflective layer (25); a second barrier layer (26) selected from NiCr, NiCrOx, Ti, TiOx, ZnAIOx, ZnOx; a fifth dielectric layer (271) selected from ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, ZrOx, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx; It contains an upper dielectric layer (272) containing SiOxNy. . It is a Lowe coated glass according to claim 1, and its feature is that the thickness of the second infrared reflective layer (25) is greater than the thickness of the first infrared reflective layer (22). . It is a Lowe coated glass according to claim 2, and its feature is that the ratio of the thickness of the second infrared reflective layer (25) to the thickness of the first infrared reflective layer (22) is between 1.0 and 1.7. . The feature of an Iowe coated glass club according to claim 1 is that the said second barrier layer (26) contains ZnAlIOx. . It is an Iowa coated glass according to claim 1, characterized by the first dielectric layer (211) containing SixNy; second dielectric layer (212) containing TiOx; first nucleating layer (213) containing ZnAlIOx; First infrared reflective layer (22) containing Ag; First barrier layer (23) containing NiCrOx; a third dielectric layer 241 containing ZnAlIOx; a fourth dielectric layer 242 comprising SixNy; second nucleating layer (243) containing ZnAlIOx; Second infrared reflective layer (25) containing Ag; second barrier layer (26) containing ZnAlIOx; fifth dielectric layer containing ZnAlIOx (271); It contains an upper dielectric layer (272) containing SiOxNy. . It is an Iowe coated glass according to any of the previous claims, and its feature is that the said low-e coating (20) extends outwards from the glass (10); The thickness of the first dielectric layer (211) containing SixNy is between 5 nm - 18 nm; The thickness of the second dielectric layer (212) containing TiOx is between 3 nm - 20 nm; The thickness of the first nucleating layer (213) containing ZnAIOx is between 3 nm - 25 nm; The thickness of the first infrared reflective layer (22) containing the network is in the range of 6 nm - 20 nm; The thickness of the first barrier layer (23) containing NiCrOx is in the range of 1.3 nm - 2.5 nm; A third dielectric layer (241) containing ZnAlOx has a thickness range of 11 nm - 27 nm; A fourth dielectric layer (242) containing SixNy has a thickness range of 35 nm - 55 nm; . The feature of an Iowe coated glass club according to claim 1 is that the said second barrier layer (26) contains ZnAlIOx. . It is an Iowa coated glass according to claim 1, characterized by the first dielectric layer (211) containing SixNy; second dielectric layer (212) containing TiOx; first nucleating layer (213) containing ZnAlIOx; First infrared reflective layer (22) containing Ag; First barrier layer (23) containing NiCrOx; a third dielectric layer 241 containing ZnAlIOx; a fourth dielectric layer 242 comprising SixNy; second nucleating layer (243) containing ZnAlIOx; Second infrared reflective layer (25) containing Ag; second barrier layer (26) containing ZnAlIOx; fifth dielectric layer containing ZnAlIOx (271); It contains an upper dielectric layer (272) containing SiOxNy. . It is an Iowe coated glass according to any of the previous claims, and its feature is that the said low-e coating (20) extends outwards from the glass (10); The thickness of the first dielectric layer (211) containing SixNy is between 5 nm - 18 nm; The thickness of the second dielectric layer (212) containing TiOx is between 3 nm - 20 nm; The thickness of the first nucleating layer (213) containing ZnAIOx is between 3 nm - 25 nm; The thickness of the first infrared reflective layer (22) containing the network is in the range of 6 nm - 20 nm; The thickness of the first barrier layer (23) containing NiCrOx is in the range of 1.3 nm - 2.5 nm; A third dielectric layer (241) containing ZnAlOx has a thickness range of 11 nm - 27 nm; A fourth dielectric layer (242) containing SixNy has a thickness range of 35 nm - 55 nm; . The feature of an Iowe coated glass club according to claim 1 is that the said second barrier layer (26) contains ZnAlIOx. . It is an Iowa coated glass according to claim 1, characterized by the first dielectric layer (211) containing SixNy; second dielectric layer (212) containing TiOx; first nucleating layer (213) containing ZnAlIOx; First infrared reflective layer (22) containing Ag; First barrier layer (23) containing NiCrOx; a third dielectric layer 241 containing ZnAlIOx; a fourth dielectric layer 242 comprising SixNy; second nucleating layer (243) containing ZnAlIOx; Second infrared reflective layer (25) containing Ag; second barrier layer (26) containing ZnAlIOx; fifth dielectric layer containing ZnAlIOx (271); It contains an upper dielectric layer (272) containing SiOxNy. . It is an Iowe coated glass according to any of the previous claims, and its feature is that the said low-e coating (20) extends outwards from the glass (10); The thickness of the first dielectric layer (211) containing SixNy is between 5 nm - 18 nm; The thickness of the second dielectric layer (212) containing TiOx is between 3 nm - 20 nm; The thickness of the first nucleating layer (213) containing ZnAIOx is between 3 nm - 25 nm; The thickness of the first infrared reflective layer (22) containing the network is in the range of 6 nm - 20 nm; The thickness of the first barrier layer (23) containing NiCrOx is in the range of 1.3 nm - 2.5 nm; A third dielectric layer (241) containing ZnAlOx has a thickness range of 11 nm - 27 nm; A fourth dielectric layer (242) containing SixNy has a thickness range of 35 nm - 55 nm; . The feature of an Iowe coated glass club according to claim 1 is that the said second barrier layer (26) contains ZnAlIOx. . It is an Iowa coated glass according to claim 1, characterized by the first dielectric layer (211) containing SixNy; second dielectric layer (212) containing TiOx; first nucleating layer (213) containing ZnAlIOx; First infrared reflective layer (22) containing Ag; First barrier layer (23) containing NiCrOx; a third dielectric layer 241 containing ZnAlIOx; a fourth dielectric layer 242 comprising SixNy; second nucleating layer (243) containing ZnAlIOx; Second infrared reflective layer (25) containing Ag; second barrier layer (26) containing ZnAlIOx; fifth dielectric layer containing ZnAlIOx (271); It contains an upper dielectric layer (272) containing SiOxNy. . It is an Iowe coated glass according to any of the previous claims, and its feature is that the said low-e coating (20) extends outwards from the glass (10); The thickness of the first dielectric layer (211) containing SixNy is between 5 nm - 18 nm; The thickness of the second dielectric layer (212) containing TiOx is between 3 nm - 20 nm; The thickness of the first nucleating layer (213) containing ZnAIOx is between 3 nm - 25 nm; The thickness of the first infrared reflective layer (22) containing the network is in the range of 6 nm - 20 nm; The thickness of the first barrier layer (23) containing NiCrOx is in the range of 1.3 nm - 2.5 nm; A third dielectric layer (241) containing ZnAlOx has a thickness range of 11 nm - 27 nm; A fourth dielectric layer (242) containing SixNy has a thickness range of 35 nm - 55 nm; The thickness of the second nucleating layer (243) containing ZnAIOx is between 11 nm - 27 nm; The thickness of the second infrared reflective layer (25) containing the network is between 6 nm - 20 nm; The thickness of the second barrier layer (26) containing ZnAIOx is in the range of 2.5 nm - 3.8 nm; The thickness of the fifth dielectric layer (271) containing ZnAIOx is between 11 nm - 28 nm; The upper dielectric layer (272) containing SiOxNy is between 10 nm - 30 nm thick. . It is an Iowe coated glass according to any of the previous claims, and its feature is that the said low-e coating (20) extends outwards from the glass (10); The thickness of the first dielectric layer (211) containing SixNy is between 5 nm - 15 nm; The thickness of the second dielectric layer (212) containing TiOx is between 4 nm - 18 nm; The thickness of the first nucleating layer (213) containing ZnAIOx is between 4 nm - 23 nm; The thickness of the first infrared reflective layer (22) containing the network is between 7 nm - 19 nm; The thickness of the first barrier layer (23) containing NiCrOx is in the range of 1.5 nm - 2.3 nm; A third dielectric layer (241) containing ZnAlOx has a thickness range of 15 nm - 20 nm; A fourth dielectric layer (242) containing SixNy has a thickness range of 40 nm - 52 nm; The thickness of the second nucleating layer (243) containing ZnAIOx is between 13 nm - 25 nm; The thickness of the second infrared reflective layer (25) containing the network is between 7 nm - 19 nm; The thickness of the second barrier layer (26) containing ZnAIOx is between 2.7 nm - 3.5 nm; The thickness of the second nucleating layer (243) containing ZnAIOx is between 11 nm - 27 nm; The thickness of the second infrared reflective layer (25) containing the network is between 6 nm - 20 nm; The thickness of the second barrier layer (26) containing ZnAIOx is in the range of 2.5 nm - 3.8 nm; The thickness of the fifth dielectric layer (271) containing ZnAIOx is between 11 nm - 28 nm; The upper dielectric layer (272) containing SiOxNy is between 10 nm - 30 nm thick. . It is an Iowe coated glass according to any of the previous claims, and its feature is that the said low-e coating (20) extends outwards from the glass (10); The thickness of the first dielectric layer (211) containing SixNy is between 5 nm - 15 nm; The thickness of the second dielectric layer (212) containing TiOx is between 4 nm - 18 nm; The thickness of the first nucleating layer (213) containing ZnAIOx is between 4 nm - 23 nm; The thickness of the first infrared reflective layer (22) containing the network is between 7 nm - 19 nm; The thickness of the first barrier layer (23) containing NiCrOx is in the range of 1.5 nm - 2.3 nm; A third dielectric layer (241) containing ZnAlOx has a thickness range of 15 nm - 20 nm; A fourth dielectric layer (242) containing SixNy has a thickness range of 40 nm - 52 nm; The thickness of the second nucleating layer (243) containing ZnAIOx is between 13 nm - 25 nm; The thickness of the second infrared reflective layer (25) containing the network is between 7 nm - 19 nm; The thickness of the second barrier layer (26) containing ZnAIOx is between 2.7 nm - 3.5 nm; The thickness of the second nucleating layer (243) containing ZnAIOx is between 11 nm - 27 nm; The thickness of the second infrared reflective layer (25) containing the network is between 6 nm - 20 nm; The thickness of the second barrier layer (26) containing ZnAIOx is in the range of 2.5 nm - 3.8 nm; The thickness of the fifth dielectric layer (271) containing ZnAIOx is between 11 nm - 28 nm; The upper dielectric layer (272) containing SiOxNy is between 10 nm - 30 nm thick. . It is an Iowe coated glass according to any of the previous claims, and its feature is that the said low-e coating (20) extends outwards from the glass (10); The thickness of the first dielectric layer (211) containing SixNy is between 5 nm - 15 nm; The thickness of the second dielectric layer (212) containing TiOx is between 4 nm - 18 nm; The thickness of the first nucleating layer (213) containing ZnAIOx is between 4 nm - 23 nm; The thickness of the first infrared reflective layer (22) containing the network is between 7 nm - 19 nm; The thickness of the first barrier layer (23) containing NiCrOx is in the range of 1.5 nm - 2.3 nm; A third dielectric layer (241) containing ZnAlOx has a thickness range of 15 nm - 20 nm; A fourth dielectric layer (242) containing SixNy has a thickness range of 40 nm - 52 nm; The thickness of the second nucleating layer (243) containing ZnAIOx is between 13 nm - 25 nm; The thickness of the second infrared reflective layer (25) containing the network is between 7 nm - 19 nm; The thickness of the second barrier layer (26) containing ZnAIOx is between 2.7 nm - 3.5 nm; The thickness of the second nucleating layer (243) containing ZnAIOx is between 11 nm - 27 nm; The thickness of the second infrared reflective layer (25) containing the network is between 6 nm - 20 nm; The thickness of the second barrier layer (26) containing ZnAIOx is in the range of 2.5 nm - 3.8 nm; The thickness of the fifth dielectric layer (271) containing ZnAIOx is between 11 nm - 28 nm; The upper dielectric layer (272) containing SiOxNy is between 10 nm - 30 nm thick. . It is an Iowe coated glass according to any of the previous claims, and its feature is that the said low-e coating (20) extends outwards from the glass (10); The thickness of the first dielectric layer (211) containing SixNy is between 5 nm - 15 nm; The thickness of the second dielectric layer (212) containing TiOx is between 4 nm - 18 nm; The thickness of the first nucleating layer (213) containing ZnAIOx is between 4 nm - 23 nm; The thickness of the first infrared reflective layer (22) containing the network is between 7 nm - 19 nm; The thickness of the first barrier layer (23) containing NiCrOx is in the range of 1.5 nm - 2.3 nm; A third dielectric layer (241) containing ZnAlOx has a thickness range of 15 nm - 20 nm; A fourth dielectric layer (242) containing SixNy has a thickness range of 40 nm - 52 nm; The thickness of the second nucleating layer (243) containing ZnAIOx is between 13 nm - 25 nm; The thickness of the second infrared reflective layer (25) containing the network is between 7 nm - 19 nm; The thickness of the second barrier layer (26) containing ZnAIOx is between 2.7 nm - 3.5 nm; The thickness of the fifth dielectric layer (271) containing ZnAIOx is between 13 nm - 25 nm; The upper dielectric layer (272) containing SiOxNy is in the thickness range of 12 nm - 27 nm. The thickness of the fifth dielectric layer (271) containing ZnAIOx is between 13 nm - 25 nm; The upper dielectric layer (272) containing SiOxNy is in the thickness range of 12 nm - 27 nm. The thickness of the fifth dielectric layer (271) containing ZnAIOx is between 13 nm - 25 nm; The upper dielectric layer (272) containing SiOxNy is in the thickness range of 12 nm - 27 nm. The thickness of the fifth dielectric layer (271) containing ZnAIOx is between 13 nm - 25 nm; The upper dielectric layer (272) containing SiOxNy is in the thickness range of 12 nm - 27 nm.TR TR TR