Claims (9)
1. วิธีเคลือบผิวซับสเตรทเคลื่อนที่เพื่อให้ได้ผิวเคลือบซึ่งมีสารผสมเคมีแปรผันไปอย่าง ต่อเนื่องขณะที่มีระยะทางจากซับสเตรทนี้เพิ่มขึ้น, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นต่าง ๆ ดังนี้ การนำไอสารผสมของผิวเคลือบสัมผัสไปบนพื้นผิวของซับสเตรทนี้ที่ตำแหน่งที่หนึ่ง หลังจากนี้ทำให้ไอสารผสมของผิวเคลือบส่วนที่หนึ่งเคลื่อนที่ไปตามบริเวณที่หนึ่งของพื้นผิวของ ซับสเตรทนี้ในทิศทางที่หนึ่งและทำให้ไอสารผสมของผิวเคลือบส่วนที่สองเคลื่อนที่ไปตามบริเวณ ที่สองของพื้นผิวของซับสเตรทในทิศทางที่สองซึ่งตรงข้ามกับทิศทางที่หนึ่ง และ รักษาส่วนที่หนึ่งของสารผสมของผิวเคลือบบนบริเวณที่หนึ่งของพื้นผิวของซับสเตรทนี้ไว้เป็น ระยะเวลานานกว่าส่วนที่สองของไอสารผสมของผิวเคลือบบนบริเวณที่สองของพื้นผิวของ ซับสเตรทนี้เพื่อเคลือบผิวซับสเตรทนี้ด้วยผิวเคลือบซึ่งมีสารผสมเคมีแปรผันไปอย่างต่อเนื่องขณะ ที่มีระยะทางจากซับสเตรทนี้เพิ่มขึ้น 2. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งไอสารผสมของผิวเคลือบนี้มีพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วย อย่างน้อย 2 ชนิด 3. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งซับสเตรทคือซับสเตรทแก้วและทิศทางที่หนึ่งที่กล่าวแล้ว คือทิศทางที่ขนานกับทิศทางซึ่งซับสเตรทนี้กำลังเคลื่อนที่ไปเป็นส่วนใหญ่ 4. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งหนึ่งในพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วย มีโลหะหนึ่งที่เลือก จากกลุ่มที่ประกอบด้วย ดีบุก, ไทเทเนียม, ทังสเตน และพลวง 5. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งประกอบไปด้วยการทำขั้นตอนการนำสัมผัสที่กล่าวแล้วที่ ตำแหน่งที่สองห่างจากและอยู่บนด้านหนึ่งของตำแหน่งที่หนึ่งนี้และตำแหน่งที่สามที่ห่างจากตำแหน่ง ที่หนึ่งและที่สองนี้ในลักษณะที่ตำแหน่งที่สองนี้อยู่ระหว่างตำแหน่งที่หนึ่งและที่สามรวมเข้าไว้ด้วย ต่อไปอีก 6. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งเคลือบผิวซับสเตรทนี้ในห้องซึ่งมีบรรยากาศที่ไม่ออกซิไดส์ และมีการให้ม่านของแก๊สเฉื่อยรวมไว้ด้วยต่อไปอีกเพื่อป้องกันบรรยากาศที่ไม่ออกซิไดส์นี้ไม่ให้ เคลื่อนที่ไปสู่ตำแหน่งนั้น ๆ โดยที่ม่านของแก๊สเฉื่อยและตำแหน่งที่อยู่ระหว่างกันนี้กำหนดขอบเขต ของบริเวณการเคลือบผิว 7. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 6 ซึ่งห้องที่กล่าวแล้วมีอ่างของโลหะหลอมเหลวที่ออกซิไดซ์ได้ อยู่ด้วยและซับสเตรทนี้คือริบบิ้นแก้วที่รองรับโลหะหลอมเหลวและเลื่อนผ่านไปทางห้องตาม ตำแหน่งของการเคลือบผิว 8. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งปฏิบัติขั้นการรักษาที่กล่าวแล้วให้สำเร็จโดยให้เครื่องมือ ดูดออกหมดบนด้านแต่ละด้านของตำแหน่งที่หนึ่งที่กล่าวแล้ว ซึ่งเครื่องมือดูดออกหมด 1 ครื่อง อยู่ห่างจากตำแหน่งที่หนึ่ง เป็นระยะทาง "X" และเครื่องมือดูดออกหมดอีกเครื่องหนึ่งอยู่ห่าง จากตำแหน่งที่หนึ่งที่กล่าวแล้วเป็นระยะทาง "y" และนอกจากนี้อัตราส่วนของ x/y มากกว่า 1 9. วิธีตามที่บรรยายไว้ในข้อถือสิทธิข้อ1 ซึ่งซับสเตรทเป็นซับสเตรทแก้วและสารผสม ของผิวเคลือบนี้มีพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยอย่างน้อย 1 ชนิด ซึ่งมีพันธะของซิลิคอนกับ ออกซิเจนอยู่ด้วยอย่างน้อย 1 พันธะ 1 0. วิธีตามที่บรรยายไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 9 ซึ่งขั้นการนำสัมผัสที่กล่าวแล้วประกอบด้วย การผสมพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยนี้ให้เข้ากับสารเร่งเพื่อเพิ่มอัตราของการตกสะสมของ ผิวเคลือบของซิลิคอนออกไซด์ในซับสเตรทแก้ว 1 1. วิธีที่บรรยายไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งไอสารผสมของผิวเคลือบนี้มีพรีเคอร์เซอร์ ที่มีโลหะอยู่ด้วยอย่างน้อย 1 ชนิดและพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยอย่างน้อย 1 ชนิด 1 2. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่งพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วย 1 ชนิดนี้มีดีบุกอยู่ด้วย 1 3. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วยการปฏิบัติขั้นการนำสัมผัสที่กล่าว แล้วที่ตำแหน่งที่สองซึ่งห่างจากตำแหน่งที่หนึ่ง 1 4. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วยขั้นของการระบายไอออกไปหมด จากทั้งสองด้านของตำแหน่งที่หนึ่งและที่สาม 1 5. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 8 ซึ่งมีอัตราส่วนของ x/y เป็นอัตราส่วนมากกว่าประมาณ 1.2 1 6. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 15 ซึ่งมีอัตราส่วนของ x/y เป็นอัตราส่วนจากประมาณ 1.2 ถึงประมาณ 50 1 7. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ16 ซึ่งมีอัตราส่วนของ x/y เป็นอัตราส่วนจากประมาณ 1.5 ถึง 30 1 8. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 5 นี้ ซึ่งซับสเตรทเป็นริบบิ้นแก้วซึ่งถูกเคลือบผิวในห้อง ซึ่งมีบรรยากาศที่รีดิวซ์และถูกรองรับไว้บนบ่อโลหะหลอมเหลวที่ออกซิไดส์ได้ 1 9. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งซับสเตรทนี้เป็นริบบิ้นแก้ว และประกอบรวมต่อไปด้วย ขั้นของการตกสะสมชั้นโลหะออกไซด์เดี่ยวบนผิวเคลือบซึ่งมีสารผสมเคมีที่แปรผันไปอย่างต่อ เนื่อง 2 0. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 19 ซึ่งชั้นโลหะออกไซด์เดี่ยวในนี้คือดีบุก ออกไซด์ และ ผิวเคลือบนี้มีสารผสมเคมีที่แปรผันไปอย่างต่อเนื่องนี้ประกอบรวมด้วยดีบุกออกไซด์และซิลิคอน ออกไซด์ 2 1. ซับสเตรทโปร่งใส ซึ่งมีผิวเคลือบชนิดอสัณฐานอยู่บนซับสเตรทนี้ซึ่งประกอบด้วย โลหะออกไซด์ผสม 1 ชนิดหรือมากกว่านี้และมีธาตุอยู่ด้วยจนถึง 15 เปอร์เซ็นต์อะตอมที่ กระจายตัวอยู่โดยตลอด ซึ่งเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยฟอสฟอรัส, อะลูมิเนียม และโบรอน ซึ่งตัวโลหะออกไซด์ผสมในนี้ไม่มีฟอสฟอรัส, อะลูมิเนียม และโบรอน รวมอยู่ด้วย 2 2. ซับสเตรทโปร่งใสซึ่งมีผิวเคลือบชนิดอสัณฐานอยู่บนซับสเตรทนี้ ซึ่งประกอบด้วย โลหะออกไซด์ผสมพร้อมกับมีบริเวณต่าง ๆ ในผิวเคลือบที่มีโลหะออกไซด์อยู่ในอัตราส่วนที่แปรผัน ไปอย่างต่อเนื่องโดยที่ไม่มีชั้นของโลหะออกไซด์ที่มีอัตราส่วนตายตัวโดยส่วนใหญ่อยู่ด้วยและมี ธาตุจนถึง 15 เปอร์เซ็นต์อะตอมกระจายตัวอยู่โดยตลอด ซึ่งเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ฟอสฟอรัส, อะลูมิเนียม และโบรอน 2 3. ซับสเตรทของข้อถือสิทธิที่ 22 ซึ่งซับสเตรทคือแก้วโลหะออกไซด์ผสมคือซิลิคอน ออกไซด์ และดีบุกออกไซด์ โดยมีซิลิคอนออกไซด์ 70-100% โดยน้ำหนักที่ส่วนเชื่อมต่อของแก้ว กับผิวเคลือบและมีดีบุกออกไซด์นี้ 70-100% โดยน้ำหนักที่พื้นผิวของผิวเคลือบตรงข้ามและธาตุ ที่อยู่โดยตลอดคือฟอสฟอรัส 2 4. สิ่งของตามข้อถือสิทธิข้อ 23 ซึ่งมีฟอสฟอรัส 1 ถึง 12 เปอร์เซ็นต์อะตอมกระจาย ตัวอยู่ในผิวเคลือบนี้ 2 5. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ซึ่งเลือกโลหะออกไซด์ที่กล่าวแล้วจากกลุ่ม ที่ประกอบด้วยออกไซด์ของซิลิคอน, ดีบุก, ไทเทเนียม, ทังสเตน, พลวง และสารผสมของ ออกไซด์เหล่านี้ 2 6. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งธาตุที่กระจายตัวอยู่โดยตลอดผิวเคลือบ นี้คือฟอสฟอรัส 2 7. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งธาตุนี้คือ อะลูมิเนียม 2 8. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งธาตุนี้คือ โบรอน 2 9. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งเลือกโลหะออกไซด์นี้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วยออกไซด์ของซิลิคอน, ดีบุก และสารผสมของออกไซด์เหล่านี้ 3 0. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งธาตุที่กระจายตัวตลอดผิวเคลือบในนี้ คือ ฟอสฟอรัส 3 1. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งธาตุในนี้คือ อะลูมิเนียม 3 2. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งธาตุในนี้คือ โบรอน 3 3. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 22 ซึ่งเลือกโลหะออกไซด์ผสมในนี้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยออกไซด์ของซิลิคอน, ดีบุก, ไทเทเนียม, ทังสเตนและพลวง 3 4. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 33 ซึ่งโลหะออกไซด์ผสมในนี้คือออกไซด์ของ ซิลิคอน และดีบุก 3 5. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 34 ซึ่งธาตุที่กระจายตัวอยู่ตลอดผิวเคลือบนี้ คือฟอสฟอรัส 3 6. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 34 ซึ่งธาตุในนี้คือ อะลูมิเนียม 3 7. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 34 ซึ่งธาตุในนี้คือ โบรอน 3 8. เครื่องมือเคลือบผิว ซึ่งประกอบรวมด้วยเครื่องมือสำหรับการนำไอสัมผัสที่พื้น ผิวแก้ว; เครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งซึ่งอยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอสัมผัสที่กล่าวแล้วบนด้านหนึ่ง ของเครื่องมือนี้, เครื่องมือดูดออกหมดที่สองซึ่งอยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอสัมผัสที่กล่าวแล้ว บนอีกด้านหนึ่งของเครื่องมือนี้และอยู่ในแนวทางเดียวกันกับเครื่องมือนำไอสัมผัสที่กล่าวแล้ว และเครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งที่กล่าวแล้วและเครื่องมือสำหรับวางตำแหน่งเครื่องมือดูดออก หมดเครื่องที่หนึ่งและที่สองและเครื่องมือการนำสัมผัสที่กล่าวแล้วซึ่งสัมพัทธ์ซึ่งกันในลักษณะที่ นิยามระยะทางระหว่างเครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งที่กล่าวแล้วและเครื่องมือนำไอตรงไปที่ กล่าวแล้วเป็น "x" และนิยามระยะทางระหว่างเครื่องมือดูดออกหมดที่สองและเครื่องมือนำ ไอตรงไปที่กล่าวแล้วเป็น "y" ซึ่งค่าของ "x" และ "Y" ในนี้เป็นค่าที่แตกต่างกัน 3 9. เครื่องมือเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 38 ซึ่งอัตราส่วนของ x/y ในนี้อยู่ในช่วง ประมาณ 1.2 ถึงประมาณ 50 4 0. เครื่องมือเคลือบผิวซึ่งประกอบรวมด้วย เครื่องมือซึ่งรวมทั้งหัวฉีดสำหรับการนำไอ ตรงไปที่ซับสเตรทซึ่งหัวฉีดในนี้มีช่องเปิด 1 ช่อง เครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งซึ่งมีช่องเปิด 1 ช่อง ที่อยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วบนอีกด้านหนึ่งของเครื่องมือนี้ เครื่องมือ ดูดออกหมดที่สองซึ่งมีช่องเปิด 1 ช่องที่อยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วบนอีก ด้านหนึ่งของเครื่องมือนี้ และอยู่ในแนวทางเดียวกันกับเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วและ เครื่องมือสำหรับวางตำแหน่งเครื่องมือดูดออกหมดเครื่องที่หนึ่งและที่สองที่กล่าวมาแล้ว และ เครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วสัมพัทธ์กับพื้นผิวของซับสเตรทในลักษณะที่พิ้นผิวของช่องเปิด ที่กล่าวแล้วของเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วและช่องเปิดที่กล่าวแล้วของเครื่องมือดูดออก หมดที่หนึ่งที่กล่าวแล้วอยู่ที่ระยะทางห่างกัน แตกต่างจากระยะทางห่างกันระหว่างช่องเปิดของ เครื่องมือดูดออกหมดที่สองที่กล่าวแล้วและซับสเตรทนี้ 4 1. เครื่องมือเคลือบผิวซึ่งประกอบรวมด้วยเครื่องมือสำหรับการนำไอตรงไปที่ซับสเตรท เครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งซึ่งอยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วบนด้านหนึ่งของ เครื่องมือนี้, เครื่องมือดูดออกหมดที่สองซึ่งอยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วบน อีกด้านหนึ่งของเครื่องมือนี้และอยู่ในแนวทางเดียวกันกับเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วและ เครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งที่กล่าวแล้ว และเครื่องมือสำหรับควบคุมความจุปริมาตรการไหลของ เครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วและเครื่องมือการดูดออกหมดเครื่องที่หนึ่งและที่สองใน ลักษณะที่ให้ความจุปริมาตรการไหลของเครื่องมือนำไอตรงที่กล่าวแล้วแตกต่างจากความจุ ปริมาตรการไหลของเครื่องมือดูดออกหมดที่กล่าวแล้วอย่างน้อย 1 เครื่อง 4 2. สารผสมของผิวเคลือบสำหรับการตกสะสมไอผิวเคลือบบนซับสเตรท ซึ่งผิวเคลือบ นี้รวมทั้งชั้นของออกไซด์ผสมของซิลิคอนและโลหะซึ่งมีอัตราส่วนต่อกันและกันที่กำหนดไว้ล่วงหน้า สารผสมของผิวเคลือบที่ประกอบรวมด้วยพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วย ซึ่งสามารถถูกเปลี่ยน ไปเป็นซิลิคอนออกไซด์ และพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วย ซึ่งสามารถถูกเปลี่ยนไปเป็นโลหะ ออกไซด์ ซึ่งมีอัตราส่วนโมลของพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วยต่อพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วย อยู่ภายในช่อง 0.001 ถึง 50,000 และนิยามพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยนี้โดยสูตรโครง สร้างดังนี้ (สูตรเคมี) ซึ่ง R1 เป็นหมู่ซึ่งไม่มีออกซิเจนที่ใช้ประกอบพันธะ เปอร์ออกไซด์, R2 เป็นหมู่ฟังก์ชันซึ่งให้ พรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยนี้มีความสามารถถูกเปลี่ยนไปเป็นผิวเคลื่อบชนิดซิลิคอนออกไซด์ ได้ง่าย, R3 เป็นหมู่เชื่อมประสานเพื่อทำให้เป็นโมเลกุลที่มี ซิลิคอนหลายอะตอม และ R4 เป็นหมู่ที่ทำให้โครงสร้างมีพันธะครบสมบูรณ์ ซึ่ง R1 ในนี้เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยแอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 10 อะตอม แอลคีนิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม, แอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม และแอริลหรือ แอแรลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอลแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 6 ถึง 11 อะตอม, R2 ประกอบด้วย ไฮโดรเจน, เฮโลเจน, แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมี คาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม, (สูตร) - เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล และอนุพันธ์ชนิดซับสทิทิวเทด ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม และแอลไคนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม ซึ่ง R3 ประกอบด้วย -S-; (สูตรเคมี) ซึ่ง R5 ในนี้เป็นแอลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม (สูตรเคมี) ซึ่ง R5 ในนี้เป็นไปตามที่นิยามข้างบนนี้ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็น 1 ถึง 10 และ R4 เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยแอลคิล, หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน จาก 1 ถึง 10 อะตอม แอลคีนิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม, แอลไคนิลหรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 2 ถึง 10 อะตอม และแอริล หรือ แอแรลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอริล หรือแอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน จาก 6 ถึง 11 อะตอม 4 3. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งในส่วนที่เป็น R1 นี้ แอลคิลหรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัลนี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม แอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัลนี้มีคาร์บอนจาก 2 ถึง 4 อะตอม, แอลไคนล์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัลนี้มีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม และแอริล หรือแอแรลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัลนี้มีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม 4 4. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 43 ซึ่งในส่วนที่เป็น R1 นี้ แอลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH3, -CH2CH2CH3, -CH2CH2-OH, -CCL3, -CH2CHCLCH3 หรือ -CH2CCL2CCL3 ; แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้ ประกอบรวมด้วย -CH=CHCH3 หรือ -CH=CH แอลไคนล์ หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C=C-CH3 หรือ -C=CH; และ แอริล หรือแอแรลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C6H5 หรือ -C6H4CH3 4 5.สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R2 นี้ เฮโลเจน นี้เป็น คลอรีน; แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม, (สูตร)-เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือเปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล และอนุพันธ์ชนิดซับ- สทิทิวเทด นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม และแอลไคนิลหรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม 4 6. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 45 ซึ่งในส่วนที่เป็น R2 นี้ แอลคีนิลหรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH=CHCH3 หรือ -CH-CH3 ; (สูตร) - เฮโล จิเนเทด แอลคิล หรือ เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล และอนุพันธ์ชนิดซับสทิทิวเทด นี้ ประกอบรวมด้วย CCL3, -CH2CHCLCH3 หรือ -CH2CCL2CCL3 และแอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย C-C-C3 หรือ -CCC=CH2 4 7. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 นี้ ซึ่ง R5 ในนี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม, n เป็น 1 ถึง 4 คาร์บอนอะตอม 4 8. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 47 นี้ ซึ่งเลือก R5 ในนี้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วย -CH2CH3 หรือ -CH2CH2CH3 และหมู่ผสมที่เข้ากันได้ชนิดไม่ทำปฏิกิริยากันของหมู่เหล่านี้ 4 9. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคิลหรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม; แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอนจาก 2 ถึง 4 อะตอม; แอลไคนล์ หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม และแอริล หรือแอแรลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม 5 0. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 49 ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH3, -CH2CH2CH3, -CH2-CH2-CH, -CCL3, -CH2CHCLCH3 และ -CH2CCL2CCL3 ; แอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH=CHCH3 และ -CH=CH3 แอลไคนล์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C=C-CH3 และ -C=CH และ แอริล หรือ แอแรลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C6H5 และ -C6H4CH3 5 1. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งเลือก R4 ในนี้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วยไฮโดรเจน, เฮโลเจน, (สูตร)-เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล และอนุพันธ์ชนิดซับสทิทิวเทด ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 10 อะตอม 5 2. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 51 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้มีเฮโลเจนเป็นคลอรีน, แอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม, (สูตร)-เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือเปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล หรืออนุพันธ์ชนิด ซับสทิทิวเทด นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม และแอลไคนิลหรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม 5 3. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 52 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH=CHCH3 หรือ -CHCH3, (สูตร) - เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือเปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล หรืออนุพันธ์ชนิดซับสทิทิวเทด นี้ประกอบรวมด้วย -CCL3, -CH2CHCLCH3 และ -CH2CCL2CCL3 และแอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย C-C-CH3 และ -CCC=CH2 5 4. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 นี้ ซึ่ง R4 ในนี้ เลือกต่อไปอีกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วย แอลคอกไซด์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม , -CN, -OCN และฟอสฟีน, แอลคิลฟอสฟีนและไดแอลคิลฟอสฟีน ซึ่ง แอลคิล แรดิคัล ในนี้มีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม 5 5. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 54 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคอกไซด์ หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล นี้มีคาร์บอนจาก 1 ถึง 4 อะตอม และแอลคิล แรดิคัล นี้มี คาร์บอน1 ถึง 4 อะตอม 5 6. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 55 นี้ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคอกไซด์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -OCH2CH3, แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH2CH3 และฟอสฟีน, แอลคิลฟอสฟีน และไดแอลคิลฟอสฟีน นี้ประกอบรวมด้วย -PH2, CH3PH, -PHCH3 และ -P(CH2CH3)2 5 7. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 นี้ ซึ่งสารประกอบต่างๆ นี้เลือกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วยเททระเมธิลไซโคลเททระไซลอกเซน, เททระเมธิลไดไซลอกเซน และ ไทรเอธอกซิไซเลน 5 8. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งรวมทั้งต่อไปด้วยสารเร่งเพื่อเพิ่ม อัตราการตกสะสมของซิลิคอนออกไซด์ ,สารเร่งนี้เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยสารประกอบ ของไนโตรเจน, ฟอสฟอรัส, โบรอน และกำมะถันและสารผสมของสารประกอบนี้ที่ใช้งานร่วมกัน ได้ชนิดไม่ว่องไวปฏิกิริยาซึ่งมีสูตรโครงสร้างดังนี้ (a) (สูตรเคมี) (b) (สูตรเคมี) (c) R10=S=R11, (d) (สูตรเคมี), และ (e) (สูตรเคมี) ซึ่ง Y ในนี้เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยไนโตรเจน, โบรอน, และฟอสฟอรัส และซึ่ง R10, R11, R12, R13 และ R14 ในนี้เลือกจากหมู่ฟังก์ชันดังต่อไปนี้ : ไฮโดรเจน, เฮโลเจน, แอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม, เปอร์ เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม, เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม, แอซิลอกซิ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม, แอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม, แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม , แอริล หรือซับสทิทิวเทด แอริล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 6 ถึง 10 อะตอม และแอลคอกไซด์ หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม 5 9. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งรวมทั้งต่อไปด้วยสารเร่ง ซึ่งสารเร่งนี้คือกรด ลิวอิส 6 0. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งรวมทั้งต่อไปด้วยสารเร่ง ซึ่งสารเร่งนี้คือเบส ลิวอิส 6 1. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งรวมทั้งต่อไปด้วยสารเร่ง ซึ่งสารเร่งนี้คือ ไทรเอธิลฟอสไฟท์ 6 2. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 42 นี้ ซึ่งรวมทั้งต่อไปด้วยพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วย ชนิดที่สอง 6 3. ไอสารผสมของผิวเคลือบซึ่งประกอบรวมด้วยพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยชนิดที่ สามารถถูกเปลี่ยนไปเป็นซิลิคอน ออกไซด์ ที่สมนัยกันที่อุณหภูมิประมาณ 750 ํ ฟ ถึงประมาณ 1500 ํ ฟ (400 ํ ซ ถึง 815 ํ ซ) และมีพันธะ (สูตรเคมี) ในสูตรโครงสร้างของพรีเคอร์ เซอร์นี้ และพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วยชนิดที่สามารถถูกเปลี่ยนไปเป็นโลหะออกไซด์ที่สมนัย กันและสารเร่ง, ซึ่งมีพันธะ (สูตรเคมี) นี้เป็น (สูตรเคมี) ซึ่งเลือก R1 จากกลุ่มที่ประกอบด้วย แอลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมี คาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม; เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม, ที่ควรใช้คาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม เช่น -CCl3, -CH2CHClCH3 และ -CH2CCl2CCl3 ; แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม แอลไคนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม และแอริล หรือแอแรลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน จาก 6 ถึง 11 อะตอม และซึ่ง พันธะ (สูตรเคมี) นี้คือ (สูตรเคมี) ซึ่ง R2 นี้เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยไฮโดรเจน, เฮโลเจน, แอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม ; (สูตร)- เฮโลจิเนเทด แอลคิล, เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล และอนุพันธ์ชนิดซับสทิทิวเทด ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 10 อะตอม และแอลไคนิล หรือซับสทิทิวเทด แอไคนิล แรดิคัล ซึ่งมี คาร์บอน 2 ถึง 10 อะตอม 6 4. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ซึ่งเลือกสารประกอบของโลหะที่ กล่าวแล้วจากกลุ่มที่ประกอบด้วยสารประกอบดีบุก, ไทเทเนียม, ทังสเตน, และพลวง และสารผสมของสารประกอบเหล่านี้ 6 5. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 ซึ่งสารประกอบของโลหะที่กล่าว แล้วคือสารประกอบของดีบุก 6 6. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 ซึ่งในส่วนที่เป็น R1 นี้ แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม; เปอร์เฮโลจิเนเทด หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม แอลไคนล์ หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม และแอริลหรือแอแรลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม 6 7. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 66 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R1นี้แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ประกอบรวมด้วย -CH3; -CH2CH2CH3 และ -CH2CH2OH; เปอร์เฮโลจิเนเทด หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CCL3, -CH2CHCLCH3 และ -CH=CH3 ; แอลไคนล์ หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C=C-CH3 และ -C=CH และ แอริล หรือ แอแรลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C6H5 และ -C6H4CH3 6 8. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R2 นี้ แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม ; เฮโลจิเนเทด, เปอร์เฮโลจิเนเทด หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม และ แอลไคนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม 6 9. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 68 ซึ่งในส่วนที่เป็น R2 นี้ เฮโลเจน คือ คลอรีน, แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH=CHCH3 และ -CH=CH3 เฮโลจิเนเทด, เปอร์เฮโลจิเนเทด หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CCl3, -CH2CHClCH3 และ -CH2CCl2CCl3 และแอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย C-C-CH3 และ -C=CH2 7 0. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 ซึ่ง (สูตรเคมี) นี้คือ (สูตรเคมี) ซึ่งเลือก R3 นี้จากกลุ่มที่ประกอบด้วย : -S-; -(สูตรเคมี) ซึ่ง R5 ในนี้เป็นแอลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม (สูตรเคมี); (สูตรเคมี) (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็น 1 ถึง 10 7 1. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 70 ซึ่ง (สูตรเคมี) นี้คือ (สูตรเคมี) ซึ่ง R4 นี้เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย แอลคอกไซด์ หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิรัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน จาก 1 ถึง 10 อะตอม - CN; - ONC, และ ฟอสฟีน, แอลคิล ฟอสฟีน และไดแอลฟอสฟีน, ซึ่งแอลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม 7 2. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 70 นี้ซึ่ง R5 นี้มีคาร์บอนจาก 1 ถึง 4 อะตอม และ n เป็น 1 ถึง 4 7 3. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 72 นี้ ซึ่ง R5 นี้ประกอบรวมด้วย -CH2CH3 และ -CH2CH2CH3 แรดิคัล 7 4. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 71 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคอกไซด์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม ; แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 5 อะตอม และแอลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม 7 5. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 74 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคอกไซด์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -O-CH2CH3, แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH2CH3 และแอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -PH2, CH3PH, -PHCH3 และ -P(CH2CH3)2 7 6. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งสารเร่งนี้คือกรดลิวอิส 7 7. สารผสมของสารเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ซึ่งสารเร่งนี้คือเบส ลิวอิส 7 8. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งสารเร่งนี้คือน้ำ 7 9. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งสารเร่งนี้คือไทรเอธิลฟอสไฟท์ 8 0. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งสารเร่งนี้คือโอโซน 81. How to coat the substrate moving in order to obtain a coating that has a highly variable chemical mixture. This continues as the distance from this substrate increases, which consists of the following steps: conduction of the coating mixture vapor onto the surface of the substrate at the first position. After this, one part of the coating vapor travels along one area of the surface of the This substrate in the first direction and causes the second coating vapor to move along the area. Second of the surface of the substrate in the second direction opposite to the first direction and preserve the part of the substrate mixture on the first area of the substrate surface as Longer period than the second part of the mixture vapor of the coating on the second area of the surface of the This substrate is used to coat the substrate with a coating in which there is a continuously variable chemical compound while 2. Clause 1 Clause 1 in which the mixture vapor of this coating has at least two metal pre-cursors. 3. Claim method. 2, where the substrate is the glass substrate and the first direction mentioned Is the direction that is parallel to the direction in which the substrate is moving most of the time. 4. Method of claim 3, where one of the pre-cursors with metal One metal to choose From a group consisting of tin, titanium, tungsten and antimony 5. Method of claim No. 2, which consists of conducting the aforementioned exposure procedures at The second location away from and on one side of this first position and the third away from this position. This second and second position, in such a way that this second is between the first and third positions, is further incorporated. 6. Method of claim 5, which coat this substrate in an atmosphere room. Non-oxidizing And a curtain of inert gas is further included to prevent this oxidizing atmosphere from Moving to that position, where the curtain of inert gas and the positions between them set their limits Of the coating area 7. Method of claim 6 in which the said chamber contains a basin of oxidized molten metal. There, and this substrate is a glass ribbon that supports the molten metal and slides through the chamber along Location of coating 8. Method of claim 2, where the aforementioned treatment procedure is performed by having the instrument All sucked out on each side of the first position mentioned. One suction tool is "X" from the first position and the other suction tool away. From the first position mentioned, the distance "y" and also the ratio of x / y is greater than 1. 9. Method as described in claim 1. Where the substrate is a glass substrate and a mixture Of this coating contains at least one silicon-containing precursor, which has a silicon bond to At least one bond of oxygen is present 0. The method described in Clause 9, in which the aforementioned conduction phase consists of Mixing this silicon-containing precursor with a catalyst to increase the rate of deposition of the Coating of silicon oxide in a glass substrate 1 1. Method described in Clause 1 where the mixture vapor of this coating has a pre-cursor. Containing at least one metal and at least one silicon-containing pre-cursor 1 2. Method of claim 4 where this 1 metal-containing presenter has tin 1 3 The method of claim 1, which further includes the implementation of the said exposure procedure. Then at the second position, which is far from the first. From both sides of the first and third position 1 5. Clause 8 method which has the ratio of x / y is greater than approximately 1.2 1 6. The claim method 15, which has the ratio of x / y The ratio is from approximately 1.2 to approximately 50 1 7. Clause 16. The ratio of x / y is a ratio of approximately 1.5 to 30 1. 8. Method of claim 5, in which the substrate is a glass ribbon, which is coated in the chamber. This has a reducing atmosphere and is supported on a pond of oxidized molten metal. 1 9. Method of claim 5, in which this substrate is a glass ribbon. And continue to include The stage of deposition of a single metal oxide layer on a coating in which a continuously variable chemical mixture is 2 0. Method of claim 19 where a single metal oxide layer in this is tin oxide and this coating contains a mixture. This continuously variable chemistry consists of tin oxide and silicon oxide. 2 1. Transparent substrate. Which has an amorphous coating on the substrate which consists of One or more mixed metal oxides and containing elements up to 15 percent. Spread throughout It is selected from the phosphorus, aluminum and boron group, which contains no phosphorus, aluminum and boron metal oxides included. Which consists of Metal oxides are mixed with different regions in the coating containing varying ratios of metal oxides. There is no fixed-ratio metal oxide layer mostly present and contains up to 15 percent of the elements atoms. It is selected from the phosphorus, aluminum and boron group. 2. 3. The substrate of claim 22, where the substrate is glass, mixed metal oxides, silicon oxide and tin oxide. With silicon oxide 70-100% by weight at the junction of the glass. With the surface of this coating and containing 70-100% tin oxide by weight at the surface of the opposite coating and the element The constant address is phosphorus 2. 4. The object according to claim 23, which contains 1 to 12 percent phosphorus atoms scattered. 2. 5. Transparent substrate according to claim 21, which selects the aforementioned metal oxide from the group. These oxides contain silicon, tin, titanium, tungsten, antimony and a mixture of these oxides. 2 6. Transparent substrates according to claim 25, where elements dispersed throughout the coating. This is phosphorus 2. 7. Transparent substrate according to claim 25, which is aluminum 2. 8. transparent substrate according to claim 25, which is boron 2. 9. transparent substrate according Clause 25, which selects this metal oxide from the group that comprises 3 0. Transparent substrate according to claim 29, the element distributed throughout the coating is phosphorus 3. 1. Transparent substrate according to claim. Clause 29, where this element is aluminum 3. 2. Transparent substrate according to claim 29, which element is boron 3. 3. Transparent substrate according to claim 22, which selects the mixed metal oxide therein. From that group Contains silicon, tin, titanium, tungsten and antimony oxides. 3. 4. Transparent substrates according to claim 33, where the metal oxides mixed in are silicon and tin oxides. 3. 5. Transparent substrate as per claim. Article 34 The element distributed throughout this coating is phosphorus 3. 6. Transparent substrate according to claim 34, which is aluminum 3. 7. Transparent substrate according to claim 34, where element Here is Boron 3. 8. Coating tools. Which includes tools for condensing the glass surface; The ejection tool is located one away from the vapor ejector mentioned on the one side. Of this tool, the second ejection tool away from the said vapor ejector. On the other side of the tool, and in line with the previously mentioned vaporizer. And the suction tool out of the one mentioned and a tool to position the suction tool. The first and second machines and the aforementioned tactile instruments are relative to each other in such a way that Define the distance between the first exhaust extraction apparatus and the evaporator straight to the It is said "x" and defines the distance between the second extraction tool and the removal tool. The above-mentioned ai is "y" where the values of "x" and "Y" are different. 3. 9. Coating of Clause 38, where the ratio of x / y in here is in The range is approximately 1.2 to approximately 50 4 0. Coating tools, including Tools including vapor conduction nozzles Go straight to the substrate, where the nozzle in here has one opening, one exhaust extraction tool with one opening away from the vapor ejector, on the other side of the suction tool. The second exit, which has one opening away from the vapor ejector, goes as mentioned above. One side of this tool And in the same way as the aforementioned and The aforementioned first and second exhaust extraction apparatus and the aforementioned direct exhaust apparatus relative to the substrate surface in such a way that the surface of the opening. The said opening of the previously mentioned vapor ejector and the said opening of the extraction tool. The one already mentioned is at a distance from each other. Differ from the distance between the openings of The aforementioned second exhaust extraction tool and this substrate 4 1. Coating tool, which includes tools for directing the vapor to the substrate. The ejector is located one away from the ejection tool as mentioned on one side of the This tool, the second ejection tool away from the vapor ejector as mentioned above. The other side of this tool, and is in line with the aforementioned and The suction tool was removed at the one mentioned above. And instruments for controlling the capacity, volume, flow of The aforementioned direct vapor ejector and the first and second exhaust apparatus in The characteristics in which the capacity, volume, flow of the vapor conduction are mentioned are different from the capacity. At least one of the previously mentioned extraction apparatus flow volumes 4 2. Coating mixtures for deposition on the substrate coating. Which surface This includes a mixed oxide layer of silicon and metal, which has a predetermined ratio to each other. Coating mixture consisting of a silicon-based pre-cursor Which can be replaced To silicon oxide And a pre-cursor with metal in it Which can be converted to metal oxides, which has the molar ratio of a metal-containing pre-cursor to a silicon-containing precursor. It is within 0.001 to 50,000 channels and is defined by this silicon-containing precursor by the structural formula (chemical formula) where R1 is an anaerobic group used for bonding. Peroxide, R2 is a function group which gives This silicon-containing precursor can be easily transformed into a silicon oxide-based surface, R3 is a bonding group to form a molecule with Multi-atom silicon and R4 are the groups that complete the bonded structure, which R1 here selects from the alkyl-containing group. Or substrate alkyl radical, which has 1 to 10 carbon atoms, alkyl radical, or substrate alkyl radical, which has carbon from 2 to 10 atoms, L. Kyynyl or substrate alkyl radical, which has carbon from 2 to 10 atoms, and aeryl or aralkyl or substrate aryl or L raykyl. Lradical with carbon from 6 to 11 atoms, R2 contains hydrogen, halogen, alkyl or substrate Alkenyl radical, with carbon from 2 to 10 atoms, (formula). -Helogenated alkyl or perhelogenated alkyl radical and substrate derivatives. Which contains from 1 to 10 carbon atoms and alkenyl or substrate alchinyl which has from 2 to 10 carbon atoms of which R3 contains -S-; (Chemical formula) where R5 here is an alkyl or substrate alkyl radical with carbon from 1 to 10 atoms (chemical formula), where R5 is defined above ( Chemical formula), where n is 1 to 10, and R4 is selected from a group containing alkyl, or substrate alkyl radical, with carbon from 1 to 10 atoms. Teeted Alkenyl Radical, which has carbon from 2 to 10 atoms, Alkynyl or Substituted Alkenyl Radical, which has 2 to 10 Carbon atoms, and Aryl or A. RALKILL or SUBSTITUTED ARYL or ARRKLE RADICAL, which contains carbon from 6 to 11 atoms 4 3. The coating mixture of Clause 42, in which part is This R1 alkyl or substrate. This alkyl radical has 1 to 4 carbon atoms. This alkyl radical or substrate. This alkyl radical has a carbon of 2. Up to 4 atoms, alkyl or substrate, this radical contains 2 to 4 carbon atoms and aeryl or aralkyl or substrate aerated. This alkyl or aralkyl radical contains 6 to 9 carbon atoms. 4. 4. Mixture of claim 43, in which R1 is alkyl or substrate alkyl. Radical This includes -CH3, -CH2CH2CH3, -CH2CH2-OH, -CCL3, -CH2CHCLCH3, or -CH2CCL2CCL3; Alkenyl or substrate Alkenyl radical includes -CH = CHCH3 or -CH = CH Alkenyl or substrate alkyl radical. This calculus includes -C = C-CH3 or -C = CH; And aeryl or aeryl or substitutated aeryl or aryl radical contains -C6H5 or -C6H4CH3 4 5. Mixture of coating of claim. Article 42, in which this is R2, this halogen is chlorine; Alkynyl, or substrate, this alkyl radical has 2 to 4 carbon atoms, (formula) - halogened alkyl or perhelogenated alkyl. This radical and substitutated derivative has 1 to 4 carbon atoms, and an alkyline or substrate. Alkynyl radical contains 6 to 9 carbon atoms. 4 6. The mixture of coatings of Clause 45, in which R2, this alkylenyl or substrate, alkyl radical, consists of -CH = CHCH3 or -CH-CH3; (Formula) - haloginated alkyl or perhelogenated alkyl radical and its substrate derivatives is comprised of CCL3, -CH2CHCLCH3 or -CH2CCL2CCL3 and L. This chinyl, or substrate, alkyl radical, contains CC-C3 or -CCC = CH2 4 7.Coating mixture of this Clause 42, which R5 contains carbon 1. To 4 atoms, n to 1 to 4 carbon atoms 4. 8. The coating mixture of Clause 47, which R5 here is selected from the group consisting of -CH2CH3 or -CH2CH2CH3 and non-compatible mixtures. React to these groups: 4 9. The coating mixture of Clause 42, in which this part is R4, this alkyl or substrate alkyl radical contains carbon 1. Up to 4 atoms; Alkynyl or substrate This alkyl radical contains from 2 to 4 carbon atoms; Alkyne or Substitutated Alkyne Radical contains 2 to 4 carbon atoms and aeryl or aerakyl or substitutated aeryl or aerae. This alkyl radical contains 6 to 9 carbon atoms 5 0. Coating mixture of Clause 49, in which R4 is alkyl or substrate alkyl ray. This digital includes -CH3, -CH2CH2CH3, -CH2-CH2-CH, -CCL3, -CH2CHCLCH3 and -CH2CCL2CCL3; Alkenyl or substrate Alkenyl radical consists of -CH = CHCH3 and -CH = CH3. Alkenyl or substrate alkyl radical. This calculus includes -C = C-CH3 and -C = CH, and the aryl or aralkyl or substitutated aeryl or aeryl radical includes- C6H5 and -C6H4CH3 5 1. Coating Mixture of Clause 42, which R4 is selected here from the group that consists of With hydrogen, halogens, (formula) - halogensated alkyl or perhelogenated alkyl radical and substrate derivatives. 5 2. Mixture of claim 51, in this part R4, contains chlorine, alkylenyl or substrate alkyl radical. This has 2 to 4 carbon atoms, (formula) - halogened alkyl or perhelogenated alkyl radical or substrate derivative, this has 1 to 4 carbon. Atoms and alkylines, or substrate, alkynyl radical, 6 to 9 carbon atoms 5 3. The coating mixture of this Clause 52, in which R4 is a This alkynyl or substrate alkyl radical consists of -CH = CHCH3 or -CHCH3, (formula) -helogenated alkyl or perhelogenated a. Alkyl radical or substrate derivative This includes -CCL3, -CH2CHCLCH3 and -CH2CCL2CCL3, and an alkyline or substrate. This alkyl radical contains CC-CH3 and -CCC = CH2 5. 4. Skin Mixture. The coating of this Clause 42, which R4 herein chooses further from The group consists of alkoxides or substrate alcoxides with carbon from 1 to 10 atoms, -CN, -OCN and phosphine, alkylphosphine, and The alkyl radical contains carbon from 1 to 10 atoms 5 5. The coating mixture of this Clause 54, in which R4 is the alkyl. Alkyl radical contains 1 to 4 carbon atoms, and this alkyl radical contains 1 to 4 carbon atoms. 5 6. Mixture of articular coatings. Clause 55 is hereby incorporated as part of R4. This alkoxide or substrate aloxide radical consists of -OCH2CH3, alkyl or substrate. This alkyl radical contains -CH2CH3 and phosphine, alkylphosphine and dialkylphosphine. This includes -PH2, CH3PH, -PHCH3 and -P (CH2CH3) 2 5 7. Coating mixtures of Clause 42, which these compounds are selected from the tetramethylcycloid group. Tetra Siloxane, Tetramethyl Dysyloxane and Triethoxyloxane 5 8. Mixture of surface coatings of Clause 42, which are further included with accelerators to increase Silicon oxide deposition rate , This accelerator is selected from a group containing compounds of nitrogen, phosphorus, boron and sulfur, and their active ingredients. The inactive type of reaction has the following structural formulas: (a) (chemical formula) (b) (chemical formula) (c) R10 = S = R11, (d) (chemical formula), and (e) (chemical formula), which Y in this is chosen. From the nitrogen, boron, and phosphorus group, and where R10, R11, R12, R13 and R14 are selected from the following group of functions: hydrogen, halogen, alkyl, or substrate L. Kenyl radical with carbon from 2 to 10 atoms, perhelogenated alkyl or substrate alkyl radical with carbon from 1 to 10 atoms, halogine Ted alkyl or substrate alkyl radical with carbon from 1 to 10 atoms, acetylsyradic with carbon from 1 to 10 atoms, alkyl radical or Substitutated alkyl radical, which has carbon from 2 to 10 atoms, alkyl or substrate alkyl radical, which has carbon from 1 to 10 atoms, A Rhyl or substrate aeryl radical, which contains 6 to 10 carbon atoms and alkoxides. Or substitutated alkoxide radical, containing carbon from 1 to 10 atoms 5 9. Mixture of claim 42, which includes further accelerator The accelerator is Lewis acid 6 0. Mixture of claim 42, which is further included with the accelerator. The accelerator is Lewis base 6. 1. Mixture of claim 42, which is further included with the accelerator. Which this accelerator is Triethyl phosphite 6 2. Mixture of this Clause 42, which further includes a second metal-containing pre-cursor. 6 3. A coating mixture consisting of: A silicon-based pre-cursor that It can be converted to corresponding silicon oxide at approximately 750 ํ to about 1500 ํ (400 ํ to 815 ํ), and there is a bond (chemical formula) in the structural formula of this preserter and pre A cursor containing a type of metal that can be converted to the appropriate metal oxide. Together and the accelerator, which has a bond (chemical formula), is (chemical formula) which selects R1 from the group containing Alkyl or substrate alkyl radical, which has carbon from 1 to 10 atoms; Halogenated alkyl radicals with carbon from 1 to 10 atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms such as -CCl3, -CH2CHClCH3 and -CH2CCl2CCl3; Alkynyl or substrate alkenyl radical, which has carbon from 2 to 10 atoms. Alkenyl or substitutated alkenyl radical, with carbon from 2 to 10 atoms and aeryl or aralkyl or substitutated aeryl or aralcyl radical, containing carbon from 6 to 11 atoms, and whose bond (chemical formula) is (chemical formula) Where R2 is selected from a group containing hydrogen, halogen, alkylenyl or substrate alkenyl radical with carbon from 2 to 10 atoms; (Formula) - halogened alkyl, perhelogenated alkyl radical and substrate derivative. Which contains 1 to 10 carbon atoms and alkyline or substrate alkyl radical, which has 2 to 10 carbon atoms 6 4. Coating mixture of this claim 63, which selects the compound. Of the metal From the group containing tin, titanium, tungsten, and antimony compounds and their mixtures, 6 5. Coating mixture of claim 63, in which the metal compounds mentioned So is the compound of tin 6 6. The coating mixture of claim 63, in which this section is R1, this alkyl or substitutated alkyl radical contains 1 to 4 carbon. atom; Perhelogenated or substrate alkyl radical with 1 to 4 carbon atoms, alkyl or substrate alkyl radical, with carbon 2. Up to 4 atoms and aeryl or aralkyl or substitutated aeryl or aeryl radical, containing 6 to 9 carbon atoms 6 7. Mixture of handhold coating This Article 66, which is part of R1, alkyl or substrate alkyl radical, consists of -CH3; -CH2CH2CH3 and -CH2CH2OH; This perihelogenated or substrate alkyl radical consists of -CCL3, -CH2CHCLCH3, and -CH = CH3; Alkyne or substrate This radical alkyne includes -C = C-CH3 and -C = CH and aeryl or aralkyl or substrate. This Ted Aeryl or Aralkyl Radical contains -C6H5 and -C6H4CH3. 6 8. Coating Mixture of this Clause 63, in which R2 Alkenyl or This substrate alkenyl radical has 2 to 4 carbon atoms; Hylogenated, Perhelogenated Or substrate alkyl radical, this alkyl radical has 1 to 4 carbon atoms, and this alkyl radical or substrate This alkyl radical has 6 to 9 carbon atoms.6 9. The coating mixture of Clause 68, in which R2 the halogen is chlorine, alkylenyl or substrate alkenyl radical, contains -CH = CHCH3 and -CH = CH3 halogenated, perhelogenated or substitutated alkyl radical, this is composed of -CCl3, -CH2CHClCH3 and -CH2CCl2CCl3 and alkyl or substrate. This teeted alkynyl radical is composed of CC-CH3 and -C = CH2 7 0. The coating mixture of Clause 63, which (chemical formula) is (chemical formula), which this R3 is selected. From the group consisting of: -S-; - (chemical formula) in which R5 is an alkyl or substrate alkyl radical with carbon from 1 to 10 atoms (chemical formula); (Chemical formula) (chemical formula), where n is 1 to 10 7. 1. The coating mixture of claim 70, which (chemical formula) is (chemical formula), where R4 is selected from an alkoxide or substrate group. Styte Alkoxide Radiral, with carbon from 1 to 10 atoms; Alkyls or substrate alkyl radicals with carbon from 1 to 10 atoms - CN; - ONC, and phosphine, alkylphosphine and dialphol. Sphen, whose alkyl radical contains carbon from 1 to 10 atoms 7 2. Coating mixture of claim 70 where R5 has carbon from 1 to 4 atoms and n is 1 to 4 7. 3. Coating Mixture of this Clause 72, which R5 includes -CH2CH3 and -CH2CH2CH3 Radical 7 4. Coating Mixture of Clause 71, which is part R4. Alkoxide or substrate. Alkoxide radical contains 1 to 4 carbon atoms; Alkyl radical, or substrate, this alkyl radical has 1 to 5 carbon atoms, and this alkyl radical contains 1 to 4 carbon atoms. 7 5. Mixture of articular coatings. Clause 74 in this part is R4, this alkyl or substrate aloxide radical consists of -O-CH2CH3, alkyl or substrate. Ted alkyl radical contains -CH2CH3 and alkyl radical contains -PH2, CH3PH, -PHCH3 and -P (CH2CH3) 2 7 6. Coating mixture of Clause 63, in which this accelerator is Lewis 7 acid. 7. Coating mixture of this claim 63, of which this accelerator is Lewis base 7. 8. Coating mixture of Clause 63. 63, of which this accelerator is water. 7 9. Coating mixture of Clause 63 of which this accelerator is triethyl phosphite 8 0. Coating mixture of Clause 63. This accelerator is ozone 8.
1. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งเลือกสารเร่งนี้จากสารประกอบ ของอะลูมิเนียม 81. The coating mixture of claim 63, which selects this accelerator from the compound. Of aluminum 8
2. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งเลือกสารเร่งนี้จากสารประกอบ ของอะลูมิเนียม ซึ่งมีสูตรโครงสร้างต่อไปนี้ (สูตรเคมี) ซึ่งอย่างน้อย 1 หมู่ของ R15 , R16 และ R17 นี้เหมือนกันหรือแตกต่างกัน และเลือกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วยไฮโดรเจน, เฮโลเจน, 0-R17 ซึ่ง R17 เป็นแอลคิล แรดิคัล ชนิด ไม่มีกิ่งแยก, ชนิดมีกิ่งแยกหรือชนิดซับสทิทิวเทด ซึ่งมีคาร์บอกจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; -S-R16 ซึ่งนิยาม R16 ไว้ข้างบนสำหรับ -OR17 -NH2 และ NR19R20 ซึ่ง R19 และ R20 เป็นหมู่แอลคิลชนิดไม่มีกิ่งแยก, ชนิดมีกิ่งแยก หรือชนิดซับสทิทิวเทด ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม โดยเลือกหมู่แทนที่จาก R15, R16 หรือ R17 82. The coating mixture of claim 63, which selects this accelerator from the compound. Of aluminum Which has the following structural formula (chemical formula) where at least one group of R15, R16 and R17 are the same or different, and select from the group containing hydrogen, halogen, 0-R17, of which R17 is an alkylar. Branchless digital, branched type or substrate type It has a carbox from 1 to 10 atoms; -S-R16, which R16 is defined above for -OR17 -NH2 and NR19R20, where R19 and R20 are branched alkyl alkyl, branched type. Or substrate type Which contains from 1 to 10 carbon atoms by choosing a replacement group from R15, R16 or R17 8
3. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 82 นี้ ซึ่งหมู่ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ที่เป็น R15 , R16 และ R17 นี้ ประกอบรวมด้วยแอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; เฮโลเจนหรือ เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม ; แอลไคนล์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม; แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 6 ถึง 11 อะตอม ; CN;-OCN; ฟอสฟีน, แอลคิลฟอสฟีน และไดแอลคิล ฟอสฟีน แรดิคัล ซึ่งหมู่แอลคิลนี้มีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม และ -OH 83. The coating mixture of this claim 82, which is the substrate alkyl radical group of R15, R16 and R17 contains alkoxide radical which has Carbon from 1 to 10 atoms; Alkyl radicals with carbon from 1 to 10 atoms; Halogens or halogenated alkyl radicals with carbon from 1 to 10 atoms; Alkyl radicals with carbon from 2 to 10 atoms; Alkyne radical, which has carbon from 2 to 10 atoms; Aeryl or aralkyl radical, which has carbon from 6 to 11 atoms; CN; -OCN; Phosphine, alkylphosphine and dialkylphosphine radical, of which this alkyl group has carbon from 1 to 10 atoms and -OH 8.
4. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 83 นี้ ซึ่ง R17 นี้รวมทั้ง แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม; แอลคิลแรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม; เฮโลเจน หรือ เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม; แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม; แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม และแอริล หรือแอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม และหมู่แอลคิล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม 84. The coating mixture of Clause 83, this R17 includes radical alkoxides containing 1 to 4 carbon atoms; Alkyl radical Which has 1 to 4 carbon atoms; Halogens or halogenated alkyl radicals with 1 to 4 carbon atoms; Alkyl radicals with 2 to 4 carbon atoms; Alkyl radical, which has 2 to 4 carbon atoms, and aeryl or aralcyl radical, which has 6 to 9 carbon and alkyl groups. Which has 1 to 4 carbon atoms 8
5. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 84 ซึ่ง R17 นี้รวมทั้ง แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมี -OCH2CH2CH2CH3 ; แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมี -CH2CH2CH3 ; เฮโลเจน หรือ เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมี CL หรือ CCL3 ; แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมี -CH=CH2 ; แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมี -C=CH ; แอริล หรือแอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมี C6H5 และหมู่แอลคิลนี้ ประกอบรวมด้วย -PH2, -PHCH3, -P(CH2CH3)2 85. Coating mixture of Clause 84, which R17 includes alkoxides radical which has -OCH2CH2CH2CH3; Alkyl radicals which have -CH2CH2CH3; Halogens or halogenated alkyl radicals, which contain CL or CCL3; Alkyl radical, which has -CH = CH2; Alkyl radical, which has -C = CH; Aeryls or aralkyl radicals, which contain C6H5 and this alkyl group Including -PH2, -PHCH3, -P (CH2CH3) 2 8
6. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งเลือกสารเร่งนี้จากสารประกอบ ของไนโตรเจน, ฟอสฟอรัส, โบรอนและกำมะถัน ซึ่งมีสูตรโครงสร้างดังนี้ (a) (สูตรเคมี) (b) (สูตรเคมี) (c) (สูตรเคมี) (d) (สูตรเคมี), และ (e) (สูตรเคมี) ซึ่งเลือก Y นี้จากกลุ่มที่ประกอบด้วยไนโตรเจน, โบรอน และฟอสฟอรัส และเลือก R10, R11, R12, R13 และ R14 นี้จากหมู่ฟังก์ชันดังต่อไปนี้ ไฮโดรเจน, เฮโลเจน, แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม ; เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; แอซิลอกซิ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม แอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม; แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน จาก 1 ถึง 10 ; แอริล หรือซับสทิทิวเทด แอริล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 6 ถึง 10 อะตอม และแอลคอกไซด์ หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม 86. Coating mixture of claim 63, which selects the accelerator from compounds of nitrogen, phosphorus, boron and sulfur. It has the following structural formulas: (a) (chemical formula) (b) (chemical formula) (c) (chemical formula) (d) (chemical formula), and (e) (chemical formula), which Y is selected from the group containing nitrogen, boron and phosphorus. And select these R10, R11, R12, R13 and R14 from the following function group: Hydrogen, Helogen, Alkenyl, or Substitutated Alkenylradical, with carbon from 2 to 10 atoms. ; Perhelogenated alkyl or substrate alkyl radical with carbon from 1 to 10 atoms; Halogened alkyl or substrate alkyl radical, containing carbon from 1 to 10 atoms; Aziloxyradic, with carbon from 1 to 10, alkyline or substrate alkenyl radical, with carbon from 2 to 10 atoms; Alkyl or substrate alkyl radical, whose carbon is from 1 to 10; Aeryl or substrate aeryl radical, which contains 6 to 10 carbon atoms and alkoxides. Or substrate alkoxide radical, which has carbon from 1 to 10 atoms 8.
7. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 86 ซึ่งหมู่ฟังก์ชันนี้รวมทั้งแอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 4 อะตอม ; เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 4 อะตอม ; เฮโลจิเนเทด แอลคิล ซึ่งซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม ; แอซิลอกซิ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม ; แอลไคนล์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัล ซึ่งมี คาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม ; แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม ; แอริล หรือ ซับสทิทิวเทด แอริล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม และ แอลคอกไซด์ หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม 87. Coating mixtures of Clause 86, in which this functional category includes alkylenyl or substrate alkyl radical, with carbon from 2 to 4 atoms; Perhelogenated alkyl or substrate alkyl radical with carbon from 1 to 4 atoms; Halogened alkyl, a substrate of alkyl radical, which contains 1 to 4 carbon atoms; 1 to 4 carbon atoms; Alkyne or substrate alkyne radical, which has 2 to 4 carbon atoms; Alkyl or substrate alkyl radical, which has 1 to 4 carbon atoms; Aeryl or substrate aryl radical, which has 6 to 9 carbon atoms, and alkoxides or substituted alkoxides radical, which have 1 to 4 carbon. Atom 8
8. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 87 ซึ่งเฮโลเจนของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบ ด้วยคลอรีน, แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวมด้วย -C=CH2 ; เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวม ด้วย -CCLH2 ; เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ ประกอบรวมด้วย -CCH2CH3 ; แอซิลอกซิ แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวมด้วย -OCOCH3 ; แอลไคนล์หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวมด้วย -C=CH แอลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวมด้วย -CH3, -CH2CH2CH3; แอริล หรือซับสทิทิวเทด แอริล แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวมด้วย -C6H4CH3 และ แอลคอกไซด์หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบ รวมด้วย -OCH2CH2CH3 88. The coating mixture of claim 87, in which the halogens of this functional group is composed of chlorine, alkylenyl or substrate radical of this functional group, includes -C = CH2; Perhelogenated alkyl or substrate alkyl radical of this group includes -CCLH2; The halogened alkyl or substrate alkyl radical of this function group. Assembled with -CCH2CH3; The analogs of this function group include -OCOCH3; The alkyl or substrate alkyl radical of this group is composed of -C = CH alkyl or substrate alkyl radical of the group. This function is equipped with -CH3, -CH2CH2CH3; The aeryl or substitutied alkoxide of this function group is composed of -C6H4CH3 and the alkoxide or substrate alkoxide radical of this function group. Assembled with -OCH2CH2CH3 8
9. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งเลือกสารเร่งนี้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยไทรเอธิลฟอสไฟท์, ไทรเมธิลฟอสไฟท์, ไทรเมธิลบอเรท, PF5, PCl3, PBr3, PCl5, BCl3, BF3, (CH3)2BBr, SF4 และ HO3SF9. Coating mixtures of this claim 63, which select this accelerator from group No. Contains triamethyl phosphite, trimethyl phosphite, trymethylborate, PF5, PCl3, PBr3, PCl5, BCl3, BF3, (CH3) 2BBr, SF4 and HO3SF.