Claims (89)
1. วิธีเคลือบผิวซับสเตรทเคลื่อนที่เพื่อให้ได้ผิวเคลือบซึ่งมีสารผสมเคมีแปรผันไปอย่าง ต่อเนื่องขณะที่มีระยะทางจากซับสเตรทนี้เพิ่มขึ้น, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นต่าง ๆ ดังนี้ การนำไอสารผสมของผิวเคลือบสัมผัสไปบนพื้นผิวของซับสเตรทนี้ที่ตำแหน่งที่หนึ่ง หลังจากนี้ทำให้ไอสารผสมของผิวเคลือบส่วนที่หนึ่งเคลื่อนที่ไปตามบริเวณที่หนึ่งของพื้นผิวของ ซับสเตรทนี้ในทิศทางที่หนึ่งและทำให้ไอสารผสมของผิวเคลือบส่วนที่สองเคลื่อนที่ไปตามบริเวณ ที่สองของพื้นผิวของซับสเตรทในทิศทางที่สองซึ่งตรงข้ามกับทิศทางที่หนึ่ง และ รักษาส่วนที่หนึ่งของสารผสมของผิวเคลือบบนบริเวณที่หนึ่งของพื้นผิวของซับสเตรทนี้ไว้เป็น ระยะเวลานานกว่าส่วนที่สองของไอสารผสมของผิวเคลือบบนบริเวณที่สองของพื้นผิวของ ซับสเตรทนี้เพื่อเคลือบผิวซับสเตรทนี้ด้วยผิวเคลือบซึ่งมีสารผสมเคมีแปรผันไปอย่างต่อเนื่องขณะ ที่มีระยะทางจากซับสเตรทนี้เพิ่มขึ้น1. A method for coating a moving substrate surface to obtain a coating with a continuously varying chemical mixture as the distance from the substrate increases. This involves the following steps: Introducing the coating mixture vapor to a first location on the substrate surface. This vapor is then moved along a first region of the substrate surface in one direction, and a second region is moved along a second region in a second, opposite direction. The first portion of the coating mixture on the first region is maintained for a longer period than the second portion of the coating mixture on the second region, thereby coating the substrate with a coating whose chemical mixture continuously varies as the distance from the substrate increases.
2. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งไอสารผสมของผิวเคลือบนี้มีพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วย อย่างน้อย 2 ชนิด2. A method of claim 1 in which the coating mixture contains at least two metallic precursors.
3. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งซับสเตรทคือซับสเตรทแก้วและทิศทางที่หนึ่งที่กล่าวแล้ว คือทิศทางที่ขนานกับทิศทางซึ่งซับสเตรทนี้กำลังเคลื่อนที่ไปเป็นส่วนใหญ่3. The method of claim 2, where the substrate is a glass substrate and the first direction mentioned is the direction parallel to the direction in which this substrate is moving in the majority direction.
4. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งหนึ่งในพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วย มีโลหะหนึ่งที่เลือก จากกลุ่มที่ประกอบด้วย ดีบุก, ไทเทเนียม, ทังสเตน และพลวง4. The method of claim 3, in which one of the precursors containing a metal is chosen from a group of metals including tin, titanium, tungsten, and antimony.
5. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งประกอบไปด้วยการทำขั้นตอนการนำสัมผัสที่กล่าวแล้วที่ ตำแหน่งที่สองห่างจากและอยู่บนด้านหนึ่งของตำแหน่งที่หนึ่งนี้และตำแหน่งที่สามที่ห่างจากตำแหน่ง ที่หนึ่งและที่สองนี้ในลักษณะที่ตำแหน่งที่สองนี้อยู่ระหว่างตำแหน่งที่หนึ่งและที่สามรวมเข้าไว้ด้วย ต่อไปอีก5. The method of claim 2, which consists of performing the aforementioned tangent procedure at a second position समने टने सकल ...
6. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งเคลือบผิวซับสเตรทนี้ในห้องซึ่งมีบรรยากาศที่ไม่ออกซิไดส์ และมีการให้ม่านของแก๊สเฉื่อยรวมไว้ด้วยต่อไปอีกเพื่อป้องกันบรรยากาศที่ไม่ออกซิไดส์นี้ไม่ให้ เคลื่อนที่ไปสู่ตำแหน่งนั้น ๆ โดยที่ม่านของแก๊สเฉื่อยและตำแหน่งที่อยู่ระหว่างกันนี้กำหนดขอบเขต ของบริเวณการเคลือบผิว6. The method of claim 5 involves coating the substrate in a chamber with an oxidizing atmosphere, and a curtain of inert gas is subsequently provided to prevent the oxidizing atmosphere from migrating to that location, where the inert gas curtain and the area between them define the boundary of the coating area.
7. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 6 ซึ่งห้องที่กล่าวแล้วมีอ่างของโลหะหลอมเหลวที่ออกซิไดซ์ได้ อยู่ด้วยและซับสเตรทนี้คือริบบิ้นแก้วที่รองรับโลหะหลอมเหลวและเลื่อนผ่านไปทางห้องตาม ตำแหน่งของการเคลือบผิว7. The method of claim 6, in which the aforementioned chamber contains a bath of oxidizing molten metal and this substrate is a glass ribbon that supports the molten metal and slides it through the chamber along the surface coating location.
8. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งปฏิบัติขั้นการรักษาที่กล่าวแล้วให้สำเร็จโดยให้เครื่องมือ ดูดออกหมดบนด้านแต่ละด้านของตำแหน่งที่หนึ่งที่กล่าวแล้ว ซึ่งเครื่องมือดูดออกหมด 1 ครื่อง อยู่ห่างจากตำแหน่งที่หนึ่ง เป็นระยะทาง "X" และเครื่องมือดูดออกหมดอีกเครื่องหนึ่งอยู่ห่าง จากตำแหน่งที่หนึ่งที่กล่าวแล้วเป็นระยะทาง "y" และนอกจากนี้อัตราส่วนของ x/y มากกว่า 18. The method of claim 2 which accomplishes the aforementioned treatment procedure by placing total suction instruments on each side of the first position, where one suction instrument is located at a distance "X" from the first position and another suction instrument is located at a distance "y" from the first position, and furthermore, the ratio of x/y is greater than 1.
9. วิธีตามที่บรรยายไว้ในข้อถือสิทธิข้อ1 ซึ่งซับสเตรทเป็นซับสเตรทแก้วและสารผสม ของผิวเคลือบนี้มีพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยอย่างน้อย 1 ชนิด ซึ่งมีพันธะของซิลิคอนกับ ออกซิเจนอยู่ด้วยอย่างน้อย 1 พันธะ9. The method described in Claim 1, where the substrate is a glass substrate and a mixture of coatings, contains at least one silicon precursor which contains at least one silicon-oxygen bond.
10. วิธีตามที่บรรยายไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 9 ซึ่งขั้นการนำสัมผัสที่กล่าวแล้วประกอบด้วย การผสมพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยนี้ให้เข้ากับสารเร่งเพื่อเพิ่มอัตราของการตกสะสมของ ผิวเคลือบของซิลิคอนออกไซด์ในซับสเตรทแก้ว10. The method described in claim 9, in which the aforementioned contact introduction step involves mixing this silicon-containing precursor with an accelerator to increase the rate of deposition of the silicon oxide coating on the glass substrate.
11. วิธีที่บรรยายไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งไอสารผสมของผิวเคลือบนี้มีพรีเคอร์เซอร์ ที่มีโลหะอยู่ด้วยอย่างน้อย 1 ชนิดและพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยอย่างน้อย 1 ชนิด11. The method described in Claim 1, in which a mixture of coatings contains at least one precursor containing metal and at least one precursor containing silicon.
12. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่งพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วย 1 ชนิดนี้มีดีบุกอยู่ด้วย12. Method of claim 4 in which a precursor containing one of these metals contains tin.
13. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วยการปฏิบัติขั้นการนำสัมผัสที่กล่าว แล้วที่ตำแหน่งที่สองซึ่งห่างจากตำแหน่งที่หนึ่ง13. The method of claim 1, which is further comprised of the action of the aforementioned tactile introduction step at a second position further from the first position.
14. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วยขั้นของการระบายไอออกไปหมด จากทั้งสองด้านของตำแหน่งที่หนึ่งและที่สาม14. The method of claim number 5, which includes the procedure of complete vapor venting from both sides of the first and third positions.
15. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 8 ซึ่งมีอัตราส่วนของ x/y เป็นอัตราส่วนมากกว่าประมาณ 1.215. The method of claim 8, which has a ratio of x/y that is approximately greater than 1.2.
16. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 15 ซึ่งมีอัตราส่วนของ x/y เป็นอัตราส่วนจากประมาณ 1.2 ถึงประมาณ 5016. The method of claim 15, which has a ratio of x/y ranging from approximately 1.2 to approximately 50.
17. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ16 ซึ่งมีอัตราส่วนของ x/y เป็นอัตราส่วนจากประมาณ 1.5 ถึง 3017. The method of claim 16, which has a ratio of x/y ranging from approximately 1.5 to 30.
18. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 5 นี้ ซึ่งซับสเตรทเป็นริบบิ้นแก้วซึ่งถูกเคลือบผิวในห้อง ซึ่งมีบรรยากาศที่รีดิวซ์และถูกรองรับไว้บนบ่อโลหะหลอมเหลวที่ออกซิไดส์ได้18. The method of this claim, in which the substrate is a glass ribbon coated in a chamber with a reducing atmosphere and supported on a pool of oxidizing molten metal.
19. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งซับสเตรทนี้เป็นริบบิ้นแก้ว และประกอบรวมต่อไปด้วย ขั้นของการตกสะสมชั้นโลหะออกไซด์เดี่ยวบนผิวเคลือบซึ่งมีสารผสมเคมีที่แปรผันไปอย่างต่อ เนื่อง19. The method of claim 5, in which this substrate is a glass ribbon and is further comprised of a step of deposition of a single metal oxide layer onto a coating of a continuously varying chemical mixture.
20. วิธีของข้อถือสิทธิข้อ 19 ซึ่งชั้นโลหะออกไซด์เดี่ยวในนี้คือดีบุก ออกไซด์ และ ผิวเคลือบนี้มีสารผสมเคมีที่แปรผันไปอย่างต่อเนื่องนี้ประกอบรวมด้วยดีบุกออกไซด์และซิลิคอน ออกไซด์20. The method of claim 19, in which a single metal oxide layer herein is tin oxide and this coating is a continuously varying chemical mixture composed of tin oxide and silicon oxide.
21. ซับสเตรทโปร่งใส ซึ่งมีผิวเคลือบชนิดอสัณฐานอยู่บนซับสเตรทนี้ซึ่งประกอบด้วย โลหะออกไซด์ผสม 1 ชนิดหรือมากกว่านี้และมีธาตุอยู่ด้วยจนถึง 15 เปอร์เซ็นต์อะตอมที่ กระจายตัวอยู่โดยตลอด ซึ่งเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยฟอสฟอรัส, อะลูมิเนียม และโบรอน ซึ่งตัวโลหะออกไซด์ผสมในนี้ไม่มีฟอสฟอรัส, อะลูมิเนียม และโบรอน รวมอยู่ด้วย21. A transparent substrate with an amorphous coating on it, consisting of one or more mixed metal oxides containing up to 15 percent of the atomic number of elements distributed throughout, selected from the phosphorus, aluminum, and boron group, excluding phosphorus, aluminum, and boron from the mixed metal oxides.
22. ซับสเตรทโปร่งใสซึ่งมีผิวเคลือบชนิดอสัณฐานอยู่บนซับสเตรทนี้ ซึ่งประกอบด้วย โลหะออกไซด์ผสมพร้อมกับมีบริเวณต่าง ๆ ในผิวเคลือบที่มีโลหะออกไซด์อยู่ในอัตราส่วนที่แปรผัน ไปอย่างต่อเนื่องโดยที่ไม่มีชั้นของโลหะออกไซด์ที่มีอัตราส่วนตายตัวโดยส่วนใหญ่อยู่ด้วยและมี ธาตุจนถึง 15 เปอร์เซ็นต์อะตอมกระจายตัวอยู่โดยตลอด ซึ่งเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ฟอสฟอรัส, อะลูมิเนียม และโบรอน22. A transparent substrate with an amorphous coating on it, consisting of a mixture of metal oxides with regions in the coating containing metal oxides in continuously varying ratios, without a predominantly layer of fixed-ratio metal oxides. Up to 15 percent of the atomic elements are distributed throughout, selected from the group consisting of phosphorus, aluminum, and boron.
23. ซับสเตรทของข้อถือสิทธิที่ 22 ซึ่งซับสเตรทคือแก้วโลหะออกไซด์ผสมคือซิลิคอน ออกไซด์ และดีบุกออกไซด์ โดยมีซิลิคอนออกไซด์ 70-100% โดยน้ำหนักที่ส่วนเชื่อมต่อของแก้ว กับผิวเคลือบและมีดีบุกออกไซด์นี้ 70-100% โดยน้ำหนักที่พื้นผิวของผิวเคลือบตรงข้ามและธาตุ ที่อยู่โดยตลอดคือฟอสฟอรัส23. Substance of Reputation 22, in which the substrate is a mixture of metal oxide glass, namely silicon oxide and tin oxide, with 70-100% by weight of silicon oxide at the glass interface and 70-100% by weight of tin oxide at the opposite glaze surface, and the recurring element is phosphorus.
24. สิ่งของตามข้อถือสิทธิข้อ 23 ซึ่งมีฟอสฟอรัส 1 ถึง 12 เปอร์เซ็นต์อะตอมกระจาย ตัวอยู่ในผิวเคลือบนี้24. Items under claim 23 containing 1 to 12 percent phosphorus atoms distributed in this coating.
25. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ซึ่งเลือกโลหะออกไซด์ที่กล่าวแล้วจากกลุ่ม ที่ประกอบด้วยออกไซด์ของซิลิคอน, ดีบุก, ไทเทเนียม, ทังสเตน, พลวง และสารผสมของ ออกไซด์เหล่านี้25. A transparent substrate pursuant to claim paragraph 21, which is selected from a group of aforementioned metal oxides consisting of silicon, tin, titanium, tungsten, antimony oxides and mixtures of these oxides.
26. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งธาตุที่กระจายตัวอยู่โดยตลอดผิวเคลือบ นี้คือฟอสฟอรัส26. A transparent substrate pursuant to claim 25, the element of which is distributed throughout the coating surface is phosphorus.
27. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งธาตุนี้คือ อะลูมิเนียม27. A transparent substrate pursuant to claim 25, which is aluminum.
28. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งธาตุนี้คือ โบรอน28. A transparent substrate according to claim 25, which is boron.
29. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งเลือกโลหะออกไซด์นี้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วยออกไซด์ของซิลิคอน, ดีบุก และสารผสมของออกไซด์เหล่านี้29. A transparent substrate pursuant to claim paragraph 25, which selects this metal oxide from a group comprising silicon oxides, tin oxides and mixtures of these oxides.
30. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งธาตุที่กระจายตัวตลอดผิวเคลือบในนี้ คือ ฟอสฟอรัส30. A transparent substrate pursuant to claim 29, the element distributed throughout the coating being phosphorus.
31. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งธาตุในนี้คือ อะลูมิเนียม31. A transparent substrate pursuant to claim 29, the element of which is aluminum.
32. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 29 ซึ่งธาตุในนี้คือ โบรอน32. A transparent substrate pursuant to claim 29, in which the element is boron.
33. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 22 ซึ่งเลือกโลหะออกไซด์ผสมในนี้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยออกไซด์ของซิลิคอน, ดีบุก, ไทเทเนียม, ทังสเตนและพลวง33. A transparent substrate pursuant to claim paragraph 22, which herein is selected from a mixture of metal oxides including silicon, tin, titanium, tungsten and antimony oxides.
34. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 33 ซึ่งโลหะออกไซด์ผสมในนี้คือออกไซด์ของ ซิลิคอน และดีบุก34. A transparent substrate pursuant to claim 33, in which a mixture of metal oxides, namely silicon and tin oxides, is contained.
35. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 34 ซึ่งธาตุที่กระจายตัวอยู่ตลอดผิวเคลือบนี้ คือฟอสฟอรัส35. A transparent substrate pursuant to claim 34, the element distributed throughout this coating being phosphorus.
36. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 34 ซึ่งธาตุในนี้คือ อะลูมิเนียม36. A transparent substrate pursuant to claim 34, the element of which is aluminum.
37. ซับสเตรทโปร่งใสตามข้อถือสิทธิข้อ 34 ซึ่งธาตุในนี้คือ โบรอน37. A transparent substrate pursuant to claim 34, in which the element is boron.
38. เครื่องมือเคลือบผิว ซึ่งประกอบรวมด้วยเครื่องมือสำหรับการนำไอสัมผัสที่พื้น ผิวแก้ว; เครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งซึ่งอยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอสัมผัสที่กล่าวแล้วบนด้านหนึ่ง ของเครื่องมือนี้, เครื่องมือดูดออกหมดที่สองซึ่งอยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอสัมผัสที่กล่าวแล้ว บนอีกด้านหนึ่งของเครื่องมือนี้และอยู่ในแนวทางเดียวกันกับเครื่องมือนำไอสัมผัสที่กล่าวแล้ว และเครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งที่กล่าวแล้วและเครื่องมือสำหรับวางตำแหน่งเครื่องมือดูดออก หมดเครื่องที่หนึ่งและที่สองและเครื่องมือการนำสัมผัสที่กล่าวแล้วซึ่งสัมพัทธ์ซึ่งกันในลักษณะที่ นิยามระยะทางระหว่างเครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งที่กล่าวแล้วและเครื่องมือนำไอตรงไปที่ กล่าวแล้วเป็น "x" และนิยามระยะทางระหว่างเครื่องมือดูดออกหมดที่สองและเครื่องมือนำ ไอตรงไปที่กล่าวแล้วเป็น "y" ซึ่งค่าของ "x" และ "Y" ในนี้เป็นค่าที่แตกต่างกัน38. The coating instrument, which consists of an instrument for vapor conduction on the glass surface; a first vacuum instrument located at a distance from the aforementioned vapor conduction instrument on one side of this instrument; a second vacuum instrument located at a distance from the aforementioned vapor conduction instrument on the other side of this instrument and in line with the aforementioned vapor conduction instrument; and the first vacuum instrument and the instruments for positioning the first and second vacuum instruments and the aforementioned vapor conduction instruments, which are relative to each other in such a way that the distance between the first vacuum instrument and the aforementioned vapor conduction instrument is defined as "x" and the distance between the second vacuum instrument and the aforementioned vapor conduction instrument is defined as "y", where the values of "x" and "Y" here are different.
39. เครื่องมือเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 38 ซึ่งอัตราส่วนของ x/y ในนี้อยู่ในช่วง ประมาณ 1.2 ถึงประมาณ 5039. The coating tool of claim 38, in which the ratio of x/y here ranges from approximately 1.2 to approximately 50.
40. เครื่องมือเคลือบผิวซึ่งประกอบรวมด้วย เครื่องมือซึ่งรวมทั้งหัวฉีดสำหรับการนำไอ ตรงไปที่ซับสเตรทซึ่งหัวฉีดในนี้มีช่องเปิด 1 ช่อง เครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งซึ่งมีช่องเปิด 1 ช่อง ที่อยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วบนอีกด้านหนึ่งของเครื่องมือนี้ เครื่องมือ ดูดออกหมดที่สองซึ่งมีช่องเปิด 1 ช่องที่อยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วบนอีก ด้านหนึ่งของเครื่องมือนี้ และอยู่ในแนวทางเดียวกันกับเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วและ เครื่องมือสำหรับวางตำแหน่งเครื่องมือดูดออกหมดเครื่องที่หนึ่งและที่สองที่กล่าวมาแล้ว และ เครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วสัมพัทธ์กับพื้นผิวของซับสเตรทในลักษณะที่พิ้นผิวของช่องเปิด ที่กล่าวแล้วของเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วและช่องเปิดที่กล่าวแล้วของเครื่องมือดูดออก หมดที่หนึ่งที่กล่าวแล้วอยู่ที่ระยะทางห่างกัน แตกต่างจากระยะทางห่างกันระหว่างช่องเปิดของ เครื่องมือดูดออกหมดที่สองที่กล่าวแล้วและซับสเตรทนี้40. The coating apparatus consists of a tool that includes a nozzle for directing vapor to the substrate, which has one opening; a first exhaust tool with one opening located at a distance from the aforementioned vapor directing tool on the other side of this tool; a second exhaust tool with one opening located at a distance from the aforementioned vapor directing tool on the other side of this tool and in line with the aforementioned vapor directing tool; and a tool for positioning the first and second exhaust tools and the aforementioned vapor directing tool relative to the substrate surface such that the surface area of the opening of the aforementioned vapor directing tool and the opening of the first exhaust tool are at a different distance from the distance between the opening of the second exhaust tool and this substrate.
41. เครื่องมือเคลือบผิวซึ่งประกอบรวมด้วยเครื่องมือสำหรับการนำไอตรงไปที่ซับสเตรท เครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งซึ่งอยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วบนด้านหนึ่งของ เครื่องมือนี้, เครื่องมือดูดออกหมดที่สองซึ่งอยู่ห่างจากเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วบน อีกด้านหนึ่งของเครื่องมือนี้และอยู่ในแนวทางเดียวกันกับเครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วและ เครื่องมือดูดออกหมดที่หนึ่งที่กล่าวแล้ว และเครื่องมือสำหรับควบคุมความจุปริมาตรการไหลของ เครื่องมือนำไอตรงไปที่กล่าวแล้วและเครื่องมือการดูดออกหมดเครื่องที่หนึ่งและที่สองใน ลักษณะที่ให้ความจุปริมาตรการไหลของเครื่องมือนำไอตรงที่กล่าวแล้วแตกต่างจากความจุ ปริมาตรการไหลของเครื่องมือดูดออกหมดที่กล่าวแล้วอย่างน้อย 1 เครื่อง41. A coating apparatus consisting of a direct vapor delivery device to the substrate, a first exhaust device located at a distance from the aforementioned direct vapor delivery device on one side of this apparatus, a second exhaust device located at a distance from the aforementioned direct vapor delivery device on the other side of this apparatus and in alignment with the aforementioned direct vapor delivery device and the first and second exhaust devices, and an apparatus for controlling the volumetric flow capacity of the aforementioned direct vapor delivery device and the first and second exhaust devices in such a way that the volumetric flow capacity of the aforementioned direct vapor delivery device differs from the volumetric flow capacity of at least one exhaust device.
42. สารผสมของผิวเคลือบสำหรับการตกสะสมไอผิวเคลือบบนซับสเตรท ซึ่งผิวเคลือบ นี้รวมทั้งชั้นของออกไซด์ผสมของซิลิคอนและโลหะซึ่งมีอัตราส่วนต่อกันและกันที่กำหนดไว้ล่วงหน้า สารผสมของผิวเคลือบที่ประกอบรวมด้วยพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วย ซึ่งสามารถถูกเปลี่ยน ไปเป็นซิลิคอนออกไซด์ และพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วย ซึ่งสามารถถูกเปลี่ยนไปเป็นโลหะ ออกไซด์ ซึ่งมีอัตราส่วนโมลของพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วยต่อพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วย อยู่ภายในช่อง 0.001 ถึง 50,000 และนิยามพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยนี้โดยสูตรโครง สร้างดังนี้ (สูตรเคมี) ซึ่ง R1 เป็นหมู่ซึ่งไม่มีออกซิเจนที่ใช้ประกอบพันธะ เปอร์ออกไซด์, R2 เป็นหมู่ฟังก์ชันซึ่งให้ พรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยนี้มีความสามารถถูกเปลี่ยนไปเป็นผิวเคลื่อบชนิดซิลิคอนออกไซด์ ได้ง่าย, R3 เป็นหมู่เชื่อมประสานเพื่อทำให้เป็นโมเลกุลที่มี ซิลิคอนหลายอะตอม และ R4 เป็นหมู่ที่ทำให้โครงสร้างมีพันธะครบสมบูรณ์ ซึ่ง R1 ในนี้เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยแอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 10 อะตอม แอลคีนิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม, แอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม และแอริลหรือ แอแรลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอลแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 6 ถึง 11 อะตอม, R2 ประกอบด้วย ไฮโดรเจน, เฮโลเจน, แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมี คาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม, (สูตร) - เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล และอนุพันธ์ชนิดซับสทิทิวเทด ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม และแอลไคนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม ซึ่ง R3 ประกอบด้วย -S-; (สูตรเคมี) ซึ่ง R5 ในนี้เป็นแอลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม (สูตรเคมี) ซึ่ง R5 ในนี้เป็นไปตามที่นิยามข้างบนนี้ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็น 1 ถึง 10 และ R4 เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยแอลคิล, หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน จาก 1 ถึง 10 อะตอม แอลคีนิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม, แอลไคนิลหรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 2 ถึง 10 อะตอม และแอริล หรือ แอแรลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอริล หรือแอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน จาก 6 ถึง 11 อะตอม42. Coating mixtures for vapor deposition on substrates, where the coating consists of a mixed layer of silicon and metal oxides in a predetermined ratio. The coating mixture comprises a silicon-containing precursor that can be converted to silicon oxide and a metal-containing precursor that can be converted to metal oxide, with a molar ratio of the metal-containing precursor to the silicon-containing precursor within the range of 0.001 to 50,000. The silicon-containing precursor is defined by the following structural formula (chemical formula), where R1 is a non-oxygen-containing peroxide bonding group, R2 is the functional group that enables the silicon-containing precursor to be easily converted to a silicon oxide coating, R3 is a crosslinking group that makes the molecule polysilicon, and R4 is the bond completer. R1 here is chosen from alkyl-containing groups. Or substituted alkyl radicals containing 1 to 10 carbon atoms; alkenyl or substituted alkenyl radicals containing 2 to 10 carbon atoms; alkinyl or substituted alkinyl radicals containing 2 to 10 carbon atoms; and aryl or aralkyl or substituted aryl or aralkyl radicals containing 6 to 11 carbon atoms; R2 consists of hydrogen, halogen, alkenyl or substituted alkenyl radicals containing 2 to 10 carbon atoms; (formula) - halogenated alkyl or perhalogenated alkyl radicals and their substituted derivatives. These include alkinyls, which have 1 to 10 carbon atoms, and alkinyls, or substituted alkinyls, which have 2 to 10 carbon atoms, in which R3 contains -S-; (Chemical formula) where R5 here is an alkyl or substituted alkyl radical containing 1 to 10 carbon atoms; (Chemical formula) where R5 here satisfies the definition above; (Chemical formula) where n is 1 to 10; and R4 is selected from the group consisting of alkyl, or substituted alkyl radicals containing 1 to 10 carbon atoms; alkenyl or substituted alkenyl radicals containing 2 to 10 carbon atoms; alkinyl or substituted alkinyl radicals containing 2 to 10 carbon atoms; and aryl or aralkyl or substituted aryl or aralkyl radicals containing 6 to 11 carbon atoms.
43. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งในส่วนที่เป็น R1 นี้ แอลคิลหรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัลนี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม แอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัลนี้มีคาร์บอนจาก 2 ถึง 4 อะตอม, แอลไคนล์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัลนี้มีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม และแอริล หรือแอแรลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัลนี้มีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม43. A mixture of coatings to claim 42, in the R1 part of which are alkyl or substituted alkyl radicals of 1 to 4 carbon atoms, alkenyl or substituted alkenyl radicals of 2 to 4 carbon atoms, alkyl or substituted alkyl radicals of 2 to 4 carbon atoms, and aryl or aralkyl or substituted aryl or aralkyl radicals of 6 to 9 carbon atoms.
44. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 43 ซึ่งในส่วนที่เป็น R1 นี้ แอลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH3, -CH2CH2CH3, -CH2CH2-OH, -CCL3, -CH2CHCLCH3 หรือ -CH2CCL2CCL3 ; แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้ ประกอบรวมด้วย -CH=CHCH3 หรือ -CH=CH แอลไคนล์ หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C=C-CH3 หรือ -C=CH; และ แอริล หรือแอแรลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C6H5 หรือ -C6H4CH344. A mixture of claims under Article 43 in which, in the R1 part, the alkyl or substituted alkyl radicals are included -CH3, -CH2CH2CH3, -CH2CH2-OH, -CCL3, -CH2CHCLCH3 or -CH2CCL2CCL3; the alkenyl or substituted alkenyl radicals are included -CH=CHCH3 or -CH=CH; the alkylenyl or substituted alkylen radicals are included -C=C-CH3 or -C=CH; and the aryl or aralkyl or substituted aryl or aralkyl radicals are included -C6H5 or -C6H4CH3.
45.สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R2 นี้ เฮโลเจน นี้เป็น คลอรีน; แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม, (สูตร)-เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือเปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล และอนุพันธ์ชนิดซับ- สทิทิวเทด นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม และแอลไคนิลหรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม45. A mixture of coatings to claim 42 in which the R2 part is chlorinated halogen; alkenyl or substituted alkenyl radicals of 2 to 4 carbon atoms, (formula)-halogenated alkyl or perhalogenated alkyl radicals and their substituted derivatives of 1 to 4 carbon atoms, and alkinyl or substituted alkinyl radicals of 6 to 9 carbon atoms.
46. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 45 ซึ่งในส่วนที่เป็น R2 นี้ แอลคีนิลหรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH=CHCH3 หรือ -CH-CH3 ; (สูตร) - เฮโล จิเนเทด แอลคิล หรือ เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล และอนุพันธ์ชนิดซับสทิทิวเทด นี้ ประกอบรวมด้วย CCL3, -CH2CHCLCH3 หรือ -CH2CCL2CCL3 และแอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย C-C-C3 หรือ -CCC=CH246. The coating mixtures of the claim under Article 45, in the R2 part, contain alkenyl or substituted alkenyl radicals incorporating -CH=CHCH3 or -CH-CH3; (formula) - halogenated alkyl or perhalogenated alkyl radicals and their substituted derivatives incorporating CCL3, -CH2CHCLCH3 or -CH2CCL2CCL3; and alkinyl or substituted alkinyl radicals incorporating C-C-C3 or -CCC=CH2.
47. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 นี้ ซึ่ง R5 ในนี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม, n เป็น 1 ถึง 4 คาร์บอนอะตอม47. A mixture of coatings of claim 42 in which R5 contains 1 to 4 carbon atoms, and n is 1 to 4 carbon atoms.
48. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 47 นี้ ซึ่งเลือก R5 ในนี้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วย -CH2CH3 หรือ -CH2CH2CH3 และหมู่ผสมที่เข้ากันได้ชนิดไม่ทำปฏิกิริยากันของหมู่เหล่านี้48. A mixture of coatings of the claim under Article 47, selected R5 herein from groups consisting of -CH2CH3 or -CH2CH2CH3 and a non-reactive mixture of these groups.
49. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคิลหรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม; แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอนจาก 2 ถึง 4 อะตอม; แอลไคนล์ หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม และแอริล หรือแอแรลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม49. A mixture of coatings to claim 42, in the R4 part of which are alkyl or substituted alkyl radicals of 1 to 4 carbon atoms; alkenyl or substituted alkenyl radicals of 2 to 4 carbon atoms; alkyl or substituted alkyl radicals of 2 to 4 carbon atoms; and aryl or aralkyl or substituted aryl or aralkyl radicals of 6 to 9 carbon atoms.
50. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 49 ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH3, -CH2CH2CH3, -CH2-CH2-CH, -CCL3, -CH2CHCLCH3 และ -CH2CCL2CCL3 ; แอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH=CHCH3 และ -CH=CH3 แอลไคนล์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C=C-CH3 และ -C=CH และ แอริล หรือ แอแรลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C6H5 และ -C6H4CH350. The coating mixtures of the claim under paragraph 49, in part R4, are alkyl or substituted alkyl radicals incorporating -CH3, -CH2CH2CH3, -CH2-CH2-CH, -CCL3, -CH2CHCLCH3 and -CH2CCL2CCL3; alkenyl or substituted alkenyl radicals incorporating -CH=CHCH3 and -CH=CH3; alkylenyl or substituted alkylen radicals incorporating -C=C-CH3 and -C=CH; and aryl or aralkyl or substituted aryl or aralkyl radicals incorporating -C6H5 and -C6H4CH3.
51. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งเลือก R4 ในนี้จากกลุ่มที่ประกอบ ด้วยไฮโดรเจน, เฮโลเจน, (สูตร)-เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล และอนุพันธ์ชนิดซับสทิทิวเทด ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 10 อะตอม51. A mixture of coatings of the claim under paragraph 42, whereby R4 is selected from the group consisting of hydrogen, halogen, (formula)-halogenated alkyl or perhalogenated alkyl radicals and their substituted derivatives containing 1 to 10 carbon atoms.
52. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 51 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้มีเฮโลเจนเป็นคลอรีน, แอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม, (สูตร)-เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือเปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล หรืออนุพันธ์ชนิด ซับสทิทิวเทด นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม และแอลไคนิลหรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม52. A mixture of this claim under Article 51 in which the R4 fraction contains a chlorinated halogen, an alkynyl or substituted alkynyl radical containing 2 to 4 carbon atoms, (formula)-halogenated alkyl or perhalogenated alkyl radical or its substituted derivative containing 1 to 4 carbon atoms, and an alkynyl or substituted alkynyl radical containing 6 to 9 carbon atoms.
53. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 52 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH=CHCH3 หรือ -CHCH3, (สูตร) - เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือเปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล หรืออนุพันธ์ชนิดซับสทิทิวเทด นี้ประกอบรวมด้วย -CCL3, -CH2CHCLCH3 และ -CH2CCL2CCL3 และแอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย C-C-CH3 และ -CCC=CH253. The coating mixtures of this claim under paragraph 52, in the R4 part, contain alkenyl or substituted alkenyl radicals incorporating -CH=CHCH3 or -CHCH3, (formula) - halogenated alkyl or perhalogenated alkyl radicals or substituted derivatives incorporating -CCL3, -CH2CHCLCH3 and -CH2CCL2CCL3, and alkinyl or substituted alkinyl radicals incorporating C-C-CH3 and -CCC=CH2.
54. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 นี้ ซึ่ง R4 ในนี้ เลือกต่อไปอีกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วย แอลคอกไซด์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม , -CN, -OCN และฟอสฟีน, แอลคิลฟอสฟีนและไดแอลคิลฟอสฟีน ซึ่ง แอลคิล แรดิคัล ในนี้มีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม54. The coating mixture of this claim, R4 herein, is further selected from a group of alkoxides or substituted alkoxide radicals containing 1 to 10 carbon atoms, -CN, -OCN, and phosphine, alkylphosphine and diallkylphosphine, where the alkyl radicals herein contain 1 to 10 carbon atoms.
55. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 54 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคอกไซด์ หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล นี้มีคาร์บอนจาก 1 ถึง 4 อะตอม และแอลคิล แรดิคัล นี้มี คาร์บอน1 ถึง 4 อะตอม55. A mixture of coatings to claim 54, in which the R4 portion contains an alkoxide or substituted alkoxide radical containing 1 to 4 carbon atoms and an alkyl radical containing 1 to 4 carbon atoms.
56. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 55 นี้ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคอกไซด์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -OCH2CH3, แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH2CH3 และฟอสฟีน, แอลคิลฟอสฟีน และไดแอลคิลฟอสฟีน นี้ประกอบรวมด้วย -PH2, CH3PH, -PHCH3 และ -P(CH2CH3)256. The coating mixtures of this claim under paragraph 55, in part R4, contain alkoxides or substituted alkoxide radicals containing -OCH2CH3, alkyls or substituted alkyl radicals containing -CH2CH3, and phosphine, alkylphosphine, and dialkylphosphine containing -PH2, CH3PH, -PHCH3, and -P(CH2CH3)2.
57. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 นี้ ซึ่งสารประกอบต่างๆ นี้เลือกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วยเททระเมธิลไซโคลเททระไซลอกเซน, เททระเมธิลไดไซลอกเซน และ ไทรเอธอกซิไซเลน57. The coating mixture of this claim, Article 42, shall consist of compounds selected from a group comprising tetramethylcyclotetrasiloxane, tetramethyldisiloxane, and triethoxysilane.
58. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งรวมทั้งต่อไปด้วยสารเร่งเพื่อเพิ่ม อัตราการตกสะสมของซิลิคอนออกไซด์ ,สารเร่งนี้เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยสารประกอบ ของไนโตรเจน, ฟอสฟอรัส, โบรอน และกำมะถันและสารผสมของสารประกอบนี้ที่ใช้งานร่วมกัน ได้ชนิดไม่ว่องไวปฏิกิริยาซึ่งมีสูตรโครงสร้างดังนี้ (a) (สูตรเคมี) (b) (สูตรเคมี) (c) R10=S=R11, (d) (สูตรเคมี), และ (e) (สูตรเคมี) ซึ่ง Y ในนี้เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยไนโตรเจน, โบรอน, และฟอสฟอรัส และซึ่ง R10, R11, R12, R13 และ R14 ในนี้เลือกจากหมู่ฟังก์ชันดังต่อไปนี้ : ไฮโดรเจน, เฮโลเจน, แอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม, เปอร์ เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม, เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม, แอซิลอกซิ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม, แอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม, แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม , แอริล หรือซับสทิทิวเทด แอริล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 6 ถึง 10 อะตอม และแอลคอกไซด์ หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม58. The coating mixture of claim 42, which includes an accelerator to increase the rate of silicon oxide deposition, shall be selected from a group of compounds containing nitrogen, phosphorus, boron and sulfur, and a mixture of these compounds in conjunction. Non-reactive radicals are obtained with the following structural formulas: (a) (chemical formula), (b) (chemical formula), (c) R10=S=R11, (d) (chemical formula), and (e) (chemical formula), where Y is chosen from the group containing nitrogen, boron, and phosphorus, and R10, R11, R12, R13, and R14 are chosen from the following functional groups: hydrogen, halogen, alkynyl or substituted alkynyl radicals with 2 to 10 carbon atoms, per-halogenated alkyl or substituted alkyl radicals with 1 to 10 carbon atoms, halogenated alkyl or substituted alkyl radicals with 1 to 10 carbon atoms, azyloxi radicals with 1 to 10 carbon atoms. Alkinyl or substituted alkinyl radicals, containing 2 to 10 carbon atoms; alkyl or substituted alkyl radicals, containing 1 to 10 carbon atoms; aryl or substituted aryl radicals, containing 6 to 10 carbon atoms; and alkoxide or substituted alkoxide radicals, containing 1 to 10 carbon atoms.
59. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งรวมทั้งต่อไปด้วยสารเร่ง ซึ่งสารเร่งนี้คือกรด ลิวอิส59. The mixture of claims under Article 42, including the following catalyst, which is Lewis acid.
60. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งรวมทั้งต่อไปด้วยสารเร่ง ซึ่งสารเร่งนี้คือเบส ลิวอิส60. A mixture of claims under Article 42, including, further, an accelerator which is a Lewis base.
61. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 42 ซึ่งรวมทั้งต่อไปด้วยสารเร่ง ซึ่งสารเร่งนี้คือ ไทรเอธิลฟอสไฟท์61. The mixture of claims under Article 42, which includes the following accelerator, which is triethylphosphite.
62. สารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 42 นี้ ซึ่งรวมทั้งต่อไปด้วยพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วย ชนิดที่สอง62. This combination of claims 42, including a second type of metal-containing precursor,
63. ไอสารผสมของผิวเคลือบซึ่งประกอบรวมด้วยพรีเคอร์เซอร์ที่มีซิลิคอนอยู่ด้วยชนิดที่ สามารถถูกเปลี่ยนไปเป็นซิลิคอน ออกไซด์ ที่สมนัยกันที่อุณหภูมิประมาณ 750 ํ ฟ ถึงประมาณ 1500 ํ ฟ (400 ํ ซ ถึง 815 ํ ซ) และมีพันธะ (สูตรเคมี) ในสูตรโครงสร้างของพรีเคอร์ เซอร์นี้ และพรีเคอร์เซอร์ที่มีโลหะอยู่ด้วยชนิดที่สามารถถูกเปลี่ยนไปเป็นโลหะออกไซด์ที่สมนัย กันและสารเร่ง, ซึ่งมีพันธะ (สูตรเคมี) นี้เป็น (สูตรเคมี) ซึ่งเลือก R1 จากกลุ่มที่ประกอบด้วย แอลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมี คาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม; เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม, ที่ควรใช้คาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม เช่น -CCl3, -CH2CHClCH3 และ -CH2CCl2CCl3 ; แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม แอลไคนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม และแอริล หรือแอแรลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน จาก 6 ถึง 11 อะตอม และซึ่ง พันธะ (สูตรเคมี) นี้คือ (สูตรเคมี) ซึ่ง R2 นี้เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยไฮโดรเจน, เฮโลเจน, แอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม ; (สูตร)- เฮโลจิเนเทด แอลคิล, เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล และอนุพันธ์ชนิดซับสทิทิวเทด ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 10 อะตอม และแอลไคนิล หรือซับสทิทิวเทด แอไคนิล แรดิคัล ซึ่งมี คาร์บอน 2 ถึง 10 อะตอม63. A mixture of coatings comprising a silicon-containing precursor capable of being transformed into a corresponding silicon oxide at temperatures of approximately 750°F to 1500°F (400°C to 815°C) and having bonds (chemical formula) in the structural formula of this precursor, and a metal-containing precursor capable of being transformed into a corresponding metal oxide, and an accelerator, whose bonds (chemical formula) are (chemical formula) chosen from a group of alkyl or substituted alkyl radicals with 1 to 10 carbon atoms; halogenated alkyl radicals with 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, such as -CCl3, -CH2CHClCH3 and -CH2CCl2CCl3; Alkenyl or substituted alkenyl radicals containing 2 to 10 carbon atoms; alkinyl or substituted alkinyl radicals containing 2 to 10 carbon atoms; and aryl or aralkyl or substituted aryl or aralkyl radicals containing 6 to 11 carbon atoms, and which bond (chemical formula) is (chemical formula) where R2 is chosen from the group consisting of hydrogen, halogen, alkenyl or substituted alkenyl radicals containing 2 to 10 carbon atoms; (formula)- halogenated alkyl, perhalogenated alkyl radicals and substituted derivatives. These include carbon atoms from 1 to 10, and alkinyl or substituted akinyl radicals, which contain carbon atoms from 2 to 10.
64. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ซึ่งเลือกสารประกอบของโลหะที่ กล่าวแล้วจากกลุ่มที่ประกอบด้วยสารประกอบดีบุก, ไทเทเนียม, ทังสเตน, และพลวง และสารผสมของสารประกอบเหล่านี้64. The coating mixtures of this claim under Article 63 are selected from the group of compounds of the aforementioned metals, including tin, titanium, tungsten, and antimony, and mixtures of these compounds.
65. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 ซึ่งสารประกอบของโลหะที่กล่าว แล้วคือสารประกอบของดีบุก65. The coating mixture of the claim in Article 63, in which the aforementioned metal compound is a tin compound.
66. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 ซึ่งในส่วนที่เป็น R1 นี้ แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม; เปอร์เฮโลจิเนเทด หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม แอลไคนล์ หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม และแอริลหรือแอแรลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม66. A mixture of coatings to claim 63 in which, in the R1 part, these are alkyl or substituted alkyl radicals of 1 to 4 carbon atoms; perhalogenated or substituted alkyl radicals of 1 to 4 carbon atoms; alkylenyl or substituted alkylenyl radicals of 2 to 4 carbon atoms; and aryl or aralkyl or substituted aryl or aralkyl radicals of 6 to 9 carbon atoms.
67. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 66 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R1นี้แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ประกอบรวมด้วย -CH3; -CH2CH2CH3 และ -CH2CH2OH; เปอร์เฮโลจิเนเทด หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CCL3, -CH2CHCLCH3 และ -CH=CH3 ; แอลไคนล์ หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C=C-CH3 และ -C=CH และ แอริล หรือ แอแรลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -C6H5 และ -C6H4CH367. The mixture of coatings of this Patent 66, in the R1 part, contains alkyl or substituted alkyl radicals incorporating -CH3; -CH2CH2CH3 and -CH2CH2OH; perhalogenated or substituted alkyl radicals incorporating -CCL3, -CH2CHCLCH3 and -CH=CH3; alkylenol or substituted alkyl radicals incorporating -C=C-CH3 and -C=CH; and aryl or aralkyl or substituted aryl or aralkyl radicals incorporating -C6H5 and -C6H4CH3.
68. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R2 นี้ แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม ; เฮโลจิเนเทด, เปอร์เฮโลจิเนเทด หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม และ แอลไคนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม68. The mixture of coatings of this claim 63, in the R2 part, consists of alkenyl or substituted alkenyl radicals of 2 to 4 carbon atoms; halogenated, perhalogenated or substituted alkyl radicals of 1 to 4 carbon atoms; and alkinyl or substituted alkinyl radicals of 6 to 9 carbon atoms.
69. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 68 ซึ่งในส่วนที่เป็น R2 นี้ เฮโลเจน คือ คลอรีน, แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH=CHCH3 และ -CH=CH3 เฮโลจิเนเทด, เปอร์เฮโลจิเนเทด หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CCl3, -CH2CHClCH3 และ -CH2CCl2CCl3 และแอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย C-C-CH3 และ -C=CH269. A mixture of coatings to claim 68, in the R2 portion, which includes chlorinated, alkenyl, or substituted alkenyl radicals incorporating -CH=CHCH3 and -CH=CH3; halogenated, perhalogenated, or substituted alkyl radicals incorporating -CCl3, -CH2CHClCH3 and -CH2CCl2CCl3; and alkinyl or substituted alkinyl radicals incorporating C-C-CH3 and -C=CH2.
70. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 ซึ่ง (สูตรเคมี) นี้คือ (สูตรเคมี) ซึ่งเลือก R3 นี้จากกลุ่มที่ประกอบด้วย : -S-; -(สูตรเคมี) ซึ่ง R5 ในนี้เป็นแอลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม (สูตรเคมี); (สูตรเคมี) (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็น 1 ถึง 1070. A mixture of coatings of claim 63 which (chemical formula) is (chemical formula) which selects this R3 from the group consisting of: -S-; -(chemical formula) which R5 in this is an alkyl or substituted alkyl radical containing 1 to 10 carbon atoms (chemical formula); (chemical formula) (chemical formula) which n is 1 to 10.
71. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 70 ซึ่ง (สูตรเคมี) นี้คือ (สูตรเคมี) ซึ่ง R4 นี้เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย แอลคอกไซด์ หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิรัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน จาก 1 ถึง 10 อะตอม - CN; - ONC, และ ฟอสฟีน, แอลคิล ฟอสฟีน และไดแอลฟอสฟีน, ซึ่งแอลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม71. The coating mixture of the claim under Article 70, which (chemical formula) is (chemical formula), R4 is selected from a group consisting of alkoxides or substituted alkoxide radicals containing 1 to 10 carbon atoms; alkyls or substituted alkyl radicals containing 1 to 10 carbon atoms -CN; -ONC, and phosphine, alkyl phosphine and dial phosphine, which alkyl radicals contain 1 to 10 carbon atoms.
72. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 70 นี้ซึ่ง R5 นี้มีคาร์บอนจาก 1 ถึง 4 อะตอม และ n เป็น 1 ถึง 472. A coating mixture of the claim 70 in which R5 contains 1 to 4 carbon atoms and n is 1 to 4.
73. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 72 นี้ ซึ่ง R5 นี้ประกอบรวมด้วย -CH2CH3 และ -CH2CH2CH3 แรดิคัล73. The coating mixture of this claim, Article 72, in which R5 is composed of -CH2CH3 and -CH2CH2CH3 radicals.
74. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 71 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคอกไซด์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม ; แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 5 อะตอม และแอลคิล แรดิคัล นี้มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม74. The coating mixture of this claim under Article 71, in the R4 portion, contains alkoxide or substituted alkoxide radicals with 1 to 4 carbon atoms; alkyl or substituted alkyl radicals with 1 to 5 carbon atoms; and alkyl radicals with 1 to 4 carbon atoms.
75. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 74 นี้ ซึ่งในส่วนที่เป็น R4 นี้ แอลคอกไซด์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -O-CH2CH3, แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -CH2CH3 และแอลคิล แรดิคัล นี้ประกอบรวมด้วย -PH2, CH3PH, -PHCH3 และ -P(CH2CH3)275. The coating mixtures of this claim under Article 74, in the R4 portion, contain the alkoxide or substituted alkoxide radicals -O-CH2CH3, the alkyl or substituted alkyl radicals -CH2CH3, and the alkyl radicals -PH2, CH3PH, -PHCH3, and -P(CH2CH3)2.
76. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งสารเร่งนี้คือกรดลิวอิส76. The coating mixture of this claim, Article 63, in which the accelerator is Lewis acid.
77. สารผสมของสารเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ซึ่งสารเร่งนี้คือเบส ลิวอิส77. A mixture of coatings of the claim under Article 63 in which the accelerator is Lewis base.
78. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งสารเร่งนี้คือน้ำ78. The mixture of the coating of this claim under Article 63, in which the accelerator is water.
79. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งสารเร่งนี้คือไทรเอธิลฟอสไฟท์79. The coating mixture of this claim, Article 63, in which the accelerator is triethylphosphite.
80. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งสารเร่งนี้คือโอโซน80. A mixture of coatings to claim Article 63, in which the accelerator is ozone.
81. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งเลือกสารเร่งนี้จากสารประกอบ ของอะลูมิเนียม81. The coating mixture of this claim under Article 63, which selects this accelerator from aluminum compounds.
82. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งเลือกสารเร่งนี้จากสารประกอบ ของอะลูมิเนียม ซึ่งมีสูตรโครงสร้างต่อไปนี้ (สูตรเคมี) ซึ่งอย่างน้อย 1 หมู่ของ R15 , R16 และ R17 นี้เหมือนกันหรือแตกต่างกัน และเลือกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วยไฮโดรเจน, เฮโลเจน, 0-R17 ซึ่ง R17 เป็นแอลคิล แรดิคัล ชนิด ไม่มีกิ่งแยก, ชนิดมีกิ่งแยกหรือชนิดซับสทิทิวเทด ซึ่งมีคาร์บอกจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; -S-R16 ซึ่งนิยาม R16 ไว้ข้างบนสำหรับ -OR17 -NH2 และ NR19R20 ซึ่ง R19 และ R20 เป็นหมู่แอลคิลชนิดไม่มีกิ่งแยก, ชนิดมีกิ่งแยก หรือชนิดซับสทิทิวเทด ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม โดยเลือกหมู่แทนที่จาก R15, R16 หรือ R1782. The coating mixture of this claim 63 shall be selected from aluminum compounds of the following structural formulas (chemical formulas), in which at least one substituent of R15, R16, and R17 is the same or different, and shall be selected from the hydrogen-containing, halogen, 0-R17 groups in which R17 is a branched, branched, or substituted alkyl radical of 1 to 10 carbon atoms; -S-R16 in which R16 is defined above for -OR17-NH2; and NR19R20 in which R19 and R20 are branched, branched, or substituted alkyl groups of 1 to 10 carbon atoms, with the substituent being selected from R15, R16, or R17.
83. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 82 นี้ ซึ่งหมู่ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ที่เป็น R15 , R16 และ R17 นี้ ประกอบรวมด้วยแอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; เฮโลเจนหรือ เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม ; แอลไคนล์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม; แอริล หรือ แอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 6 ถึง 11 อะตอม ; CN;-OCN; ฟอสฟีน, แอลคิลฟอสฟีน และไดแอลคิล ฟอสฟีน แรดิคัล ซึ่งหมู่แอลคิลนี้มีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม และ -OH83. The coating mixtures of this claim under Article 82, which include the substituted alkyl radical groups R15, R16 and R17, consist of: alkoxide radicals with 1 to 10 carbon atoms; alkyl radicals with 1 to 10 carbon atoms; halogenated or halogenated alkyl radicals with 1 to 10 carbon atoms; alkenyl radicals with 2 to 10 carbon atoms; alkyne radicals with 2 to 10 carbon atoms; aryl or aralkyl radicals with 6 to 11 carbon atoms; CN;-OCN; Phosphine, alkylphosphine, and dialkylphosphine radicals, in which the alkyl group has 1 to 10 carbon atoms and -OH.
84. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 83 นี้ ซึ่ง R17 นี้รวมทั้ง แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม; แอลคิลแรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม; เฮโลเจน หรือ เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม; แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม; แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม และแอริล หรือแอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม และหมู่แอลคิล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม84. A mixture of coatings to claim 83, in which R17 includes alkoxide radicals of 1 to 4 carbon atoms; alkyl radicals of 1 to 4 carbon atoms; halogenated or halogenated alkyl radicals of 1 to 4 carbon atoms; alkenyl radicals of 2 to 4 carbon atoms; alkinyl radicals of 2 to 4 carbon atoms; and aryl or aralkyl radicals of 6 to 9 carbon atoms and alkyl groups of 1 to 4 carbon atoms.
85. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 84 ซึ่ง R17 นี้รวมทั้ง แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมี -OCH2CH2CH2CH3 ; แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมี -CH2CH2CH3 ; เฮโลเจน หรือ เฮโลจิเนเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมี CL หรือ CCL3 ; แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมี -CH=CH2 ; แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมี -C=CH ; แอริล หรือแอแรลคิล แรดิคัล ซึ่งมี C6H5 และหมู่แอลคิลนี้ ประกอบรวมด้วย -PH2, -PHCH3, -P(CH2CH3)285. A mixture of coatings of the claims in Article 84, in which R17 includes alkoxide radicals containing -OCH2CH2CH2CH3; alkyl radicals containing -CH2CH2CH3; halogenated or halogenated alkyl radicals containing CL or CCL3; alkenyl radicals containing -CH=CH2; alkinyl radicals containing -C=CH; aryl or aralkyl radicals containing C6H5 and these alkyl groups include -PH2, -PHCH3, -P(CH2CH3)2.
86. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งเลือกสารเร่งนี้จากสารประกอบ ของไนโตรเจน, ฟอสฟอรัส, โบรอนและกำมะถัน ซึ่งมีสูตรโครงสร้างดังนี้ (a) (สูตรเคมี) (b) (สูตรเคมี) (c) (สูตรเคมี) (d) (สูตรเคมี), และ (e) (สูตรเคมี) ซึ่งเลือก Y นี้จากกลุ่มที่ประกอบด้วยไนโตรเจน, โบรอน และฟอสฟอรัส และเลือก R10, R11, R12, R13 และ R14 นี้จากหมู่ฟังก์ชันดังต่อไปนี้ ไฮโดรเจน, เฮโลเจน, แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม ; เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม ; แอซิลอกซิ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม แอลไคนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 10 อะตอม; แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน จาก 1 ถึง 10 ; แอริล หรือซับสทิทิวเทด แอริล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 6 ถึง 10 อะตอม และแอลคอกไซด์ หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 10 อะตอม86. The coating mixture of this claim 63 shall select this accelerator from compounds of nitrogen, phosphorus, boron and sulfur with the following structural formulas: (a) (chemical formula), (b) (chemical formula), (c) (chemical formula), (d) (chemical formula), and (e) (chemical formula), from which Y is selected from the group containing nitrogen, boron and phosphorus, and from which R10, R11, R12, R13 and R14 are selected from the following functional groups: hydrogen, halogen, alkynyl or substituted alkynyl radicals with 2 to 10 carbon atoms; perhalogenated alkyl or substituted alkyl radicals with 1 to 10 carbon atoms; Halogenated alkyl or substituted alkyl radicals containing 1 to 10 carbon atoms; azyloxi radicals containing 1 to 10 carbon atoms; alkinyl or substituted alkinyl radicals containing 2 to 10 carbon atoms; alkyl or substituted alkyl radicals containing 1 to 10 carbon atoms; aryl or substituted aryl radicals containing 6 to 10 carbon atoms; and alkoxide or substituted alkoxide radicals containing 1 to 10 carbon atoms.
87. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 86 ซึ่งหมู่ฟังก์ชันนี้รวมทั้งแอลคีนิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคีนิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 2 ถึง 4 อะตอม ; เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอนจาก 1 ถึง 4 อะตอม ; เฮโลจิเนเทด แอลคิล ซึ่งซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม ; แอซิลอกซิ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม ; แอลไคนล์ หรือ ซับสทิทิวเทด แอลไคนล์ แรดิคัล ซึ่งมี คาร์บอน 2 ถึง 4 อะตอม ; แอลคิล หรือ ซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม ; แอริล หรือ ซับสทิทิวเทด แอริล แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 6 ถึง 9 อะตอม และ แอลคอกไซด์ หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล ซึ่งมีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม87. A mixture of coatings of the claims in Article 86 in which this functional group includes alkenyl or substituted alkenyl radicals with 2 to 4 carbon atoms; perhalogenated alkyl or substituted alkyl radicals with 1 to 4 carbon atoms; halogenated alkyl radicals with 1 to 4 carbon atoms; azyloxi radicals with 1 to 4 carbon atoms; alkylenyl or substituted alkylen radicals with 2 to 4 carbon atoms; alkyl or substituted alkyl radicals with 1 to 4 carbon atoms; Aryl, or substituted aryl radicals, which contain 6 to 9 carbon atoms, and alkoxide, or substituted alkoxide radicals, which contain 1 to 4 carbon atoms.
88. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 87 ซึ่งเฮโลเจนของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบ ด้วยคลอรีน, แอลคีนิล หรือซับสทิทิวเทด แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวมด้วย -C=CH2 ; เปอร์เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวม ด้วย -CCLH2 ; เฮโลจิเนเทด แอลคิล หรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ ประกอบรวมด้วย -CCH2CH3 ; แอซิลอกซิ แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวมด้วย -OCOCH3 ; แอลไคนล์หรือซับสทิทิวเทด แอลไคนิล แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวมด้วย -C=CH แอลคิลหรือซับสทิทิวเทด แอลคิล แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวมด้วย -CH3, -CH2CH2CH3; แอริล หรือซับสทิทิวเทด แอริล แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบรวมด้วย -C6H4CH3 และ แอลคอกไซด์หรือซับสทิทิวเทด แอลคอกไซด์ แรดิคัล ของหมู่ฟังก์ชันนี้ประกอบ รวมด้วย -OCH2CH2CH388. A mixture of coatings of claim 87 in which the halogen of this functional group contains chlorine, alkyl or substituted alkyl radical of this functional group contains -C=CH2; perhalogenated alkyl or substituted alkyl radical of this functional group contains -CCLH2; halogenated alkyl or substituted alkyl radical of this functional group contains -CCH2CH3; aceloxy radical of this functional group contains -OCOCH3; alkyl or substituted alkyl radical of this functional group contains -C=CH; alkyl or substituted alkyl radical of this functional group contains -CH3, -CH2CH2CH3; The aryl or substituted aryl radicals of this functional group include -C6H4CH3, and the alkoxide or substituted alkoxide radical of this functional group includes -OCH2CH2CH3.
89. สารผสมของผิวเคลือบของข้อถือสิทธิข้อ 63 นี้ ซึ่งเลือกสารเร่งนี้จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยไทรเอธิลฟอสไฟท์, ไทรเมธิลฟอสไฟท์, ไทรเมธิลบอเรท, PF5, PCl3, PBr3, PCl5, BCl3, BF3, (CH3)2BBr, SF4 และ HO3SF89. The coating mixture of this claim 63, selected from the group of triethylphosphite, trimethylphosphite, trimethylborate, PF5, PCl3, PBr3, PCl5, BCl3, BF3, (CH3)2BBr, SF4 and HO3SF.