TH8979B - "Light exposure machine" - Google Patents

"Light exposure machine"

Info

Publication number
TH8979B
TH8979B TH9501000612A TH9501000612A TH8979B TH 8979 B TH8979 B TH 8979B TH 9501000612 A TH9501000612 A TH 9501000612A TH 9501000612 A TH9501000612 A TH 9501000612A TH 8979 B TH8979 B TH 8979B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
light
light source
optical
rays
aforementioned
Prior art date
Application number
TH9501000612A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH20851A (en
Inventor
โอกาดา นายทาดาโนริ
คูวาบารา นายยูจิ
Original Assignee
นายธเนศ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by นายธเนศ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า filed Critical นายธเนศ เปเรร่า
Publication of TH20851A publication Critical patent/TH20851A/en
Publication of TH8979B publication Critical patent/TH8979B/en

Links

Abstract

????????????????????????????????????????????????????? ???????????? (2) ??????????????????????????????????? ????????? (26) ?????????????????????????????? (2) ?????? (2) ???????????? ???????????? (17) ?????????????????????????????????????????????????? ?????? (1) ????????????????????????????????? ?????????????? ??????????????????????? (20, 21, 30) ????????????????????????? ???????????????????????????????????????????????????? (36) ???????? ????????????????????????????? (20, 21, 30) ???????????????????? ????????????????????? (1) ????????????????????????????????????????? ???????????????????????????????????????????? ??????????????????????? ?????????? (27) ???????????????????????????????????????????????? ?????????????????????? (22, 24) ?????????????? (26) ??????????? ??????? ????????????????????????? (22, 24) ??????????????????? ????????????????????????????? ??????????????????????????????? ?????? ?????????????????? (26) ???????????? ?????????? ??????????????????? ???? ??????????????????????????????????????????????????????? ??????????? ???????????(2) (26) (2) (2) (17) (1) (20, 21, 30) (36) (20, 21, 30) (1) (27) (22, 24) (26 ...

Claims (3)

1. เครื่องเปิดรับแสงสำหรับเปิดรับแสงต่อชั้นไวแสงที่เคลือบบนผิวหน้าด้าน ในของแผงของหลอดรังสีแคโทดสี ที่มีรูปแบบที่สอดคล้องกับช่องของหน้ากากเงา ที่ถูกติดตั้ง ในแผงดังกล่าว ซึ่งจะก่อรูปจอสารเรืองแสง ประกอบด้วย วิถีทางสำหรัรองรับแผงดังกล่าว หน่วยแหล่งกำเนิดแสงสำหรับปล่อยรังสีของแสง ไปยังชั้นไวแสงดังกล่าว เพื่อที่จะพิมพ์รูปแบบที่สอดคล้องกับหนึ่งในช่องของหน้ากากเงาดังกล่าวไว้บนนั้น ระบบเชิงแสง ที่รวมถึงชิ้นส่วนเชิงแสงปรับแก้ ซึ่งถูกจัดวางระหว่างหน่วย แหล่งกำเนิดแสงดังกล่าว และหน้ากากเงาดังกล่าว และที่ซึ่งรังสีของแสงที่ถูกปล่อยออก จากหน่วยแหล่งกำเนิดแสงดังกล่าว เคลื่อนผ่านไปยังชั้นไวแสงดังกล่าว ชิ้นส่วนเชิงแสง ปรับแก้ดังกล่าว ที่มีผิวหน้าตกกระทบ ที่ซึ่งรังสีของแสง ตกกระทบบนนั้นและผิวหน้าผ่านออก ที่ซึ่งรังสีของแสง ผ่านออกจาก ณ ที่นั้น และผิวหน้าผ่านออกดังกล่าวจะโค้งและเอียง เมื่อ เทียบกับผิวหน้าตกกระทบดังกล่าว เพื่อที่ว่ารังสีของแสง ซึ่งตกกระทบที่ตำแหน่งตกกระทบ ต่างกันบนผิวหน้าตกกระทบดังกล่าว จะเคลื่อนผ่านชิ้นส่วนเชิงแสงปรับแก้ดังกล่าว โดยมี ความยาวของเส้นทางแสงต่างกัน และผ่านออกจากผิวหน้าผ่นออกดังกล่าว ที่ซึ่ง ผิวหน้าผ่านออกของแสงดังกล่าวเป็นผิวหน้าแบบโค้งที่เอียง ที่มีรูปร่าง ซึ่งถูก กำหนดขึ้นตามอัตราส่วนของแกนหลักกับแกนรองรับของรูปแบบที่สอดคล้องกับหนึ่งในช่องของ หน้ากากเงาดังกล่าว ซึ่งจะถูกพิมพ์แบบชั้นไวแสง เมื่อไม่มีชิ้นส่วนเชิงแสงปรับแก้ ถูกจัดไว้ ในระบบเชิงแสงดังกล่าว หน่วยขับเคลื่อน สำหรับหมุนชิ้นส่วนเชิงแสงปรับแก้ดังกล่าว รอบแกนการหมุน ซึ่งซ้อนทับกับแกนเชิงแสงของรังสีของแสงที่ถูกปล่อยออกจากหน่วยแหล่งกำเนิดแสงดังกล่าว ไปยังชั้นไวแสงดังกล่าว1. Exposure machine for exposure to the photosensitive layer coated on the front surface. In the panel of colored cathode ray tubes With a pattern corresponding to the channel of the shadow mask That were installed In that panel This will form a phosphor screen, containing a path for supporting the panel. Light source unit for emitting light rays To the sensitive layer In order to print a pattern corresponding to one of the aforementioned shadow mask fields on it, an optical system that includes optical components is corrected. Which is placed between the units Such light source And such shadow mask And where the radiation of light is emitted From the aforementioned light source unit Passed through the sensitive layer Optical parts Revise it With impacted face Where ray of light Falls on it and the surface passes out Where a ray of light passes from there, and the surface passes, it is curved and tilted relative to the affected surface. So that the rays of light Which strikes at the incident position Different on the affected surface Will pass through such modified optical parts with different light path lengths And passes from such an output surface, where the light-through surface is a contoured curved surface, which is determined in accordance with the ratio of the main axis to the support axis of the pattern corresponding to one In the channel of Such a shadow mask Which will be printed as the photosensitive layer When no corrective optical components are provided in such optical systems. Powered unit For rotating optical parts such adjustments Around the axis of rotation Which overlaps with the optical axis of the rays of light emitted by the light source unit. To the sensitive layer 2. เครื่องตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง หน่วยแหล่งกำเนิดแสงดังกล่าว รวมถึง แหล่งกำเนิดแสงแบบยาว สำหรับปล่อยรังสีของแสง ที่ยื่นตั้งฉากกับแกนเชิงแสงและช่อง แบบยาว สำหรับจำกัดช่องทางของรังสีของแสงที่ปล่อยออกจากแหล่งกำเนิดแสงแบบยาว ดังกล่าว2. Device according to claim 1, where the aforementioned light source unit includes long light sources. For emitting rays of light The protrusion perpendicular to the optical axis and the long channel for limiting the channel of light emitted by the long light source. 3. เครื่องตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง ระบบเชิงแสงดังกล่าว รวมถึง ระบบเลนส์ ฉาย สำหรับฉายรังสีของแสงที่ถูกปล่อยออกจากแหล่งกำเนิดแสง ดังกล่าว ไปยังชั้นไวแสง ไปตามโลกัสที่กำหนดไว้ล่วงหน้า และ ตัวกรอง สำหรับปรับแก้การกระจายความเข้มข้นของรังสีของแสงบนชั้นไวแสง ดังกล่าว3. Apparatus according to claim 1, where the aforementioned optical system, including a projection lens system, irradiates the radiation of light emitted by the light source to the photosensitive layer. It follows a predefined locus and a filter for correcting the radiation distribution of light on the photosensitive layer.
TH9501000612A 1995-03-27 "Light exposure machine" TH8979B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH20851A TH20851A (en) 1996-09-24
TH8979B true TH8979B (en) 1999-07-02

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5055871A (en) Method and apparatus for enhancing illumination uniformity in wafer steppers using photochromic glass in the optical path
KR102007616B1 (en) Exposing apparatus and exposing method
TH20851A (en) "Light exposure machine"
US3279311A (en) Device for producing an even distribution of light on a copying frame
JPH01243519A (en) Aligner
HK26393A (en) Method for screening line screen slit mask color picture tubes
EP0086410B1 (en) Apparatus and method for exposing a substrate
MY111421A (en) Method of forming phosphor screen of color cathode-ray tube and exposure apparatus
MY112450A (en) Exposing apparatus
JP2503696B2 (en) Projection exposure device
JP3293489B2 (en) Lenticular sheet exposure equipment
JPH10188647A (en) UV curing equipment
JPH10294273A (en) Exposure apparatus and exposure method
KR100232582B1 (en) Reflection exposure method and lamp housing of exposure
KR100295672B1 (en) Optical exposure system for seraiconductor
JP3988289B2 (en) Lenticular sheet exposure system
JPH10163101A (en) Pattern exposure equipment
JPS56132326A (en) Exposure method and exposure device
KR930011243B1 (en) Panel exposure method of cathode ray tube and apparatus
JPH0915601A (en) Method for modifying material surface by ultraviolet light irradiation and ultraviolet light irradiation device
KR970071144A (en) Exposure device of color cathode ray tube
JPH09199023A (en) Color CRT exposure device
KR100334071B1 (en) Exposure device for CPT
JP3323545B2 (en) Projection device and image forming device
JPH08203816A (en) Reduction projection exposure system