TH80377B - " อุปกรณ์และวิธีการสร้างลำอาร์กของอิเล็กตรอน " - Google Patents
" อุปกรณ์และวิธีการสร้างลำอาร์กของอิเล็กตรอน "Info
- Publication number
- TH80377B TH80377B TH501004820A TH0501004820A TH80377B TH 80377 B TH80377 B TH 80377B TH 501004820 A TH501004820 A TH 501004820A TH 0501004820 A TH0501004820 A TH 0501004820A TH 80377 B TH80377 B TH 80377B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- electrodes
- electrode
- room
- electron beam
- potential difference
- Prior art date
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract 3
- 238000002560 therapeutic procedure Methods 0.000 abstract 1
Abstract
อุปกรณ์สร้างลำอาร์กอิเล็กตรอนและวิธีการสำหรับลดมลพิษในแก๊ส อุปกรณ์ประกอบด้วย ขั้วไฟฟ้าที่หนึ่งและขั้วไฟฟ้าที่สองและห้องที่อยู่ระหว่างขั้วไฟฟ้าทั้งสองนั้น ทำให้เกิดความต่างศักย์ไฟฟ้าที่ ความถี่หนึ่งคร่อมระหว่างขั้วไฟฟ้าทั้งสองนั้น ซึ่งทำให้เกิดลำอาร์กอิเล็กตรอนหลายลำระหว่างขั้วไฟฟ้า ขั้วไฟฟ้ามีพื้นผิวที่มีลักษณะเป็นขั้นที่ทำให้บริเวณส่วนที่หนึ่งที่อยู่ตอนกลางของขั้วไฟฟ้าจะอยู่ใกล้ชิดกัน มากกว่าบริเวณส่วนที่สองที่อยู่ด้านนอก การจัดรูปแบบเป็นขั้น ๆ นี้ทำให้เกิดลำอาร์กอิเล็กตรอนขึ้นอย่าง สม่ำเสมอตลอดทั้งตัวขั้วไฟฟ้า ซึ่งเป็นลำที่พาดขวางห้องนั้นอยู่ ดังนั้นจึงมีประสิทธิภาพในการบำบัด โมเลกุลที่อยู่ในห้องนั้น
Claims (1)
1. อุปกรณ์สำหรับสร้างลำอาร์กอิเล็กตรอนเพื่อการบำบัดแก๊ส โดยอุปกรณ์ดังกล่าวประกอบด้วย ขั้วไฟฟ้าขั้วที่หนึ่ง ขั้วไฟฟ้าขั้วที่สองที่วางอยู่ห่างจากขั้วไฟฟ้าขั้วที่หนึ่งที่ได้กล่าวมาเป็นระยะทางหนึ่ง และทำให้เกิด ปริมาตรที่ว่างระหว่างขั้วไฟฟ้าที่หนึ่งและขั้วไฟฟ้าที่สองที่ได้กล่าวมา แหล่งจ่ายความต่างศักย์ไฟฟ้าสำหรับสร้างความต่างศักย์ไฟฟ้าระหว่างขั้วไฟฟ้าที่หนึ่งและขั้วไฟฟ้า ที่สองที่ได้กล่าวมา และ มีลำอาร์กอิเล็กตรอนเกิดขึ้นหลายลำระหว่างขั้วไฟฟ้าที่หนึ่งและ
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH80377B true TH80377B (th) | 2006-10-12 |
| TH80377A TH80377A (th) | 2006-10-12 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW200501215A (en) | Plasma processor, manufacturing method of plasma reactor, and processing method of plasma | |
| KR102094056B1 (ko) | 플라즈마 발생 장치 | |
| TW200719983A (en) | Lithographic apparatus comprising an electrical discharge generator and method for cleaning an element of a lithographic apparatus | |
| HK1094501A1 (en) | Method and device for producing extreme ultraviolet radiation or soft x-ray radiation | |
| WO2005025280A3 (en) | Method and apparatus for producing extreme ultraviolett radiation or soft x-ray radiation | |
| WO2005104168A3 (en) | Improved source for energetic electrons | |
| JP7076186B2 (ja) | プラズマ発生装置およびプラズマ発生用電極体 | |
| WO2006077582A3 (en) | System and method for treating biological tissue with a plasma gas discharge | |
| DE602007010169D1 (de) | Euv plasmaentladungslampe mit förderbandelektroden | |
| SE0501603L (sv) | Plasmaalstrande anordning, plasmakirurgisk anordning och användning av en plasmakirurgisk anordning | |
| MX2011006865A (es) | Ensamblado ionizador de electrodos de aire. | |
| NL1033983A1 (nl) | Inrichting voor het opwekken van extreem ultraviolette straling door middel van elektrische ontlading aan regenereerbare elektroden. | |
| WO2002075747A3 (en) | Electron beam irradiation apparatus | |
| DE602004031843D1 (de) | Plasmaerzeugungselektrode, plasmaerzeugungseinrichtun und abgasreinigungsvorrichtung | |
| ATE533175T1 (de) | Korona-entladungslampen | |
| CN100527550C (zh) | 离子发生装置 | |
| TW200701348A (en) | Nonuniform ion implantation apparatus and method using a wide beam | |
| TH80377B (th) | " อุปกรณ์และวิธีการสร้างลำอาร์กของอิเล็กตรอน " | |
| JP6871038B2 (ja) | 放電ランプ、オゾン生成装置およびオゾン生成方法 | |
| TH80377A (th) | อุปกรณ์และวิธีการสร้างลำอาร์กของอิเล็กตรอน | |
| JP3580294B2 (ja) | 沿面放電電極およびこれを用いたガス処理装置、ガス処理方法 | |
| JP6157764B1 (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
| AU2002217016A1 (en) | Method and device for generating microconvections | |
| ATE420457T1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur plasmabehandlung von objekten | |
| WO2006134123A3 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung grossflächiger atmosphärendruck-plasmen |