TH78474B - diamond - Google Patents

diamond

Info

Publication number
TH78474B
TH78474B TH501005778A TH0501005778A TH78474B TH 78474 B TH78474 B TH 78474B TH 501005778 A TH501005778 A TH 501005778A TH 0501005778 A TH0501005778 A TH 0501005778A TH 78474 B TH78474 B TH 78474B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
origin
mark
diamond
source gas
detected
Prior art date
Application number
TH501005778A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH78474A (en
Inventor
เจมส์ ทวิทเชน และคณะ นายดาเนียล
Original Assignee
เอลิเม็นท์ ซิกซ์ ลิมิเต็ด
Filing date
Publication date
Application filed by เอลิเม็นท์ ซิกซ์ ลิมิเต็ด filed Critical เอลิเม็นท์ ซิกซ์ ลิมิเต็ด
Publication of TH78474B publication Critical patent/TH78474B/en
Publication of TH78474A publication Critical patent/TH78474A/en

Links

Abstract

วิธีการของการนำเครื่องหมายของจุดกำเนิด ดังเช่น เครื่องหมายตราสินค้า หรือลายชื้บ่ง เข้ามาร่วมในวัสดุเพชรผนึกเดียวแบบซีวีดีจะรวมถึงขั้นตอนของการจัดเตรียมให้มีซับสเทรทเพชร การจัดเตรียมให้มีแก๊สต้นกำเนิด การทำให้แก๊สต้นกำเนิดแตกตัว ด้วยเหตุนี้ จะยอมให้เกิดการเติบโต ของเพชรชนิดชั้นโฮโมเอพิแทกซี และการนำใส่สารเจือในลักษณะควบคุมเข้าในแก๊สต้นกำเนิดนี้ เพื่อที่จะผลิตเครื่องหมายของจุดกำเนิดหรือลายชี้บ่งในวัสดุเพชรสังเคราะห์นี้ สารเจือนี้จะได้รับ การคัดเลือกขึ้นมา ในลักษณะที่ว่า เครื่องหมายของจุดกำเนิดหรือลายชี้บ่งนี้ไม่สามารถตรวจหาได้ อย่างง่ายหรือไม่ส่งผลกระทบกับคุณภาพที่กำหนดรู้ของวัสดุเพชรภายใต้ภาวะการมองดูปกติ แต่ซึ่งเครื่องหมายของจุดกำเนิดหรือลายชี้บ่งจะตรวจหาได้หรือตรวจหาได้แบบเรนเดอร์ภายใต้ภาวะ ที่ทำให้เป็นลักษณะพิเศษจำเพาะ ดังเช่น เมื่อไดรับการเผยรับแสงหรือการแผ่รังสีที่มีความยาวคลื่น จำเพาะสำหรับเป็นตัวอย่าง การตรวจหาของเครื่องหมายของจุดกำเนิดหรือลายชี้บ่งนี้อาจเป็นการ ตรวจหาทางสายตา หรือการตรวจหาด้วยการใช้วิชาการเครื่องเมือเชิงแสงจำเพาะสำหรับเป็นตัวอย่าง A method of introducing an origin mark, such as a brand mark Or pattern indicating Participating in a single CVD diamond seal material includes a process of preparing a diamond substrate. Provision to contain the source gas Breaking down the source gas thus allows it to grow. Of homoepthoxy grade diamonds And introducing dopants in a controlled manner into this source gas In order to produce the mark of origin or indentation in this synthetic diamond material. This dopant will receive Selection In such a way that This mark of origin or indication cannot be detected. Does it easily affect the known quality of diamond materials under normal viewing conditions? But where the mark of the origin or the indication pattern can be detected or can be detected as a render under That makes it a specific effect, for example, when exposure to light or radiation at a wavelength. Specific for example Detection of this point of origin or indication may be Visual detection Or detection by using specific optical science as a sample

Claims (1)

1. วิธีการของการนำเครื่องหมายของจุดกำเนิดหรือลายชี้บ่งเข้ามาร่วมในวัสดุเพชร ผลึกเดียวแบบซีวีดี ซึ่งรวมถึงขั้นตอนของการจัดเตรียมให้มีซับสเทรทเพชร การจัดเตรียมให้มี แก๊สต้นกำเนิด การทำให้แก๊สต้นกำเนิดนี้แตกตัว ด้วยเหตุนี้ จะยอมให้เกิดการเติบโตของเพชรชนิด ชั้นโฮโมเอพิแทกซี และการนำใส่สารเจือทางเคมีหนึ่งชนิดหรือมากกว่านั้นในลักษณะควบคุมเข้าใน กรรมวิธีการสังเคราะห์นี้ เพื่อที่จะผลิตเครื่องหมายของจุดกำเนิดหรือลายชี้บ่งในวัสดุเพชรสังเคราะห์ นี้ ซึ่งจะคัดเลือกสารเจือนี้ ในลักษณะที่ว่า เครื่องหม1. a method of incorporating a point of origin or identification mark into a diamond material. CVD single crystal This includes the process of preparing a diamond substrate. Provision Origin gas This disintegration of the source gas allows the growth of the diamond type. Homoepitaxi Floor And adding one or more chemical additives in a controlled manner into This synthesis process. In order to produce a point of origin mark or a designation in this synthetic diamond material, this dopant is selected. In such a way that the machine
TH501005778A 2005-12-08 diamond TH78474A (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH78474B true TH78474B (en) 2006-07-06
TH78474A TH78474A (en) 2006-07-06

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE407100T1 (en) METHOD FOR INSERTING A MARKER INTO A CVD DIAMOND
US20070036921A1 (en) Diamond
Blossfeld et al. Quantitative imaging of rhizosphere pH and CO2 dynamics with planar optodes
GB0704516D0 (en) Diamond
JP5539968B2 (en) Super tough single crystal boron doped diamond
Zhao et al. Raman spectra and photoluminescence properties of In-doped ZnO nanostructures
CA2607202A1 (en) High colour diamond layer
Willems et al. Optical study of defects in thick undoped CVD synthetic diamond layers
GB2486794A (en) Dislocation engineering in single crystal synthetic diamond material
DE07017348T1 (en) Epitaxial silicon wafer and manufacturing method therefor
CN101248210B (en) High colour diamond
Weyher et al. Revealing extended defects in HVPE-grown GaN
Rohbeck et al. Effects of thermal treatment on the mechanical integrity of silicon carbide in HTR fuel up to 2200 C
Zaitsev et al. Luminescence of brown CVD diamond: 468 nm luminescence center
Yarnell The many facets of man-made diamonds
Ehrentraut et al. Next-generation hydrothermal ZnO crystals
TH78474B (en) diamond
GB2562551A (en) Single crystal synthetic diamond material via chemical vapour deposition
Wadoski et al. Compositional evolution of tourmaline-supergroup minerals from granitic pegmatites in the Larsemann Hills, East Antarctica
TH78474A (en) diamond
Hofmann et al. Silicon doping of HVPE GaN bulk-crystals avoiding tensile strain generation
Willems et al. Exploring the Origin and Nature of Luminescent Regions in CVD Synthetic Diamond.
RU2382122C2 (en) Method of embedding mark into diamond, obtained through chemical deposition
Sørensen et al. Coupled trace element mobilisation and strain softening in quartz during retrograde fluid infiltration in dry granulite protoliths
Zaccaro et al. Origin of crazing in deuterated KDP crystals