TH76162A - A complete set of equipment and procedures for treating substrate surfaces using activated reactive gas. - Google Patents

A complete set of equipment and procedures for treating substrate surfaces using activated reactive gas.

Info

Publication number
TH76162A
TH76162A TH501004403A TH0501004403A TH76162A TH 76162 A TH76162 A TH 76162A TH 501004403 A TH501004403 A TH 501004403A TH 0501004403 A TH0501004403 A TH 0501004403A TH 76162 A TH76162 A TH 76162A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
gas
activated
reactive gas
equipment
internal space
Prior art date
Application number
TH501004403A
Other languages
Thai (th)
Inventor
ที่สาม
การ์จ นายไดวาการ์
อาร์โนลด์ ครูส นายสตีเวน
แอนโธนี่ย์ โรเบิร์ตสัน นายอีริค
Original Assignee
นายธเนศ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by นายธเนศ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า filed Critical นายธเนศ เปเรร่า
Publication of TH76162A publication Critical patent/TH76162A/en

Links

Abstract

DC60 (19/12/48) เนื้อหาในที่นี้เป็นการอธิบายเกี่ยวกับชุดอุปกรณ์และกรรมวิธีสำหรับปรับสภาพบริเวณอย่างน้อย ส่วนหนึ่งของพื้นผิวของฐานรอง ในลักษณะอย่างหนึ่งนั้น ชุดอุปกรณ์ดังกล่าวจะมี ห้องดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยเนื้อที่ว่างภายใน, ฐานรองและท่อร่วมไอเสีย แหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาโดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยก๊าซทำปฏิกิริยา ตั้งแต่หนึ่งชนิดขึ้นไปและตัวเลือกที่ไม่บังคับคือก๊าซเติมแต่งจะถูกกระตุ้นให้ทำงาน โดยแหล่งพลังงาน ตั้งแต่หนึ่งแห่งขึ้นไปเพื่อให้ได้ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานและ ท่อแจกจ่ายซึ่งมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลเข้ากับและแหล่งจ่ายซึ่งประกอบด้วยช่องเปิดจำนวน มากกว่าหนึ่งช่องซึ่งส่งก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานเข้าไปในเนื้อที่ว่างภายในโดยที่ก๊าซทำ ปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานจะมีสัมผัสกับพื้นผิวและทำให้มีก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกระตุ้นให้ทำงานซึ่ง ผ่านการใช้งานและ/หรือผลิตผลที่ระเหยได้ซึ่งถูกดูดออกมาจากเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าวโดยผ่านทางท่อ ร่วมไอเสีย เนื่อหาในที่นี้เป็นการอธิบายเกี่ยวกับชุดอุปกรณ์และกรรมวิธีสำหรับปรับสภาพบริเวณอย่างน้อย ส่วนหนึ่งของพื้นผิวของฐานรอง ในลักษณะอย่างหนึ่งนั้น ชุดอุปกรณ์ดังกล่าวจะมี ห้องดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยเนื้อที่วางภายใน, ฐานรองและท่อร่วมไอเสีย แหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยา โดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยก๊าซทำปฏิกิริยา ตั้งแต่หนึ่งชนิดขึ้นไปและตัวเลือกที่ไม่บังคับคือก๊าซเติมแต่งจะถูกกระตุ้นให้ทำงาน โดยแหล่งพลังงาน ตั้งแต่หนึ่งแห่งขึ้นไปเพื่อให้ได้ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานและ ท่อแจกจ่ายซึ่งมีเส้นทางเชื่อมต่อของไหลเข้ากับและแหล่งจ่ายซึ่งประกอบด้วยช่องเปิดจำนวน มากกว่าหนึ่งช่องซึ่งส่งก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานเข้าไปในเนื้อที่ว่างภายในโดยที่ก๊าซทำ ปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานจะมีสัมผัสกับพื้นผิวและทำให้มีก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกระตุ้นให้ทำงานซึ่ง ผ่านการใช้งานและ/หรือผลิตผลที่ระเหยได้ซึ่งถูกดูดออกมาจากเนื้อที่ว่างภายในดังกล่าว โดยผ่านทางท่อ ร่วมไอเสีย DC60 (19/12/48). Content here is at least a description of the equipment and procedures for area conditioning. Part of the substrate surface In one way The kit contains Processing chamber consisting of internal free space, foot pad and exhaust manifold The reactive gas supply is where the process gas consisting of the reactive gas is One or more types and optional, additive gas is activated. By power source In one or more places to obtain the reactive gas that is activated and Distribution pipes, which provide a path to connect the fluid to and to the supply, consisting of a number of openings. More than one chamber through which the reactive gas is activated into the internal space where the gas acts The triggered reaction has contact with the surface and causes a reaction gas to rub off. Through the use and / or volatile produce which is sucked out of the said internal space via the exhaust manifold, herein describes at least a set of equipment and procedures for area conditioning. Part of the substrate surface In one way The kit contains The processing chamber comprises of the internal laying area, the base plate and the exhaust manifold. Reactive gas supply Where the processing gas consisting of the reaction gas One or more types and optional, additive gas is activated. By power source In one or more places to obtain the reactive gas that is activated and Distribution pipes, which provide a path to connect the fluid to and to the supply, consisting of a number of openings. More than one chamber through which the reactive gas is activated into the internal space where the gas acts The triggered reaction has contact with the surface and causes a reaction gas to rub off. Through the use and / or volatile products that are sucked out of the free internal space. Through the exhaust pipe

Claims (1)

1. ชุดอุปกรณ์สำหรับปรับสภาพบริเวณอย่างน้อยส่วนของพื้นผิดของฐานรองที่มีความ ยาวมากกว่า 2 ฟุตและมีความกว้างมากกว่า 1 ฟุตและ/หรือมีพื้นที่ผิว 2 ตารางฟุตหรือมากว่านี้โดยใช้ ก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานโดยที่ชุดอุปกรณ์ดังกล่าวประกอบด้วย - ห้องดำเนินกรรมวิธีซึ่งประกอบด้วยเนื้อที่ว่างภายในที่ได้รับการปรับแต่งเพื่อให้สามารถ รองรับพื้นผิวของฐานรองได้อย่างน้อยส่วนหนึ่งและท่อร่วมไอเสีย - แหล่งจ่ายก๊าซทำปฏิกิริยาที่ถูกกระตุ้นให้ทำงานโดยที่ก๊าซสำหรับดำเนินแท็ก :1. A set of equipment for conditioning at least part of the wrong floor of the support base that is more than 2 feet long and more than 1 foot wide and / or 2 square feet or more surface area using. The reactive gas is activated where the kit consists of - a processing chamber with an internal space that has been optimized to enable Support at least part of the substrate surface and the exhaust manifold - the reactive gas supply, which is activated by the operating gas.
TH501004403A 2005-09-20 A complete set of equipment and procedures for treating substrate surfaces using activated reactive gas. TH76162A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH76162A true TH76162A (en) 2006-03-02

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2006034130A3 (en) Apparatus and process for surface treatment of substrate using an activated reactive gas
FR2874628A1 (en) IRONING APPARATUS COMPRISING AN IRON AND A PORTABLE BASE
TW200610482A (en) Heat pipe heatsink
TW200745727A (en) Lithographic projection apparatus, gas purging method, device manufacturing method and purge gas supply system
TW200504861A (en) Uniform etch system
TW200614962A (en) Cleaning appliance
ATE463852T1 (en) FUEL CELL HEATER AND METHOD FOR OPERATING A FUEL CELL HEATER
DE502005001185D1 (en) Cooking appliance with a cooking chamber drain and a siphon
TH76162A (en) A complete set of equipment and procedures for treating substrate surfaces using activated reactive gas.
RU2011128436A (en) DEVICE FOR CATALYTIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
TW200619115A (en) Substrate transferring apparatus
TW200740576A (en) Transferring device
EA201100141A1 (en) DEVICE TO REDUCE CARBON DIOXIDE IN Flue Combustion Gases
ITBO20040343A1 (en) A room air treatment device, in particular in the form of an air conditioner.
SG143132A1 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
TH88220A (en) Equipment and processes for treating substrate surfaces using activated reactive gas
DK1750071T3 (en) wood burning stove
Wu et al. Numerical simulation of VOCs emission from building materials: A comparison of different material shapes
TW200704431A (en) Holding and sealing member and exhaust emission control device
ITPI20050094A1 (en) CHEMICAL COMPOUND FOR COMBUSTION CATALYSIS AND EMPLOYEE EQUIPMENT
TW200720453A (en) Apparatus and method of vacuum deposition
TW200733854A (en) Plate type heat pipe
ATE361710T1 (en) CRYO APPLICATOR FOR LOCAL COOLING OF A SURFACE
FIU20000327U0 (en) Drying and heat treatment plant for wood
JP2008294104A5 (en) Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device