TH75523A - ผิวเคลือบแข็งและวิธีการผลิตผิวเคลือบแข็ง - Google Patents
ผิวเคลือบแข็งและวิธีการผลิตผิวเคลือบแข็งInfo
- Publication number
- TH75523A TH75523A TH501002778A TH0501002778A TH75523A TH 75523 A TH75523 A TH 75523A TH 501002778 A TH501002778 A TH 501002778A TH 0501002778 A TH0501002778 A TH 0501002778A TH 75523 A TH75523 A TH 75523A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- layer
- hard coatings
- evaporation
- source
- hard coating
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 ผิวเคลือบแข็งที่ก่อรูปขึ้นโดยวิธีการเกาะจับของไอทางกายภาพ ซึ่งประกอบด้วย ธาตุโลหะ ซึ่งประกอบด้วย Si และธาตุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย ธาตุโลหะ ทรานซิชันของหมู่ 4a, 5a และ 6a ในตารางธาตุ , A1 และ B และยังประกอบด้วยธาตุอโลหะอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งธาตุที่เลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย C, N และ O ผิวเคลือบแข็งนี้มีโครงสร้างเป็นแนวตรง ซึ่งประกอบด้วย โครงสร้างหลายชั้น ที่ประกอบขึ้นด้วย ชั้นจำนวนหนึ่งที่มีปริมาณของ Si ที่มีอยู่ ต่างกัน ริ้วโครงผลึกซึ่งมีลักษณะต่อเนื่องในบริเวณเขตระหว่างชั้น และแต่ละชั้นมีความหนา 0.1-100 นาโนเมตร ผิวเคลือบแข็งที่ก่อรูปขึ้นโดยวิธีการเกาะจับของไอทางกายภาพ ซึ่งประกอบด้วย ธาตุโลหะ ซึ่งประกอบด้วย Si และธาตุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย ธาตุโลหะ ทรานซิซันของหมู่ 4a, 5a และ 6a ในตารางธาตุ, A1 และ B และยังประกอบด้วยธาตุโลหะอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งธาตุที่เลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย C, N และ O ผิวเคลือบแข็งนี้มีโครงสร้างเป็นแนวตรง ซึ่งประกอบด้วย โครงสร้างหลายชั้น ที่ประกอบขึ้นด้วย ชั้นจำนวนหนึ่งที่มีปริมาณของ Si ที่มีอยู่ ต่างกัน ริ้วโครงผลึกซึ่งมีลักษณะต่อเนื่องในบริเวณเขตระหว่างชั้น และแต่ละชั้นมีความหนา 0.1-100 นาโนเมตร
Claims (6)
1. ผิวเคลือบแข็งที่ก่อรูปขึ้นโดยวิธีการเกาะจับของไอทางกายภาพ, ซึ่งประกอบรวมด้วย ธาตุโลหะซึ่งประกอบด้วย Si และธาตุอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยธาตุ โลหะทรานซิซันของหมู่ 4a, 5a และ 6a ในตารางธาตุ , A1 และ B และยังประกอบด้วย ธาตุอโลหะ อย่างน้อยหนึ่งธาตุที่เลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย C, N และ O ผิวเคลือบแข็งดังกล่าวมีโครงสร้าง แบบแท่งซึ่งประกอบรวมด้วยเกรนผลึกแท่ง, ซึ่งเกรนผลึกแท่งนี้ประกอบรวมด้วยโครงสร้างหลายชั้น ที่ประกอบขึ้นด้วยชั้นจำนวนหสึ่งที่มีปริมาณของ Si ที่มีอยู่ต่างกัน, ริ้วโครงผลึกมีลักษณะต่อเนื่องใน บริเวณเขตระหว่างชั้นในโครงสร้างหลายชั้นดังกล่าว และแต่ละชั้นมีความหนา 0.1-100 นาโนเมตร
2. ผิวเคลือบแข็งตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบด้วยเฟสที่เป็นผลึกซึ่งมี Si อยู่ ซึ่งประกอบ ด้วย อัลฟา-Si3N4 และ เบตา-Si3N4
3. ผิวเคลือบแข็งตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือข้อ 2 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งประกอบด้วยพันธะของ Si และ O
4. ผิวเคลือบแข็งตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งมีพื้นผิวที่ทำให้เรียบด้วย เครื่องจักร
5. วิธีการสำหรับผลิตผิวเคลือบแข็งที่มีโครงสร้างแบบหลายชั้น ซึ่งมีเม็ดผลึกขยายออก ต่อเนื่องกันไปโดยไม่มีผิวหน้าระหว่างชั้นบนพื้นผิวชั้นฐาน ซึ่งประกอบด้วย การปล่อยไอจาก แหล่งกำเนิดสำหรับการเกาะจับของไอทางกายภาพจำนวนสองแหล่งกำเนิดหรือมากกว่าในเวลา เดียวกัน ซึ่งมีความหนาแน่นของพลาสมาต่างกัน เพื่อก่อรูปชั้นที่หนึ่งโดยแหล่งกำเนิดสำหรับ การระเหยที่มีความหนาแน่นของพลาสมาสูงกว่า และชั้นที่สองโดยแหล่งกำเนิดสำหรับการระเหยที่มี ความหนาแน่นของพลาสมาต่ำกว่า
6. วิธีการสำหรับผลิตผิวเคลือบแข็งตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่ง แหล่งกำเนิดสำหรับการระเหย ที่มีความหนาแน่นของพลาสมาสูงกว่าเป็นเป้าสำหรับชุบด้วยไอออนแบบปล่อยประจุอาร์ก และ แหล่งกำเนิดสำหรับการระเหยที่มีความหนาแน่นของพลาสมาต่ำกว่าเป็นเป้าสำหรับการฉาบ แมกนิตรอน
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH75523A true TH75523A (th) | 2006-02-09 |
| TH51263B TH51263B (th) | 2016-09-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW570989B (en) | Hard film for cutting tools, cutting tool coated with hard film, process for forming hard film, and target used to form hard film | |
| JP6854241B2 (ja) | 多層ｐｖｄコーティングを有する切削工具 | |
| Zambrano et al. | Optical emission spectroscopy study of rf magnetron sputtering discharge used for multilayers thin film deposition | |
| RU2010141746A (ru) | Элемент, покрытый твердым материалом | |
| CA2559042A1 (en) | Tantalum carbide-coated carbon material and production method thereof | |
| RU2010141751A (ru) | Элемент, покрытый твердым материалом | |
| RU2017126262A (ru) | ПОКРЫТИЕ НА ОСНОВЕ AlCrN, ОБЕСПЕЧИВАЮЩЕЕ ПОВЫШЕННУЮ УСТОЙЧИВОСТЬ К КРАТЕРНОМУ ИЗНОСУ | |
| JP2018517059A5 (th) | ||
| BRPI0913221B1 (pt) | camada de revestimento rígido e método para formação da mesma | |
| WO2014053209A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer metallborocarbidschicht auf einem substrat | |
| DE602005018540D1 (de) | Flüssige beschichtungszusammensetzungen mit einer verbindung aus mindestens einem polyfunktionellen isocyanurat, entsprechende mehrschichtige verbundbeschichtungen, verfahren und beschichtete substrate | |
| KR101571253B1 (ko) | 2층 플렉시블 배선용 기판 및 그 제조방법, 및 2층 플렉시블 배선판 및 그 제조방법 | |
| JP2018039045A5 (th) | ||
| TH51263B (th) | ผิวเคลือบแข็งและวิธีการผลิตผิวเคลือบแข็ง | |
| TH75523A (th) | ผิวเคลือบแข็งและวิธีการผลิตผิวเคลือบแข็ง | |
| KR102107663B1 (ko) | 연성동박적층필름 및 이의 제조방법 | |
| EP2031090A3 (en) | Hard covering film for cutting tool | |
| Park et al. | Mechanical and structural properties of multilayer c-BN coatings on cemented carbide cutting tools | |
| RU2551331C2 (ru) | Способ получения многослойного градиентного покрытия методом магнетронного напыления | |
| KR20120053195A (ko) | 내열접착력을 개선한 연성회로기판용 동박 적층 구조체 및 그의 제조방법 | |
| KR20230121057A (ko) | 적어도 2개의 상이한 AlCr-기반 타겟으로부터 제조된 내마모성 코팅 | |
| JP5065757B2 (ja) | 被覆切削工具 | |
| Yang et al. | Fabrication and characterization of nanolayered single element nitride coating | |
| Taghavi Pourian Azar et al. | Effect of high-voltage pulse bias on the stress and morphology of CA-PVD TiN coatings | |
| Čekada et al. | Deposition and characterisation of Al–Cu–Fe thin films |