TH74882A

TH74882A - องค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับผม

Info

Publication number: TH74882A
Application number: TH501001299A
Authority: TH
Inventors: ฟูกูฮาระ นายคาซึอิซะ; อูเอยามะ นายเคนอิชิ
Original assignee: คาโอ คอร์ปอเรชั่น; นายธเนศ เปเรร่า; นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Filing date: 2005-03-23
Publication date: 2006-01-23

Abstract

DC60 ได้จัดให้มีองค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับผมที่ปล่อยทิ้งไว้, ซึ่งมีส่วนประกอบ (A) และ (B) ต่อไปนี้: (A) กรดซิตริก หรือ เกลือของสารเหล่านี้, และ (B) ตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยหนึ่งชนิดหรือมากกว่าที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย อะโร มาติกแอลกอฮอล์, N-แอลคิลไพร์โรลิโดน, แอลคิลีน คาร์บอเนต, โพลีโพรพิลีน ไกลคอล, แลคโตน และไซคลิคคีโตน, ที่ซึ่ง ตัวทำละลายอินทรีย์มี ClogP จาก -2 ถึง 3; และ ที่ซึ่งองค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับผมที่ปล่อยทิ้งไว้มี pH จาก 2 ถึง 5 ที่ 25 องศา ซ. เมื่อถูก เจือจาง 20 เท่าของน้ำหนักด้วยน้ำ และมีความสามารถในการบัฟเฟอร์ 0.001 กรัมสมมูล/ลิตร หรือ มากกว่า แต่น้อยกว่า 0.2 กรัมสมมูล/ลิตร. ได้จัดให้อีกด้วยวิธีปรับปรุงคุณภาพผมที่ประกอบด้วยการบำบัดผมด้วยองค์ประกอบเครื่องสำอาง สำหรับผม. องค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับผมของการประดิษฐ์นี้ สามารถให้ข้อดี เช่น ความมัน, ความสามารถในการจัดการ, และความรู้สึกที่ดีของผมต่อผมที่แห้งง่ายและไม่มีความชื้น ที่เนื่องจาก ความเสียหายจากการทำสีผม, การดัดถาวร, หรือ การเป่าผมให้แห้งมากเกินไปอย่างซ้ำๆ ได้จัดให้มีองค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับผมที่ปล่อยทิ้งไว้, ซึ่งมีส่วนประกอบ (A) และ (B) ต่อไปนี้ : (A) กรดซิตริก, หรือ เกลือของสารเหล่านี้ , และ (B) ตัวทำละลายอินทรีย์อย่างน้อยหนึ่งชนิหรือมากกว่าที่เลือกจากก ลุ่มที่ประกอบด้วย อะโร มาติกแอลกอฮอล์, N - แอลคิลไพร์โรลิโดน,แ อลคิลีน คาร์บอเนต,โพลีพรพิลีน ไกลคอล,แลคโตน และไซคลิคคีโตน,ท ี่ซึ่ง ตัวทำลายอินทรีย์มี ClogP จาก -2 ถึง 3; และ ที่ซึ่งองค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับผมที่ปล่อยทิ้งไว้นี้ มี p H จาก 2 ถึง 5 ที่ 25 องศา ซ. เมื่อถูก เจือจาง20 เท่า ของน้ำหน ักด้วยน้ำ และมีความสามารถในการบัฟเฟอร์ 0.001 กรัมสมมูล/ลิตร หรือ มากกว่า แต่น้อยกว่า 0.2 กรัมสมมูล/ลิตร. ได้จัดให้อีกด้วยวิธีปรับปรุงคุณภาพผมที่ประกอบด้วยการบำบัดผมด้ว ยองค์ประกอบเครื่องสำอาง สำหรับผม. องค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับผมของการประดิษฐ์นี้ สามารถให้ข ้อดี เช่น ความมัน, ความสามารถในการจัดการ,และความรู้สึกที่ดีขอ งผมต่อผมที่แห้งง่ายและไม่มีความชื้น ที่เนื่องจาก ความเสียหาย จากการทำสีผม,การดัดถาวร,หรือ การเป่าผมให้แห้งมากเกินไปอย่างซ้ำๆ

Claims

1.องค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับผมที่ปล่อยทิ้งไว้ ที่ประกอบด้วยส่วนประกอบ (A) และ (B) ต่อไปนี้: (A) กรดซิตริก, หรือ เกลือของสารเหล่านี้ , และ (B) ตัวทำลายอินทรีย์อย่างน้อยหนึ่งชนิหรือมากกว่าที่เลือกจากก ลุ่มที่ประกอบด้วย อะโรมาติกแอลกอฮอล์, N - แอลคิลไพร์โรลิโดน,แ อลคิลีน คาร์บอเนต,โพลีพรพิลีน ไกลคอล,แลคโตน และไซคลิคคีโตน,ท ี่ซึ่ง ตัวทำลายอินทรีย์มี ClogP จาก -2 ถึง 3; และ ที่ซึ่งองคืประกอบเครื่องสำอางสำหรับผมที่ปล่อนทิ้งไว้นี้ มี p H จาก 2 ถึง 5 ที่ 25 องศา ซ. เมื่อถูกเจือ จาง20 เท่า ของน้ำหน ักด้วยน้ำ และมีความสามารถในการบัฟเฟอร์ 0.001 กรัมสมมูล/ลิตร หรือ มากกว่า แต่น้อยกว่า 0.2 กรัมสมมูล/ลิตร.

2.องค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับผมของข้อถือสิทธิ 1ลที่ประกอบต่ อไปอีกด้วยโพลี เมอร์ที่ทำให้อยู่ตัว.

3.องค์ประกอบเครื่องสำอางสำหรับผมของข้อถือสิทธิ 1,ที่ประกอบต่ อไปอีกด้วย ส่วนผประกอบปรับสภาพอย่างน้อยหนึ่งชนิดหรือมากกว่าที ่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยซิลิโคน และ สารน้ำมัน.

4.องคืประกอบเครื่องสำอางสำผรับผมของข้อถือสิทธิ 1, ที่ประกอบต ่อไปอีกด้วยแคทอิ ออนิคเซอร์แฟคเทนท์

5.วิธีปรับปรุงคุณภาพผมที่ประกอบด้วยขั้นตอนของการบำบัดผมด้วยอ งค์ประกอบ เครื่องสำอางสำหรับผมของข้อถือสิทธิ 1