TH65706B - แผ่นเหล็กกล้าสำหรับบรรจุภัณฑ์ - Google Patents

Abstract

------11/04/2561------(OCR) หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า บทสรุปการประติษ^ แผ่นเหล็กกล้าสำหรับบรรชุภัณฑ์ ที่ซํ่งประกอบด้วยชั้นเคลือบ Ni หรือชั้นเคลือบด้วย อัลลอย Fe-Ni บนผิวของแผ่นเหล็กกล้า โดยชั้นเคลือบ Ni จะประกอบด้วย 5 มก./ม.2ถึง150 มก./ม.2 และชั้นเคลือบด้วยอัลดอย Fe-Ni จะมี Ni 5 มก./ม.2ถึง 150มก./ม.2 โดยรทที่ 300 มก./ม.2ถึง 300 มก./ม.2 จะถูกนำมาเคลือบบนชั้นเคลือบ Ni หรือชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni, ชั้นเคลือบ Ni หรือ บางส่วนหรือทั้งหมดของชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni และบางส่วนของชั้นเคลือบ รท จะถูกนำมา ผสมและชั้นเคลือบรท จะถูกปล่อยทิ้งไว้เป็นบางส่วนโดยกระบวนการหลอมดีบุกโดยฟิล์มสองชนิด หรือมากกว่าของฟิล์ม Zr ที่มี Zr ในปริมาณ 1 มก./ม.2 ถึง500 มก./ม.21 ฟิล์มจากกรดฟอสฟอริกที่มี P ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2ถึง100 มก./ม.2 และฟิล์มจากฟิโนล เรชินที่มี C ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2ถึง 100 มก./ม.2 ที่สร้างขึ้นบนชั้นเคลือบ รท ที่เปีนอัลลอย และชั้นเคลือบ รท ที่ปล่อยทิ้งไว้ ------------ แผ่นเหล็กกล้าสำหรับบรรจุภัณฑ์ ที่ซึ่งประกอบด้วยชั้นเคลือบ Ni หรือชั้นเคลือบด้วย อัลลอย Fe-Ni บนผิวของแผ่นเหล็กกล้า โดยชั้นเคลือบ Ni จะประกอบด้วย 5 มก./ม.2 ~150 มก./ม.2 และชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni จะมี Ni 5 มก./ม.2 ~ 150 มก./ม.2 โดย Sn ที่ 300 มก./ม.2 ~ 300 มก./ม.2 จะถูกนำมาเคลือบบนชั้นเคลือบ Ni หรือชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni, ชั้นเคลือบ Ni หรือ บางส่วนหรือทั้งหมดของชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni และบางส่วนของชั้นเคลือบ Sn จะถูกนำมา ผสม และชั้นเคลือบ Sn จะถูกปล่อยทิ้งไว้เป็นบางส่วนโดยกระบวนการหลอมดีบุก โดยฟิลล์มสองชนิด หรือมากกว่าของฟิล์ม Zr ที่มี Zr ในปริมาณ 1 มก./ม.2 ~ 500 มก./ม.2 ,ฟิล์มจากกรดฟอสฟอริกที่มี P ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 100 มก./ม.2 และฟิล์มจากฟีโนลเรซินที่มี C ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 100 มก./ม.2 ที่สร้างขึ้นบนชั้นเคลือบ Sn ที่เป็นอัลลอย และชั้นเคลือบ Sn ที่ปล่อยทิ้งไว้

Claims (9)

------11/04/2561------(OCR) หน้า 1 ของจำนวน 2 หน้า ข้อถือสิทธิ 1. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับภาชนะบรรชุ, ซํ่งประกอบรวมด้วยชั้นที่เคลือบ Ni หรือ ชั้นที่เคลือบ ด้วย อัลลอย Fe-Ni ที่ถูกก่อรูปบนผิวหน้าของแผ่นเหล็กกล้า, ชั้นที่เคลือบ Ni ที่รวมถึง Ni ที่ 5 มก./ม.2 ถึง 150 มก./ม.2 และชั้นที่เคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni ที่รวมถึง Ni ที่ 5 มก./ม.2ถึง!50 มก./ม.2 ที่ชั้ง รทที่ 300 มก./ม.2 ถึง 3000 มก./ม.2 ถูกเคลือบบนชั้นที่เคลือบ Ni หรือ ชั้นที่เคลือบ ด้วยอัลลอย Fe-Ni ที่ชํ่งชั้นที่เคลือบ Ni หรือ บางส่วน หรือ ทั้งหมดของชั้นที่เคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni และ บางส่วนของชั้นที่เคลือบ รทถูกนำมาผสม และชั้นที่เคลือบ รทถูกปล่อยทิ้งไว้บางส่วนโดย กระบวนการหลอมดีบุก และ ที่ชํ่งฟิล์ม Zr สองชนิด หรือ มากกว่าที่รวมถึงปริมาณของ Zr ที่ 1 มก./ม.2ถึง 500 มก./ม.2, ฟิล์มจากกรดฟอสฟ่อริกที่รวมถึงปริมาณของ P ที่ 0.1 มก./ม.2ถึง 100 มก./ม.2 และฟิล์มจากฟิโนลเร ชินที่รวมถึงปริมาณ C ที่ 0.1 มก./ม.2ถึง 100 มก./ม.2 ถูกก่อรูปบนชั้นที่เคลือบ รทที่เป็นอัลลอย และ ชั้นที่เคลือบ รท ที่ปล่อยทิ้งไว้ 2. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับภาชนะบรรชุ, ชํ่งประกอบรวมด้วย1ชั้นที่เคลือบ Ni หรือ ชั้นที่เคลือบ ด้วยอัลลอย Fe-Ni ที่ถูกก่อรูปบนผิวหน้าของแผ่นเหล็กกล้า, ชั้นที่เคลือบ Ni ที่รวมถึง Ni ที่ 5 มก./ม.2 ถึง 150 มก./ม.2 และชั้นที่เคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni ที่รวมถึง Ni ที่ 5 มก./ม.2ถึง 150 มก./ม.2 ที่ชํ่ง รท ที่ 300 มก./ม.2ถึง 3000 มก./ม.2ถูกเคลือบบนชั้นที่เคลือบ Ni หรือ ชั้นที่เคลือบด้วยอัล ลอย Fe-Ni ที่ซํ่งชั้นที่เคลือบ Ni หรือ บางส่วน หรือ ทั้งหมดของชั้นที่เคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni และ บางส่วนของชั้นที่เคลือบ รทถูกนำมาผสม และชั้นที่เคลือบ รทถูกปล่อยทิ้งไว้บางส่วนโดย กระบวนการหลอมดีบุก และ ที่ชํ่งฟิล์ม Zr สองชนิด หรือ มากกว่าที่รวมถึงปริมาณของ Zr ที่ 1 มก./ม.2ถึง 15 มก./ม.2, ฟิล์ม จากกรดฟอสฟ่อริกที่รวมถึงปริมาณของ P ที่ 0.1 มก./ม.2ถึง 15 มก./ม.2 และฟิล์มจากฟิโนลเรชินที่ รวมถึง,ปริมาณ C ที่ 0.1 มก./ม.2ถึง 15 มก./ม.2ถูกก่อรูปบนชั้นที่เคลือบ รทที่เป็นอัลลอย และชั้นที่ เคลือบ รทที่ปล่อยทิ้งไว้ 3. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับภาชนะบรรชุ, ชํ่งประกอบรวมด้วยชั้นที่เคลือบ Ni หรือ ชั้นที่เคลือบ ด้วยอัลลอย Fe-Ni ที่ถูกก่อรูปบนผิวหน้าของแผ่นเหล็กกล้า, ชั้นที่เคลือบ Ni ที่รวมถึง Ni ที่ 5 มก./ม.2 ถึง 150 มก./ม.2 และชั้นที่เคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni ที่รวมถึง Ni ที่ 5 มก./ม.2ถึง 150 มก./ม.2 ที่ซํ่ง รทที่ 300 มก./ม.2ถึง 3000 มก./ม่.2ถูกเคลือบบนชั้นที่เคลือบ Ni หรือ ชั้นที่เคลือบด้วย อัลลอย Fe-Ni หน้า2ของจำนวน2หน้า ที่ชํ่งชั้นที่เคลือบ Ni หรือ บางส่วน หรือ ทั้งหมดของชั้นที่เคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni และ บางส่วนของชั้นที่เคลือบ รทถูกนำมาผสม และชั้นที่เคลือบ รทถูกปล่อยทิ้งไว้บางส่วนโดย กระบวนการหลอมดีบุก และ ที่ซํ่งฟิล์ม Zr สองชนิด หรือ มากกว่าที่รวมถึงปริมาณของ Zr ที่ 1 มก./ม.2ถึง 9 มก./ม.2, ฟิล์ม จากกรดพ่อสฟอริกที่รวมถึงปริมาณของ P ที่ 0.1 มก./ม.2ถึง 8 มก./ม.2 และฟิล์มจากฟิโนลเรชิน ที่รวมถึงปริมาณ C ที่ 0.1 มก./ม.2ถึง 8 มก./ม.2 ถูกก่อรูปบนชั้นที่เคลือบ รท ที่เป็นอัลลอย และชั้น ที่เคลือบ รท ที่ปล่อยทิ้งไว้ 4. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับภาชนะบรรจุ,ซํ่งประกอบรวมด้วยชั้นที่เคลือบ รทที่560 มก./ม.2ถึง 5600 มก./ม.2ซึ่งถูกก่อรูปบนผิวหน้าของแผ่นเหล็กกล้า ที่ซึ่งบางส่วนของชั้นที่เคลือบ รท ถูกนำมาผสมโดยกระบวนการหลอมดีบุก และ ที่ชํ่งฟิล์ม Zr สองชนิดหรือมากกว่าที่รวมถึงปริมาณของ Zr ที่ 1 มก./ม.2ถึง 500 มก./ม.2, ฟิล์มจากกรดพ่อสพ่อริกที่รวมถึงปริมาณของ P ที่0.1มก./ม.2ถึง 100มก./ม.2และ'ฟิล์มจาก'ฟิโนล เรซินที่รวมถึงปริมาณ C ที่ 0.1 มก./ม.2ถึง 100 มก./ม.2 ถูกก่อรูปบนชั้นที่เคลือบ รท ที่เป็นอัลลอย 5. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับภาชนะบรรจุ,ซึ่งประกอบรวมด้วยชั้นที่เคลือบ รทที่560 มก./ม.2ถึง 5600 มก./ม.2 ซึ่งถูกก่อรูปบนผิวหน้าของแผ่นเหล็กกล้า ที่ซึ่งบางส่วนของชั้นที่เคลือบรทถูกนำมาผสมโดยกระบวนการหลอมดีบุกและ ที่ซึ่งฟิล์ม Zr สองชนิด หรือ มากกว่าที่รวมถึงปริมาณของ Zr ที่ 1 มก./ม.2ถึง 15 มก./ม.2, ฟิล์ม จากกรดพ่อสพ่อริกที่รวมถึงปริมาณของ P ที่ 0.1 มก./ม.2ถึง 15 มก./ม.2 และฟิล์มจากฟิโนลเรชินที่ รวมถึงปริมาณ C ที่ 0.1 มก./ม.2 ถึง 15 มก./ม.2 ถูกก่อรูปบนชั้นที่เคลือบ รท ที่เปีนอัลลอย 6. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับภาชนะบรรจุ, ซึ่งประกอบรวมด้วยชั้นที่เคลือบ รท ที่ 560 มก./ม.2 ถึง 5600 มก./ม.2 ซึ่งถูกก่อรูปบนผิวหน้าของแผ่นเหล็กกล้า ที่ซึ่งบางส่วนของชั้นที่เคลือบ รทถูกนำมาผสมโดยกระบวนการหลอมดีบุกและ ที่ซึ่งฟิล์ม Zr สองชนิด หรือ มากกว่าที่รวมถึงปริมาณของ Zr ที่ 1 มก./ม.2ถึง 9 มก./ม.2, ฟิล์ม จากกรดพ่อสพ่อริกที่รวมถึงปริมาณของ P ที่ 0.1 มก./ม.2ถึง 8 มก./ม.2 และฟิล์มจากฟิโนลเรชิน ที่รวมถึงปริมาณ C ที่ 0.1 มก./ม.2 ถึง 8 มก./ม.2 ถูกก่อรูปบนชั้นที่เคลือบ รท ที่เป็นอัลลอย 7. แผ่นเหล็กกล้าตามขอลือสิทธิที่ 1 ถึง 6 ข้อใดข้อหนง ที่ซึ่งฟิล์ม Zr สองชนิด หรือ มากกว่า, ฟิล์มจากกรดพ่อสพ่อริก และฟิล์มจากฟิโนลเรชินถูกก่อรูปโดยกระบวนการแคโทด อิเล็กโทรไลชิส 8. แผ่นเหล็กกล้าตามข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 6 ข้อใดข้อหนง ที่ซึ่งฟิล์ม Zr, ฟิล์มจากกรด พ่อสพ่อริก และฟิล์มจากฟิโนลเรชินทั้งหมดถูกก่อรูปโดยกระบวนการแคโทด อิเล็กโทรไลชีส 9. แผ่นเหล็กกล้าตามข้อถือสิทธิที่ 7 ที่ซึ่งกระบวนการแคโทด อิเล็กโทรไลชีสถูกดำเนินการ ในสารละลายที่เป็นกรด หรือ สารละลายที่เป็นกรดที่มีกรดแทนนินอยู่ 10. แผ่นเหล็กกล้าตามข้อถือสิทธิที่ 8 ที่ซึ่งกระบวนการแคโทด อิเล็กโทรไดชีสถูกดำเนินการ ในสารละลายที่เป็นกรด หรือ สารละลายที่เป็นกรดที่มีกรดแทนนินอยู่ ------------

1. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับบรรจุภัณฑ์ ที่ซึ่งประกอบด้วย ชั้นเคลือบ Ni หรือชั้นเคลือบ ด้วยอัลลอย Fe-Ni บนผิวของแผ่นเหล็กกล้า โดยชั้นเคลือบ Ni จะประกอบด้วย Ni 5 มก./ม.2 ~ 150 มก./ม.2 และชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni ที่มี Ni 5 มก./ม.2 ~ 150 มก./ม.2 , ที่ซึ่ง Sn ที่ 300 มก./ม.2 ~ 3000 มก./ม.2 จะถูกนำมาเคลือบบนชั้นเคลือบ Ni หรือ ชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni, ที่ซึ่งชั้น Ni หรือบางส่วนหรือทั้งหมดของชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni และ บางส่วนของชั้นเคลือบ Sn จะถูกนำมาผสม และชั้นเคลือบ Sn จะถูกปล่อยทิ้งไว้บางส่วนโดย กระบวนการหลอมดีบุก และ ที่ซึ่งฟิล์มสองชนิดหรือมากกว่าของฟิล์ม Zr ที่มี Zr อยู่ในปริมาณ 1 มก./ม.2 ~ 500 มก./ม.2 ,ฟิล์มสองชนิดหรือมากกว่าของฟิล์ม Zr ที่มี Zr อยู่ในปริมาณ 1 มก./ม.2 และฟิล์มจาก ฟีโนลเรซินที่มี C ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 100 มก./ม.2 จะถูกสร้างขึ้นเป็นชั้นเคลือบ Sn ที่เป็น อัลลอย และชั้นเคลือบ Sn ที่ปล่อยทิ้งไว้

2. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับบรรจุภัณฑ์ ที่ประกอบด้วย ชั้นเคลือบ Ni หรือชั้นเคลือบด้วย อัลลอย Fe-Ni บนผิวของแผ่นเหล็กกล้า โดยชั้นเคลือบ Ni จะมี 5 มก./ม.2 ~ 150 มก./ม.2 และ ชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni จะมี Ni 5 มก./ม.2 ~ 150 มก./ม.2 , ที่ซึ่ง Sn ที่ 300 มก./ม.2 ~ 3000 มก./ม.2 จะถูกนำมาเคลือบบนชั้นเคลือบ Ni หรือ ชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni, ที่ซึ่งชั้นเคลือบ Ni หรือบางส่วนหรือทั้งหมดของชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni และ บางส่วนของชั้นเคลือบ Sn จะถูกนำมาผสม และชั้นเคลือบ Sn จะถูกปล่อยทิ้งไว้บางส่วนโดย กระบวนการหลอมดีบุก และ ที่ซึ่งฟิล์มสองชนิดหรือมากกว่าของฟิล์ม Zr ที่มี Zr ในปริมาณ 1 มก./ม.2 ~ 15 มก./ม.2, ฟิล์มจากกรดฟอสฟอริกที่มี P ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 15 มก./ม.2 และฟิล์มจากฟีโนลเรซินที่มี C ใน ปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 15 มก./ม.2 จะถูกสร้างขึ้นบนชั้นเคลือบ Sn ที่เป็นอัลลอย และชั้นเคลือบ Sn ที่ ปล่อยทิ้งไว้

3. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับบรรจุภัณฑ์ ที่ซึ่งประกอบด้วย ชั้นเคลือบ Ni หรือชั้นเคลือบ ด้วยอัลลอย Fe-Ni บนผิวของแผ่นเหล็กกล้า โดยชั้นเคลือบ Ni จะมี Ni 5 มก./ม.2 ~ 150 มก./ม.2 และ ชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni จะมี Ni 5 มก./ม.2 ~ 150 มก./ม.2 , ที่ซึ่ง Sn ที่ 300 มก./ม.2 ~ 3000 มก./ม.2 จะถูกนำมาเคลือบบนชั้นเคลือบ Ni หรือ ชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni, ที่ซึ่งชั้นเคลือบ Ni หรือบางส่วนหรือทั้งหมดของชั้นเคลือบด้วยอัลลอย Fe-Ni และ บางส่วนของชั้นเคลือบ Sn จะถูกนำมาผสม และชั้นเคลือบ Sn จะถูกปล่อยทิ้งไว้บางส่วนโดย กระบวนการหลอมดีบุก และ ที่ซึ่งฟิล์มสองชนิดหรือมากกว่าของฟิล์ม Zr ที่มี Zr ในปริมาณ 1 มก./ม.2 ~ 9 มก./ม.2, ฟิล์มจากกรดฟอริกที่มี P ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 8 มก./ม.2 และฟิล์มจากฟีโนลเรซินที่มี C ใน ปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 8 มก./ม.2 จะถูกสร้างขึ้นบนชั้นเคลือบ Sn ที่เป็นอัลลอย และชั้นเคลือบ Sn ที่ ปล่อยทิ้งไว้

4. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับบรรจุภัณฑ์ ที่ซึ่งประกอบด้วย ชั้นเคลือบ Sn 560 มก./ม.2 ~ 5600 มก./ม.2 ที่เคลือบบนผิวของแผ่นเหล็กกล้า, ที่ซึ่งบางส่วนของชั้นเคลือบ Sn จะถูกผสมโดยกระบวณการหลอมดีบุก และ ที่ซึ่งฟิล์มสองชนิดหรือมากกว่าของฟิล์ม Zr ที่มี Zr ในปริมาณ 1 มก./ม.2 ~ 500 มก./ม.2 , ฟิล์มจากกรดฟอสฟอริกที่มี P ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 100 มก./ม.2 และฟิล์มจากฟีโนลเรซินที่มี C ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 100 มก./ม.2 จะถูกสร้างขึ้นบนชั้นเคลือบ Sn ที่เป็นอัลลอย

5. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับบรรจุภัณฑ์ ที่ซึ่งประกอบด้วย ชั้นเคลือบ Sn 560 มก./ม.2 ~ 5600 มก./ม.2 ที่สร้างขึ้นบนผิวของแผ่นเหล็กกล้า, ที่ซึ่งบางส่วนของชั้นเคลือบ Sn จะถูกผสมโดยกระบวนการหลอมดีบุก และ ที่ซึ่งฟิล์มของชนิดหรือมากกว่าของฟิล์ม Zr ที่มี Zr ในปริมาณ 1 มก./ม.2 ~ 15 มก./ม.2, ฟิล์มจากกรดฟอสฟอริกที่มี P ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 15 มก./ม.2 และฟิล์มจากฟีโนลเรซินที่มี C ใน ปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 15 มก./ม.2 จะถูกสร้างขึ้นบนชั้นเคลือบ Sn ที่เป็นอัลลอย

6. แผ่นเหล็กกล้าสำหรับบรรจุภัณฑ์ ที่ซึ่งประกอบด้วย ชั้นเคลือบ Sn 560 มก./ม.2 ~ 5600 มก./ม.2 ที่สร้างขึ้นบนผิวของแผ่นเหล็กกล้า, ที่ซึ่งบางส่วนของชั้นเคลือบ Sn จะถูกผสมโดยกระบวนการหลอมดีบุก และ ที่ซึ่งฟิล์มสองชนิดหรือมากกว่าของฟิล์ม Zr ที่ประกอบด้วย Zr ในปริมาณ 1 มก./ม.2 ~ 9 มก./ม.2 , ฟิล์มจากกรดฟอสฟอริกที่มี P ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 8 มก./ม.2 และฟิล์มจาก ฟีโนลเรซินที่มี C ในปริมาณ 0.1 มก./ม.2 ~ 8 มก./ม.2 จะถูกสร้างขึ้นบนชั้นเคลือบ Sn ที่เป็นอัลลอย

7. แผ่นเหล็กกล้าตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 6 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งฟิล์มสองชนิด หรือมากกว่าของฟิล์ม Zr, ฟิล์มจากกรดฟอสฟอริก และฟิล์มจากฟีโนลเรซินจะถูกสร้างขึ้นโดย กระบวนการแคโทด อิเล็กโทรไลซีส

8. แผ่นเหล็กกล้าตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 6 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งฟิล์ม Zr, ฟิล์มจากกรดฟอสฟอริก และฟิล์มจากฟีโนลเรซินทั้งหมด จะถูกสร้างขึ้นโดยกระบวนการแคโทด อิเล็กโทรไลซีส

9. แผ่นเหล็กกล้าตามที่ระบุไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 7 หรือข้อ 8 ที่ซึ่งกระบวนการเเคโทด อิเล็กโทรไลซีส จะถูกนำมาใช้ในสารละลายที่เป็นกรดหรือสารละลายที่เป็นที่มีกรดเเทนนิน ผสมอยู่