Claims (9)
1. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าที่ประกอบรวมด้วย เฟสที่มีเรซินที่ได้ รับการกระจายตัวไปในตัวกลางแอคเควียส เฟสที่มีเรซินดังกล่าวที่ประกอบรวมด้วย: (a) เรซินที่บรรจุด้วยหมู่เกลือแบบไอออนที่บรรจุด้วยแอกทีฟไฮโดรเจน ที่ไม่เป็นเจล และ (b) ตัวกระทำการบ่ม ที่ทำปฏิกิริยากับแอกทีฟไฮโดรเจนของเรซิน (a) นั้น เฟสที่มีเรซินดังกล่าว ที่มี เนื้อสารฮาโลเยตที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ที่อยู่บนพื้นฐาน ของน้ำหนักทั้งหมดของของแข็งที่เป็นเรซินที่มีอยู่ในเฟสที่มีเรซินดังกล่าว เพื่อที่ว่าเมื่อสารผสมดัง กล่าวได้รับการตกสะสมด้วยไฟฟ้าและได้รับการบ่มเพื่อที่จะจัดขึ้นรูปเป็นฟิล์มที่ได้รับการบ่ม ฟิล์มที่ ได้รับการบ่มดังกล่าวจะผ่านการทดสอบความต้านทานการลุกติดไฟในลักษณะที่สอดคล้องกับ IPC-TM-650 และมีค่าคงตัวไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.501.Electrically deposited coating mixtures that include Phase with the resulting resin Get dispersed into the media The phases containing such resins include: (a) Active hydrogen ion-containing salt groups. Gel-free and (b) curing agent When reacting with the active hydrogen of the resin (a), the phase containing such resins with halo content with covalent bonds is based on Of the total weight of resin solids contained in the phase containing such resins So that when the mixture is loud Such cured film is electrolytic deposition and cured in order to form a cured film.The cured film is then tested for fire resistance in a manner consistent with IPC- TM-650 and a dielectric constant less than or equal to 3.50.
2. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง ฟิล์มที่ได้รับ การบ่มดังกล่าว มีค่าคงตัวไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.302. Electro-deposited coating mixture of claim 1, where the film received Such incubation Have a dielectric constant that is less than or equal to 3.30
3. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง เฟสที่มีเรซิน ดังกล่าวจะมีเนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ที่มีค่าพิสัยจาก 1 ถึง 50 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนัก ที่อยู่บนพื้นฐานของน้ำหนักทั้งหมดของของแข็งที่เป็นเรซินที่มีอยู่ในเฟสที่มีเรซินนั้น3. Electrolytic coating compound of claim 1 where the resin-containing phase It contains covalent halogen content with a range of 1 to 50% by weight. It is based on the total weight of the resin solids present in the resin phase.
4. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง ฟิล์มที่ได้รับ การบ่มดังกล่าว มีค่าคงตัวไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.004. Electrolytic Deposition of Coating Mixture of claim 1, where the film received Such incubation Have a dielectric constant that is less than or equal to 3.00
5. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง ฟิล์มที่ได้รับ การบ่มดังกล่าว มีตัวประกอบการสูญเสียไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 0.025. Electrolytic Deposition of Coating Mixture of claim 1, where the film received Such incubation Has a dielectric loss factor that is less than or equal to 0.02.
6. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง เรซิน (a) นั้น ประกอบรวมด้วย หมู่เกลือแบบแคทไอออน6. Electrolytic Deposition Mixture of claim 1, where the resin (a) is included. Cationic salt group
7. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 6 ที่ซึ่ง หมู่เกลือแบบ แคทไอออนนั้นได้รับเลือกมาจาก หมู่เกลืออะมีนและ/หรือหมู่เกลือเเอมโมเนียม7. Electrolytic coating mixture of claim 6, where the cationic salt group was chosen from Amine and / or amine groups
8. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ซึ่ง เรซิน (a) นั้น ประกอบรวมด้วย อย่างน้อยหนึ่งพอลิเมอร์ที่ได้รับมาจากพอลิอีพอกไซด์ และ/หรืออะคริลิกพอลิเมอร์8.Electrically deposited coating admixture of claim 7, where the resin (a) is included. At least one polymer obtained from the polyepoxide And / or acrylic polymer
9. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่ซึ่ง เรซิน (a) นั้น จะมีเนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ที่ได้รับมาจากพอลิอีพอกไซด์ที่ได้รับการฮาโลจิเนท และ/หรืออะคริลิกพอลิเมอร์ที่ได้รับการฮาโลจิเนท 19.Electrically deposited coatings of claim 3, where the resin (a) is covalent bonded halogen content derived from the polyepox. Halogenated sites And / or halogenated acrylic polymer 1
0. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่ซึ่ง เรซิน (a) นั้น จะมีเนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ที่ได้รับมาจากฟีนอลที่ได้รับการฮาโลจิเนท 10. Electrolytic coating mixture of claim 3, where resin (a) is covalent bonded halogen content derived from phenol. Halogenated 1
1. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 10 ที่ซึ่ง เนื้อสาร ฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ที่มีอยู่ในเรซิน(a) นั้น จะได้รับมาจากพอลิไฮดริกฟีนอลที่ได้รับการ ฮาโลจิเนท 11. Electrolytic deposition admixture of claim 10, where covalent bonded halogen content contained in resin (a) is obtained from polypropylene. Halogenated Hydric Phenol 1
2. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 11 ที่ซึ่ง พอลิไฮดริกฟีนอลที่ได้รับการฮาโลจิเนทนั้น ประกอบรวมด้วย อย่างน้อยหนึ่งในบิสฟีนอล A ที่ได้รับ การคลอริเนท และบิสฟีนอล A ที่ได้รับการโบรมิเนท 12. Electrolytic Deposition Mixture of Clause 11, Where Halogenated Polyhydric Phenol Included At least one of chlorinated bisphenol A and brominated bisphenol A
3. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 12 ที่ซึ่ง พอลิไฮดริกฟีนอลที่ได้รับการฮาโลจิเนทนั้น ประกอบรวมด้วย เททราโบรโมบิสฟีนอล A 13. Electro-Depositionable Coating Mixture of Clause 12, where the halogenated polyhydric phenol Included Tetrabromobisphenol A 1
4. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง ตัวกระทำ การบ่ม (b) นั้นจะประกอบรวมด้วย วัสดุที่ได้รับเลือกมาจาก อย่างน้อยหนึ่งในพอลิไอโซไซยาเนทที่ได้ รับการบล็อก และเรซินชนิดอะมิโนพลาสท์ 14. Electrolytic Deposition Mixture of claim 1, where the curing agent (b) is included. The material has been chosen from At least one of the blocked polyisocyanates and aminoplast resins 1.
5. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง ตัวกระทำ การบ่ม (b) นั้นมีเนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ ขึ้นไปจนถึง 60 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนักที่อยู่ บนพื้นฐานของน้ำหนักทั้งหมดของของแข็งที่เป็นเรซินที่มีอยู่ในตัวกระทำการบ่ม (b) นั้น 15. Electrolytic Deposition Mixture of claim 1, where the curing agent (b) contains up to 60% covalent halogen content by weight. Address On the basis of the total weight of the resin solid present in the curing agent (b), 1
6. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง เนื้อสาร ฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ของเฟสที่มีเรซินนั้น จะได้รับอย่างน้อยในส่วนที่มาจากส่วน ประกอบ (c) ที่แตกต่างไปจาก และมีอยู่นอกเหนือจากเรซิน (a) และตัวกระทำการบ่ม (b)นั้น 16. Electrolytic coating mixture of claim 1, where the halogen content with covalent bond of the resin-containing phase is Will be obtained, at least in respect of which component (c) is different from And exists besides resin (a) and curing agent (b) that 1
7. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 16 ที่ซึ่ง ส่วน ประกอบ(a)นั้น ประกอบรวมด้วย สารประกอบที่บรรจุด้วยฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ที่ได้ รับเลือกมาจากกลุ่มที่รวมถึง พอลิโอเลฟินที่ได้รับการฮาโลจิเนท,ฟอสเฟตเอสเทอร์ที่ได้รับการ ฮาโลจิเนท ฟีนอลที่ได้รับการฮาโลจิเนท และของผสมของสิ่งเหล่านี้ 17. Electrolytic Deposition Mixture of Clause 16, where component (a) is Included Halogen-containing compounds with covalent bonds that have been Selected from the group including Halogenated Polyolefins, Halogenated Phosphate Esters, Halogenated Phenol And a mix of these 1
8. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ประกอบรวม ต่อไปอีกด้วย ตัวดัดแปลงกระแสวิทยา 18.Electrical Deposition Mixture of Clause 1, which is added to the current modifier 1
9. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 18 ที่ซึ่ง ตัวดัด แปลงกระแสวิทยานั้น ประกอบรวมด้วย ส่วนการกระจายตัวไมโครเจลแบบแคทไอออนที่ได้รับการ เตรียมโดยการกระจายตัวไปในตัวกลางแอคเควียสด้วยของผสมของผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยา พอลิอีพอกไซด์-อะมีนแบบแคทไอออน ที่บรรจุด้วย หมู่อะมีนที่ได้รับเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วย หมู่อะมีนปฐมภูมิ หมู่อะมีนทุติยภูมิและของผสมของส่วนเหล่านั้น และตัวกระทำการเชื่อมขวางแบบ พอลิอีพอกไซด์ และการให้ความร้อนกับของผสมดังกล่าวจนถึงอุณหภูมิค่าหนึ่งที่เพียงพอเพื่อที่จะ เชื่อมขวางของผสมนั้นเพื่อที่จะจัดขึ้นรูปเป็นส่วนการกระจายตัวไมโครเจลแบบแคทไอออนดังกล่าว 29. Electrolytic Deposition Mixture of Clause 18 Where the Modulator Included The cation-shaped microgel dispersion that has been It was prepared by dispersing it into an acrylase medium with a mixture of the reaction product. The cation-containing polyepoxide-amines containing amine groups were chosen from among containing Primary amine group Secondary amine groups and their mixtures And crosslinking actuators Poly Epoxide And to heat the mixture to a certain temperature sufficient to Cross-link the mixture in order to form the aforementioned cationic micro-gel dispersion part 2
0. สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้า ที่ประกอบรวมด้วย เฟสที่มีเรซินที่ ได้รับการกระจายตัวไปในตัวกลางแอคเควียส เฟสที่มีเรซินดังกล่าวที่ประกอบรวมด้วย: (a) ขนาด 5 ถึง 90 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนักของเรซินที่บรรจุด้วยหมู่เกลือแบบแคทไอออน อะมีนที่บรรจุด้วยแอกทีฟไฮโดรเจนที่ไม่เป็นเจล และ (b) ขนาด 1 ถึง 80 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนักของตัวกระทำการบ่มชนิดพอลิไอโซไซยาเนทที่ได้ รับการบล็อก เฟสที่มีเรซินดังกล่าว ที่มี เนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ที่กำหนดค่าพิสัยจาก 1 ถึง 50 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนักที่อยู่บนพื้นฐานของน้ำหนักทั้งหมดของของแข็งที่เป็นเรซินที่มีอยู่ใน เฟสที่มีเรซินดังกล่าว ที่ซึ่ง เมื่อได้รับการตกสะสมด้วยไฟฟ้าและได้รับการบ่มเพื่อที่จะจัดขึ้นรูปเป็น ฟิล์มที่ได้รับการบ่ม ฟิล์มที่ได้รับการบ่มดังกล่าวจะผ่านการทดสอบความต้านทานการลุกเป็นไฟใน ลักษณะที่สอดคล้องกับ IPC-TM-650 และมีค่าคงตัวไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.30 20. Electro-deposited coating compound That includes Phase with resin that Has been dispersed in the media Phases containing such resins include: (a) size 5 to 90% by weight of cationic salt group resin. Amines containing 1 to 80 percent of non-gel active hydrogen and (b) by weight of a phase-blocked polyisocyanate curing agent with such resins. It is said that covalent halogen content with a range of 1 to 50% by weight based on the total weight of the resin solids present in A phase containing such resins where, when subjected to electrically deposition and cured in order to form, are Cured film The cured film is tested for fire resistance in Characteristics that conform to IPC-TM-650 and have a dielectric constant less than or equal to 3.30 2.
1. สารผสมผิวเคลือบที่สามารตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าของข้อถือสิทธิข้อ 20 ที่ซึ่ง เมื่อได้รับ การตกสะสมด้วยไฟฟ้าและได้รับการบ่มแล้ว จะมีตัวประกอบการสูญเสียไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือ เท่ากับ 0.01 21. Electrolytic deposition admixture of claim 20, where, when electrolytic deposition has been received and cured, Will have a dielectric loss factor less than or equal to 0.01 2.
2. วิธีการสำหรับการจัดขึ้นรูปเป็นผิวเคลือบชนิดไดอิเล็กตริกบนซับสเตรตนำไฟฟ้าที่ทำ หน้าที่เป็นอิเล็กโทรดในวงจรไฟฟ้าที่ประกอบรวมด้วย อิเล็กโทรด และอิเล็กโทรต้าน อิเล็กโทรด นั้นที่ได้รับการจุ่มแช่ลงในสารผสมที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าแอคเควียส วิธีการดังกล่าวที่ประกอบรวมด้วย การผ่านกระแสไฟฟ้าไปในระหว่าง อิเล็กโทรด และ อิเล็กโทรดต้านเพื่อที่จะทำให้สารผสมที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้านั้นทำการตกสะสมอยู่บน ซับสเตรตให้เป็นฟิล์มที่ต่อเนื่องอย่างเป็นสำคัญ และ การให้ความร้อนกับฟิล์มที่ได้รับการตกสะสมด้วยไฟฟ้านั้นจนถึงอุณหภูมิค่าหนึ่งและเป็น ระยะเวลานานค่าหนึ่งที่เพียงพอที่จะบ่มฟิล์มนั้น ด้วยเหตุนี้ จะเป็นการจัดขึ้นรูปเป็นฟิล์มที่ได้รับการ บ่ม ที่ซึ่ง สารผสมที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้านั้น ประกอบรวมด้วย เฟสที่มีเรซินที่ได้รับ การกระจายตัวไปในตัวกลางแอคเควียส เฟสที่มีเรซินดังกล่าวที่ประกอบรวมด้วย: (a) เรซินที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้าที่บรรจุด้วย หมู่เกลือแบบไอออนที่บรรจุ ด้วยแอกทีฟไฮโดรเจน ที่ไม่เป็นเจล และ (b) ตัวกระทำการบ่ม ที่ทำปฏิกิริยากับแอกทีฟไฮโดรเจนของเรซิน (a) นั้น เฟสที่มีเรซินดังกล่าวที่มีเนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ อย่างน้อย 1 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนักที่อยู่บนพื้นฐานของน้ำหนักทั้งหมดของของแข็งที่เป็นเรซินที่มีอยู่ในเฟสที่มี เรซินดังกล่าว และ ที่ซึ่ง ฟิล์มที่ได้รับการบ่มดังกล่าวนั้นจะผ่านการทดสอบความต้านทานการลุกเป็นไฟใน ลักษณะที่สอดคล้องกับ IPC-TM-650 และมีค่าคงตัวไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.50 22. Method for forming a dielectric type coating on a conductive substrate that is made. Functioning as an electrode in an electrical circuit composed of an electrode and a counter-electrode, it is immersed in an electrolyte-accumulated mixture. The above methods include The current is passed between the electrode and the resistance electrode in order to allow the electrolytic compound to accumulate on the The substrate is essentially a continuous film, and the heating of the electrolytic film is applied to a certain temperature and is A long period of time is sufficient to curing the film, hence it forms a cured film where the electrolyte can be deposited with a mixture. Included Phase with derived resin Dispersion into the media Phases containing such resins include: (a) Electrically deposited resins containing Ion-packed salt groups With active hydrogen Gel-free and (b) curing agent When reacting with the active hydrogen of the resin (a), the phases containing such resins have at least 1% covalent bonded halogen content by weight based on the total weight of the solids. That is the resin that exists in the phase that has The resins and where the cured films are tested for fire resistance in Characteristics that conform to IPC-TM-650 and have a dielectric constant less than or equal to 3.50 2.
3. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง ฟิล์มที่ได้รับการบ่มนั้น มีค่าคงตัวไดอิเล็กตริกที่น้อย กว่าหรือเท่ากับ 3.30 23. Method of claim 22 where the cured film is Has a small dielectric constant Greater than or equal to 3.30 2
4. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง ฟิล์มที่ได้รับการบ่มนั้น มีค่าคงตัวไดอิเล็กตริกที่น้อย กว่าหรือเท่ากับ 3.00 24. Method of claim 22, whereby the cured film is Has a small dielectric constant Greater than or equal to 3.00 2
5. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง ฟิล์มที่ได้รับการบ่มนั้น มีความหนาที่น้อยกว่าหรือเท่า กับ 25 ไมครอน 25. Method of claim 22, where the cured film is Has a thickness that is less than or equal to 25 microns 2
6. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง ฟิล์มที่ได้รับการบ่มนั้น มีตัวประกอบการสูญเสีย ไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 0.02 26. Method of claim 22 where the cured film is Has a loss factor Dielectric that is less than or equal to 0.02 2
7. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง ซับสเตรตนำไฟฟ้าทำหน้าที่เป็นแคโทดในวงจรไฟฟ้า 27.Method of claim 22, where a conductive substrate acts as a cathode in an electrical circuit 2.
8. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 27 ที่ซึ่ง เรซิน(a) นั้นจะมีเนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบ โคเวเลนท์ที่มีค่าพิสัยจาก 1 ถึง 50 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนักที่อยู่บนพื้นฐานของน้ำหนักทั้งหมดของ ของแข้งที่เป็นเรซินที่อยู่ในเรซิน (a) นั้น 28. Method for claim 27, where the resin (a) will have a halogen-containing content. The covalent range from 1 to 50% by weight based on the total weight of Of the resin shins contained in resin (a) is 2
9. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง เรซิน (a) นั้นประกอบรวมด้วย พอลิเมอร์ที่ได้รับมาจาก อย่างน้อยหนึ่งใน พอลิอีพอกไซด์พอลิเมอร์ และ/หรือ อะคริลิกพอลิเมอร์ 39. Method of claim 22, where resin (a) includes Polymers that are derived from At least one of Poly Epoxide Polymer and / or Acrylic Polymer 3
0. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 29 ที่ซึ่ง เนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ที่มีอยู่ใน เรซิน (a) นั้น จะได้รับมาจาก ฟีนอลที่ได้รับการฮาโลจิเนท 30. Method of claim No. 29, where the covalent halogen content contained in the resin (a) is derived from Halogenated phenol 3
1. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 30 ที่ซึ่ง ฟีนอลที่ได้รับการฮาโลจีเนทนั้น ประกอบรวมด้วย พอลิไฮดริกฟีนอลที่ได้รับการฮาโลจิเนท ที่ได้รับเลือกมาจาก อย่างน้อยหนึ่งในบิสฟีนอล A ที่ได้รับ การคลอริเนท และบิสฟีนอล A ที่ได้รับการโบรมิเนท 31. Method of claim No. 30, where the halogenated phenol is Included Halogenated polyhydric phenol That have been chosen from At least one of chlorinated bisphenol A and brominated bisphenol A 3
2. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 31 ที่ซึ่ง พอลิไฮดริกฟีนอลที่ได้รับการฮาโลจิเนทนั้น ประกอบ รวมด้วย เททราโบรโมบิสฟีนอล A 32. Procedure of Clause 31 where the halogenated polyhydric phenol is composed of tetrabromobisphenol A 3.
3. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง ตัวกระทำการบ่ม (b) นั้น จะประกอบรวมด้วย วัสดุที่ได้ รับเลือกมาจาก อย่างน้อยหนึ่งในพอลิไอโซไซยาเนทที่ได้รับการบล็อก และเรซินชนิดอะมิโนพลาสท์ 33. The method of claim 22, where the curing agent (b) will consist of the material chosen for At least one of the polyisocyanates has been blocked. And aminoplast type resin 3
4. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง ตัวกระทำการบ่ม (b) นั้น มีเนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะ แบบโคเวเลนท์ ขึ้นไปจนถึง 60 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนักที่อยู่บนพื้นฐานของน้ำหนักทั้งหมดของ ของแข็งที่เป็นเรซินที่มีอยู่ในตัวกระทำการบ่ม (b) นั้น 34. Method of claim 22, where the curing agent (b) contains up to 60 percent covalent halogen content by weight based on the total weight of The resin solid contained in the curing agent (b) is 3.
5. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง เนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ของเฟสที่มี เรซินนั้นจะได้รับมาด้วยอย่างน้อยในส่วนที่มาจากส่วนประกอบ(c)ที่แตกต่างไปจาก และมีอยู่นอก เหนือจากเรซิน (a) และตัวกระทำการบ่ม (b) นั้น 35. Method of claim No. 22, where halogen content with covalent bond of the phase having The resin is also acquired, at least as a component (c) that differs from and exists in addition to the resin (a) and the curing agent (b).
6. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 35 ที่ซึ่ง ส่วนประกอบ(c)นั้น ประกอบรวมด้วย สารประกอบที่ บรรจุด้วย ฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ที่ได้รับเลือกมาจากกลุ่มที่รวมถึง พอลิโอเลฟินที่ได้รับ การฮาโลจิเนท ฟอสเฟตเอสเทอร์ที่ได้รับการฮาโลจิเนท ฟีนอลที่ได้รับการฮาโลจิเนท และของผสม ของสิ่งเหล่านี้ 36. Method of claim 35, where constituents (c) It consists of halogen-containing compounds with covalent bonds chosen from groups that include Halogenated polyolefin phosphate ester halogenated ester Halogenated phenols and a mixture of them3
7. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้านั้น ประกอบรวมต่อไปอีกด้วย ตัวดัดแปลงกระแสวิทยา 37. Method of claim 22 whereby electrolyte-accumulating coating mixture Continue to include Current modulator 3
8. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 37 ที่ซึ่ง ตัวดัดแปลงกระแสวิทยานั้น ประกอบรวมด้วย ส่วน การกระจายตัวไมโครเจลแบบแคทไอออนที่ได้รับการเตรียมโดยการกระจายตัวในตัวกลางแอคเควียส ด้วยของผสมของผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยาพอลิอีพอกไซด์-อะมีนแบบแคทไอออน ที่บรรจุด้วย หมู่อะมีนที่ได้ รับเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วย หมู่อะมีนปฐมภูมิ หมู่อะมีนทุติยภูมิและของผสมของส่วนเหล่านั้น และตัวกระทำการเชื่อมขวางแบบพอลิอีพอกไซด์และการให้ความร้อนกับของผสมดังกล่าวจนถึง อุณหภูมิค่าหนึ่งที่เพียงพอเพื่อที่จะเชื่อมขวางของผสมนั้นเพื่อที่จะจัดขึ้นรูปเป็นส่วนการกระจายตัว ไมโครเจลแบบแคทไอออนดังกล่าว 38. Method of claim 37, where the modulator It consists of a cationic microgel dispersion section prepared by dispersing in an actuase medium. With a mixture of cation-containing polyepoxide-amine reaction products containing the resulting amine group Selected from a group that includes Primary amine group Secondary amine groups and their mixtures And polyepoxide crosslinking agents and heating of the mixture up to A certain temperature is sufficient to cross-link the mixture in order to form a dispersion. Such cation-like microgel 3
9. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง สารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้า ประกอบรวมด้วย เฟสที่มีเซินที่ได้รับการกระจายตัวไปในตัวกลางแอคเควียส เฟสที่มีเรซินดัง กล่าวที่ประกอบรวมด้วย: (a) ขนาด 5 ถึง 90 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนักที่อยู่บนพื้นฐานของของแข็งที่เป็นเรซินทั้งหมดที่มี อยู่ในสารผสมของเรซินที่บรรจุด้วยหมู่เกลืออะมีนแบบแคทไอออนที่บรรจุด้วยแอกทีฟไฮโดรเจน ที่ ไม่เป็นเจล ที่มี เนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ที่กำหนดค่าพิสัยจาก 1 ถึง 50 เปอร์เซนต์ โดยน้ำหนักที่อยู่บนพื้นฐานของน้ำหนักทั้งหมดของของแข็งที่เป็นเรซินที่มีอยู่ในเรซิน(a) นั้น และ (b) ขนาด 1 ถึง 80 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนักที่อยู่บนพื้นฐานของของแข็ที่เป็นเรซินทั้งหมดที่มี อยู่ในสารผสมของตัวกระทำการบ่มชนิดพอลิไอโซไซยาเนทที่ได้รับการบล็อก ที่ซึ่ง ฟิล์มที่ได้รับการบ่มนั้นจะผ่านการทดสอบความต้านทานการลุกเป็นไฟในลักษณะที่ สอดคล้องกับ IPC-TM-650 และมีค่าคงตัวไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.50 และตัวประกอบ การสูญเสียไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 0.02 49. Method of claim 22, whereby electrolyte-deposited coating mixtures Included Phase with the serene that has been dispersed in the Acquisition medium. Phase with resins These include: (a) size 5 to 90% by weight based on all resin solids containing Is in a resin mixture containing cation-containing amine salts with a non-gelic hydrogen active covalent content with a covalent bond determined in the range from 1 to 50% by weight based on the total weight of the resin solids contained in that resin (a) and (b) 1 to 80% by weight based on all the resin solids that have Is in a blocked polyisocyanate curing agent mixture where the cured film is tested for flame resistance in a manner consistent with IPC-TM. -650 and a dielectric constant of less than or equal to 3.50 and a dielectric loss factor of less than or equal to 0.02 4
0. วิธีการของข้อถือสิทธิข้อ 22 ที่ซึ่ง ฟิล์มที่ได้รับการบ่มดังกล่าวนั้น มีความหนาของฟิล์มที่ น้อยกว่าหรือเท่ากับ 25 ไมครอน 40. Method of claim 22, whereby the cured film is With the thickness of the film Less than or equal to 25 microns 4
1. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวที่ประกอบรวมด้วย ซับสเตรตชนิดนำไฟฟ้า และชั้น ผิวเคลือบชนิดไดอิเล็กตริกที่ได้รับการบ่มที่ได้รับการก่อรูปโดยการตกสะสมแบบอีเล็คโตรโฟเรติค ที่อยู่เหนืออย่างน้อยส่วนหนึ่งของซับสเตรตนั้น ที่ซึ่ง ชั้นผิวเคลือบชนิดไดอิเล็กตริกที่ได้รับการบ่มนั้น ผ่านการทดสอบความต้านทานการลุกเป็นไฟในลักษณะที่สอดคล้องกับ IPC-TM-650 และมีค่าคงตัว ไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.50 41.Substrate that has been coated that includes Conductive substrates and cured dielectric coatings that were formed by electrophoretic deposition. Above at least part of that substrate where the cured dielectric layer Passed the flame resistance test in accordance with IPC-TM-650 and has a constant Dielectric that is less than or equal to 3.50 4
2. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 41 ที่ซึ่ง ชั้นผิวเคลือบชนิดไดอิเล็กตริก ที่ได้รับการบ่มดังกล่าว มีค่าคงตัวไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.30 42. The coated substrate of Clause 41, where the dielectric-type coating layer That has been cured. Have a dielectric constant that is less than or equal to 3.30 4
3. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 41 ที่ซึ่ง ซับสเตรตนั้น ประกอบรวม ด้วย ซับสเตรตนำไฟฟ้าที่ได้รับเลือกมากจากฟอยล์ทองแดงแบบมีรูปรุ โลหะผสมเหล็ก-นิกเกิล และ ของผสมรวมของสิ่งเหล่านั้น 43. The coated substrate of Clause 41, where the substrate is composed of a highly selected conductive substrate from a shaped copper foil. Iron-nickel alloys and their combined alloys 4
4. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 43 ที่ซึ่ง ซับสเตรตนำไฟฟ้านั้น ประกอบรวมด้วย ฟอยล์แดงแบบมีรูปรุ 44. The coated substrate of claim 43, where the conductive substrate is Included Red foil, shape 4
5. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 43ที่ซึ่ง ซับสเตรตนำไฟฟ้านั้น ประกอบรวมด้วย โลหะเหล็ก-นิกเกิล 45. The coated substrate of claim 43, where the conductive substrate is Included Iron-Nickel Metal 4
6. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 41 ที่ซึ่ง ผิวเคลือบชนิดไดอิเล็กตริก ที่ได้รับการบ่มนั้น มีความหนาของฟิล์มที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 25 ไมครอน 46. Coated substrate of Clause 41 where dielectric-type surface That has been cured. Have a film thickness that is less than or equal to 25 microns 4
7. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 41 ที่ซึ่ง ชั้นผิวเคลือบชนิดไดอิเล็กตริก ที่ได้รับการบ่มนั้นมีความหนาของฟิล์มที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 20 ไมครอน 47. Coated substrate of claim 41 where the dielectric layer The cured has a film thickness that is less than or equal to 20 microns. 4
8. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 41 ที่ซึ่ง ชั้นผิวเคลือบชนิดไดอิเล็กตริก ที่ได้รับการบ่มนั้นมีตัวประกอบการสูญเสียไดอิเล็กตริกที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 0.02 48. The coated substrate of claim 41, where the dielectric-type coating layer The cured has a dielectric loss factor less than or equal to 0.02 4.
9. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 41 ที่ซึ่ง สารผสมผิวเคลือบที่สามารถ ตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้านั้น ประกอบด้วย เฟสที่มีเรซินที่ได้รับการกระจายตัวไปในตัวกลาง แอคเควียส เฟสที่มีเรซินดังกล่าวที่ประกอบด้วย : (a) เรซินที่บรรจุด้วยหมู่ไอออนที่บรรจุด้วยแอกทีฟไฮโดรเจน ที่ไม่เป็นเจล และ (b) ตัวกระทำการบ่มที่ทำปฏิกิริยากับแอกทีฟไฮโดรเจนของเรซิน (a) นั้น โดยเฟสที่มีเรซินดังกล่าว มีเนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์อย่างน้อย 1 เปอเซ็นต์ โดยน้ำหนักที่อยู่บนพื้นฐานของน้ำหนักทั้งหมดของของแข็งที่เป็นเรซินที่มีอยู่ในเฟสที่มีเรซินดังกล่าว 59. The coated substrate of Clause 41 where the coating mixture can The electrolytic deposition consists of a phase with a resin that has been dispersed in an active-phase medium containing such resins consisting of: (a) an ion-packed resin with an active ion group. Hydrogen And (b) the curing agent that reacts with the active hydrogen of the resin (a) by the phase containing the resin. Contains at least 1 percent covalent bonded halogen content by weight based on the total weight of resin solids present in phase 5.
0. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 49 ที่ซึ่ง เรซิน (a) นั้น ประกอบรวมด้วย หมู่เกลืออะมีนแบบแคทไอออน 51 ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 49 ที่ซึ่ง (a) นั้นประกอบรวมด้วย พอลิเมอร์ที่ได้รับมาจาก อย่างน้อยหนึ่งในพอลิอีพอกไซด์พอลิเมอร์ และอะคริลิกพอลิเมอร์ 50. The coated substrate of claim 49, where the resin (a) is included. Cationic amine group 51, the coated substrate of claim 49, where (a) includes: Polymers that are derived from At least one of the polymerside polymers And acrylic polymer 5
2. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 51 ที่ซึ่ง เรซิน(a)นั้น จะมีเนื้อสาร ฮาโลเจนที่มีพัธะแบบโคเวเลนด์ที่มีค่าพสัยจาก 1 ถึง 50 เปอเซ็นต์โดยน้ำหนักที่อยู่บนพื้นฐานของ น้ำหนักทั้งหมดของของแข็งที่เป็นเรซินที่มีอยู่ในเรซิน (a) นั้น 52.Coated substrates of claim 51 where the resin (a) will contain covalent halogen content with an exponential value of 1. Up to 50 percent by weight based on The total weight of the resin solid contained in resin (a) is 5.
3. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 52 ที่ซึ่ง จะมีเนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะ แบบโคเวเลนท์ของ (a)นั้น ที่ได้รับมาจาก พอลิไฮดริกฟีนอลที่ได้รับการฮาโลจิเนท ที่ได้รับเลือก มาจาก อย่างน้อยหนึ่งในพอลิไฮดริกฟีนอลที่ได้รับการคลอริเนท และพอลิไฮดริกฟีนอลที่ได้รับการ โบรมิเนท 53.Coated substrates of Clause 52, where there is a bonded halogen content. The covalent form of (a) is derived from Halogenated polyhydric phenol That were selected from at least one of the chlorinated polyhydric phenol And brominated polyhydric phenol 5
4. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 53 ที่ซึ่ง พอลิไฮดริกฟีนิลที่ได้รับการ ฮาโลจิเนทนั้น ประกอบรวมด้วย เททราโบรโมบิสฟีนอล A 54. The coated substrate of Clause 53 where the polyhydric phenyl That halogenate Included Tetrabromo Bisphenol A 5
5. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 49 ที่ซึ่ง ตัวกระทำการบ่ม(b)นั้นจะ ประกอบรวมด้วย สารประกอบที่ได้รับเลือกมาจาก อย่างน้อยหนึ่งในพอลิไอโซไซยาเนทที่ได้รับการ บล็อกและเรซินชนิดอะมิโนพลาสท์ 55. The coated substrate of claim 49 where the curing agent (b) will Included The compound has been selected from At least one of the polyisocyanates has been Aminoplast type blocks and resins 5
6. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 49 ที่ซึ่ง โดยที่ ตัวกระทำการบ่ม (b)นั้น มีเนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ขึ้นไปจนถึง 60 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนักที่อยู่บนพื้นฐาน ของน้ำหนักทั้งหมดของของแข็งที่เป็นเรซินที่มีอยู่ในตัวกระทำการบ่ม(b)นั้น 56.Coated substrates of claim 49 where the curing agent (b) contains up to 60 percent of covalent halogen content. By weight based on Of the total weight of the resin solid contained in the curing agent (b), 5
7. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 49 ที่ซึ่ง เนื้อสารฮาโลเจนที่มีพันธะ แบบโคเวเลนท์ของเฟสที่มีเรซินของสารผสมผิวเคลือบที่สามารถตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้านั้นจะได้รับ มาอย่างน้อยในส่วนที่มาจากส่วนประกอบ(c)ที่แตกต่างไปจาก และมีอยู่นอกเหนือจากเรซิน(a)และตัว กระทำการบ่ม(b)นั้น 57.Coated substrates of Clause 49, where the bonded halogen content The covalent phase with the resins of the electrolytic coating mixture is obtained. Come, at least in part that comes from a component (c) that is different from And exist besides resin (a) and Do the incubation (b) that 5
8. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 57 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (c)นั้น ประกอบ รวมด้วย สารประกอบที่บรรจุด้วย ฮาโลเจนที่มีพันธะแบบโคเวเลนท์ที่ได้รับเลือกมาจาก กลุ่มที่ ประกอบด้วย พอลิโอเลฟินที่ได้รับการฮาโลจิเนทฟอสเฟตเอสเทอร์ที่ได้รับการฮาโลจิเนท ฟีนอลที่ ได้รับการฮาโลจิเนท และของผสมของสิ่งเหล่านั้น 58. The coated substrate of claim 57, where the component (c) is made up of the containing compound. Halogenated covalent bonds selected from the halogenated phosphate ester-containing group of polyolefins. Halogenated phenols And a mixture of them 5
9. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 50 ที่ซึ่ง สารผสมผิวเคลือบที่สามารถ ตกสะสมได้ด้วยไฟฟ้านั้นประกอบรวมต่อไปอีกด้วย ตัวดัดแปลงกระแสวิทยา 69. The coated substrate of Clause 50, whereby the coating mixture can Accumulated by electricity that is included as well. Current modulator 6
0. ซับสเตรตที่ได้รับการเคลือบผิวของข้อถือสิทธิข้อ 59 ที่ซึ่ง ตัวดัดแปลงกระแสวิทยานั้น ประกอบรวมด้วยส่วนการกระจายไมโครเจลแบบแคทไอออนที่ได้รับการเตรียมโดยการกระจายตัว ไปในตัวกลางแอคเควียสด้วยของผสมของผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยาพอลิอีพอกไซด์-อะมีนแบบแคทไอออน ที่บรรจุด้วยหมู่อะมีนที่ได้รับเลือกมาจากหมู่ที่ประกอบด้วยหมู่อะมีนปฐมภูมิ หมู่อะมีนทุติยภูมิ และ ของผสมของส่วนเหล่านั้น และตัวกระทำการเชื่อมขวางแบบพอลิอีพอกไซด์ และการให้ความร้อนกับ ของผสมดังกล่าวจนถึงอุณหภูมิค่าหนึ่งที่เพียงพอเพื่อที่จะเชื่อมขวางของผสมนั้นเพื่อที่จะจัดขึ้นรูปเป็น ส่วนการกระจายตัวไมโครเจลแบบแคทไอออนดังกล่าว0. The coated substrate of Clause 59, where the current modulator It consists of a cationic micro-gel dispersion section prepared by dispersion. In the active medium with the cation-ionized polyepoxide-amine reaction product mixture Containing amine groups chosen from a group containing primary amine groups Secondary amine groups and their mixtures And polyepoxide crosslinking agents And heating The mixture reaches a certain temperature sufficient to cross the mixture in order to form a The cation-like micro-gel distribution