TH61584A

TH61584A - Abrasive mixtures and memory hard disk manufacturing methods

Info

Publication number: TH61584A
Application number: TH1003631A
Authority: TH
Inventors: สก็อตต์ เรเดอร์ นายดับบลิว.; เอ็ม. ชีโม นายเดวิด; โอวากิ นายโตชิกิ
Original assignee: นายดำเนิน การเด่น; นายต่อพงศ์ โทณะวณิก; นายวิรัช ศรีเอนกราธา; นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date: 2000-09-22
Publication date: 2004-04-20

Abstract

DC60 (11/04/45) สารผสมสำหรับขัดฮาร์ดดิสก์หน่วยความจำซึ่งประกอบด้วยส่วนประกอบดังนี้คือ - (ก) สารขัดสีที่ได้เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย ซิลิคอนไดออกไซด์ อะลูมินัมออกไซด์ ซีเรียมออกไซด์ เซอร์โค เนียมออกไซด์ ไทเทเนียมออกไซด์ ซิลิคอนไนไทรด์ และ แมงกานีสได ออกไซด์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งตัวในปริมาณตั้งแต่ 0.1 ถึง 50% โดยน้ำหนักของสารผสมสำหรับขัด โดยรวม (ข) เกลือของเหล็กที่ได้เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย เหล็กไนเทรต เหล็กซัลเฟต เหล็ก แอมโมเนียมซัลเฟต เหล็ก เปอร์คลอเรต เหล็กคลอไรด์ เหล็กซิเทรต เหล็กแอมโมเนียมซิ เทรต เหล็กออกซาเลต เหล็กแอมโมเนียมออกซาเลต และเกลือเชิง ซ้อนของเหล็กคีเลตกับกรดเอทธีลีน ไดเอไมน์เทตราอะซีติคอ ย่างน้อยที่สุดหนึ่งตัวในปริมาณตั้งแต่ 0.001 ถึง 10% โดย น้ำหนักของ สารผสมสำหรับขัดโดยรวม (ค) เกลือเปอร์ออกซีไดซัลเฟตที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอ บด้วยแอมโมเนียมเปอร์ออกซี ไดซัลเฟต โปแตสเซียมเปอร์ออก ซีไดซัลเฟต และโซเดียมเปอร์ออกซีไดซัลเฟตอย่างน้อยที่สุด หนึ่ง ตัวในปริมาณตั้งแต่ 0.01 ถึง 30% โดยน้ำหนักของสารผสม สำหรับขัดโดยรวม และ (ง) น้ำ สารผสมสำหรับขัดฮาร์ดดิสก์หน่วยความจำซึ่งประกอบด้วยส่วนประกอบดังนี้ คือ :- (ก) สารขัดสีที่ได้เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย ซิลิคอนไดออกไซด์ อะลูมินัมออกไซด์ ซีเรียมออกไซด์ เซอร์โค เนียมออกไซด์ ไทเทเนียมออกไซด์ ซิลิคอนไนไทรด์ และ แมงกานีสได ออกไซด์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งตัวในปริมาณตั้งแต่ 0.1 ถึง 50% โดยน้ำหนักของสารผสมสำหรับขัด โดยรวม (ข) เกลือของเหล็กที่ได้เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย เหล็กไนเทรต เหล็กซัลเฟต เหล็ก แอมโมเนียมซัลเฟต เหล็ก เปอร์คลอเรต เหล็กคลอไรด์ เหล็กซิเทรต เหล็กแอมโมเนียมซิ เทรต เหล็กออกซาเลต เหล็กแอมโมเนียมออกซาเลต และเกลือเชิง ซ้อนของเหล็กคีเลตกับกรดเอทธีลีน ไดเอไมน์เทตราอะซีติคอ ย่างน้อยที่สุดหนึ่งตัวในปริมาณตั้งแต่ 0.001 ถึง 10% โดย น้ำหนักของ สารผสมสำหรับขัดโดยรวม (ค) เกลือเปอร์ออกซีไดซัลเฟตที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอ บด้วยแอมโมเนียมเปอร์ออกซี ไดซัลเฟต โปแตสเซียมเปอร์ออก ซีไดซัลเฟต และโซเดียมเปอร์ออกซีไดซัลเฟตอย่างน้อยที่สุด หนึ่ง ตัวในปริมาณตั้งแต่ 0.01 ถึง 30% โดยน้ำหนักของสารผสม สำหรับขัดโดยรวม และ (ง) น้ำ: DC60 (11/04/45) Compound for hard disk and memory polishing, consisting of the following components: - (a) A selected abrasive from the group consisting of: Silicon dioxide Aluminum oxide Cerium Oxide, Zirconium Oxide, Titanium Oxide At least one silicon nitride and manganese dioxide in an amount from 0.1 to 50% by weight of the overall abrasive mixture (b) the iron salt selected from the group containing iron nitrate, iron sulfate. Iron, ammonium sulfate, iron perchlorate, iron chloride, iron citrate, iron, ammonium citrate, iron oxalate. Iron, ammonium oxalate and iron chelate stack salt with ethylene acid. Diamine Tetracetic At least one in quantities ranging from 0.001 to 10% by weight of the overall polishing mixture (c) Peroxidisulfate salt selected from the computed group. With at least one ammonium peroxidisulfate, potassium, peroxidisulfate, and sodium peroxidisulfate in amounts from 0.01 to 30% by weight of the mixture. For overall polishing and (d) water, a memory hard disk abrasive compound consisting of the following components: - (a) a selected abrasive from the group consisting of Silicon dioxide Aluminum oxide Cerium Oxide, Zirconium Oxide, Titanium Oxide At least one silicon nitride and manganese dioxide in an amount from 0.1 to 50% by weight of the overall abrasive mixture (b) the iron salt selected from the group containing iron nitrate, iron sulfate. Iron, ammonium sulfate, iron perchlorate, iron chloride, iron citrate, iron, ammonium citrate, iron oxalate. Iron, ammonium oxalate and iron chelate stack salt with ethylene acid. Diamine Tetracetic At least one in quantities ranging from 0.001 to 10% by weight of the overall polishing mixture (c) Peroxidisulfate salt selected from the computed group. With at least one ammonium peroxidisulfate, potassium, peroxidisulfate, and sodium peroxidisulfate in amounts from 0.01 to 30% by weight of the mixture. For overall polishing and (d) water:

Claims

1. Memory hard disk polishing compound, which consists of the following components: - (a) Abrasive selected from the group which consists Silicon dioxide Aluminum oxide Cerium Oxide, Zirconium Oxide, Titanium Oxide At least one silicon nitride and manganese dioxide in an amount from 0.1 to 50% by weight of the overall abrasive mixture (b) the iron salt selected from the group containing iron nitrate, iron sulfate. Iron, ammonium sulfate, iron perchlorate, iron, chloratac: