TH36104A - Abrasive mixtures - Google Patents
Abrasive mixturesInfo
- Publication number
- TH36104A TH36104A TH9701004907A TH9701004907A TH36104A TH 36104 A TH36104 A TH 36104A TH 9701004907 A TH9701004907 A TH 9701004907A TH 9701004907 A TH9701004907 A TH 9701004907A TH 36104 A TH36104 A TH 36104A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- iii
- iron
- compounds
- group
- citrate
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (27/05/42) สารผสมสำหรับการขัดฟิล์มอะลูมินัม, ทองแดง หรือทังสเตนซึ่งประกอบด้วย น้ำและสาร ขัดที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มที่ ประกอบขึ้นด้วย ซิลิคอน ไดออกไซด์, อะลูมินัม ออกไซต์, ซี เรียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์ และเซอร์โคเนียม ออกไซด์ และซึ่งยิ่งไปกว่านั้น ยังมีสารประกอบเหล็ก (III) ที่ถูกละ ลายในสารผสม ซึ่งสารประกอบเหล็ก (III) ถูกคัดเลือกจากกลุ่ม ที่ประกอบขึ้นด้วย เหล็ก (III) ไพโรฟอสเฟต, เหล็ก (III) ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโม- เนียม ออกซาเลต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซัลเฟต, เหล็ก (III) เปอร์คลอเรต, เหล็ก (III) คลอไรด์, เหล็ก (III) ซัลเฟต และเหล็ก (III) ฟอสเฟต สารผสมสำหรับการขัดฟิล์มอะลูมินัม, ทองแดง หรือทังสเตนซึ่งประกอบด้วย น้ำและสารขัดที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มที่ ประกอบขึ้นด้วย ซิลิคอน ไดออกไซด์, อะลูมินัม ออกไซต์, ซี เรียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์ และเซอร์โคเนียม ออกไซด์ และซึ่งยิ่งไปกว่านั้น ยังมีสารประกอบเหล็ก (III) ที่ถูกละ ลายในสารผสม ซึ่งสารประกอบเหล็ก (III) ถูกคัดเลือกจากกลุ่ม ที่ประกอบขึ้นด้วยเหล็ก (III) ไพโรฟอสเฟต, เหล็ก (III) ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ออกซาเลต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซัลเฟต, เหล็ก (III) เปอร์คลอเรต, เหล็ก (III) คลอไรด์, เหล็ก (III) ซัลเฟต และเหล็ก (III) ฟอสเฟต DC60 (27/05/42) Polishing compound for aluminum, copper or tungsten films containing water and abrasives selected from the group. It is composed of silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride and zirconium oxide, and, moreover, There are also dissolved iron (III) compounds in the mixtures in which iron (III) compounds are selected from the group. Containing iron (III) pyrophosphate, iron (III) citrate, iron (III) ammonium citrate, iron (III) ammonium oxalate, iron (III) ammonia. M sulfate, iron (III) perchlorate, iron (III) chloride, iron (III) sulfate and iron (III) phosphate. Composites for polishing aluminum, copper or tungsten films, consisting of: Water and abrasive that were selected from the group It is composed of silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride and zirconium oxide, and, moreover, There are also dissolved iron (III) compounds in the mixtures in which iron (III) compounds are selected from the group. Containing iron (III) pyrophosphate, iron (III) citrate, iron (III) ammonium citrate, iron (III) ammonium oxalate, iron (III) ammonium sulfate, Iron (III) perchlorate, iron (III) chloride, iron (III) sulfate and iron (III) phosphate.
Claims (1)
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH36104A true TH36104A (en) | 1999-12-03 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
MY118462A (en) | Polishing composition | |
MY121165A (en) | Polishing composition and method for producing a memory hard disk. | |
TW476777B (en) | Abrasive liquid for metal and method for polishing | |
HK1040412B (en) | A chemical mechanical polishing slurry system having an activator solution | |
MY116322A (en) | Polishing composition | |
MY110381A (en) | Improved compositions and methods for polishing | |
CA2210258A1 (en) | Substituted oxazolidine calpain and/or cathepsin b inhibitors | |
MY124691A (en) | Method of polishing a silicon wafer using a polishing composition and a surface treating composition | |
TW501197B (en) | Polishing compound for chemical mechanical polishing and method for polishing substrate | |
DE69508956D1 (en) | MODIFIED SOL-GEL ALUMINUM OXIDE | |
ATE200471T1 (en) | SILICON DIOXIDE ABRASIVES | |
TW375660B (en) | Fluoride additive containing chemical mechanical polishing slurry composition and method for use of same | |
MY129591A (en) | Polishing system with stopping compound and method of its use | |
FR2357242A1 (en) | COMPOSITION OF TOOTHPASTE CONTAINING ANIONIC ORGANIC PHOSPHATE | |
MY118116A (en) | Method of polishing a memory or rigid disk with an ammonia and/or halide-containing composition | |
FR2714369B1 (en) | Abrasive silicas for toothpaste compositions. | |
DE69831150D1 (en) | Chemical-mechanical abrasive composition for semiconductor processing | |
TH36104A (en) | Abrasive mixtures | |
WO1998014220A3 (en) | Technetium-99m labeled chelator incorporated cyclic peptides | |
TR200101493T2 (en) | Eletriptan hydrobromide monohydrate | |
DE69330275D1 (en) | METAL PORPHYRINE COMPOSITIONS | |
IT8820126A0 (en) | USE OF PERFLUOROPOLYETHERS IN THE FORM OF AWATER MICROEMULSION FOR THE PROTECTION OF STONE MATERIALS FROM ATMOSPHERIC AGENTS. | |
DE69111090D1 (en) | Abrasive containing ammonium fluoride as an abrasive additive. | |
TH40600A3 (en) | Mixture for smoothing | |
TH61584A (en) | Abrasive mixtures and memory hard disk manufacturing methods |