TH36104A - Abrasive mixtures - Google Patents
Abrasive mixturesInfo
- Publication number
- TH36104A TH36104A TH9701004907A TH9701004907A TH36104A TH 36104 A TH36104 A TH 36104A TH 9701004907 A TH9701004907 A TH 9701004907A TH 9701004907 A TH9701004907 A TH 9701004907A TH 36104 A TH36104 A TH 36104A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- iii
- iron
- compounds
- group
- citrate
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract 5
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical class [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- RCITVHFNWJIDNA-UHFFFAOYSA-K [NH4+].[NH4+].[NH4+].[Fe+3].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[Fe+3].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O RCITVHFNWJIDNA-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- KVTQOXMLIFVKOK-UHFFFAOYSA-K azanium;iron(3+);oxalate Chemical compound [NH4+].[Fe+3].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O KVTQOXMLIFVKOK-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract 3
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract 3
- 235000007144 ferric diphosphate Nutrition 0.000 claims abstract 3
- 239000011706 ferric diphosphate Substances 0.000 claims abstract 3
- CADNYOZXMIKYPR-UHFFFAOYSA-B ferric pyrophosphate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O CADNYOZXMIKYPR-UHFFFAOYSA-B 0.000 claims abstract 3
- NPFOYSMITVOQOS-UHFFFAOYSA-K iron(III) citrate Chemical compound [Fe+3].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NPFOYSMITVOQOS-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims abstract 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- XGGLLRJQCZROSE-UHFFFAOYSA-K ammonium iron(iii) sulfate Chemical compound [NH4+].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O XGGLLRJQCZROSE-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract 4
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 abstract 2
- WBJZTOZJJYAKHQ-UHFFFAOYSA-K iron(3+) phosphate Chemical compound [Fe+3].[O-]P([O-])([O-])=O WBJZTOZJJYAKHQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract 2
- RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H iron(3+) sulfate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H 0.000 abstract 2
- LHOWRPZTCLUDOI-UHFFFAOYSA-K iron(3+);triperchlorate Chemical compound [Fe+3].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O LHOWRPZTCLUDOI-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract 2
- 229910000399 iron(III) phosphate Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910000360 iron(III) sulfate Inorganic materials 0.000 abstract 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 abstract 1
- KZTASAUPEDXWMQ-UHFFFAOYSA-N azane;iron(3+) Chemical compound N.[Fe+3] KZTASAUPEDXWMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 1
Abstract
DC60 (27/05/42) สารผสมสำหรับการขัดฟิล์มอะลูมินัม, ทองแดง หรือทังสเตนซึ่งประกอบด้วย น้ำและสาร ขัดที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มที่ ประกอบขึ้นด้วย ซิลิคอน ไดออกไซด์, อะลูมินัม ออกไซต์, ซี เรียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์ และเซอร์โคเนียม ออกไซด์ และซึ่งยิ่งไปกว่านั้น ยังมีสารประกอบเหล็ก (III) ที่ถูกละ ลายในสารผสม ซึ่งสารประกอบเหล็ก (III) ถูกคัดเลือกจากกลุ่ม ที่ประกอบขึ้นด้วย เหล็ก (III) ไพโรฟอสเฟต, เหล็ก (III) ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโม- เนียม ออกซาเลต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซัลเฟต, เหล็ก (III) เปอร์คลอเรต, เหล็ก (III) คลอไรด์, เหล็ก (III) ซัลเฟต และเหล็ก (III) ฟอสเฟต สารผสมสำหรับการขัดฟิล์มอะลูมินัม, ทองแดง หรือทังสเตนซึ่งประกอบด้วย น้ำและสารขัดที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มที่ ประกอบขึ้นด้วย ซิลิคอน ไดออกไซด์, อะลูมินัม ออกไซต์, ซี เรียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์ และเซอร์โคเนียม ออกไซด์ และซึ่งยิ่งไปกว่านั้น ยังมีสารประกอบเหล็ก (III) ที่ถูกละ ลายในสารผสม ซึ่งสารประกอบเหล็ก (III) ถูกคัดเลือกจากกลุ่ม ที่ประกอบขึ้นด้วยเหล็ก (III) ไพโรฟอสเฟต, เหล็ก (III) ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ออกซาเลต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซัลเฟต, เหล็ก (III) เปอร์คลอเรต, เหล็ก (III) คลอไรด์, เหล็ก (III) ซัลเฟต และเหล็ก (III) ฟอสเฟต DC60 (27/05/42) Polishing compound for aluminum, copper or tungsten films containing water and abrasives selected from the group. It is composed of silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride and zirconium oxide, and, moreover, There are also dissolved iron (III) compounds in the mixtures in which iron (III) compounds are selected from the group. Containing iron (III) pyrophosphate, iron (III) citrate, iron (III) ammonium citrate, iron (III) ammonium oxalate, iron (III) ammonia. M sulfate, iron (III) perchlorate, iron (III) chloride, iron (III) sulfate and iron (III) phosphate. Composites for polishing aluminum, copper or tungsten films, consisting of: Water and abrasive that were selected from the group It is composed of silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride and zirconium oxide, and, moreover, There are also dissolved iron (III) compounds in the mixtures in which iron (III) compounds are selected from the group. Containing iron (III) pyrophosphate, iron (III) citrate, iron (III) ammonium citrate, iron (III) ammonium oxalate, iron (III) ammonium sulfate, Iron (III) perchlorate, iron (III) chloride, iron (III) sulfate and iron (III) phosphate.
Claims (1)
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH36104A true TH36104A (en) | 1999-12-03 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY118462A (en) | Polishing composition | |
| MY121165A (en) | Polishing composition and method for producing a memory hard disk. | |
| WO2001078116A3 (en) | System for the preferential removal of silicon oxide | |
| MY116322A (en) | Polishing composition | |
| MY110381A (en) | Improved compositions and methods for polishing | |
| BR9408461A (en) | Specified nominal type of abrasive grain and abrasive article | |
| TW501197B (en) | Polishing compound for chemical mechanical polishing and method for polishing substrate | |
| TW375660B (en) | Fluoride additive containing chemical mechanical polishing slurry composition and method for use of same | |
| MY126717A (en) | Cmp composition containing silane modified abrasive particles. | |
| MY118116A (en) | Method of polishing a memory or rigid disk with an ammonia and/or halide-containing composition | |
| FR2714369B1 (en) | Abrasive silicas for toothpaste compositions. | |
| IT8021498A0 (en) | MIXED SALTS OF ESSENTIAL OR SEMI-ESSENTIAL AMINO ACIDS AND THEIR NON-NITROGENOUS ANALOGUES, AS WELL AS THEIR USE IN THE THERAPY OF KIDNEY AND LIVER DYSFUNCTIONS. | |
| MY133054A (en) | Chemical mechanical abrasive composition for use in semiconductor processing | |
| WO1998014220A3 (en) | Technetium-99m labeled chelator incorporated cyclic peptides | |
| TH36104A (en) | Abrasive mixtures | |
| ATE117233T1 (en) | BONDED ABRASIVE. | |
| DE69330275D1 (en) | METAL PORPHYRINE COMPOSITIONS | |
| EP0816457A3 (en) | Slurry using Mn oxide abrasives and fabrication process of a semiconductor device using such a polishing slurry | |
| DE50211801D1 (en) | USE OF STRONTIUM CARBONATE AS A BRAKING AGENT IN CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF MICROELECTRONIC COMPONENTS | |
| RU97113614A (en) | COMPOSITION FOR PREVENTION OF CARBONATE DEPOSITS | |
| ZA91533B (en) | Abrasives containing ammonium fluoride-based grinding aid | |
| TH40600A3 (en) | Mixture for smoothing | |
| RU96113793A (en) | HARD ALLOY | |
| RU96104809A (en) | MIXTURE FOR GALVANIZING PRODUCTS OF BRONZE | |
| TH37279A3 (en) | Slurry mechanically polished, utilized for copper and tantalum surfaces. |