TH36104A - Abrasive mixtures - Google Patents

Abrasive mixtures

Info

Publication number
TH36104A
TH36104A TH9701004907A TH9701004907A TH36104A TH 36104 A TH36104 A TH 36104A TH 9701004907 A TH9701004907 A TH 9701004907A TH 9701004907 A TH9701004907 A TH 9701004907A TH 36104 A TH36104 A TH 36104A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
iii
iron
compounds
group
citrate
Prior art date
Application number
TH9701004907A
Other languages
Thai (th)
Inventor
โคดามา นายฮิโตชิ
อิโตะ นายมาซาโตกิ
ซูซูมูระ นายซาโตชิ
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH36104A publication Critical patent/TH36104A/en

Links

Abstract

DC60 (27/05/42) สารผสมสำหรับการขัดฟิล์มอะลูมินัม, ทองแดง หรือทังสเตนซึ่งประกอบด้วย น้ำและสาร ขัดที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มที่ ประกอบขึ้นด้วย ซิลิคอน ไดออกไซด์, อะลูมินัม ออกไซต์, ซี เรียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์ และเซอร์โคเนียม ออกไซด์ และซึ่งยิ่งไปกว่านั้น ยังมีสารประกอบเหล็ก (III) ที่ถูกละ ลายในสารผสม ซึ่งสารประกอบเหล็ก (III) ถูกคัดเลือกจากกลุ่ม ที่ประกอบขึ้นด้วย เหล็ก (III) ไพโรฟอสเฟต, เหล็ก (III) ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโม- เนียม ออกซาเลต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซัลเฟต, เหล็ก (III) เปอร์คลอเรต, เหล็ก (III) คลอไรด์, เหล็ก (III) ซัลเฟต และเหล็ก (III) ฟอสเฟต สารผสมสำหรับการขัดฟิล์มอะลูมินัม, ทองแดง หรือทังสเตนซึ่งประกอบด้วย น้ำและสารขัดที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มที่ ประกอบขึ้นด้วย ซิลิคอน ไดออกไซด์, อะลูมินัม ออกไซต์, ซี เรียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์ และเซอร์โคเนียม ออกไซด์ และซึ่งยิ่งไปกว่านั้น ยังมีสารประกอบเหล็ก (III) ที่ถูกละ ลายในสารผสม ซึ่งสารประกอบเหล็ก (III) ถูกคัดเลือกจากกลุ่ม ที่ประกอบขึ้นด้วยเหล็ก (III) ไพโรฟอสเฟต, เหล็ก (III) ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ออกซาเลต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซัลเฟต, เหล็ก (III) เปอร์คลอเรต, เหล็ก (III) คลอไรด์, เหล็ก (III) ซัลเฟต และเหล็ก (III) ฟอสเฟต DC60 (27/05/42) Polishing compound for aluminum, copper or tungsten films containing water and abrasives selected from the group. It is composed of silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride and zirconium oxide, and, moreover, There are also dissolved iron (III) compounds in the mixtures in which iron (III) compounds are selected from the group. Containing iron (III) pyrophosphate, iron (III) citrate, iron (III) ammonium citrate, iron (III) ammonium oxalate, iron (III) ammonia. M sulfate, iron (III) perchlorate, iron (III) chloride, iron (III) sulfate and iron (III) phosphate. Composites for polishing aluminum, copper or tungsten films, consisting of: Water and abrasive that were selected from the group It is composed of silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride and zirconium oxide, and, moreover, There are also dissolved iron (III) compounds in the mixtures in which iron (III) compounds are selected from the group. Containing iron (III) pyrophosphate, iron (III) citrate, iron (III) ammonium citrate, iron (III) ammonium oxalate, iron (III) ammonium sulfate, Iron (III) perchlorate, iron (III) chloride, iron (III) sulfate and iron (III) phosphate.

Claims (1)

1. สารผสมสำหรับการขัดฟิล์มอะลูมินัม, ทองแดง หรือทังสเตนซึ่งประกอบด้วย น้ำและสารขัดที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มที่ ประกอบขึ้นด้วย ซิลิคอน ไดออกไซด์, อะลูมินัม ออกไซต์, ซี เรียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์ และเซอร์โคเนียม ออกไซด์ และซึ่งยิ่งไปกว่านั้น ยังมีสารประกอบเหล็ก (III) ที่ถูกละ ลายในสารผสม ซึ่งสารประกอบเหล็ก (III) ถูกคัดเลือกจากกลุ่ม ที่ประกอบขึ้นด้วยเหล็ก (III) ไพโรฟอสเฟต, เหล็ก (III) ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซิเตรต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ออกซาเลต, เหล็ก (III) แอมโมเนียม ซัลเฟต, เหล็ก (III)แท็ก :1. Mixture for the polishing of aluminum, copper or tungsten films, which contains Water and abrasive that were selected from the group It is composed of silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride and zirconium oxide, and, moreover, There are also dissolved iron (III) compounds in the mixtures in which iron (III) compounds are selected from the group. Containing iron (III) pyrophosphate, iron (III) citrate, iron (III) ammonium citrate, iron (III) ammonium oxalate, iron (III) ammonium sulfate, Iron (III) Tags:
TH9701004907A 1997-12-01 Abrasive mixtures TH36104A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH36104A true TH36104A (en) 1999-12-03

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY118462A (en) Polishing composition
MY121165A (en) Polishing composition and method for producing a memory hard disk.
TW476777B (en) Abrasive liquid for metal and method for polishing
HK1040412B (en) A chemical mechanical polishing slurry system having an activator solution
MY116322A (en) Polishing composition
MY110381A (en) Improved compositions and methods for polishing
CA2210258A1 (en) Substituted oxazolidine calpain and/or cathepsin b inhibitors
MY124691A (en) Method of polishing a silicon wafer using a polishing composition and a surface treating composition
TW501197B (en) Polishing compound for chemical mechanical polishing and method for polishing substrate
DE69508956D1 (en) MODIFIED SOL-GEL ALUMINUM OXIDE
ATE200471T1 (en) SILICON DIOXIDE ABRASIVES
TW375660B (en) Fluoride additive containing chemical mechanical polishing slurry composition and method for use of same
MY129591A (en) Polishing system with stopping compound and method of its use
FR2357242A1 (en) COMPOSITION OF TOOTHPASTE CONTAINING ANIONIC ORGANIC PHOSPHATE
MY118116A (en) Method of polishing a memory or rigid disk with an ammonia and/or halide-containing composition
FR2714369B1 (en) Abrasive silicas for toothpaste compositions.
DE69831150D1 (en) Chemical-mechanical abrasive composition for semiconductor processing
TH36104A (en) Abrasive mixtures
WO1998014220A3 (en) Technetium-99m labeled chelator incorporated cyclic peptides
TR200101493T2 (en) Eletriptan hydrobromide monohydrate
DE69330275D1 (en) METAL PORPHYRINE COMPOSITIONS
IT8820126A0 (en) USE OF PERFLUOROPOLYETHERS IN THE FORM OF AWATER MICROEMULSION FOR THE PROTECTION OF STONE MATERIALS FROM ATMOSPHERIC AGENTS.
DE69111090D1 (en) Abrasive containing ammonium fluoride as an abrasive additive.
TH40600A3 (en) Mixture for smoothing
TH61584A (en) Abrasive mixtures and memory hard disk manufacturing methods